JPH0441521A - Heat-resistant resin composition - Google Patents
Heat-resistant resin compositionInfo
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- JPH0441521A JPH0441521A JP14871790A JP14871790A JPH0441521A JP H0441521 A JPH0441521 A JP H0441521A JP 14871790 A JP14871790 A JP 14871790A JP 14871790 A JP14871790 A JP 14871790A JP H0441521 A JPH0441521 A JP H0441521A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規な耐熱性樹脂組成物に関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to a novel heat-resistant resin composition.
近年、電子部品は、高集積化、高信頼化が特に求められ
ている。これにともなって、耐熱性、接着性、成形性、
電気特性に優れた高分子材料の開発が望まれており、種
々の提案がなされている。In recent years, electronic components are particularly required to be highly integrated and highly reliable. Along with this, heat resistance, adhesiveness, moldability,
There is a desire to develop polymeric materials with excellent electrical properties, and various proposals have been made.
耐熱性高分子材料として広く一般に知られているものと
して、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂及びポリ
アミド樹脂等があげられる。これらの樹脂は、耐熱性の
他に優れた耐衝撃性、機械強度、耐溶剤性等を有してお
り、高分子電子材料として注目されているが、成形性、
接着性等に難点がある。そこで、これらの長所、短所の
バランスをとるために、エポキシ樹脂と併用して複合化
することが検討されている。Polyimide resins, polyamide-imide resins, polyamide resins, and the like are widely known as heat-resistant polymer materials. In addition to heat resistance, these resins have excellent impact resistance, mechanical strength, solvent resistance, etc., and are attracting attention as polymeric electronic materials.
There are problems with adhesion, etc. Therefore, in order to balance these advantages and disadvantages, consideration has been given to using it in combination with an epoxy resin to form a composite.
しかしながら、従来提案されているポリイミド樹脂、ポ
リアミドイミド樹脂及びポリアミド樹脂は、エポキシ樹
脂との相溶性が低く、所望の組成で均一に混合しないと
いう問題があり、そのため、電子部品に必要な上記緒特
性を同時に満足する重合体組成物を得ることができなか
った。したがって、耐熱性、接着性、成形性、電気特性
の全てにわたって優れた特性を有する高分子材料の実現
が望まれているのが現状である。However, conventionally proposed polyimide resins, polyamide-imide resins, and polyamide resins have a problem of low compatibility with epoxy resins and are not uniformly mixed with the desired composition. It has not been possible to obtain a polymer composition that satisfies the above requirements at the same time. Therefore, it is currently desired to realize a polymeric material that has excellent properties in all of heat resistance, adhesiveness, moldability, and electrical properties.
本発明の目的は、耐熱性、接着性、成形性、電気特性に
優れ、高精度かつ高信頓性を示す高分子電子材料として
有用な耐熱性樹脂組成物を提供することにある。An object of the present invention is to provide a heat-resistant resin composition useful as a polymeric electronic material that has excellent heat resistance, adhesiveness, moldability, and electrical properties, and exhibits high precision and reliability.
本発明の耐熱性樹脂組成物の一つは、−最大〔式中、A
rは、4価の芳香族有機基であり、4個のカルボニル基
がそれぞれ別の炭素原子に直接結合し、かつ、6対のカ
ルボニル基は、Ar基中における隣接炭素原子に結合し
、Rは、低級アルキル基によって置換されていてもよい
フェニレン基または01〜CI2のアルキレン基を示す
。〕で表わされる繰り返し単位よりなり、固有粘度0゜
1〜5.Odfl /g、好ましくは0.2〜3.0d
ll/gを有するポリアミドイミド樹脂60〜99重量
%と、エポキシ樹脂1〜40重量%とよりなることを特
徴とする。One of the heat-resistant resin compositions of the present invention has - maximum [wherein A
r is a tetravalent aromatic organic group, each of the four carbonyl groups is directly bonded to another carbon atom, and the six pairs of carbonyl groups are bonded to adjacent carbon atoms in the Ar group, R represents a phenylene group or an alkylene group of 01 to CI2 which may be substituted with a lower alkyl group. ] and has an intrinsic viscosity of 0°1 to 5. Odfl/g, preferably 0.2-3.0d
It is characterized by being composed of 60 to 99% by weight of polyamideimide resin having a 1.1 liter/g and 1 to 40% by weight of epoxy resin.
本発明の他の耐熱性樹脂組成物は、−最大(1)〔式中
、Arは、4価の芳香族有機基であり、4個のカルボニ
ル基かそれぞれ別の炭素原子に直接結合し、かつ、6対
のカルボニル基は、Ar基中における隣接炭素原子に結
合し、Rは、低級アルキル基によって置換されていても
よいフェニレン基またはC1〜CI2のアルキレン基を
示し、R′は、2価の脂肪族基または芳香環を有する2
価の有機基を示す。〕
て表わされる繰り返し単位か不規則に配列され、かつ−
最大(II)で表わされる繰り返し単位が一般式(1)
で表わされる繰り返し単位に対して1/2以下、好まし
くは1/4〜1/looのモル比で含有され、固有粘度
0.1〜5.Odff /g、好ましくは0.2〜3.
OdΩ/gを有するポリアミドイミド樹脂60〜99重
量%と、エポキシ樹脂1〜40重量%とよりなることを
特徴とする。Another heat-resistant resin composition of the present invention has - Maximum (1) [wherein, Ar is a tetravalent aromatic organic group, and each of the four carbonyl groups is directly bonded to another carbon atom, And, the six pairs of carbonyl groups are bonded to adjacent carbon atoms in the Ar group, R represents a phenylene group or a C1-CI2 alkylene group which may be substituted with a lower alkyl group, and R' is 2 2 having a valent aliphatic group or an aromatic ring
Indicates a valent organic group. ] The repeating units represented by are irregularly arranged, and −
The maximum repeating unit represented by (II) is the general formula (1)
It is contained in a molar ratio of 1/2 or less, preferably 1/4 to 1/loo, to the repeating unit represented by , and has an intrinsic viscosity of 0.1 to 5. Odff/g, preferably 0.2-3.
It is characterized by consisting of 60-99% by weight of polyamideimide resin having OdΩ/g and 1-40% by weight of epoxy resin.
(I)
なお、本明細書において、固有粘度とは、樹脂)JJl
jo、5 g/dρのN−メチル−2−ピロリドン溶液
の30℃における測定値を意味する。(I) In this specification, the intrinsic viscosity refers to resin) JJl
jo, 5 g/dρ of N-methyl-2-pyrrolidone solution measured at 30°C.
本発明において使用する上記−最大(1)で表される繰
り返し単位よりなるポリアミドイミド樹脂は、−最大(
I[I)
H
(式中、Rは上記と同意義を有する)
で表わされる両末端にアミノ基を有するジアミン化合物
とテトラカルボン酸二無水物誘導体とを重縮合反応させ
ることによって得ることができる。The polyamide-imide resin composed of repeating units represented by -maximum (1) above used in the present invention is -maximum (1).
It can be obtained by polycondensation reaction of a diamine compound having amino groups at both ends represented by I[I)H (wherein R has the same meaning as above) and a tetracarboxylic dianhydride derivative. .
−最大(III)で表わされるジアミン化合物としては
、例えば、次の化合物があげられる。- Examples of diamine compounds represented by maximum (III) include the following compounds.
N、N”−ビス(2−アミノフェニル)−5−ヒドロキ
シイソフタルアミド、N、N′−ビス(3−アミノフェ
ニル)−5−ヒドロキシイソフタルアミド、 N、N′
−ビス(4−アミノフェニル)−5−ヒドロキシイソフ
タルアミド、 N、N′−ビス(2−アミノフェニル)
−2ヒドロキシテレフタルアミド、N、N’〜ビス(3
−アミノフェニル)−2−ヒドロキシテレフタルアミド
、N、N’−ビス(4−アミノフェニル)−2−ヒドロ
キシテレフタルアミド、N、N’−ビス(2−アミノフ
ェニル)−2−ヒドロキシフタルアミド、N、N’−ビ
ス(3−アミノフェニル)−2−ヒドロキシフタルアミ
ド、 N、N′−ビス(4−アミノフェニル)−2−ヒ
ドロキシフタルアミド、 N、N’−ビス(2−アミノ
フェニル)−3−ヒドロキシフタルアミド、N、N′−
ビス(3−アミノフェニル)−3−ヒドロキシフタルア
ミド、 N、N’−ビス(4−アミノフェニル)−3−
ヒドロキシフタルアミド、 N、N’−ビス(4−アミ
ノ−3,5−ジメチルフェニル)−5−ヒドロキシイソ
フタルアミド、 N、N’−ビス(4−アミノ−3,5
−ジメチルフェニル)−2−ヒドロキシテレフタルアミ
ド、N、N’ビス(4−アミノ−3,5−ジメチルフェ
ニル)−2−ヒドロキシフタルアミド、N、N’−ビス
(4−アミノ−3,5−ジメチルフェニル)−3−ヒド
ロキシフタルアミド、 N、N′−ビス(4−アミノ−
n−ブチル)−5−ヒドロキシイソフタルアミド、N、
N′−ビス(6−アミノ−n−ヘキシル)−5−ヒドロ
キンイソフタルアミ]−1N、N′−ビス(12−アミ
ノ−n−ドデシル)−5−ヒドロキンイソフタルアミド
等。N,N''-bis(2-aminophenyl)-5-hydroxyisophthalamide, N,N'-bis(3-aminophenyl)-5-hydroxyisophthalamide, N,N'
-bis(4-aminophenyl)-5-hydroxyisophthalamide, N,N'-bis(2-aminophenyl)
-2 hydroxyterephthalamide, N, N'~bis(3
-aminophenyl)-2-hydroxyterephthalamide, N,N'-bis(4-aminophenyl)-2-hydroxyterephthalamide, N,N'-bis(2-aminophenyl)-2-hydroxyphthalamide, N , N'-bis(3-aminophenyl)-2-hydroxyphthalamide, N,N'-bis(4-aminophenyl)-2-hydroxyphthalamide, N,N'-bis(2-aminophenyl)- 3-Hydroxyphthalamide, N, N'-
Bis(3-aminophenyl)-3-hydroxyphthalamide, N,N'-bis(4-aminophenyl)-3-
Hydroxyphthalamide, N,N'-bis(4-amino-3,5-dimethylphenyl)-5-hydroxyisophthalamide, N,N'-bis(4-amino-3,5
-dimethylphenyl)-2-hydroxyterephthalamide, N,N'bis(4-amino-3,5-dimethylphenyl)-2-hydroxyphthalamide, N,N'-bis(4-amino-3,5- dimethylphenyl)-3-hydroxyphthalamide, N,N'-bis(4-amino-
n-butyl)-5-hydroxyisophthalamide, N,
N'-bis(6-amino-n-hexyl)-5-hydroquinisophthalamide]-1N, N'-bis(12-amino-n-dodecyl)-5-hydroquinisophthalamide, and the like.
上記ジアミン化合物と重縮合させるテトラカルボン酸二
無水物誘導体としては、例えば、ピロメリット酸二無水
物、2.3.6.7−ナフタリンテ1−ラヵルボン酸二
無水物、3.4.3’ 、4′−ビフェニルテトラカル
ボン酸二無水物、2.3.2’ 、3′−ビフェニルテ
トラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシ
フェニル)メタンニ無水物、ビス(3,4−ジカルボキ
シフェニル)スルホンニ無水物、2.2−ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)プロパンニ無水物、3.4.
3’ 、4’−ヘンシフエノンテトラカルボン酸二無水
物、ブタンテトラカルボン酸二無水物等があげられる。Examples of the tetracarboxylic dianhydride derivatives to be polycondensed with the diamine compound include pyromellitic dianhydride, 2.3.6.7-naphthalene-1-lacarboxylic dianhydride, 3.4.3', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2.3.2', 3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(3,4-dicarboxylic dianhydride) carboxyphenyl) sulfone dianhydride, 2,2-bis(3,4
-dicarboxyphenyl)propanihydride, 3.4.
Examples thereof include 3',4'-hensiphenotetracarboxylic dianhydride, butanetetracarboxylic dianhydride, and the like.
本発明において使用される上記−最大(1)及び−最大
(II)で表される繰り返し単位よりなるポリアミドイ
ミド樹脂は、上記−最大(I[I)のジアミンと、下記
−最大(IV)
J(2N −R’ −N H2(IV )(式中、R′
は上記と同意義を有する)で表されるジアミン化合物と
を併用し、これらを上記テトラカルホン酸二無水物誘導
体と、重縮合させることによって製造することかできる
。The polyamide-imide resin used in the present invention consisting of repeating units represented by the above-mentioned -maximum (1) and -maximum (II) has the above-mentioned -maximum (I[I) diamine and the following -maximum (IV) J (2N -R' -NH2(IV) (wherein R'
It can be produced by using a diamine compound represented by (has the same meaning as above) in combination, and polycondensing these with the above-mentioned tetracarphonic dianhydride derivative.
最大(IV)で表されるジアミン化合物としては、m−
フェニレンジアミン、p−フェニレンシアミン、メタト
リレノンアミン、4,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3.3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフエニ
ルエーテル、3.3 ′−ンアミノシフェニルエーテル
、3.4 ′−ジアミノンフェニルエーテル、4.4′
−7アミノンフエニルチオエーテル、3,3′ジメチル
−4,4′−ノアミノジフェニルチオエーテル、3.3
′−シェドキン−4,4′−ジアミノジフェニルチオエ
ーテル、3.3′−ジアミノジフェニルチオエーテル、
4.4゛−ジアミノベンゾフェノン、3.3 ′−ジメ
チルー4.4′−ジアミノヘンシフエノン、3.3 ′
−ジアミノジフェニルメタン、4.4′−ジアミノジフ
ェニルメタン、3.3 ′−ジメトキシー4,4′−ジ
アミノジフェニルメタン、2.2′−ビス(4−アミノ
フェニル)プロパン、2.2 ′−ビス(3−アミノフ
ェニル)プロパン、4.4 ′−ジアミノジフェニルス
ルホキシド、4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、
3.3 ’−ジアミノジフェニルスルホン、ベンチジン
、3.3 ’−ジメチルベンチジン、8,3′−ジメト
キシベンチジン、3.3′−ジアミノビフェニル、ヘキ
サメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、テトラ
メチレンジアミン、p−キシリレンジアミン、m−キシ
リレンジアミン、3−メチルへブタメチレンジアミン等
。The diamine compound represented by the maximum (IV) is m-
Phenylene diamine, p-phenylenecyamine, metatrilenone amine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3.3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3.3'-aminosiphenyl ether, 3.4'-diaminone phenyl ether, 4.4'
-7aminophenylthioether, 3,3'dimethyl-4,4'-noaminodiphenylthioether, 3.3
'-Shedkin-4,4'-diaminodiphenylthioether, 3,3'-diaminodiphenylthioether,
4.4′-diaminobenzophenone, 3.3′-dimethyl-4.4′-diaminohensiphenone, 3.3′
-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dimethoxy4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2'-bis(4-aminophenyl)propane, 2,2'-bis(3-amino phenyl)propane, 4,4'-diaminodiphenylsulfoxide, 4,4'-diaminodiphenylsulfone,
3.3'-diaminodiphenylsulfone, benzidine, 3.3'-dimethylbenzidine, 8,3'-dimethoxybenzidine, 3.3'-diaminobiphenyl, hexamethylene diamine, heptamethylene diamine, tetramethylene diamine, p -xylylene diamine, m-xylylene diamine, 3-methylhbutamethylene diamine, etc.
上記ジアミン化合物とテトラカルボン酸二無水物誘導体
との反応は、公知の方法を用いて行うことができる。例
えば、一般式(1)で示される繰り返し単位よりなるポ
リアミドイミド樹脂の場合は、不活性極性有機溶媒中で
、上記一般式(m)で示されるジアミン化合物1当量に
対してテトラカルボン酸二無水物誘導体を0.8〜1.
3当量配合し、−20−150℃、好ましくは0〜60
℃の温度で数十分間ないし数日間反応させ、ポリアミッ
ク酸を生成させ、さらにイミド化することにより製造す
ることかできる。また、上記一般式(I)及び一般式(
II)で示される繰り返し単位よりなるポリアミドイミ
ド樹脂の場合は、上記一般式(m)で示されるジアミン
化合物に、上記一般式(IV)で示されるジアミン化合
物を併用することによって製造することができる。その
場合一般式(IV)で示されるジアミン化合物の一般式
(1)に対する割合は、1/2以下のモル比、好ましく
は1/4〜1/100のモル比になるようにすればよい
。The reaction between the diamine compound and the tetracarboxylic dianhydride derivative can be carried out using a known method. For example, in the case of a polyamideimide resin consisting of repeating units represented by general formula (1), tetracarboxylic dianhydride is added to 1 equivalent of the diamine compound represented by general formula (m) in an inert polar organic solvent. 0.8 to 1.
3 equivalents, -20-150°C, preferably 0-60°C
It can be produced by reacting at a temperature of .degree. C. for several tens of minutes to several days to produce a polyamic acid, followed by imidization. In addition, the above general formula (I) and general formula (
In the case of a polyamide-imide resin consisting of repeating units represented by II), it can be produced by combining the diamine compound represented by the above general formula (m) with the diamine compound represented by the above general formula (IV). . In that case, the ratio of the diamine compound represented by general formula (IV) to general formula (1) may be set to a molar ratio of 1/2 or less, preferably 1/4 to 1/100.
不活性極性有機溶媒としては、例えば、N、:J−ジメ
チルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、N
−メチル−2−ピロリドン、N−メチルカプロラクタム
、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン
、ジメチルスルホン、ヘキサメチルリニ酸トリアミド等
があげられる。Examples of inert polar organic solvents include N,:J-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N
-Methyl-2-pyrrolidone, N-methylcaprolactam, dimethylsulfoxide, tetramethylurea, pyridine, dimethylsulfone, hexamethyllinic acid triamide, and the like.
イミド化の方法としては、加熱により脱水閉環させる方
法があげられる。Examples of the imidization method include a method of dehydration and ring closure by heating.
反応温度は151)〜400℃、好ましくは180〜3
50℃であり、反応時間は30秒ないし10時間、好ま
しくは5分ないし5時間である。The reaction temperature is 151) to 400°C, preferably 180 to 3
The reaction time is 30 seconds to 10 hours, preferably 5 minutes to 5 hours.
本発明において、ポリアミドイミド樹脂の固有粘度が、
0.1clQ/gよりも低くなると、フィルム成形能か
なくなり、また、5.0 dJ77gよりも高くなると
、フィルムが均一に形成し難くなり、また、塗料にした
場合、粘性か高いので、取扱い性に問題がある。本発明
において、好ましい固有粘度範囲は0.2〜3.0 c
al 7gである。In the present invention, the intrinsic viscosity of the polyamideimide resin is
If it is lower than 0.1 clQ/g, it will lose its ability to form a film, and if it is higher than 5.0 dJ77g, it will be difficult to form a uniform film, and if it is made into a paint, it will have a high viscosity, making it difficult to handle. There is a problem. In the present invention, the preferred intrinsic viscosity range is 0.2 to 3.0 c
al 7g.
本発明の耐熱性樹脂組成物の他の樹脂成分であるエポキ
シ樹脂としては、例えばビスフェノールA型エポキン樹
脂、0−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノ
ールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エ
ポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ベンゾ
フェノン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、
シクロペンタジェン型エポキシ樹脂、ビベンゼントリオ
ール型エポキシ樹脂、レゾルシノールスルフィド型エポ
キシ樹脂、イソプロピルベンゼン型エポキシ樹脂、フル
オレン型エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂等があげられ
る。Examples of the epoxy resin that is the other resin component of the heat-resistant resin composition of the present invention include bisphenol A type epoxy resin, 0-cresol novolac type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, and bisphenol S type epoxy resin. Epoxy resin, benzophenone type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin,
Examples include cyclopentadiene type epoxy resin, bibenzenetriol type epoxy resin, resorcinol sulfide type epoxy resin, isopropylbenzene type epoxy resin, fluorene type epoxy resin, and modified epoxy resin.
本発明の耐熱性樹脂組成物は、上記ポリアミドイミド樹
脂と上記エポキシ樹脂とを配合することによって得られ
るが、その配合割合は、ポリアミドイミド樹脂60〜9
9重量%に対して、エポキシ樹脂1〜40重量%の範囲
にあることか必要である。The heat-resistant resin composition of the present invention is obtained by blending the above-mentioned polyamide-imide resin and the above-mentioned epoxy resin.
It is necessary that the amount of the epoxy resin be in the range of 1 to 40% by weight relative to 9% by weight of the epoxy resin.
ポリアミドイミド樹脂の配合割合か60重重二よりも低
くなると、耐熱性が低下し、また、99重量%よりも高
くなると、成形性と接着性が低下する。When the proportion of the polyamide-imide resin is lower than 60% by weight, heat resistance decreases, and when it exceeds 99% by weight, moldability and adhesiveness decrease.
好ましい配合割合は、上記ポリアミドイミド樹脂が70
〜90重量%であるのに対して、エポキシ樹脂が30〜
lOm二%の範囲である。The preferred blending ratio is that the polyamide-imide resin is 70%
~90% by weight, while epoxy resin has ~30~90% by weight.
It is in the range of lOm2%.
本発明の耐熱性樹脂組成物を製造するためには、上記ポ
リアミドイミド樹脂を、溶媒に溶解し、エポキシ樹脂を
上記ポリアミドイミド樹脂溶液に、直接溶解させるか、
或いは、エポキシ樹脂を同し溶媒又は他の溶媒に溶解し
て、上記ポリアミドイミド樹脂溶液に配合すればよい。In order to produce the heat-resistant resin composition of the present invention, the above-mentioned polyamide-imide resin is dissolved in a solvent, and the epoxy resin is directly dissolved in the above-mentioned polyamide-imide resin solution, or
Alternatively, the epoxy resin may be dissolved in the same solvent or another solvent and added to the polyamide-imide resin solution.
その場合、ポリアミドイミド樹脂を溶解する溶媒とエポ
キシ樹脂を溶解する溶媒とは、同一のものにするのか好
ましい。溶媒は、使用に際して除去すればよい。エポキ
シ樹脂か液状の場合には、溶媒に溶解させることなく配
合することもできる。また、加熱によりポリアミドイミ
ド樹脂が溶融する場合は、加熱溶融したポリアミドイミ
ド樹脂にエポキシ樹脂を配合することもてきる。In that case, it is preferable that the solvent for dissolving the polyamide-imide resin and the solvent for dissolving the epoxy resin are the same. The solvent may be removed before use. If the epoxy resin is in liquid form, it can be blended without being dissolved in a solvent. Furthermore, when the polyamide-imide resin is melted by heating, an epoxy resin may be blended with the heated and melted polyamide-imide resin.
ポリアミドイミド樹脂及びエポキシ樹脂を溶解する溶媒
としては、例えば、N、N−ジメチルホルムアミド、N
、N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2ピロリド
ン、N−メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド
、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘ
キサメチルリン酸トリアミド等があげられる。Examples of the solvent for dissolving polyamideimide resin and epoxy resin include N,N-dimethylformamide, N
, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-methylcaprolactam, dimethylsulfoxide, tetramethylurea, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylphosphoric triamide, and the like.
本発明の耐熱性樹脂組成物には、所望に応じて硬化促進
剤を加えることもできる。A curing accelerator can also be added to the heat-resistant resin composition of the present invention, if desired.
硬化促進剤としては、例えば、エチレンジアミン、ジエ
チレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジプロピ
レントリアミン、ジメチルアミノプロピルアミン、シク
ロへキシルアミノプロピルアミン、モ7ノエタノールア
ミン、ジェタノールアミン、トリエタノールアミン、プ
ロパツールアミン、N、N−ジエチルベンジルアミン、
1.8−ジアザビシクロ[5,4,0] ウンデカン−
7、L、l、3.3−テトラメチルグアニノン等があげ
られる。Examples of the curing accelerator include ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, dipropylenetriamine, dimethylaminopropylamine, cyclohexylaminopropylamine, monoethanolamine, jetanolamine, triethanolamine, propatoolamine, N,N-diethylbenzylamine,
1.8-diazabicyclo[5,4,0]undecane-
Examples include 7, L, 1, 3,3-tetramethylguaninone.
本発明の耐熱性樹脂組成物は、ポリアミドイミド樹脂と
エポキシ樹脂とを配合した後、使用に際して、ポリアミ
ドイミド樹脂とエポキシ樹脂との相互作用を形成するた
めに、200℃程度の温度で数分間ないし数時間加熱す
ることが好ましい。After blending the polyamide-imide resin and the epoxy resin, the heat-resistant resin composition of the present invention is prepared at a temperature of about 200°C for several minutes to form an interaction between the polyamide-imide resin and the epoxy resin. Preferably, the mixture is heated for several hours.
本発明の耐熱性樹脂組成物は、耐熱性、接着性、成形性
、電気特性に優れているため、例えば、高温で使用する
フィルム、電線被覆、接着剤、塗ね、積層品等の用途に
有用である。The heat-resistant resin composition of the present invention has excellent heat resistance, adhesion, moldability, and electrical properties, so it can be used in, for example, films used at high temperatures, wire coatings, adhesives, coatings, and laminated products. Useful.
次に実施例によって本発明の詳細な説明する。 Next, the present invention will be explained in detail by way of examples.
実施例1〜14
第1表に示したポリアミドイミド樹脂とエポキシ樹脂の
N、N−ジメチルホルムアミド溶液を、ガラス板上に流
延し、60℃で1時間、100℃で2時間、200℃で
6時間熱処理してフィルムを作成した。Examples 1 to 14 N,N-dimethylformamide solutions of polyamideimide resins and epoxy resins shown in Table 1 were cast onto a glass plate, and heated at 60°C for 1 hour, 100°C for 2 hours, and 200°C. A film was prepared by heat treatment for 6 hours.
得られたフィルムの熱分解開始温度を熱天秤(真空理工
社製)を用いて、昇温温度lO℃/minの条件で測定
し、誘電損失をアルミニウム電極を蒸着した後、TI?
5−10型誘電体測定装置(安藤電気社製)を用いてA
l11定し、引張強度をテンシロン試験器(オリエンチ
ック社製)を用いて測定した。The thermal decomposition initiation temperature of the obtained film was measured using a thermobalance (manufactured by Shinku Riko Co., Ltd.) under the condition of a heating temperature of 10°C/min, and the dielectric loss was measured after evaporating an aluminum electrode.
A using a 5-10 type dielectric measurement device (manufactured by Ando Electric Co., Ltd.)
The tensile strength was measured using a Tensilon tester (manufactured by Orientic Co., Ltd.).
銅箔接着力は、ポリアミドイミド樹脂とエポキシ樹脂の
N、N−/メチルホルムアミド溶液を銅箔上に流延し、
60°Cて1時間、100 ℃で211.’j間、20
0°C10,6kg/cn?で2時間、プレス成形し、
さらに200℃で4時間熱処理して、厚さ40℃1mの
銅箔と熱接触させ、ビール強度試験器を用いて測定した
。Copper foil adhesive strength was determined by casting an N,N-/methylformamide solution of polyamideimide resin and epoxy resin onto copper foil.
60°C for 1 hour, 100°C for 211. 'j between, 20
0°C10.6kg/cn? Press molded for 2 hours,
Further, it was heat treated at 200°C for 4 hours, brought into thermal contact with a copper foil having a thickness of 1 m at 40°C, and measured using a beer strength tester.
以下余白
〔発明の効果〕
本発明の耐熱性樹脂組成物は、優れた耐熱性、接着性、
成形性、電気特性を有し、例えば、高温で使用するフィ
ルム、電線被覆、接着剤、塗料、積層品等の用途に有用
であり、特に、高精度かつ高信頼性を示す半導体チップ
の周辺に使用する接着材料として有用である。The following margin [Effects of the invention] The heat-resistant resin composition of the present invention has excellent heat resistance, adhesiveness,
It has moldability and electrical properties, and is useful for applications such as films used at high temperatures, wire coatings, adhesives, paints, and laminated products, especially around semiconductor chips that exhibit high precision and reliability. It is useful as an adhesive material.
Claims (2)
ルボニル基がそれぞれ別の炭素原子に直接結合し、かつ
、各対のカルボニル基は、Ar基中における隣接炭素原
子に結合し、Rは、低級アルキル基によって置換されて
いてもよいフェニレン基またはC_1〜C_1_2のア
ルキレン基を示す。〕で表わされる繰り返し単位よりな
り、固有粘度0.1〜5.0dl/gを有するポリアミ
ドイミド樹脂60〜99重量%と、エポキシ樹脂1〜4
0重量%とよりなることを特徴とする耐熱性樹脂組成物
。(1) The following general formula (I) ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) [In the formula, Ar is a tetravalent aromatic organic group, and each of the four carbonyl groups is a different carbon atom. and each pair of carbonyl groups is bonded to an adjacent carbon atom in the Ar group, and R represents a phenylene group or an alkylene group of C_1 to C_1_2 which may be substituted with a lower alkyl group. ] 60 to 99% by weight of a polyamideimide resin having an intrinsic viscosity of 0.1 to 5.0 dl/g, and epoxy resin 1 to 4
A heat-resistant resin composition comprising 0% by weight.
ルボニル基がそれぞれ別の炭素原子に直接結合し、かつ
、各対のカルボニル基は、Ar基中における隣接炭素原
子に結合し、Rは、低級アルキル基によって置換されて
いてもよいフェニレン基またはC_1〜C_1_2のア
ルキレン基を示し、R′は、2価の脂肪族基または芳香
環を有する2価の有機基を示す。〕 で表わされる繰り返し単位が不規則に配列され、かつ一
般式(II)で表わされる繰り返し単位が一般式( I )
で表わされる繰り返し単位に対して1/2以下のモル比
で含有され、固有粘度0.1〜5.0dl/gを有する
ポリアミドイミド樹脂60〜99重量%と、エポキシ樹
脂1〜40重量%とよりなることを特徴とする耐熱性樹
脂組成物。(2) General formula (1) and general formula (II) below ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (I) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (II) [In the formula, Ar is a tetravalent is an aromatic organic group in which each of the four carbonyl groups is directly bonded to a different carbon atom, and each pair of carbonyl groups is bonded to an adjacent carbon atom in the Ar group, and R is a lower alkyl group. represents a phenylene group or an alkylene group of C_1 to C_1_2 which may be substituted by R', and R' represents a divalent aliphatic group or a divalent organic group having an aromatic ring. ] The repeating units represented by are arranged irregularly, and the repeating units represented by the general formula (II) have the general formula (I)
60-99% by weight of a polyamide-imide resin which is contained in a molar ratio of 1/2 or less with respect to the repeating unit represented by and has an intrinsic viscosity of 0.1-5.0 dl/g, and 1-40% by weight of an epoxy resin A heat-resistant resin composition comprising:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14871790A JPH0441521A (en) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | Heat-resistant resin composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14871790A JPH0441521A (en) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | Heat-resistant resin composition |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0441521A true JPH0441521A (en) | 1992-02-12 |
| JPH0583579B2 JPH0583579B2 (en) | 1993-11-26 |
Family
ID=15459024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14871790A Granted JPH0441521A (en) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | Heat-resistant resin composition |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0441521A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003082645A (en) * | 2001-09-13 | 2003-03-19 | Nippon Solid Co Ltd | Oil separator having oil reservoir |
| JP2009108307A (en) * | 2007-10-11 | 2009-05-21 | Hitachi Chem Co Ltd | Curable resin composition and electronic component |
-
1990
- 1990-06-08 JP JP14871790A patent/JPH0441521A/en active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003082645A (en) * | 2001-09-13 | 2003-03-19 | Nippon Solid Co Ltd | Oil separator having oil reservoir |
| JP2009108307A (en) * | 2007-10-11 | 2009-05-21 | Hitachi Chem Co Ltd | Curable resin composition and electronic component |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0583579B2 (en) | 1993-11-26 |
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