JPH04393A - Method for washing flux after soldering - Google Patents
Method for washing flux after solderingInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
はんだ付けのフラックスの洗浄方法に関し、安全に且つ
十分に良好な洗浄を行うことのできるようにすることを
目的とし、
フラックスをはんだ付け後に洗浄するためにNメチルピ
ロリドンを溶剤に用いる構成とする。[Detailed Description of the Invention] [Summary] The purpose of the present invention is to provide a method for cleaning soldering flux that is safe and sufficiently good, and for cleaning flux after soldering. The structure uses N-methylpyrrolidone as a solvent.
本発明ははんだ付けのフラックスの洗浄方法に関する。 The present invention relates to a method for cleaning soldering flux.
近年の電子回路機器では種々の部品が小型化され、そし
て小型化された多数の微小部品を確実に接合するために
多様のはんだ付け技術が使用されている。特に電子回路
を構成する薄膜多層基板では絶縁層を介して厚さが3μ
はどの導体層が積層してあり、そのような薄い導体層を
接合するためにペーパーフェーズソルダリング(VPS
)が採用される。通常、はんだ付けにはフラックスが使
用される。フラックスは例えば松脂に活性化剤を混合し
てなり、母材表面や溶融はんだの表面の酸化膜化を防止
する等の作用によってはんだ付けが良好に行われるよう
にするものである。はんだ付け作業が終了すると、はん
だ付け部の表面を洗浄し、フラックスを除去する場合が
多い。すなわち、はんだ付けの後では、フラックスに含
まれる活性化剤がはんだ付け途中とは逆にはんだ付け部
分に悪影響を及ぼすようになることが多く、フラックス
の洗浄を十分に行なうことが望ましい。特に電子回路を
構成する薄膜多層基板では表面の導体層が非常に薄く、
フラックスが少しでも残っていると表面の導体層が腐食
して耐久性が低下しゃすくなるので、はんだ付け後にフ
ラックスを十分に洗浄することが必要である。しかし、
フラックスは、はんだ付けが終わると固化して除去しに
くくなり、フラックスの微小な部分も残らないように十
分に良好に洗浄するのが難しかった。2. Description of the Related Art In recent electronic circuit devices, various components have been miniaturized, and various soldering techniques are used to reliably join a large number of miniaturized microcomponents. In particular, in thin film multilayer substrates that constitute electronic circuits, the thickness is 3μ through an insulating layer.
Which conductor layers are laminated, and paper phase soldering (VPS) is used to join such thin conductor layers.
) will be adopted. Flux is usually used for soldering. Flux is made of, for example, pine resin mixed with an activator, and has the effect of preventing the formation of an oxide film on the surface of the base material and the surface of the molten solder, thereby ensuring good soldering. When soldering work is completed, the surface of the soldered part is often cleaned to remove flux. That is, after soldering, the activator contained in the flux often has a negative effect on the soldered part, contrary to what it does during soldering, so it is desirable to thoroughly clean the flux. In particular, the surface conductor layer of thin-film multilayer substrates that make up electronic circuits is extremely thin.
If even a small amount of flux remains, the conductor layer on the surface will corrode and the durability will decrease, so it is necessary to thoroughly wash away the flux after soldering. but,
After soldering, the flux hardens and becomes difficult to remove, making it difficult to clean it well enough so that even minute portions of flux do not remain.
このため、従来は溶剤を使用してはんだ付け後のフラッ
クスを洗浄していた。しかし、はんだ付け後のフラック
スを十分に洗浄できる溶剤の種類は限られており、例え
ば、これまで使用されていたのはトリクロロエチレン(
トリクレン)、トリクロロエタン、又はフレオンのみで
あった。最近は、はんだ付け後のフラックスを洗浄する
ための溶剤として、果実の皮(オレンジビール等)から
抽出した果実オイルとアルコールとを混合した果実オイ
ル系の溶剤が使用され始めている。For this reason, conventionally, a solvent has been used to clean the flux after soldering. However, the types of solvents that can sufficiently clean flux after soldering are limited; for example, the solvents that have been used until now are trichlorethylene (
trichloroethane), trichloroethane, or Freon. Recently, a fruit oil-based solvent, which is a mixture of alcohol and fruit oil extracted from fruit peels (orange beer, etc.), has begun to be used as a solvent for cleaning flux after soldering.
上記したトリクロロエチレン、トリクロロエタン、又は
フレオン等ははんだ付け後のフラックスを洗浄するため
に比較的に良好な溶剤であるが、これらの溶剤を用いて
もフラックスの種類によってはよく落ちないものもある
。それに、これらの溶剤は人体や環境に対する悪影響の
ために最近では使用を制限されるようになってきている
ので、使用対象から外さなくてはならなくなっている。The above-mentioned trichlorethylene, trichloroethane, freon, etc. are relatively good solvents for cleaning flux after soldering, but even if these solvents are used, some fluxes may not be removed well depending on the type of flux. In addition, the use of these solvents has recently been restricted due to their adverse effects on the human body and the environment, and therefore they must be excluded from the scope of use.
そこで果実オイル系の溶剤が最近注目を集めているので
ある。しかし、果実オイル系の溶剤は無害であるが、洗
浄力が比較的に低い。そこで、従来のように固化して除
去しにくくなっているフラックスを洗浄するためには溶
剤の温度を上げて洗浄する必要があるが、果実オイル系
の溶剤は温度を上げると異臭を放つために周囲の環境を
悪化させ、よって洗浄温度を上げることができない問題
点がある。このために例えば薄膜多層基板のように微小
な部分まで清浄にすることを要求されるような場合には
、果実オイル系の溶剤でははんだ付けのフラックスを十
分に洗浄できるとは言えない。Therefore, fruit oil-based solvents have recently been attracting attention. However, although fruit oil-based solvents are harmless, their cleaning power is relatively low. Therefore, in order to clean the flux that solidifies and becomes difficult to remove, it is necessary to raise the temperature of the solvent, but fruit oil-based solvents emit a strange odor when the temperature is raised. There is a problem in that it deteriorates the surrounding environment and therefore cannot raise the cleaning temperature. For this reason, in cases where it is required to clean even minute parts, such as in the case of thin-film multilayer substrates, it cannot be said that fruit oil-based solvents can sufficiently clean soldering flux.
本発明は安全性に優れ且つ十分に良好な洗浄を行うこと
のできるはんだ付けのフラックスの洗浄方法を提供する
ことを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for cleaning soldering flux that is highly safe and can perform sufficiently good cleaning.
本発明によるはんだ付けのフラックスの洗浄方法は、は
んだ付けに用いたフラックスをはんだ付け後に洗浄する
ためにN−メチルピロリドンを溶剤に用いることを特徴
とするものである。The method for cleaning soldering flux according to the present invention is characterized in that N-methylpyrrolidone is used as a solvent to clean the flux used for soldering after soldering.
N−メチルピロリドンは、人体及び環境に対して無害で
あり、はとんどの種類のフラックスをよく溶かし、しか
も引火点が比較的に高いので高温で洗浄を行うことがで
き、はんだ付けのフラックスの洗浄に好適であることが
分かった。さらに、N−メチルピロリドンは水との親和
性も高いので、N−メチルピロリドンによる洗浄の後に
水洗いをすることができ、イオン残渣も完全になくすこ
とができる。N-Methylpyrrolidone is harmless to the human body and the environment, dissolves most types of flux well, and has a relatively high flash point, so it can be cleaned at high temperatures and is used as a soldering flux. It was found to be suitable for cleaning. Furthermore, since N-methylpyrrolidone has a high affinity with water, washing with water can be performed after washing with N-methylpyrrolidone, and ionic residues can be completely eliminated.
第1図は本発明の実施例を示し、N−メチルピロリドン
(NMP)を満たした槽10内で電子部品12を洗浄し
ているところを示す図である。電子部品工2は例えば電
子回路を形成する薄膜多層基板であり、これはセラミッ
ク基板14の表面に薄い導体層16を形成し、導体層1
6の上にポリイミド樹脂からなる絶縁層18を形成し、
さらに絶縁層18の表面に薄い導体層20を形成してな
る。各層の導体層16.20はセラミック基板14や絶
縁層18に設けたバイアホール(図示せず)等によって
相互に接続されることができ、最上層の導体層20がは
んだ付けによってリードやその他の電気素子に接続され
る。第1図においては、チップ部品22が導体層20の
上に配置され、はんだ付け部24においてはんだ付けさ
れた例が示されている。はんだは例えば錫と鉛(Sn/
Pb)系のものであり、松脂に活性化剤を混ぜたフラッ
クスが使用される。FIG. 1 shows an embodiment of the present invention, and is a diagram showing an electronic component 12 being cleaned in a tank 10 filled with N-methylpyrrolidone (NMP). The electronic component work 2 is, for example, a thin film multilayer board for forming an electronic circuit, and this is made by forming a thin conductor layer 16 on the surface of a ceramic substrate 14, and
An insulating layer 18 made of polyimide resin is formed on 6,
Further, a thin conductive layer 20 is formed on the surface of the insulating layer 18. The conductor layers 16, 20 of each layer can be connected to each other by via holes (not shown) provided in the ceramic substrate 14 or the insulating layer 18, and the top conductor layer 20 can be connected to a lead or other layer by soldering. Connected to electrical elements. In FIG. 1, an example is shown in which a chip component 22 is placed on a conductor layer 20 and soldered at a soldering portion 24. For example, solder is made of tin and lead (Sn/
It is a Pb)-based flux, and a flux made by mixing pine resin with an activator is used.
本発明においてはフラックスの溶剤としてN−メチルピ
ロリドン(NMP)を使用する。N−メチルピロリドン
(NMP)は次に示す構造を有する。In the present invention, N-methylpyrrolidone (NMP) is used as a flux solvent. N-methylpyrrolidone (NMP) has the structure shown below.
the −CH。the -CH.
次の表は従来技術の洗浄処理と本発明の洗浄処理との比
較試験の結果を示す図である。The following table shows the results of a comparative test between the prior art cleaning process and the cleaning process of the present invention.
CH3
N−メチルピロリドン(NMP)は、人体及び環境に対
して安全であり、フラックスの溶解性が優れ、しかも引
火点が95℃、沸点が202°C1発火点が346℃で
ある。このように引火点が比較的に高いので高温で洗浄
を行うことができる。実施例ではN−メチルピロリドン
(NMP)を60°Cにして洗浄を行い、良好な結果を
得ている。CH3 N-methylpyrrolidone (NMP) is safe for the human body and the environment, has excellent flux solubility, and has a flash point of 95°C, a boiling point of 202°C, and an ignition point of 346°C. Since the flash point is relatively high, cleaning can be performed at high temperatures. In the example, cleaning was performed using N-methylpyrrolidone (NMP) at 60°C, and good results were obtained.
第2図に示すように、N−メチルピロリドン(NMP)
は水との親和性に優れているので、N−メチルピロリド
ン(NMP)による洗浄後に電子部品12を純水または
純水とアルコールの混合液で洗浄することができる。そ
のため、N−メチルピロリドン(NMP)による洗浄で
はイオン残渣が残っている場合でも、その後の水洗によ
ってイオン残渣を完全に取り除くことができる。As shown in Figure 2, N-methylpyrrolidone (NMP)
has excellent affinity with water, so after cleaning with N-methylpyrrolidone (NMP), the electronic component 12 can be cleaned with pure water or a mixture of pure water and alcohol. Therefore, even if ion residues remain after washing with N-methylpyrrolidone (NMP), the ion residues can be completely removed by subsequent washing with water.
○極良好
△良 好
Xやや良好
試験においては、AからFまで6種類のフラックスを用
いてそれぞれはんだ付けを行い、はんだ付け後のフラッ
クスを洗浄した。また、結果ははんだ付け部を顕微鏡で
検査し、フラックス残渣を視覚的に判定した。○Very good △Good Good The results were also determined by inspecting the soldered parts under a microscope and visually determining the presence of flux residue.
従来処理イは、トリクロロエタン系の溶剤を使用し、最
初に例えばはんだ付け部24を有する電子部品12を6
0℃のトリクロロエタン系の溶剤中に入れ、10分間洗
浄した。次に同じ60℃のトリクロロエタン系の溶剤中
で5分間超音波洗浄を行い、最後に窒素ガスでブローし
た。その結果は上記表に示されている通りであり、ある
種のフラックス(例えば有機酸系フラックス)はよく洗
浄されるが、別のフラックスはよく浄化されるとは言え
ない。Conventional processing A uses a trichloroethane-based solvent, and first, for example, the electronic component 12 having the soldering part 24 is soldered.
It was placed in a trichloroethane-based solvent at 0°C and washed for 10 minutes. Next, ultrasonic cleaning was performed for 5 minutes in the same trichloroethane solvent at 60° C., and finally it was blown with nitrogen gas. The results are shown in the table above, and it can be said that some types of fluxes (for example, organic acid fluxes) are well cleaned, while other fluxes are not cleaned well.
従来処理口は、果実オイル系の溶剤を使用し、最初には
んだ付け部24を有する電子部品12を室温の果実オイ
ル系の溶剤に入れ、10分間洗浄した。In the conventional processing port, a fruit oil-based solvent was used, and the electronic component 12 having the soldered portion 24 was first placed in the fruit oil-based solvent at room temperature and washed for 10 minutes.
さらに電子部品12を取り出した後、再び室温の果実オ
イル系の溶剤に入れ、2分間洗浄した。次に、60°C
の純水で2分間洗浄し、再び60°Cの純水で2分間洗
浄した後、最後に窒素ガスでブローした。Furthermore, after the electronic component 12 was taken out, it was again placed in a fruit oil-based solvent at room temperature and washed for 2 minutes. Next, 60°C
After washing with pure water at 60°C for 2 minutes, washing again with pure water at 60°C for 2 minutes, and finally blowing with nitrogen gas.
この処理の結果は、はとんどのフラックスが十分に落ち
ないことを示している。この原因の1つは、果実オイル
系の溶剤は温度を上げると異臭を放つために洗浄温度を
上げることができないことによるものである。The results of this treatment show that most of the fluxes do not fall down sufficiently. One of the reasons for this is that the cleaning temperature cannot be increased because fruit oil-based solvents emit a strange odor when the temperature is increased.
本発明の処理では、最初にはんだ付け部24を有する電
子部品12を60°CのN−メチルピロリドン(NMP
)の溶剤に入れ、10分間洗浄した。さらに電子部品1
2を取り出した後、再び室温のN−メチルピロリドン(
NMP)に入れ、2分間洗浄した。次に、室温の純水で
2分間洗浄し、再び室温の純水で2分間洗浄した後、最
後に窒素ガスでブローした。In the process of the present invention, the electronic component 12 having the soldered portion 24 is first heated at 60°C using N-methylpyrrolidone (NMP).
) and washed for 10 minutes. Furthermore, electronic parts 1
After taking out 2, add N-methylpyrrolidone (
NMP) and washed for 2 minutes. Next, it was washed with pure water at room temperature for 2 minutes, washed again with pure water at room temperature for 2 minutes, and finally blown with nitrogen gas.
この処理の結果、N−メチルピロリドン(NMP)の溶
剤はほとんどのフラックスを良く落とすことが分かった
。はんだ付け部を顕微鏡で検査した結果では、N−メチ
ルピロリドン(NMP)での洗浄後に微小なフラックス
残渣が認められたが、N−メチルピロリドン(NMP)
で洗浄した後の水洗により、フラックス残渣がさらに落
ちるとともに、微小な残渣が認められる場合でもフラッ
クスのイオン残渣はほぼ0となっていた。As a result of this treatment, it was found that the solvent N-methylpyrrolidone (NMP) effectively removed most of the flux. Microscopic examination of the soldered joints revealed that a small flux residue was found after cleaning with N-methylpyrrolidone (NMP); however, N-methylpyrrolidone (NMP)
By washing with water after washing with water, the flux residue was further removed, and even when a minute residue was observed, the ion residue of the flux was almost zero.
なお、以上はN−メチルピロリドン(NMP)が純粋な
場合について説明したが、N−メチルピロリドン(NM
P)に他の有機溶剤、例えばアルコールジメチルアミド
、ジメチルホルムアルデヒド等を数パーセント加えて使
用してもよい。In addition, although the above explanation is based on the case where N-methylpyrrolidone (NMP) is pure, N-methylpyrrolidone (NM
P) may be used by adding several percent of other organic solvents, such as alcohol dimethylamide, dimethyl formaldehyde, etc.
要するに、N−メチルピロリドン(NMP)を溶剤とし
て使用することは従来から知られていたが、N−メチル
ピロリドン(NMP)は従来は特殊の溶剤として使用さ
れており、−船釣に使用されるものではなかった。例え
ば、N−メチルピロリドン(NMP)は従来は薄膜多層
基板の絶縁層18を形成するポリイミド樹脂の前駆体の
溶剤として使用され、或いは、ポジ型レジストの剥離剤
として使用されていたものである。このように特殊な場
合しか使用されないN−メチルピロリドン(NMP)を
はんだ付けのフラックスの洗浄に使用することに想到し
、且つ試験を重ねた結果、はんだ付けのフラックスの洗
浄に好適であることを確認するに到ったものである。In short, it has been known for a long time to use N-methylpyrrolidone (NMP) as a solvent; It wasn't something. For example, N-methylpyrrolidone (NMP) has conventionally been used as a solvent for a precursor of a polyimide resin forming the insulating layer 18 of a thin film multilayer substrate, or as a stripping agent for a positive resist. We came up with the idea of using N-methylpyrrolidone (NMP), which is only used in special cases, to clean soldering flux, and after repeated tests, we found that it is suitable for cleaning soldering flux. This has been confirmed.
以上説明したように、本発明によれば、はんだ付けに用
いたフラックスをはんだ付け後に洗浄するためにN−メ
チルピロリドンを溶剤に用いることにより、はんだ付け
のフラックスを安全且つ十分によく洗浄できるようにな
った。As explained above, according to the present invention, by using N-methylpyrrolidone as a solvent for cleaning the flux used for soldering after soldering, the soldering flux can be cleaned safely and sufficiently. Became.
第1図は本発明の実施例のはんだ付け部品のフラックス
をNMPで洗浄するところを示す図、第2図は第1図の
はんだ付け部品をNMPで洗浄した後に水洗するところ
を示す図である。
10・・・槽、 12・・・電子部品、16
、20・・・導体層、 22・・・チップ部品、2
4・・・はんだ付け部。Fig. 1 is a diagram showing the flux of the soldered parts in the embodiment of the present invention being cleaned with NMP, and Fig. 2 is a diagram showing the soldering parts of Fig. 1 washed with water after being cleaned with NMP. . 10... Tank, 12... Electronic component, 16
, 20... Conductor layer, 22... Chip component, 2
4...Soldering part.
Claims (1)
るためにN−メチルピロリドンを溶剤に用いることを特
徴とするはんだ付けのフラックスの洗浄方法。A method for cleaning soldering flux, characterized in that N-methylpyrrolidone is used as a solvent to clean the flux used for soldering after soldering.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10018990A JPH04393A (en) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | Method for washing flux after soldering |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10018990A JPH04393A (en) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | Method for washing flux after soldering |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04393A true JPH04393A (en) | 1992-01-06 |
Family
ID=14267358
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10018990A Pending JPH04393A (en) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | Method for washing flux after soldering |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04393A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH062182A (en) * | 1992-04-20 | 1994-01-11 | Mitsubishi Kasei Corp | Oil deposition washing method, washing device and detergent |
| FR2735408A1 (en) * | 1995-06-19 | 1996-12-20 | Sony Corp | New compsn. for a soldering flux |
| JP2013023534A (en) * | 2011-07-19 | 2013-02-04 | Mitsubishi Materials Corp | Solder powder-cleaning agent and method for producing solder powder |
| DE112020000679T5 (en) | 2019-02-05 | 2021-11-04 | Hitachi Metals, Ltd. | Winded magnetic core, alloy core, and method of manufacturing a wound magnetic core |
-
1990
- 1990-04-18 JP JP10018990A patent/JPH04393A/en active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH062182A (en) * | 1992-04-20 | 1994-01-11 | Mitsubishi Kasei Corp | Oil deposition washing method, washing device and detergent |
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