JPH0441939B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0441939B2 JPH0441939B2 JP11454385A JP11454385A JPH0441939B2 JP H0441939 B2 JPH0441939 B2 JP H0441939B2 JP 11454385 A JP11454385 A JP 11454385A JP 11454385 A JP11454385 A JP 11454385A JP H0441939 B2 JPH0441939 B2 JP H0441939B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wavelength
- spectrometer
- filter
- waveform
- calibration method
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔1〕 技術分野
本発明は生体組織の表面に光を当てその反射光
を分光分析することにより生体表層の色素の状態
を分析する装置の改良された波長較正法に係る。
を分光分析することにより生体表層の色素の状態
を分析する装置の改良された波長較正法に係る。
〔2〕 従来技術とその問題点
従来本装置の波長較正は干渉フイルタ(ピーク
波長571nm)を用いた波長較正器を使つてその透
過スペクトルのピーク波長に波長軸をあわせる方
法を用いていた。すなわち第2図Aの較正器の干
渉フイルタ21を透過する光のスペクトルは第2
図Bの波形aであつて、そのピーク波長はλ0であ
つて、較正前の波形bを波長δだけずらしaに合
わせることによつて波正較正を行なう。
波長571nm)を用いた波長較正器を使つてその透
過スペクトルのピーク波長に波長軸をあわせる方
法を用いていた。すなわち第2図Aの較正器の干
渉フイルタ21を透過する光のスペクトルは第2
図Bの波形aであつて、そのピーク波長はλ0であ
つて、較正前の波形bを波長δだけずらしaに合
わせることによつて波正較正を行なう。
然し、上記のλ0とフイルタの厚さtとの間には
λ0=2/3t ……(1)
なる関係があつて、この厚みtはフイルタの製造
ロツトやフイルタの光軸に対する傾きにより均一
とはならず、したがつてピーク波長λ0もバラツキ
があつた。
ロツトやフイルタの光軸に対する傾きにより均一
とはならず、したがつてピーク波長λ0もバラツキ
があつた。
また、このピーク波長λ0にX軸(波長軸)をあ
わせる方法は従来は第3図のように波長ピーク値
(571nm)にカーソルを移動させる操作で行つて
いた。これはかなり感覚的な方法であり、精度が
悪かつた。
わせる方法は従来は第3図のように波長ピーク値
(571nm)にカーソルを移動させる操作で行つて
いた。これはかなり感覚的な方法であり、精度が
悪かつた。
〔3〕 目的
本考案の目的は分光器の正確かつ再現性の高い
波長較正法を提供することである。
波長較正法を提供することである。
〔4〕 問題点を解決するための手段
上記の問題点を解決する本発明の較正方法にお
いては干渉フイルタの厚みに関係なくフイルタを
構成する材料に特有のスペクトル波形を与えるも
のを用いてピーク波長をシフトすることを特徴と
する。このようなフイルタの構成としては例えば
デイデイミウムをガラス基板の表面に蒸着したも
のが特に好適である。その透過スペクトル波形は
第4図のようになる。
いては干渉フイルタの厚みに関係なくフイルタを
構成する材料に特有のスペクトル波形を与えるも
のを用いてピーク波長をシフトすることを特徴と
する。このようなフイルタの構成としては例えば
デイデイミウムをガラス基板の表面に蒸着したも
のが特に好適である。その透過スペクトル波形は
第4図のようになる。
このデイデイミウムフイルタを利用した波長の
自動較正法について以下に述べる第5図で実線の
スペクトル波形はレーザ光線等で較正した分光器
で測定した較正済のスペクトル波形である。この
スペクトルを装置内に記憶しておく。点線のスペ
クトル波形はΔλだけ波長のズレた分光器で測定
した波形である。
自動較正法について以下に述べる第5図で実線の
スペクトル波形はレーザ光線等で較正した分光器
で測定した較正済のスペクトル波形である。この
スペクトルを装置内に記憶しておく。点線のスペ
クトル波形はΔλだけ波長のズレた分光器で測定
した波形である。
ここで較正済のスペクトルの波形をIT(λ)と
し測定した波形をID(λ)として両者の間のシフ
ト量(第5図の斜線を施した部分)IDWを次式で、
使用する透過フイルタの特徴的な透過スペクトル
を有する波長範囲[a,b]について積分するこ
とによつて、算出する。
し測定した波形をID(λ)として両者の間のシフ
ト量(第5図の斜線を施した部分)IDWを次式で、
使用する透過フイルタの特徴的な透過スペクトル
を有する波長範囲[a,b]について積分するこ
とによつて、算出する。
IDW=∫a b〔IT(λ)
−ID(λ+Δλ)〕2dλ ……(2)
今、波長の偏位Δλとシフト量IDWとをプロツト
すると第1図のようになつて Δλ=0 ……(3) の時にIDWは最小となる。
すると第1図のようになつて Δλ=0 ……(3) の時にIDWは最小となる。
この特性を利用しIDWを計算しこの値を最小に
するようにΔλをシフトしていき、IDWが最小とな
つた時に較正を完了するものとすれば自動的に較
正できる。
するようにΔλをシフトしていき、IDWが最小とな
つた時に較正を完了するものとすれば自動的に較
正できる。
〔5〕 実施例
前述の原理に基づく実施ステツプのフローチヤ
ートを第6図に示す。
ートを第6図に示す。
以上のステツプで実施した例を第7図に示す。
〔6〕 効果
高精度の自動的な波長較正が可能となつた。
このことにより高感度で高信頼性の反射スペク
トル測定ができる。また定量的な較正のため再現
性もある。
トル測定ができる。また定量的な較正のため再現
性もある。
第1図は波長較正法で計算し較正の判定の基準
とするIDW値と波長のズレΔλとの関係を示す。第
2図Aは従来の波長較正器に用いている干渉フイ
ルタ、同Bは透過スペクトルとその中心波長λ0と
フイルタの厚みtの関係を示す。第3図は従来の
波長較正法の調整のし方について述べたもので、
フイルタのピーク波長に合せてカーソルをシフト
する様子を示す。第4図は本考案の実施例の1つ
として物質固有スペクトルを有すデイデイミウム
フイルタの透過スペクトルを示す。第5図は第4
図のデイデイミウムフイルタを用いた場合の波長
較正法の原理図を示す。第6図は実施ステツプの
フローチヤートを示す。第7図は透過スペクトル
ではなく吸収スペクトルを使用した時の本装置で
の波長較正実施例を示す。
とするIDW値と波長のズレΔλとの関係を示す。第
2図Aは従来の波長較正器に用いている干渉フイ
ルタ、同Bは透過スペクトルとその中心波長λ0と
フイルタの厚みtの関係を示す。第3図は従来の
波長較正法の調整のし方について述べたもので、
フイルタのピーク波長に合せてカーソルをシフト
する様子を示す。第4図は本考案の実施例の1つ
として物質固有スペクトルを有すデイデイミウム
フイルタの透過スペクトルを示す。第5図は第4
図のデイデイミウムフイルタを用いた場合の波長
較正法の原理図を示す。第6図は実施ステツプの
フローチヤートを示す。第7図は透過スペクトル
ではなく吸収スペクトルを使用した時の本装置で
の波長較正実施例を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 生体組織に投光しその反射光をスペクトル分
光器を用いて解析し、組織の状態を診断する組織
分光スペクトル分析装置に用いる波長較正方法に
おいて、較正済の分光器を用いて測定した干渉フ
イルタ透過光のスペクトル波形IT(λ)を計測し
それを記憶する手段と、較正する分光器について
同様にスペクトル波形ID(λ)を計測し、記憶さ
れた前記波形IT(λ)との波長λに関するずれの
積分値IDWを次式により求める手段と、 IDW=∫〔IT(λ)−ID(λ+Δλ)〕2dλ この値が最小になるよう波長をΔλだけ偏位さ
せ波長軸をシフトすることを特徴とする波長較正
方法。 2 波長較正用の干渉フイルタとしてガラス基材
の表面にデイデイミウムを蒸着させたフイルタを
用いることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の波長較正方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11454385A JPS61271427A (ja) | 1985-05-28 | 1985-05-28 | 波長較正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11454385A JPS61271427A (ja) | 1985-05-28 | 1985-05-28 | 波長較正方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61271427A JPS61271427A (ja) | 1986-12-01 |
| JPH0441939B2 true JPH0441939B2 (ja) | 1992-07-09 |
Family
ID=14640403
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11454385A Granted JPS61271427A (ja) | 1985-05-28 | 1985-05-28 | 波長較正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61271427A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6256216B2 (ja) * | 2014-06-16 | 2018-01-10 | 株式会社島津製作所 | 分光測定装置、液体クロマトグラフ及び分光器の波長校正方法 |
-
1985
- 1985-05-28 JP JP11454385A patent/JPS61271427A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61271427A (ja) | 1986-12-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4823008A (en) | Apparatus and methods employing infrared absorption means to measure the moisture content of heavy grades of paper | |
| GB1382081A (en) | Transmission spectra | |
| JPH06317408A (ja) | 偏光解析法を用いて透明層の特性値を決定するための方法 | |
| US4082950A (en) | Calibration assembly for infrared moisture analyzer | |
| WO2017067541A1 (de) | Bearbeitungsvorrichtung und verfahren zur kontrollierten beidseitigen bearbeitung eines halbleiterwafers | |
| US4952061A (en) | Method and apparatus for sensing or determining one or more properties or the identity of a sample | |
| JPH04301506A (ja) | 真空蒸着装置に於ける光学定数と膜厚の測定方法及び測定装置 | |
| JPH0441939B2 (ja) | ||
| JP2000146836A (ja) | エバネセント波の透過現象を利用する屈折率測定法およびその測定装置 | |
| JP2001165628A (ja) | 膜厚測定装置 | |
| US4988203A (en) | Device for inspecting an interference filter for a projection television display tube | |
| JP3866933B2 (ja) | 膜厚測定装置 | |
| CN107525589B (zh) | 一种波长定标系统及方法 | |
| JPS55103404A (en) | Measuring method of film thickness | |
| JP3205084B2 (ja) | コート材の膜厚測定方法および装置 | |
| JPH0731049B2 (ja) | 光学式膜厚測定装置 | |
| JPH04194611A (ja) | X線回折法による膜厚測定方法 | |
| CN221527951U (zh) | 一种基于分光成像的显示器消偏振测量系统 | |
| JP3282236B2 (ja) | シリコン薄膜の膜厚または屈折率測定方法およびその装置 | |
| JPS627266B2 (ja) | ||
| SU947637A1 (ru) | Устройство дл измерени коэффициента отражени плоской поверхности образцов | |
| JPS6155048B2 (ja) | ||
| SU1476353A1 (ru) | Способ измерени оптических посто нных поглощающих сред | |
| JPS61253408A (ja) | 光学薄膜の膜厚制御方法 | |
| JPH11173915A (ja) | 赤外線吸光度測定方法 |