JPH0443858B2 - - Google Patents
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- JPH0443858B2 JPH0443858B2 JP63329490A JP32949088A JPH0443858B2 JP H0443858 B2 JPH0443858 B2 JP H0443858B2 JP 63329490 A JP63329490 A JP 63329490A JP 32949088 A JP32949088 A JP 32949088A JP H0443858 B2 JPH0443858 B2 JP H0443858B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は調理器具、例えばフライパン、シチユ
ーなべ、浅い蒸焼きなべ等の底用のエナメルコー
テイングに関する。
ーなべ、浅い蒸焼きなべ等の底用のエナメルコー
テイングに関する。
また、本発明はこの種のエナメルコーテイング
で提供される調理器具に関する。
で提供される調理器具に関する。
仏国特許第2544338号に開示されたように、調
理器具の底用の周知のコーテイングは、この器具
の底を完全に覆う第1のエナメル層を含んでな
る。この層の上に第1のエナメル層の乾燥後、ス
クリーンプロセスにより塗布される化粧表面を構
成する第2のエナメルの非連続層を形成する。こ
の2つの層はエナメルフリツトより得られ、同時
に燃焼される。
理器具の底用の周知のコーテイングは、この器具
の底を完全に覆う第1のエナメル層を含んでな
る。この層の上に第1のエナメル層の乾燥後、ス
クリーンプロセスにより塗布される化粧表面を構
成する第2のエナメルの非連続層を形成する。こ
の2つの層はエナメルフリツトより得られ、同時
に燃焼される。
2つのエナメル層の同時燃焼は、2層の強力な
接合およびエナメルコーテイングが暴露される厳
しい熱衝撃に対するすぐれた耐性を得ることを可
能にする。
接合およびエナメルコーテイングが暴露される厳
しい熱衝撃に対するすぐれた耐性を得ることを可
能にする。
化粧を構成する非連続外部層は、この器具の底
の外観を改良するだけでなく、衝撃並びに研磨に
対し下のエナメル層を保護する磨耗層を構成す
る。事実、この化粧層の表面を増すとエナメルコ
ーテイングの美しい外観を損なうことなく磨耗可
能である。
の外観を改良するだけでなく、衝撃並びに研磨に
対し下のエナメル層を保護する磨耗層を構成す
る。事実、この化粧層の表面を増すとエナメルコ
ーテイングの美しい外観を損なうことなく磨耗可
能である。
それにもかかわらず、前記外側エナメル層の非
連続特性のため、特にこのエナメルがスチールあ
るいは鋳鉄製の器具用のエナメルより明らかに硬
度が低いアルミニウム用のエナメルフリツトより
得られる場合、この層はあまりに速く磨耗する。
連続特性のため、特にこのエナメルがスチールあ
るいは鋳鉄製の器具用のエナメルより明らかに硬
度が低いアルミニウム用のエナメルフリツトより
得られる場合、この層はあまりに速く磨耗する。
この比較的低い硬度の対応策を与えるためおよ
び厚い表面を有する外側エナメル層の磨耗に対す
る耐性を増すため、本出願人は仏国特許第
2544338号において、例えばアルミナ、炭化珪素
等のような角のある形状を有する硬い粒子でこの
エナメル層を充たす(この粒子のあるものはエナ
メル層の表面から突き出ている)ことを提案し
た。
び厚い表面を有する外側エナメル層の磨耗に対す
る耐性を増すため、本出願人は仏国特許第
2544338号において、例えばアルミナ、炭化珪素
等のような角のある形状を有する硬い粒子でこの
エナメル層を充たす(この粒子のあるものはエナ
メル層の表面から突き出ている)ことを提案し
た。
しかし、エナメルの表面から突き出ているこの
硬いおよび角のある粒子は、この表面の摩擦係数
をかなり増し、これは清掃がかなり困難である。
さらに、磨耗するとこの粒子は厚い表面のエナメ
ル化粧を美しくない外観にしてしまう。
硬いおよび角のある粒子は、この表面の摩擦係数
をかなり増し、これは清掃がかなり困難である。
さらに、磨耗するとこの粒子は厚い表面のエナメ
ル化粧を美しくない外観にしてしまう。
さらに、その絶縁特性のため、エナメルコーテ
イングは調理器具の底からの熱の透過に影響を与
える。
イングは調理器具の底からの熱の透過に影響を与
える。
本発明の目的は、前記エナメルコーテイングの
これらの欠点を克服することである。
これらの欠点を克服することである。
本発明は調理器具用のエナメルコーテイングに
関し、このコーテイングは化粧を構成する非連続
第3のエナメル層で被覆されおよび第1の層の乾
燥後スクリーンプロセスにより塗布される第2の
エナメル層で底の部分が被覆された第1のエナメ
ル層を含んでなり、この3つの層はエナメルフリ
ツトより得られ、同時に燃焼される。
関し、このコーテイングは化粧を構成する非連続
第3のエナメル層で被覆されおよび第1の層の乾
燥後スクリーンプロセスにより塗布される第2の
エナメル層で底の部分が被覆された第1のエナメ
ル層を含んでなり、この3つの層はエナメルフリ
ツトより得られ、同時に燃焼される。
本発明に従い、前記エナメルコーテイングは、
第2並びに第3のエナメル層がガラスビーズを含
み、このガラスビーズの一定数が前記エナメル層
の厚さより大きな値の直径を有しおよび前記層の
表面から突き出しており、非連続第3の層のビー
ズの一定数が第2の層のビーズ上に付着され、第
2のエナメル層が互いにおよび前記層に平行な方
向に配列し、一部互いに重なり合つている熱伝導
性フレークを含むことにより区別される。
第2並びに第3のエナメル層がガラスビーズを含
み、このガラスビーズの一定数が前記エナメル層
の厚さより大きな値の直径を有しおよび前記層の
表面から突き出しており、非連続第3の層のビー
ズの一定数が第2の層のビーズ上に付着され、第
2のエナメル層が互いにおよび前記層に平行な方
向に配列し、一部互いに重なり合つている熱伝導
性フレークを含むことにより区別される。
非連続外側層の表面から突き出ているガラスビ
ーズは、前記外側層の磨耗に対する耐性を増しお
よびこの摩擦係数を低下させることを可能にし、
この結果、前記外側層は容易に清浄にされ、傷つ
きやすい表面とはならない。
ーズは、前記外側層の磨耗に対する耐性を増しお
よびこの摩擦係数を低下させることを可能にし、
この結果、前記外側層は容易に清浄にされ、傷つ
きやすい表面とはならない。
さらに、驚くべきことは本出願人は、エナメル
中のガラスビーズの定着に好ましくないその滑ら
かな表面にもかかわらず、非連続外側層をスクリ
ーンプロセスにより塗布することにより前記ビー
ズが固く定着されることを発見した。実施におい
て、スクリーンプロセス付着はスクイーズにより
スクリーンのメツシユを通してエナメルペースト
を塗布し、ビーズをエナメル層に浸入させること
からなる。
中のガラスビーズの定着に好ましくないその滑ら
かな表面にもかかわらず、非連続外側層をスクリ
ーンプロセスにより塗布することにより前記ビー
ズが固く定着されることを発見した。実施におい
て、スクリーンプロセス付着はスクイーズにより
スクリーンのメツシユを通してエナメルペースト
を塗布し、ビーズをエナメル層に浸入させること
からなる。
さらに、非連続外側層へのビーズの侵入は下に
あるエナメル層中のガラスビーズの存在により調
節され、外部エナメル層の少なくとも一定数のビ
ーズが塗布される。
あるエナメル層中のガラスビーズの存在により調
節され、外部エナメル層の少なくとも一定数のビ
ーズが塗布される。
さらに、下にあるエナメル層中に存在するガラ
スビーズは磨耗耐性の増加および非連続層に覆わ
れていない前記層の一部の清浄の促進を可能にす
る。
スビーズは磨耗耐性の増加および非連続層に覆わ
れていない前記層の一部の清浄の促進を可能にす
る。
フレークの平行な配列は、スクリーンプロセス
スクイーズの作用により得られる。
スクイーズの作用により得られる。
前記フレークはエナメル層の表面に平行な方向
に配列され、この内部で器具の底の表面全体の熱
分布を均質にし、エナメルコーテイングを通る熱
伝導をかなり増す熱伝導性スクリーンを形成す
る。
に配列され、この内部で器具の底の表面全体の熱
分布を均質にし、エナメルコーテイングを通る熱
伝導をかなり増す熱伝導性スクリーンを形成す
る。
前記連続第2エナメル層と前記非連続第3エナ
メル層の会合は、ビーズ並びにフレークの両方を
含む単一の層で得られない効果を得ることができ
る。
メル層の会合は、ビーズ並びにフレークの両方を
含む単一の層で得られない効果を得ることができ
る。
事実、フレークは非連続第3層には混入できな
い。それはこの場合、前記層の結合が不十分であ
るからである。さらに、この層の非連続特性のた
め熱特性は改良されない。この特性は連続第2層
がフレークを含む場合のみ得られる。
い。それはこの場合、前記層の結合が不十分であ
るからである。さらに、この層の非連続特性のた
め熱特性は改良されない。この特性は連続第2層
がフレークを含む場合のみ得られる。
好ましくは、スクリーンプロセス付着により第
2のエナメル層も塗布する。こうして前記第1の
エナメル層へのガラスビーズの浸入深さを正確に
調節可能にする。
2のエナメル層も塗布する。こうして前記第1の
エナメル層へのガラスビーズの浸入深さを正確に
調節可能にする。
本発明の好ましい実施態様において、ビーズの
最大直径はエナメル層の厚さの2倍である。
最大直径はエナメル層の厚さの2倍である。
すべてのガラスビーズを少なくともその直径と
等しい深さまでエナメル層に入れ、エナメル層に
前記ビーズを確実に固定する。
等しい深さまでエナメル層に入れ、エナメル層に
前記ビーズを確実に固定する。
本発明の有利な実施態様において、ガラスビー
ズの直径は5〜40μmの範囲内にあり、前記ビー
ズの平均直径は15〜20μmの範囲内にある。
ズの直径は5〜40μmの範囲内にあり、前記ビー
ズの平均直径は15〜20μmの範囲内にある。
各エナメル層の厚さは20〜25μmの範囲内であ
る。
る。
好ましくは、各エナメル層はガラスビーズを5
〜20重量%含む。
〜20重量%含む。
ガラスビーズ5%未満では、エナメルの特性に
対するその効果は無視してよく、一方20%以上で
は、ビーズとエナメルの間の接合が損なわれる。
対するその効果は無視してよく、一方20%以上で
は、ビーズとエナメルの間の接合が損なわれる。
好ましくは、第2のエナメル層はスレークを2
〜10重量%含む。
〜10重量%含む。
フレーク2%未満ではこの効果は無視でき、一
方10%以上ではこの存在はエナメル層の接合を損
なう原因となる。
方10%以上ではこの存在はエナメル層の接合を損
なう原因となる。
このフレームは好ましくはTiO2および/また
はFe2O3の薄層でコートされたマイカ製である。
これは銅のような色を有し、エナメルコーテイン
グにとても美しい外観を与える。
はFe2O3の薄層でコートされたマイカ製である。
これは銅のような色を有し、エナメルコーテイン
グにとても美しい外観を与える。
第2並びに第3のエナメル層は有利には例えば
タルク、グラフアイト、二硫化モリブデン、二硫
化バナジウム、窒化硼素等のような潤滑特性を有
する板状構造の固体粒子およびそれらの混合物を
含む。
タルク、グラフアイト、二硫化モリブデン、二硫
化バナジウム、窒化硼素等のような潤滑特性を有
する板状構造の固体粒子およびそれらの混合物を
含む。
板状構造の粒子はエナメルコーテイングの摩擦
係数を適度に下げ、器具の調理プレートの摩擦作
用にかなり低下させる。
係数を適度に下げ、器具の調理プレートの摩擦作
用にかなり低下させる。
非連続外側層の場合、この潤滑粒子はビーズの
作用を完全にし、層の表面まで磨耗した際にビー
ズから取り除く。
作用を完全にし、層の表面まで磨耗した際にビー
ズから取り除く。
図面において、例えばポリテトラフルオロエチ
レンの付着防止層2で被覆した内部表面(すなわ
ち、食品と接する表面)を有する調理容器の例え
ばアルミニウムの底1を示す。
レンの付着防止層2で被覆した内部表面(すなわ
ち、食品と接する表面)を有する調理容器の例え
ばアルミニウムの底1を示す。
底1の外部表面は、本発明に係るエナメルコー
テイングにより被覆されており、3つの層7,3
および4より構成されている。第1のエナメル層
7はこの器具の外部表面全体を被覆し、一方2つ
のエナメル層3および4はこの器具の底1の部分
にのみ塗布されている。
テイングにより被覆されており、3つの層7,3
および4より構成されている。第1のエナメル層
7はこの器具の外部表面全体を被覆し、一方2つ
のエナメル層3および4はこの器具の底1の部分
にのみ塗布されている。
3つのエナメル層7,3および4は、500〜600
℃の温度、すなわちアルミニウムの融点と適合す
る温度で焼結可能なエナメルフリツトより得られ
る。
℃の温度、すなわちアルミニウムの融点と適合す
る温度で焼結可能なエナメルフリツトより得られ
る。
エナメルフリツトの水性スラリーより噴霧する
ことにより第1の層7が塗布される。非連続であ
り厚い表面化粧を構成する第2のエナメル層3並
びに第3のエナメル層4は、第1の層7の乾燥後
スクリーンプロセス付着により塗布され、この3
つの層は同時に燃焼される。
ことにより第1の層7が塗布される。非連続であ
り厚い表面化粧を構成する第2のエナメル層3並
びに第3のエナメル層4は、第1の層7の乾燥後
スクリーンプロセス付着により塗布され、この3
つの層は同時に燃焼される。
2つのエナメル層3,4はガラスビーズ5,6
を含み、そのうち少なくとも一定数は前記エナメ
ル層3,4の厚さより大きい値の直径を有し、こ
の層の表面から突き出ている。また外部層4の少
なくとも一定数のビーズ6は第2の層のビーズ5
に対し塗布されることは図面1および2より明ら
かである。
を含み、そのうち少なくとも一定数は前記エナメ
ル層3,4の厚さより大きい値の直径を有し、こ
の層の表面から突き出ている。また外部層4の少
なくとも一定数のビーズ6は第2の層のビーズ5
に対し塗布されることは図面1および2より明ら
かである。
スクリーンプロセスによる塗布の際、エナメル
フリツトおよびビーズ5並びに6を含むペースト
をスクイーズによりスクリーンのメツシユを通し
て押出し、ビーズ5,6をそれぞれのエナメル層
に侵入させる。このように第2の層3のビーズ5
は第1のエナメル層7上にのり、一方第3の層4
のビーズ6は第2の層3のビーズ5上にのる。
フリツトおよびビーズ5並びに6を含むペースト
をスクイーズによりスクリーンのメツシユを通し
て押出し、ビーズ5,6をそれぞれのエナメル層
に侵入させる。このように第2の層3のビーズ5
は第1のエナメル層7上にのり、一方第3の層4
のビーズ6は第2の層3のビーズ5上にのる。
ビーズ5,6は最大直径はエナメル層3,4の
厚さの2倍である。
厚さの2倍である。
前記ビーズ5,6の直径は、好ましくは5〜
40μmの範囲にあり、その平均直径は15〜20μm
の範囲にあり、一方各エナメル層3,4の厚さは
好ましくは20〜25μmの範囲にある。
40μmの範囲にあり、その平均直径は15〜20μm
の範囲にあり、一方各エナメル層3,4の厚さは
好ましくは20〜25μmの範囲にある。
従つて少なくとも一定数のビーズ5,6はエナ
メル層3,4の表面から突き出ている。ビーズ
5,6は完全にエナメル内に固定される。
メル層3,4の表面から突き出ている。ビーズ
5,6は完全にエナメル内に固定される。
各エナメル層3,4はガラスビーズを5〜20重
量%含む。
量%含む。
第3のエナメル層4の塗布の際、ビーズ5がビ
ーズ6の浸入の深さを制限するのでビーズ6は第
2のエナメル層3に浸入できない。外部エナメル
層4のガラスビーズ6は磨耗に対する耐性を与
え、こうして前記層4により形成される厚い表面
化粧の美しい外観を保護する。
ーズ6の浸入の深さを制限するのでビーズ6は第
2のエナメル層3に浸入できない。外部エナメル
層4のガラスビーズ6は磨耗に対する耐性を与
え、こうして前記層4により形成される厚い表面
化粧の美しい外観を保護する。
さらに、その滑らかな保護表面のため、ビーズ
6はエナメル層4にこの層の清浄をかなり促進す
る付着防止特性を与える。
6はエナメル層4にこの層の清浄をかなり促進す
る付着防止特性を与える。
前記特性に加えて、ビーズ5は非連続層4で被
覆されていないエナメル層3の部分を磨耗から保
護し、同時にその部分の清浄を促進する。
覆されていないエナメル層3の部分を磨耗から保
護し、同時にその部分の清浄を促進する。
前記第2のエナメル層3は粒子9を2〜10重量
%含む。このフレーク9は好ましくはTiO2およ
び/またはFe2O3の薄層で被覆されているマイカ
ストリツプで構成されており、銅のような金属外
観を与える。
%含む。このフレーク9は好ましくはTiO2およ
び/またはFe2O3の薄層で被覆されているマイカ
ストリツプで構成されており、銅のような金属外
観を与える。
このフレーク9は10〜70μmの範囲の長さおよ
び2μmのオーダーの平均厚さを有する。フレー
ク9の平行な配列はエナメル層3の塗布に用いた
スクイーズの作用により得られる。
び2μmのオーダーの平均厚さを有する。フレー
ク9の平行な配列はエナメル層3の塗布に用いた
スクイーズの作用により得られる。
前記フレーク9は以下の効果を有する。
一方でエナメルコーテイングの熱伝導性を増し
およびこの器具の底1の表面全体の熱分布を均質
にし、 他方でエナメル層3の汚染に対する耐性を増
す;事実、フレーク9により形成されたスクリー
ンはエナメル層3の細孔に浸入した不純物をマス
クする。
およびこの器具の底1の表面全体の熱分布を均質
にし、 他方でエナメル層3の汚染に対する耐性を増
す;事実、フレーク9により形成されたスクリー
ンはエナメル層3の細孔に浸入した不純物をマス
クする。
2つのエナメル層3,4は好ましくは、さらに
例えばタルク、グラフアイト、二硫化モリブデ
ン、二硫化バナジウム、窒化硼素等およびそれら
の混合物のような潤滑特性を有するラメラ構造の
固体粒子を含む。
例えばタルク、グラフアイト、二硫化モリブデ
ン、二硫化バナジウム、窒化硼素等およびそれら
の混合物のような潤滑特性を有するラメラ構造の
固体粒子を含む。
この潤滑特性は、スクリーンプロセスによるエ
ナメル層3,4の塗布を促進し、この付着防止特
性を増す。
ナメル層3,4の塗布を促進し、この付着防止特
性を増す。
本発明に係るエナメルコーテイングの実際の塗
布の1つの例を以下に示す。
布の1つの例を以下に示す。
第1の層7を形成するため、器具の外部表面に
エナメルフリツトスラリーを噴霧する。この第1
の層7の乾燥後、底1の第1の層の上にスクリー
ンプロセス付着により第2のエナメル層3を塗布
する。この第2の層は油状ペーストの形状であ
り、以下のものを含む。
エナメルフリツトスラリーを噴霧する。この第1
の層7の乾燥後、底1の第1の層の上にスクリー
ンプロセス付着により第2のエナメル層3を塗布
する。この第2の層は油状ペーストの形状であ
り、以下のものを含む。
a 例えば、
34% SiO2
20% Na2O
10% K2O
2% Li2O
20% TiO2
2% Al2O3
2% P2O5
10% V2O5
を含むアルミニウム用のエナメルフリツト100
重量部; b 少なくとも600℃の温度に耐える無機顔料0
〜5部; c TiO2並びにF2O3でコートされ、10〜70μm
の範囲の長さを有するマイカフレーク2〜10
部; d 5〜40μmの範囲の直径(その平均直径は15
〜20μmの範囲内にある)を有するガラスビー
ズ5〜20部; e パイン油25〜45部; f タルク、グラフアイトあるいは二硫化モリブ
デン2〜10部。
重量部; b 少なくとも600℃の温度に耐える無機顔料0
〜5部; c TiO2並びにF2O3でコートされ、10〜70μm
の範囲の長さを有するマイカフレーク2〜10
部; d 5〜40μmの範囲の直径(その平均直径は15
〜20μmの範囲内にある)を有するガラスビー
ズ5〜20部; e パイン油25〜45部; f タルク、グラフアイトあるいは二硫化モリブ
デン2〜10部。
この層は乾燥する。乾燥後、こうして得られる
乾燥エナメルビスケツトは25〜30μmのオーダー
の厚さを有する。
乾燥エナメルビスケツトは25〜30μmのオーダー
の厚さを有する。
このエナメルビスケツト上に、第2の層と同じ
組成を有するが、フレークを含まない非連続第3
のエナメル層をスクリーンプロセスにより塗布す
る。
組成を有するが、フレークを含まない非連続第3
のエナメル層をスクリーンプロセスにより塗布す
る。
こうして得られる第3のエナメル層を550℃の
オーダーの温度で同時に燃焼する。
オーダーの温度で同時に燃焼する。
こうして得られるエナメルコーテイングは、熱
衝撃(400℃に加熱し、その後冷水中に浸漬する)
に対しすぐれた耐性を有する。
衝撃(400℃に加熱し、その後冷水中に浸漬する)
に対しすぐれた耐性を有する。
第1図は発明に係るエナメルコーテイングでは
提供される調理器具の底の部分断面図であり、第
2図は第1図のAの詳細を示す拡大図である。 1……底、2……付着防止層、3……第2のエ
ナメル層、4……第3のエナメル層、5,6……
ガラスビーズ、7……第1のエナメル層、9……
フレーク。
提供される調理器具の底の部分断面図であり、第
2図は第1図のAの詳細を示す拡大図である。 1……底、2……付着防止層、3……第2のエ
ナメル層、4……第3のエナメル層、5,6……
ガラスビーズ、7……第1のエナメル層、9……
フレーク。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 装飾を構成する非連続第3のエナメル層4で
被覆されそして第1の層の乾燥後スクリーンプロ
セスにより塗布される第2のエナメル層3で底の
部分において被覆された第1のエナメル層7を含
んでなる調理器具用のエナメルコーテイングであ
つて、この3つの層7,3,4がエナメルフリツ
トより得られそして同時に燃焼され、第2および
第3のエナメル層3,4がガラスビーズ5,6を
含み、そのうち少なくとも一定数が前記エナメル
層の厚さより大きい値の直径を有しかつ前記層の
表面から突き出し、非連続第3の層のビーズ6の
一定数が第2の層3のビーズ5の上に付着され、
第2のエナメル層3が互いにおよび前記層の表面
に平行な方向に配列され、一部互いに重なりあつ
ている熱伝導性フレーク9を含む、エナメルコー
テイング。 2 第2および第3の層3,4がスクリーンプロ
セスにより塗布される、請求項1記載のエナメル
コーテイング。 3 2つのエナメル層3,4が潤滑特性を有する
ラメラ構造の固体粒子を含む、請求項1記載のエ
ナメルコーテイング。
Applications Claiming Priority (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8718382 | 1987-12-30 | ||
| FR8718381 | 1987-12-30 | ||
| FR8718380 | 1987-12-30 | ||
| FR8718382 | 1987-12-30 | ||
| FR8718380 | 1987-12-30 | ||
| FR8718381A FR2625494B1 (fr) | 1987-12-30 | 1987-12-30 | Revetement d'email charge de billes de verre pour fond d'ustensiles de cuisson et ustensiles ainsi revetus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01215741A JPH01215741A (ja) | 1989-08-29 |
| JPH0443858B2 true JPH0443858B2 (ja) | 1992-07-17 |
Family
ID=27251551
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63329490A Granted JPH01215741A (ja) | 1987-12-30 | 1988-12-28 | 調理器具用のガラスビーズが装入されたエナメルコーティングおよびこのコーティングでコートされた器具 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4959256A (ja) |
| EP (1) | EP0323349B1 (ja) |
| JP (1) | JPH01215741A (ja) |
| CA (1) | CA1312795C (ja) |
| DE (2) | DE323349T1 (ja) |
| ES (1) | ES2011604T3 (ja) |
| FI (1) | FI93205C (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH0354591A (ja) * | 1989-04-26 | 1991-03-08 | Nitto Denko Corp | 焼成パターン形成用シート及び焼成用ラベル |
| GB8910768D0 (en) * | 1989-05-10 | 1989-06-28 | Glaverbel | Forming vitreous enamel |
| US5622768A (en) * | 1992-01-13 | 1997-04-22 | Kabushiki Kaishi Toshiba | Magnetic core |
| FR2690463A1 (fr) * | 1992-04-27 | 1993-10-29 | Creuset | Procédé d'application d'un motif décoratif sur un ustensile de cuisine en fonte. |
| CA2136736A1 (en) * | 1992-06-08 | 1993-12-23 | Harry C. Mcdaniel | Luster pigment application methods |
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| FR2892245B1 (fr) * | 2005-10-14 | 2008-04-04 | Cnes Epic | Procede de reception de trames d'un flux numerique |
| FR2897251B1 (fr) * | 2006-02-14 | 2013-07-12 | Seb Sa | Article culinaire anodise et procede de fabrication d'un tel article |
| FR2897252B1 (fr) * | 2006-02-14 | 2008-04-18 | Seb Sa | Article culinaire emaille et anodise et procede de fabrication d'un tel article |
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| FR2934591B1 (fr) * | 2008-07-29 | 2011-02-11 | Seb Sa | Article comprenant un revetement ceramique et procede de fabrication d'un tel article mettant en oeuvre un laser. |
| FR2935246B1 (fr) * | 2008-08-29 | 2010-09-03 | Seb Sa | Article culinaire comportant un revetement antiadhesif a proprietes ameliorees d'anti-adherence |
| FR2937236B1 (fr) | 2008-10-16 | 2010-11-26 | Seb Sa | Article culinaire comportant un revetement antiadhesif presentant des proprietes ameliorees d'adherence au support |
| FR2937235B1 (fr) * | 2008-10-16 | 2010-11-12 | Seb Sa | Articule culinaire comportant un revetement antiadhesif presentant des proprietes ameliorees d'adherence au support |
| FR2945428B1 (fr) | 2009-05-15 | 2011-06-10 | Seb Sa | Article culinaire comportant une base dure en un materiau ceramique et/ou metallique et/ou polymere et un revetement antiadhesif a base de resine fluorocarbonee. |
| FR2946043B1 (fr) * | 2009-05-27 | 2011-06-24 | Centre Nat Rech Scient | Composition vitreuse autocicatrisante, procede de preparation et utilisations. |
| KR101104680B1 (ko) * | 2009-07-23 | 2012-01-13 | (주) 더몰론코리아 | 난스틱 세라믹 코팅층을 구비한 법랑재 가열조리기구 |
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