JPH0442530A - 超音波洗浄装置 - Google Patents
超音波洗浄装置Info
- Publication number
- JPH0442530A JPH0442530A JP15028790A JP15028790A JPH0442530A JP H0442530 A JPH0442530 A JP H0442530A JP 15028790 A JP15028790 A JP 15028790A JP 15028790 A JP15028790 A JP 15028790A JP H0442530 A JPH0442530 A JP H0442530A
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- Japan
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- cleaning
- ultrasonic
- tank
- cleaned
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
洗浄槽外に表層部を連続的に溢れ出す当該洗浄槽内の洗
浄用液体に超音波エネルギーを供給し、洗浄用液体中に
浸漬した被洗浄物体を洗浄する超音波洗浄装置に関し、 洗浄槽内の洗浄用液体中で被洗浄物体から離脱させた物
質が当該被洗浄物体に再付着することを防止できる超音
波洗浄装置の提供を目的とし、洗浄槽内の底部中央部に
洗浄用液体を、洗浄槽内で上方向に噴出する垂直流発生
ノズルを設けて超音波洗浄装置を構成する。
浄用液体に超音波エネルギーを供給し、洗浄用液体中に
浸漬した被洗浄物体を洗浄する超音波洗浄装置に関し、 洗浄槽内の洗浄用液体中で被洗浄物体から離脱させた物
質が当該被洗浄物体に再付着することを防止できる超音
波洗浄装置の提供を目的とし、洗浄槽内の底部中央部に
洗浄用液体を、洗浄槽内で上方向に噴出する垂直流発生
ノズルを設けて超音波洗浄装置を構成する。
本発明は、超音波洗浄装置、特に洗浄槽内の洗浄用液体
中で被洗浄物体から離脱させた物質が当該被洗浄物体に
再付着することを防止できる超音波洗浄装置に関する。
中で被洗浄物体から離脱させた物質が当該被洗浄物体に
再付着することを防止できる超音波洗浄装置に関する。
半導体装置製造のウェーハブロセス工程における半導体
ウェーハや露光用マスク等の洗浄は、超音波洗浄装置を
使用して行うのが一般的である。
ウェーハや露光用マスク等の洗浄は、超音波洗浄装置を
使用して行うのが一般的である。
次に、半導体ウェーハや露光用マスク等の洗浄に使用さ
れていた従来の超音波洗浄装置を図面を参照しながら説
明する。
れていた従来の超音波洗浄装置を図面を参照しながら説
明する。
第２図は、従来の超音波洗浄装置の要部概略側断面図で
ある。
ある。
尚、同じ部品・材料に対しては全図を通して同じ記号を
付与しである。
付与しである。
従来の超音波洗浄装置は、第２図に示すように洗浄槽２
０、洗浄槽２０の金属製の筒体２０ａを貫通して当該筒
体２０ａに溶接されて洗浄液導入管２１、振動板２２ａ
を上方にして洗浄槽２０の底板２０ｂに固定された超音
波振動子２２、超音波振動子２２に接続した超音波発振
器２３を含んで構成されている。
０、洗浄槽２０の金属製の筒体２０ａを貫通して当該筒
体２０ａに溶接されて洗浄液導入管２１、振動板２２ａ
を上方にして洗浄槽２０の底板２０ｂに固定された超音
波振動子２２、超音波振動子２２に接続した超音波発振
器２３を含んで構成されている。
かかる超音波洗浄装置により被洗浄物体、例えば半導体
ウェーハ３１を洗浄する方法を、工程順に説明する。
ウェーハ３１を洗浄する方法を、工程順に説明する。
まず、複数の半導体ウェーハ３１を離隔且つ垂直にして
収納した洗浄治具３２を、洗浄液導入管２１がら連続的
に供給されて洗浄槽２０の上端開口部からオーバフロー
している洗浄用液体、例えば純水３０中に浸漬する。
収納した洗浄治具３２を、洗浄液導入管２１がら連続的
に供給されて洗浄槽２０の上端開口部からオーバフロー
している洗浄用液体、例えば純水３０中に浸漬する。
そして、洗浄治具３２を純水３０中へ浸漬した直後に超
音波発振器２３を動作させると超音波振動子２２は、振
動板２２ａを振動させて超音波エネルギーを純水３０に
供給する。
音波発振器２３を動作させると超音波振動子２２は、振
動板２２ａを振動させて超音波エネルギーを純水３０に
供給する。
すると、純水３０の分子は、半導体ウェーハ３１の表面
に激しく衝突し、半導体ウェーハ３１の表面から汚れ物
質を離脱させて、半導体ウェーハ３１の表面を洗浄する
こととなる。
に激しく衝突し、半導体ウェーハ３１の表面から汚れ物
質を離脱させて、半導体ウェーハ３１の表面を洗浄する
こととなる。
前述したように従来の超音波洗浄装置は、洗浄槽２０の
筒体２０ａに洗浄液導入管２１を配設し、この洗浄液導
入管２１から純水３０を矢印Ｈで示すように水平に噴出
していた（第２図参照）。
筒体２０ａに洗浄液導入管２１を配設し、この洗浄液導
入管２１から純水３０を矢印Ｈで示すように水平に噴出
していた（第２図参照）。
この洗浄液導入管２１から噴出する純水３０は、洗浄槽
２０内の純水３０を攪拌することとなる。
２０内の純水３０を攪拌することとなる。
このため、汚れ物質を含んで純度の低下した純水３０は
、汚れ物質を離脱して綺麗にした半導体つ工−ハ３１表
面に接触し、−旦は洗浄された半導体ウェーハ３１の表
面に汚れ物質を再付着させるという問題があった。
、汚れ物質を離脱して綺麗にした半導体つ工−ハ３１表
面に接触し、−旦は洗浄された半導体ウェーハ３１の表
面に汚れ物質を再付着させるという問題があった。
本発明は、このような問題を解決するためになされたも
のであって、その目的は洗浄槽内の洗浄用液体中で被洗
浄物体から離脱させた物質が当該被洗浄物体に再付着す
ることを防止できる超音波洗浄装置の提供にある。
のであって、その目的は洗浄槽内の洗浄用液体中で被洗
浄物体から離脱させた物質が当該被洗浄物体に再付着す
ることを防止できる超音波洗浄装置の提供にある。
前記目的は、第１図に示す如く洗浄槽ｌｏ外に表層部を
連続的に溢れ出す当該洗浄槽ｌｏ内の洗浄用液体３０に
超音波エネルギーを供給し、洗浄用液体３０中に浸漬し
た被洗浄物体３１を洗浄する超音波洗浄装置において、 洗浄槽１０内の底部中央部に洗浄用液体３ｏを、洗浄槽
１０内で上方向に噴出する垂直流発生ノズル１３が設け
られていることを特徴とする超音波洗浄装置によって達
成される。
連続的に溢れ出す当該洗浄槽ｌｏ内の洗浄用液体３０に
超音波エネルギーを供給し、洗浄用液体３０中に浸漬し
た被洗浄物体３１を洗浄する超音波洗浄装置において、 洗浄槽１０内の底部中央部に洗浄用液体３ｏを、洗浄槽
１０内で上方向に噴出する垂直流発生ノズル１３が設け
られていることを特徴とする超音波洗浄装置によって達
成される。
本発明の超音波洗浄装置は、洗浄槽ｌｏ内の底部中央部
に洗浄用液体３０を上方向垂直に噴流する垂直流発生ノ
ズル１３が設けられている。
に洗浄用液体３０を上方向垂直に噴流する垂直流発生ノ
ズル１３が設けられている。
従って、この垂直流発生ノズル１３がら噴出されて、被
洗浄物体３１から離脱した汚れ物質を含んだ洗浄用液体
３０は、洗浄槽１０内を層流状態とな、って上昇し、洗
浄槽１０の上端の開口部から溢れ出ることとなる。
洗浄物体３１から離脱した汚れ物質を含んだ洗浄用液体
３０は、洗浄槽１０内を層流状態とな、って上昇し、洗
浄槽１０の上端の開口部から溢れ出ることとなる。
このため、被洗浄物体３１の表面は、被洗浄物体３１か
ら離脱した汚れ物質を含んだ洗浄用液体３ｏと接触する
ことなく、汚れ物質を含まない洗浄用液体３０と絶えず
接触する。
ら離脱した汚れ物質を含んだ洗浄用液体３ｏと接触する
ことなく、汚れ物質を含まない洗浄用液体３０と絶えず
接触する。
斯くして、被洗浄物体３１の表面は、汚れ物質の再付着
がない状態で仕上げられることとなる。
がない状態で仕上げられることとなる。
以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら説
明する。
明する。
第１図は、本発明の一実施例の超音波洗浄装置を説明す
るための図で、同図（ａ）は装置の要部概略側断面図、
同図（ｂ）は垂直流発生ノズルの平面図である。
るための図で、同図（ａ）は装置の要部概略側断面図、
同図（ｂ）は垂直流発生ノズルの平面図である。
この超音波洗浄装置は、同図（ａ）及び同図（ｂ）に示
す如く金属製の筒体１０ａの下端開口部を超音波振動子
１２の振動板１２ａ及び垂直流発生ノズルとで閉塞する
が如くして構成した洗浄槽１０と、洗浄槽１０内に洗浄
用液体、例えば純水３０を矢印Ｈの如く水平方向に噴出
する洗浄液導入管１１と、同心円状の開口部を有する振
動板１２ａを弾性気密パツキン１０ｂを介して筒体１０
ａの下端の開口端に連結した超音波振動子１２と、 振動板１２ａの開口部に挿入且つ弾性気密パツキン１０
ｂを介して超音波振動子１２に連結し、純水３０を矢印
Ｖで示す如く上方垂直方向に噴出する噴出口１３ａを有
する垂直流発生ノズル１３と、超音波振動子１２に超音
波周波数の電力を供給して、当該超音波振動子１２の振
動板１２ａを振動させることにより洗浄槽１０内の純水
３０に超音波エネルギーを供給する超音波発振器１４を
含ませて構成したものである。
す如く金属製の筒体１０ａの下端開口部を超音波振動子
１２の振動板１２ａ及び垂直流発生ノズルとで閉塞する
が如くして構成した洗浄槽１０と、洗浄槽１０内に洗浄
用液体、例えば純水３０を矢印Ｈの如く水平方向に噴出
する洗浄液導入管１１と、同心円状の開口部を有する振
動板１２ａを弾性気密パツキン１０ｂを介して筒体１０
ａの下端の開口端に連結した超音波振動子１２と、 振動板１２ａの開口部に挿入且つ弾性気密パツキン１０
ｂを介して超音波振動子１２に連結し、純水３０を矢印
Ｖで示す如く上方垂直方向に噴出する噴出口１３ａを有
する垂直流発生ノズル１３と、超音波振動子１２に超音
波周波数の電力を供給して、当該超音波振動子１２の振
動板１２ａを振動させることにより洗浄槽１０内の純水
３０に超音波エネルギーを供給する超音波発振器１４を
含ませて構成したものである。
この超音波洗浄装置による被洗浄物体の洗浄方法は、第
２図により説明した従来の超音波洗浄装置の洗浄方法と
同じ手順により行われるので、此処での説明は割愛する
こととする。
２図により説明した従来の超音波洗浄装置の洗浄方法と
同じ手順により行われるので、此処での説明は割愛する
こととする。
但し、本発明の一実施例の超音波洗浄装置においては、
垂直流発生ノズル１３から上方垂直方向に噴出された純
水３０は、層流となって上昇し、半導体ウェーハ３１等
から離脱した物質とともに洗浄槽１０の上端の開口部か
ら溢水３０ａとなって洗浄槽１０から流れ出ることとな
る。
垂直流発生ノズル１３から上方垂直方向に噴出された純
水３０は、層流となって上昇し、半導体ウェーハ３１等
から離脱した物質とともに洗浄槽１０の上端の開口部か
ら溢水３０ａとなって洗浄槽１０から流れ出ることとな
る。
従って、本発明の超音波洗浄装置では、上記の如く洗浄
槽１０内で純水３０の攪拌状態が発生しないために、−
旦は洗浄されて汚れ物質を離脱された半導体ウェーハな
どの被洗浄物体の表面に離脱した汚れ物質が再付着する
ことがなくなる。
槽１０内で純水３０の攪拌状態が発生しないために、−
旦は洗浄されて汚れ物質を離脱された半導体ウェーハな
どの被洗浄物体の表面に離脱した汚れ物質が再付着する
ことがなくなる。
斯くして、本発明の超音波洗浄装置は、被洗浄物体の表
面を極めて綺麗な状態に仕上げすることを可能とするも
のである。
面を極めて綺麗な状態に仕上げすることを可能とするも
のである。
以上の説明から明らかなように本発明によれば、洗浄槽
内の洗浄用液体中で被洗浄物体の表面から離脱させた物
質が、この被洗浄物体の表面に再付着するのを防止でき
る超音波洗浄装置を提供することができる 従って、本発明の超音波洗浄装置で半導体つ工−ハ等を
洗浄すれば、半導体ウェーハ等の表面は汚れ物質の付着
がない極めて綺麗な状態で仕上げされることとなる。
内の洗浄用液体中で被洗浄物体の表面から離脱させた物
質が、この被洗浄物体の表面に再付着するのを防止でき
る超音波洗浄装置を提供することができる 従って、本発明の超音波洗浄装置で半導体つ工−ハ等を
洗浄すれば、半導体ウェーハ等の表面は汚れ物質の付着
がない極めて綺麗な状態で仕上げされることとなる。
３１は被洗浄物体く半導体ウェーハ）、３２は洗浄治具
をそれぞれ示す。
をそれぞれ示す。
第１図は、本発明の一実施例の超音波洗浄装置を説明す
るための図、 第２図は、従来の超音波洗浄装置の要部概略側断面図で
ある。 図において、 １０と２０は洗浄槽、 １１と２１は洗浄液導入管、 １２と２２は超音波振動子、 １３は垂直流発生ノズル、 １３ａは噴出口、 １４と２３は超音波発振器、 ３０は洗浄用液体（純水）、 （０’ １ｔの？９［１ｋｌＦ（＃ｌｊｍＸｊｔｂ）ｔ
ｉ＞＆＃ｔノア１Ｌｎ千６むの滞Ａと明の一哄乙創シθ
ゴっ超１１り皮Ｌｆ家１袋り虻’Ｊ’ｆｆｔａ、ｎ褐Ｃ
７を朱／１Ｍ、＋ｆｉ３ｔｉｆｇｆｌ ｐ＋ ｔ−ｑｆ
ｆｌ ｎ剰ｄｌｒｆｏ 図＄２図
るための図、 第２図は、従来の超音波洗浄装置の要部概略側断面図で
ある。 図において、 １０と２０は洗浄槽、 １１と２１は洗浄液導入管、 １２と２２は超音波振動子、 １３は垂直流発生ノズル、 １３ａは噴出口、 １４と２３は超音波発振器、 ３０は洗浄用液体（純水）、 （０’ １ｔの？９［１ｋｌＦ（＃ｌｊｍＸｊｔｂ）ｔ
ｉ＞＆＃ｔノア１Ｌｎ千６むの滞Ａと明の一哄乙創シθ
ゴっ超１１り皮Ｌｆ家１袋り虻’Ｊ’ｆｆｔａ、ｎ褐Ｃ
７を朱／１Ｍ、＋ｆｉ３ｔｉｆｇｆｌ ｐ＋ ｔ−ｑｆ
ｆｌ ｎ剰ｄｌｒｆｏ 図＄２図
Claims (1)
- 洗浄槽（１０）外に表層部を連続的に溢れ出す当該洗
浄槽（１０）内の洗浄用液体（３０）に超音波エネルギ
ーを供給し、洗浄用液体（３０）中に浸漬した被洗浄物
体（３１）を洗浄する超音波洗浄装置において、洗浄槽
（１０）内の底部中央部に洗浄用液体（３０）を当該洗
浄槽（１０）内で上方向に噴出する垂直流発生ノズル（
１３）が設けられていることを特徴とする超音波洗浄装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15028790A JPH0442530A (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | 超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15028790A JPH0442530A (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | 超音波洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0442530A true JPH0442530A (ja) | 1992-02-13 |
Family
ID=15493685
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15028790A Pending JPH0442530A (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | 超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0442530A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5927302A (en) * | 1992-04-07 | 1999-07-27 | Fujitsu Limited | Method for rinsing plate-shaped articles and cleaning bath and cleaning equipment used in the same |
| KR100462995B1 (ko) * | 2002-01-30 | 2004-12-23 | 윈텍 이엔지(주) | 실리콘 캐소드 홀 내면 연마장치 |
| DE19742680B4 (de) * | 1997-09-26 | 2006-03-02 | Siltronic Ag | Reinigungsverfahren für scheibenförmiges Material |
| US7208858B2 (en) * | 2003-02-04 | 2007-04-24 | Forward Technology A Crest Group Company | Ultrasonic cleaning tank |
-
1990
- 1990-06-08 JP JP15028790A patent/JPH0442530A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5927302A (en) * | 1992-04-07 | 1999-07-27 | Fujitsu Limited | Method for rinsing plate-shaped articles and cleaning bath and cleaning equipment used in the same |
| DE19742680B4 (de) * | 1997-09-26 | 2006-03-02 | Siltronic Ag | Reinigungsverfahren für scheibenförmiges Material |
| KR100462995B1 (ko) * | 2002-01-30 | 2004-12-23 | 윈텍 이엔지(주) | 실리콘 캐소드 홀 내면 연마장치 |
| US7208858B2 (en) * | 2003-02-04 | 2007-04-24 | Forward Technology A Crest Group Company | Ultrasonic cleaning tank |
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