JPH0444047A - Electrophotographic sensitive body - Google Patents
Electrophotographic sensitive bodyInfo
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- JPH0444047A JPH0444047A JP15172590A JP15172590A JPH0444047A JP H0444047 A JPH0444047 A JP H0444047A JP 15172590 A JP15172590 A JP 15172590A JP 15172590 A JP15172590 A JP 15172590A JP H0444047 A JPH0444047 A JP H0444047A
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- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は電子写真感光体に関し、詳しくは静電特性、耐
湿性及び耐久性の優れた電子写真感光体に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor, and more particularly to an electrophotographic photoreceptor having excellent electrostatic properties, moisture resistance, and durability.
〔従来の技術)
電子写真感光体には所定の特性を得るため、あるいは適
用される電子写真プロセスの種類に応して種々の構成を
とる。[Prior Art] Electrophotographic photoreceptors have various configurations in order to obtain predetermined characteristics or depending on the type of electrophotographic process to which they are applied.
電子写真感光体の代表的なものとして、支持体上に光導
電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備えた
感光体があり、広く用いられている。支持体と少なくと
も1層の光導電層から構成される感光体は、最も−Il
lu的な電子写真プロセスによる、即し、帯電、画像露
光及び現像、更に必要に応じて転写による画像形成に用
いられる。As representative electrophotographic photoreceptors, there are photoreceptors having a photoconductive layer formed on a support and photoreceptors having an insulating layer on the surface, which are widely used. A photoreceptor composed of a support and at least one photoconductive layer is most preferably -Il
It is used for image formation by electrophotographic process such as charging, image exposure and development, and further, if necessary, transfer.
更には、ダイレクト製版用のオフセット原版として電子
写真感光体を用いる方法が広く実用されている。Furthermore, a method of using an electrophotographic photoreceptor as an offset original plate for direct plate making is widely used.
電子写真感光体の光導電層を形成するために使用する結
着樹脂は、それ自体の成膜性および光導電性粉末の結着
樹脂中への分散能力が優れるとともに、形成された記録
体層の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体
層の光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減
衰が大きく、前露光疲労が少く、且つ、撮像時の湿度の
変化によってこれら特性を安定に保持していることが必
要である等の各種の静電特性および優れた撮像性を具備
する必要がある。The binder resin used to form the photoconductive layer of the electrophotographic photoreceptor has excellent film-forming properties itself and ability to disperse photoconductive powder into the binder resin, and also has excellent film-forming properties and excellent dispersion ability of the photoconductive powder into the binder resin. The photoconductive layer of the recording layer has good adhesion to the substrate, and the photoconductive layer of the recording layer has excellent charging ability, has low dark decay, large light decay, and low pre-exposure fatigue, and is easily resistant to changes in humidity during imaging. It is necessary to have various electrostatic properties such as the need to stably maintain these properties and excellent imaging performance.
更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用原版の研究が
鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特性
と印刷原版としての印刷特性を両立させた光導電層用の
結着樹脂が必要である。Furthermore, research is being carried out on lithographic printing original plates using electrophotographic photoreceptors, and a binder resin for the photoconductive layer that has both the electrostatic properties of an electrophotographic photoreceptor and the printing properties of a printing original plate has been developed. is necessary.
しかしながら、従来公知の樹脂においては、特に帯電性
、暗電荷保持性、光感度の静電特性、光導電層の平滑性
等に多くの問題があり、実用]二満足できるものではな
かった。However, conventionally known resins have many problems, particularly in chargeability, dark charge retention, electrostatic properties of photosensitivity, smoothness of photoconductive layer, etc., and are not satisfactory for practical use.
又、電子写真式平版印刷用原版として開発されたとする
結着樹脂においても、現実に評価してみると前記の静電
特性、印刷物の地汚れ等に問題があった。Furthermore, even in the case of a binder resin which is said to have been developed as an original plate for electrophotographic lithographic printing, when actually evaluated, there were problems with the above-mentioned electrostatic properties, scumming of printed matter, etc.
更に、これらの問題点を解決するために、結着樹脂とし
て酸性基を重合体の側鎖に含有する共重合成分を0.0
5〜10重量%含有する低分子量の樹脂(隔10″〜1
04)を用いる又は酸性基を重合体主鎖の片末端にのみ
結合して成る低分子量の樹脂(隔103〜104)を用
いることにより、光導電層の平滑性及び静電特性を良好
にし、しかも地lηれのない画質を得ることが特開昭6
3−217354号、特開昭6470761号及び特開
平2−67563号にそれぞれ記載されている。Furthermore, in order to solve these problems, a copolymer component containing an acidic group in the side chain of the polymer was used as a binder resin.
Low molecular weight resin containing 5 to 10% by weight (interval 10" to 1
04) or a low molecular weight resin (intervals 103 to 104) in which an acidic group is bonded only to one end of the polymer main chain, the smoothness and electrostatic properties of the photoconductive layer are improved; Moreover, it was possible to obtain flawless image quality.
3-217354, JP-A No. 6470761, and JP-A No. 2-67563, respectively.
また結着樹脂として、酸性基を共重合体の側鎖に含有し
、又は、重合体主鎖の末端に結合し、且つ熱及び/又は
光硬化性官能基を含有する重合成分を含有する樹脂を用
いる技術が特開平1−100554号、特願昭63−3
9690号に、酸性基を共重合体の側鎖に含有し、又は
重合体主鎖の末端に結合する樹脂を架橋剤と併用する技
fIiが特開平1.−102573号、同2−874号
にそれぞれ開示され、更に前記低分子量の樹脂(重量平
均分子量103〜104)を高分子量(重量平均分子量
104以上)の樹脂と組合せて用いる技術が特開昭64
−564号、同63−220149号、同63−220
148号、特開平1−280761号、同1−1166
43号及び同1−169455号に、かかる低分子量体
を熱及び/又は光硬化性樹脂と組合せて用いる技術が特
開平1−211766号及び同2−34859号に、か
かる低分子量体をクシ型ポリマーと組合せ°ζ用いる技
術が特開平2−53064号、同2−56558号及び
特願昭63−254786号にそれぞれ開示されている
。これらの技術により、側鎖又は末端に酸性基を含有す
る樹脂を用いたことによる上記特性を阻害せずにさらに
光導電層の膜強度を充分ならしめ、機械的強度が増大さ
れることが記載されている。Also, as a binder resin, a resin containing an acidic group in the side chain of the copolymer or a polymeric component bonded to the end of the main chain of the polymer and containing a heat- and/or photo-curable functional group. The technique using this is disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 1-100554 and Japanese Patent Application No. 1983-3.
No. 9690 discloses a technique fIi in which a resin containing an acidic group in the side chain of the copolymer or bonded to the end of the main chain of the polymer is used in combination with a crosslinking agent. JP-A-102573 and No. 2-874, respectively, and a technique of using the low molecular weight resin (weight average molecular weight 103 to 104) in combination with a high molecular weight resin (weight average molecular weight 104 or more) was disclosed in JP-A-64.
-564, 63-220149, 63-220
No. 148, JP-A No. 1-280761, JP-A No. 1-1166
43 and 1-169455, and JP-A-1-211766 and JP-A-2-34859 disclose a technique for using such a low molecular weight material in combination with a heat and/or photocurable resin. Techniques using ζ in combination with polymers are disclosed in JP-A-2-53064, JP-A-2-56558, and JP-A-63-254,786, respectively. It is stated that by these techniques, the film strength of the photoconductive layer can be made sufficient and the mechanical strength can be increased without impeding the above-mentioned properties due to the use of a resin containing an acidic group at the side chain or terminal end. has been done.
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、これらの樹脂を用いても、環境が高温・
高温から低温・低湿まで著しく変動した場合における安
定した性能の維持においてはいまだ不充分であることが
判った。特に半導体レーザー光を用いたスキャニング露
光方式では、従来の可視光による全面同時露光方式に比
べ、露光時間が長くなり、また露光強度にも制約がある
ことから、静電特性、特に暗電荷保持特性、光感度に対
して、より高い性能が要求される。(Problem to be solved by the invention) However, even when these resins are used, the environment is high temperature and
It has been found that it is still insufficient to maintain stable performance when the temperature fluctuates significantly from high temperature to low temperature and low humidity. In particular, scanning exposure methods using semiconductor laser light require longer exposure times than conventional simultaneous exposure methods using visible light across the entire surface, and there are restrictions on exposure intensity. , higher performance is required in terms of photosensitivity.
本発明は、以」二の様な従来の電子写真感光体の有する
課題を改良するものである。The present invention is intended to improve the following problems with conventional electrophotographic photoreceptors.
本発明の目的は、複写画像形成時の環境が低温低湿ある
いは高温高湿の如く変動した場合でも、安定して良好な
静電特性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真
感光体を提供することである。An object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor that stably maintains good electrostatic properties and produces clear, high-quality images even when the environment during copy image formation changes such as low temperature and low humidity or high temperature and high humidity. It is to provide.
本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ環境依存性の
小さいcpc電子写真感光体を提供することである。Another object of the present invention is to provide a CPC electrophotographic photoreceptor with excellent electrostatic properties and low environmental dependence.
本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用いたスキャ
ニング露光方式に有効な電子写真感光体を提供するごと
である。Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor that is effective in a scanning exposure method using semiconductor laser light.
本発明の他の目的は、電子写真式平版印刷原版として、
静電特性(特に暗電荷保持性及び光感度)に優れ、原画
に対して忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の全面
一様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず、
また耐剛性の優れた平版印刷原版を提供することである
。Another object of the present invention is to provide an original plate for electrophotographic planographic printing.
It has excellent electrostatic properties (particularly dark charge retention and photosensitivity), reproduces copied images that are faithful to the original, and does not cause not only uniform background smudges on the entire surface of printed matter but also dotted smudges. ,
Another object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate having excellent rigidity resistance.
(課題を解決するだめの手段)
上記目的は無機光導電体及び結着樹脂を少なくとも含有
する光導電層を有する電子写真感光体において、該結着
樹脂が、下記樹脂〔A〕の少なくとも1種と熱及び/又
は光硬化性樹脂〔B]及び架橋剤のうちの少なくともい
ずれか1つとを含有して成ることを特徴とする電子写真
感光体により達成されることが見出された。(Means for Solving the Problem) The above object is to provide an electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductor and a binder resin, wherein the binder resin is at least one of the following resins [A]. It has been found that this can be achieved by an electrophotographic photoreceptor characterized by containing at least one of a heat and/or photocurable resin [B], and a crosslinking agent.
樹脂(A〕 ;
lXIO3〜2X1.O’の重量平均分子量を有し、P
O,lh基、−COOI+基、−3O3I+基、フェノ
ール性基(R’は炭化水素基)を示す)及び環状酸無水
物含有基から選択される少なくとも1つの酸性基を含有
する重合体成分を少なくとも1種含有するΔブロンクと
、下記−儀式(1)で示される重合体成分を少なくとも
含有するBブロンクとから構成されるA−Bブロック共
重合体のBブロックの重合体主鎖の末端に重合性二重結
合基を結合して成る一官能性マクロモノマー(M)を少
なくとも1種共重合成分として含有するグラフト型共重
合体。Resin (A); has a weight average molecular weight of 1XIO3 to 2X1.O', and P
A polymer component containing at least one acidic group selected from O, lh group, -COOI+ group, -3O3I+ group, phenolic group (R' represents a hydrocarbon group), and cyclic acid anhydride-containing group. At the end of the polymer main chain of the B block of an A-B block copolymer consisting of a Δ bronc containing at least one kind and a B bronc containing at least a polymer component shown in the following - ritual (1), A graft type copolymer containing at least one monofunctional macromonomer (M) formed by bonding a polymerizable double bond group as a copolymerization component.
−儀式(I)
〜←C11−C→−−
ν −R
〔弐(1)中、al及びa2ばそれぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わず。-Ritual (I) ~←C11-C→-- ν -R [In (1), al and a2 each do not represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or a hydrocarbon group.
v、は−C00−1−oco−1→−C112f、OC
O表わす)、−〇−−8O□−−−−C(1−−CON
を表わす場合、R1は水素原子又は炭化水素基を表わす
。〕
即ち、本発明に用いられる結着樹脂は、グラフト部分に
」二記の如き特定の酸性基(以下特にことわらない限り
酸性基の中に環状酸無水物含有基を含むこととする)を
含有する成分とメタクリレート分を含有する成分とをそ
れぞれブロック成分として構成するグラフト共重合体樹
脂(A)と、熱及び/又は光硬化性樹脂〔B〕及び架橋
剤のうちの少なくともいずれか1種とを含有して成る場
合に、得られる感光体の電子写真特性や機械的強度(印
刷版として用いたときには耐刷性)が向上することが判
った。ここで熱及び/又は光硬化性樹脂CB)と架橋剤
は、両方を同時に用いてもよいし、どちらか一方のみで
もよい。v, is -C00-1-oco-1→-C112f, OC
O represents), -〇--8O□----C (1--CON
When R1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. ] That is, the binder resin used in the present invention has a specific acidic group as shown in "2" (hereinafter, unless otherwise specified, the acidic group includes a cyclic acid anhydride-containing group) in the graft portion. At least one of a graft copolymer resin (A) comprising a component containing a methacrylate component and a component containing a methacrylate component as block components, a heat and/or photocurable resin [B], and a crosslinking agent. It has been found that the electrophotographic properties and mechanical strength (printing durability when used as a printing plate) of the resulting photoreceptor are improved when the photoreceptor contains the following. Here, both the heat and/or photocurable resin CB) and the crosslinking agent may be used at the same time, or only one of them may be used.
本発明に用いられる樹脂〔Alは、グラフト共重合体で
あり、グラフト部のAブロックは、グラフト部の末端に
前記した特定の酸性基から選ばれる少なくとも1種を含
有する少なくとも1つの重合成分から構成され、Bブロ
ックは、式(1)で示されるメタクリレート成分を少な
くとも1種含有する重合体成分を含有することから成る
。The resin used in the present invention [Al is a graft copolymer, and the A block of the graft part is made of at least one polymeric component containing at least one type selected from the above-mentioned specific acidic groups at the end of the graft part. The B block contains a polymer component containing at least one methacrylate component represented by formula (1).
前述の光導電層の平滑性及び静電特性を良化させるとし
て公知の酸性基含有結着樹脂の中で低分子量体を用いる
ものは、酸性基含有重合成分が重合体主鎖にランダムに
存在する樹脂あるいは、重合体主鎖の片末端にのみ酸性
基を結合して成る樹脂であった。Among the acidic group-containing binder resins known to improve the smoothness and electrostatic properties of the photoconductive layer, those using low molecular weight polymers have acidic group-containing polymeric components randomly present in the polymer main chain. or resins with an acidic group bonded only to one end of the polymer main chain.
これに対し、本発明の結着樹脂で用いられる樹脂(A)
は、樹脂中に含有される酸性基が重合体主鎖中にランダ
ムに存在するものでも重合体主鎖の末端にのみ結合して
いるものでもなく、グラフト部分に存在し、且つ重合体
主鎖から離れた所にブロック(即ちAブロック)で存在
する様にした、著しくポリマー分子鎖の化学構造を特定
化したものである。On the other hand, the resin (A) used in the binder resin of the present invention
The acidic groups contained in the resin are not present randomly in the polymer main chain nor are they bonded only to the ends of the polymer main chain, but are present in the graft portion and are present in the polymer main chain. The chemical structure of the polymer molecular chain is significantly specified so that it exists as a block (ie, A block) at a location apart from the A block.
本発明の樹脂(Alは重合体中のグラフト部の末端領域
に偏在する酸性基群が無機光導電体の化学量論的な欠陥
に充分に吸着し、重合体主鎖を構成する他のブロック部
分は、無機光導電体の表面をゆるやかに且つ充分に被覆
していると推定される。この無機光導電体表面への充分
な吸着と表面近傍の被覆の効果が、公知の樹脂に比べよ
り一層効果的に行なわれることにより、無機光導電体の
化学量論的な欠陥部が多少変動しても充分な吸着領域を
もつ事から、常に安定した無機光導電体と樹脂(A)と
の相互作用が保たれると推論され、本発明に従えば従来
公知の酸性基含有樹脂に比べて一段と良好に光導電体の
トランプを充分に補償すると共に湿度特性を向上させる
一方、光導電体の分散が充分に行なわれ、凝集を抑制す
る七ともに、高温・高温から低温・低湿まで環境変化が
著しく変動しても安定した高性能の電子写真特性を維持
することが判った。そして熱及び/又は光硬化性樹脂〔
B〕及び/又は架橋剤は、樹脂[Alを用いたことによ
る上記電子写真特性の高性能を全く阻害せずに、樹脂(
A)のめでは不充分な光導電層の機械的強度を充分なら
しめるものである。特ムこ半導体レーザーを用いたスキ
ャニング露光方式を用いる場合に有効である。また、光
導電層表面の平滑性が更に向上する。電子写真式平版印
刷原版として光導電層表面の平滑性の粗らい感光体を用
いると、光導電体である酸化亜鉛粒子と結着樹脂の分散
状態が適切でなく、凝集物が存在する状態で光導電層が
形成されるため、不感脂化処理液による不惑脂化処理を
しても非画像部の親水化が均一に充分に行なわれず、印
刷時に印刷インキの付着を引き起こし、結果として印刷
物の非画像部の地汚れが生じてしまう。In the resin of the present invention (Al), the acidic groups unevenly distributed in the terminal region of the graft portion in the polymer sufficiently adsorb to the stoichiometric defects of the inorganic photoconductor, and the other blocks constituting the main chain of the polymer It is estimated that the part covers the surface of the inorganic photoconductor gently and sufficiently.The effect of sufficient adsorption to the surface of the inorganic photoconductor and coating near the surface is greater than that of known resins. By being more effective, there is a sufficient adsorption area even if the stoichiometric defect area of the inorganic photoconductor changes slightly, so the inorganic photoconductor and resin (A) are always stable. It is inferred that the interaction is maintained, and the present invention can sufficiently compensate for the tramp of the photoconductor and improve the humidity characteristics, while improving the humidity characteristics of the photoconductor, compared to conventionally known acidic group-containing resins. It was found that by sufficiently dispersing and suppressing agglomeration, stable and high-performance electrophotographic properties were maintained even when the environment varied significantly from high temperature and high temperature to low temperature and low humidity. Or photocurable resin [
B] and/or the crosslinking agent, the resin (
In A), the mechanical strength of the photoconductive layer, which is insufficient in the case of A), is made sufficient. This is particularly effective when using a scanning exposure method using a semiconductor laser. Moreover, the smoothness of the surface of the photoconductive layer is further improved. When a photoreceptor with a rough photoconductive layer surface is used as an electrophotographic lithographic printing original plate, the dispersion state of the zinc oxide particles that are the photoconductor and the binder resin is not appropriate, and aggregates may be present. Because a photoconductive layer is formed, the non-image area cannot be made uniformly and sufficiently hydrophilic even if it is desensitized using a desensitizing treatment liquid, causing printing ink to adhere during printing, resulting in damage to printed matter. Background stains occur in non-image areas.
本発明の樹脂を用いた場合無機光導電体と結着樹脂の吸
着・被覆の相互作用が適切に行われ、且つ光導電層の膜
強度が保持されるものである。When the resin of the present invention is used, the adsorption/covering interaction between the inorganic photoconductor and the binder resin is properly performed, and the film strength of the photoconductive layer is maintained.
更に酸性基を重合体主鎖に連結する側鎖に含有するラン
ダム共重合体樹脂に比べて光感度が良好であることが判
った。Furthermore, it was found that the photosensitivity was better than that of a random copolymer resin containing an acidic group in the side chain connecting to the main chain of the polymer.
通常可視光〜赤外光域に光感度を保有させるために用い
る分光増感色素は、光導電体に吸着することでその分光
増感作用が充分機能するものであることから、本発明の
共重合体を含有する結着樹脂は、分光増感色素の吸着を
阻害しないで光導電体と適切に相互作用するものと推定
される。この作用は、近赤外〜赤外光の分光増感用色素
として特に有効なシアニン色素あるいはフタロシアニン
系顔料で特に顕著な効果を示した。The spectral sensitizing dye, which is normally used to maintain photosensitivity in the visible to infrared light range, fully functions its spectral sensitizing action when adsorbed to the photoconductor. It is assumed that the polymer-containing binder resin interacts appropriately with the photoconductor without inhibiting adsorption of the spectral sensitizing dye. This effect was particularly remarkable with cyanine dyes or phthalocyanine pigments, which are particularly effective as dyes for spectral sensitization of near-infrared to infrared light.
本発明における低分子量体の樹脂(A)のみを結着樹脂
として用いる場合にも、光導電体と結着樹脂が充分に吸
着し、粒子表面を被覆し得るため、光導電層の平滑性及
び静電特性においても良好で、しかも地lチれのない画
質が得られ、更に、CPC感光体あるいは数十枚の印刷
枚数のオフセット原版としては充分な膜強度が保有され
る。しかし、ここで本発明の如く樹脂(B)及び/又は
架橋剤を共存させることで、樹脂〔A]の機能を何ら疎
外することなく樹脂(A)のみではいまだ不充分な光導
電層の機械的強度をより向上させることができた。従っ
て、本発明の感光体は、環境条件が変動しても優れた静
電特性を有し且つ、膜強度も充分であり、過酷な印刷条
件下(例えば大型印刷機で印圧が強くなる場合など)で
も最低6000枚の印刷枚数が可能となった。Even when only the low molecular weight resin (A) in the present invention is used as the binder resin, the photoconductor and the binder resin can be sufficiently adsorbed and coat the particle surface, which improves the smoothness of the photoconductive layer. It has good electrostatic properties, provides image quality without blurring, and has sufficient film strength to be used as a CPC photoreceptor or as an offset original plate for printing several tens of sheets. However, by coexisting the resin (B) and/or the crosslinking agent as in the present invention, the function of the resin [A] is not impaired in any way, and the mechanical properties of the photoconductive layer are still insufficient with the resin (A) alone. We were able to further improve the target strength. Therefore, the photoreceptor of the present invention has excellent electrostatic properties even under fluctuating environmental conditions, and has sufficient film strength. etc.), it is now possible to print at least 6,000 sheets.
本発明の樹脂〔A〕における該マクロモノマー(M)中
の重合体成分は、上記の如く、A−ブロックとB−ブロ
ックとから構成されるが、このAブロック/B−ブロッ
クの存在割合は、好ましくは1〜70/99〜30(重
量比)であり、より好ましくは3〜50/97〜50(
重量比)である。The polymer component in the macromonomer (M) in the resin [A] of the present invention is composed of A-blocks and B-blocks as described above, and the abundance ratio of A-blocks/B-blocks is , preferably 1-70/99-30 (weight ratio), more preferably 3-50/97-50 (weight ratio)
weight ratio).
本発明のグラフト共重合体〔A〕において、マクロモノ
マー(M)と他の単量体(例えば式(TI)の単量体)
の存在割合は、1〜60/99〜40(重量比)であり
、好ましくは5〜40/95〜60 (重量比)である
。In the graft copolymer [A] of the present invention, the macromonomer (M) and other monomers (for example, the monomer of formula (TI))
The existence ratio of is 1 to 60/99 to 40 (weight ratio), preferably 5 to 40/95 to 60 (weight ratio).
本発明の樹脂〔A〕における、マクロモノマー(M)中
に含有される酸性基含有成分の存在量は、樹脂(A)1
00重量部中に1〜30重量部であり、好ましくは3〜
20重量部である。即ち、上記樹脂〔A〕中での酸性基
の存在割合は、マクロモノマ(M)中でのA−ブロック
の組成比及び樹脂(A)でのマクロモノマー(M)の共
重合比によって、好ましい比率に調整することができる
ものである。In the resin [A] of the present invention, the amount of the acidic group-containing component contained in the macromonomer (M) is 1
00 parts by weight, preferably 3 to 30 parts by weight, preferably 3 to 30 parts by weight.
It is 20 parts by weight. That is, the proportion of acidic groups present in the resin [A] is determined by the preferred ratio depending on the composition ratio of the A-block in the macromonomer (M) and the copolymerization ratio of the macromonomer (M) in the resin (A). It can be adjusted to
更にこの樹脂(A)において、マクロモノマ(M)と共
重合する成分として、下記−儀式(II)で示される単
量体が好ましく、特に下記−儀式(lla)及び/又は
(Tub)から選ばれる単量体が好ましい。Further, in this resin (A), as a component copolymerizable with the macromonomer (M), monomers shown in the following -ritual (II) are preferable, particularly selected from the following -ritual (lla) and/or (Tub). Monomers are preferred.
式(■) CI+3
CI□=C
oo−RZ
〔式(n)中、R2は炭化水素基を表わす。〕(式中、
X、及び×2は互いに独立に、それぞれ水素原子、炭素
数1〜10の炭化水素基、塩素原子、臭素原子、−CO
Zi又は−COOZ3 (Z3は各々炭素数1〜10の
炭化水素基を示す)を表わす。但し、X + h X
2がともに水素原子を表わすことはない。Formula (■) CI+3 CI□=Coo-RZ [In formula (n), R2 represents a hydrocarbon group. ] (In the formula,
X and x2 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a chlorine atom, a bromine atom, -CO
Zi or -COOZ3 (Z3 each represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms). However, X + h
Both 2 do not represent a hydrogen atom.
Ll及びI7゜はそれぞれ−C00−とヘンゼン環を結
合する、単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わ
す。〕
樹脂(A)においてマクロモノマー(M)と共重合する
単量体として上記一般式(IIa)及び/又は一般式(
IIb)で示される置換ヘンゼン環又はナフタレン環を
含有する置換基含有のメタクリレート単量体との共重合
体とを少なくとも含有する樹脂(以降この樹脂〔A〕を
樹脂(A′〕と称する)の場合には、より一層の電子写
真特性(特にV+o 、 Il、R,R,El/、O)
の向」二が達成される。Ll and I7° each represent a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms that connects -C00- to the Hensen ring. ] The monomers copolymerized with the macromonomer (M) in the resin (A) include the above general formula (IIa) and/or the general formula (
IIb) A resin containing at least a copolymer with a substituent-containing methacrylate monomer containing a substituted Hensen ring or a naphthalene ring (hereinafter this resin [A] will be referred to as resin (A')). In some cases, even better electrophotographic properties (especially V+o, Il, R, R, El/, O)
Nomukai'2 is achieved.
この事の理由は不明であるが、1つの理由として、メク
クリレートのエステル成分である、オルト位に置換語を
有する平面性のヘンセン環、又はナフタレン環の効果に
より、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマー分子鎖の
配列が適切に行なわれることによるものと考えられる。The reason for this is unknown, but one reason is that the effect of the planar Hensen ring or naphthalene ring with a substituent at the ortho position, which is the ester component of meccrylate, is due to the effect of the zinc oxide interface in the film. This is thought to be due to proper arrangement of these polymer molecular chains.
結着樹脂(A)の分子量がlXl0’より小さくなると
、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、一方分子
量が2×104より大きくなると本発明の樹脂であって
も高温・高温・低温・低湿の過酷な条件下での電子写真
特性(特に初期電位、暗減衰保持率)の変動が大きくな
り、安定した複写画像が得られるという本発明の効果が
薄れてしまう。If the molecular weight of the binder resin (A) is smaller than 1Xl0', the film forming ability will be reduced and sufficient film strength will not be maintained.On the other hand, if the molecular weight is larger than 2 x 104, even the resin of the present invention can be used at high temperatures. - Fluctuations in electrophotographic characteristics (especially initial potential and dark decay retention rate) become large under harsh conditions of low temperature and low humidity, and the effect of the present invention in obtaining stable copied images is diminished.
樹脂(A)のガラス転移点は好ましくは一40°C〜1
10°Cである。The glass transition point of the resin (A) is preferably -40°C to 1
It is 10°C.
結着樹脂(A、 )におけるマクロモノマー含有量が1
.0重量%より少ないと電子写真特性(特に暗減衰率、
光感度)が低下し、又環境条件での電子写真特性の変動
が特に近赤外〜赤外光分光増感色素との組み合わせにお
いて、大きくなる。これt:JグラフI・部となるマク
ロモノマーが微かとなることで結果として従来のポモポ
リマーあるいはランダム共重合体と殆んど同し組成にな
ってしまうことによると考えられる。The macromonomer content in the binder resin (A, ) is 1
.. If it is less than 0% by weight, electrophotographic properties (especially dark decay rate,
In addition, fluctuations in electrophotographic properties due to environmental conditions become large, especially in combination with near-infrared to infrared spectral sensitizing dyes. This is thought to be due to the fact that the amount of the macromonomer that forms part I of the t:J graph is small, resulting in a composition that is almost the same as that of conventional pomopolymers or random copolymers.
一方マクロ千ツマーの含有量が60%を越えると、他の
共重合成分に相当する単量体と本発明に従うマク「1モ
ノマーとの共重合性が充分でなくなり、結着樹脂として
用いても充分な電子写真特性が得られなくなってしまう
。On the other hand, if the content of macro-1 monomer exceeds 60%, the copolymerizability of monomers corresponding to other copolymerization components with the macro-1 monomer according to the present invention will not be sufficient, and even when used as a binder resin. It becomes impossible to obtain sufficient electrophotographic characteristics.
本発明に供される結着樹脂(A)の詳細について説明す
る。The details of the binder resin (A) used in the present invention will be explained.
まず、本発明のグラフト型共重合体に供される一官能性
マクロモノマー(M)について更に具体的に説明する。First, the monofunctional macromonomer (M) used in the graft copolymer of the present invention will be explained in more detail.
マクロモノマ−(M)のA−ブロックを構成する成分中
に含有される酸性基としては、−PO311□基、−C
ool基、−3O311基、フェノール性叶基、炭化水
素基)を示す)及び/又は環状酸無水物含有基が挙げら
れ、好ましくは、−COOIl基、−5O3++(R’
は炭化水素基を表わす)を表わし、R及びR′は好まし
くは炭素数1〜22の脂肪族基(例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、2−クロ
ロエチル基、2−メト二1−シエヂル基、3−エトキシ
プロピル基、クロトニル基、ブテニル基、シクロヘキシ
ル基、ヘンシル基、フェネチル基、3−フェニルプロピ
ル基、メチルヘンシル暴、クロロヘンシル基、フロロヘ
ンシル基、メトキシヘンシル基等)、又は置換されても
よいアリール基(例えば、フェニル基、トリル基、エチ
ルフェニルも(、プ【]ピルフェニル基、クロロフェニ
ル基、フロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロ−
メチル−フェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフ
ェニル基、シアノフェニル基、アセトアミドフェニル基
、アセチルフェニル基、ブトキンフェニル基等)等を表
わす。The acidic groups contained in the components constituting the A-block of the macromonomer (M) include -PO311□ group, -C
ool group, -3O311 group, phenolic group, hydrocarbon group) and/or cyclic acid anhydride-containing group, preferably -COOIl group, -5O3++ (R'
represents a hydrocarbon group), and R and R' preferably represent an aliphatic group having 1 to 22 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group, Dodecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxypropyl group, 3-ethoxypropyl group, crotonyl group, butenyl group, cyclohexyl group, hensyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylhensyl group, chlorohensyl group, fluorohensyl group, methoxyhensyl group, etc.), or optionally substituted aryl groups (for example, phenyl group, tolyl group, ethylphenyl group (, p[]pylphenyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, bromophenyl group) group, chloro-
methyl-phenyl group, dichlorophenyl group, methoxyphenyl group, cyanophenyl group, acetamidophenyl group, acetylphenyl group, butquinphenyl group, etc.).
また、環状酸無水物含有基とは、少なくとも1つの環状
酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水物
としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボ
ン酸無水物が挙げられる。In addition, the cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and examples of the cyclic acid anhydride include aliphatic dicarboxylic acid anhydride and aromatic dicarboxylic acid anhydride. It will be done.
脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、コハり酸無水
物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シ
クロベンクン用、2−ジカルボン酸無水物環、シクロへ
4−→ノンー1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘ
キセン用、2−ジカルボン酸無水物環、2,3−ビシク
ロ[2,2,2)オクタンジカルボン酸無水物環等が挙
げられ、これらの環は、例えは塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシ
ル基等のアルキル基等が置換されていてもよい。Examples of aliphatic dicarboxylic anhydrides include succinic anhydride ring, glutaconic anhydride ring, maleic anhydride ring, cyclobencune, 2-dicarboxylic anhydride ring, cyclo to 4-→non-1,2 -Dicarboxylic acid anhydride ring, cyclohexene ring, 2-dicarboxylic acid anhydride ring, 2,3-bicyclo[2,2,2)octane dicarboxylic acid anhydride ring, etc., and these rings are, for example, chlorine atom , a halogen atom such as a bromine atom, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a butyl group, a hexyl group, etc. may be substituted.
又、芳香族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル酸
無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無水物環、ピリジ
ン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−ジカルボン酸
無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素原
子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒトtコキシル
基、シアノ基、二1・四基、アルコキシカルボニル基(
アルコキシ基としては、例えば、ノドキシ基、工l・キ
シ基等)等が置換されていてもよい。Examples of aromatic dicarboxylic anhydrides include phthalic anhydride rings, naphthalene-dicarboxylic anhydride rings, pyridine-dicarboxylic anhydride rings, thiophene-dicarboxylic anhydride rings, etc. For example, halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom, methyl group, ethyl group,
Alkyl groups such as propyl group and butyl group, human t-coxyl group, cyano group, 21,4 group, alkoxycarbonyl group (
The alkoxy group may be substituted with, for example, a nodoxy group, an oxy group, etc.
以」−の如き「特定の酸性基を含有する重合体成分」は
、例えば、本発明のBブロック成分を構成する重合体成
分、即ち−C式N)で示されるメタクリレート成分等の
相当するビニル系化合物と共重合する、該酸性基を含有
するビニル系化合物であれはいずれでも用いるごとがで
きる。"Polymer component containing a specific acidic group" as in "-" refers to, for example, the polymer component constituting the B block component of the present invention, that is, the corresponding vinyl component such as the methacrylate component represented by formula N). Any vinyl compound containing an acidic group that copolymerizes with the vinyl compound can be used.
例えば、高分子学会側「高分子データ・ハンドブック〔
基礎編]」培風館(1986刊)等に記載されている。For example, the Polymer Science Society of Japan's ``Polymer Data Handbook [
Basic Edition] Baifukan (published in 1986), etc.
具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル
M(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体
、α−(2−アミノ〕メチル体、α−クロロ体、α−ブ
ロモ体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−
ンアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−
βメトキシ体、α、β−ジクロロ体等)、メタクリル酸
、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半
アミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類(
例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、
2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エ
チル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半
エステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルヘンゼンカ
ルボン酸、ビニルヘンゼンスルボン酸、ビニルスルボン
酸、ビニルホスホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又はア
リル基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン酸又
はスルポン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基
中に該酸性基を含有する化合物が挙げられる。Specifically, acrylic acid, α- and/or β-substituted acrylic M (for example, α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α-(2-amino)methyl form, α-chloro form, α-bromo form, α -fluoro form, α-tributylsilyl form, α-
-ano form, β-chloro form, β-bromo form, α-chloro-
β-methoxy form, α, β-dichloro form, etc.), methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid half amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (
For example, 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid,
2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinyl hanzene carboxylic acid, vinyl hanzene sulfone Examples include half-ester derivatives of vinyl or allyl groups of acids, vinyl sulfonic acids, vinyl phosphoric acids, and dicarboxylic acids, and compounds containing the acidic group in the substituent of these carboxylic acids or sulfonic acids, ester derivatives, and amide derivatives. .
これらの化合物の具体例として以下のものを挙げること
ができる。但し、以下の各側において、aは暑)、−C
tL+、 −CI、−Br 、−CN−1−(JI
zCOOCII3又は−C112C0011を示し、b
は−11又は−0113を示し、nば2〜18の整数を
示し、mは1〜12の整数を示し、lは]〜4の整数を
示す。Specific examples of these compounds include the following. However, in each side below, a is heat), -C
tL+, -CI, -Br, -CN-1-(JI
zCOOCII3 or -C112C0011, b
represents -11 or -0113, n represents an integer from 2 to 18, m represents an integer from 1 to 12, and l represents an integer from ] to 4.
(以下余白)
(a−1)
□
C00I+
C00I+
(a−3)
(a−4)
C00(CI(z)ncOOI+
(a−5)
〒
(a−6)
b
CHz
C00(CC00(CHz)noco(C1lz)+(
a−7)
C00(Ctlz)ncOo(CHz)mcOOII(
a−8)
(a−9)
(a−10)
(a−1,5)
Ctl2
C)l
CHzOCO(C1lz)mcOOII(a
C1l□
Ctl +CIIz〒COO11
(a
(a
〒
(a
(a
C)13
CON II CII
CIl□COO11
(a
〒
(a
Ctl。−C
C00(C112)m118co(Ctl2)mcOO
II(mは同しでも異なってもよい)
(a−20)
〒
(a−21)
〒
H
(a−22)
(a−23)
〒
(a−24)
(a−25)
(a−26)
(a−27)
(a−36)
(a−28)
(a−29)
(a−30)
〒
(a−31)
(a−37)
C1+□
テ
C00(CI+2)、 C0N(CII□C112CO
OIl) z(a−38)
(a−39)
(a−40)
(a−41)
(a−42)
(a−43)
(a−44)
(a−45)
」−記の如き酸性基含有成分ばAブロック中に2種以上
含有されていてもよく、これら2種以上の酸性基含有成
分ばΔブロック中においてランダム共重合又はブロック
共重合のいずれで含有されてい”ζもよい。 更に、酸
性基含有成分とともに、酸性基を含有しない成分(例え
ば後述式(1)で示される成分)をAブロック中に含有
していてもよいが、酸性基含有成分はAブロック中にお
いて30〜100重量%存在することが好ましい。(Left below) (a-1) □ C00I+ C00I+ (a-3) (a-4) C00(CI(z)ncOOI+ (a-5) 〒 (a-6) b CHz C00(CC00(CHz)noco( C1lz)+(
a-7) C00 (Ctlz) ncOo (CHz) mcOOII (
a-8) (a-9) (a-10) (a-1,5) Ctl2 C)l CHzOCO(C1lz)mcOOII(a C1l□ Ctl +CIIz〒COO11 (a (a 〒 (a (a C)13 CON II CII CIl□COO11 (a 〒 (a Ctl.-C C00(C112)m118co(Ctl2)mcOO
II (m may be the same or different) (a-20) (a-21) H (a-22) (a-23) (a-24) (a-25) (a-26 ) (a-27) (a-36) (a-28) (a-29) (a-30) 〒 (a-31) (a-37) C1+□ TeC00 (CI+2), C0N (CII□C112CO
OIl) z(a-38) (a-39) (a-40) (a-41) (a-42) (a-43) (a-44) (a-45)'' Two or more types of components may be contained in the A block, and these two or more acidic group-containing components may be contained in the Δ block by either random copolymerization or block copolymerization. , a component not containing an acidic group (for example, a component represented by the formula (1) described below) may be contained in the A block together with the acidic group-containing component, but the acidic group-containing component is 30 to 100% in the A block. Preferably, it is present in % by weight.
次に上記マクロモノマーにおいて、B−フロックを構成
する成分即ち−C式(+)で表わされる繰り返し単位に
ついて説明する。Next, in the above macromonomer, the component constituting the B-floc, that is, the repeating unit represented by the -C formula (+) will be explained.
一般式(1)においてV、は−COO−2−OCO−(
−CI+・)−OCO−+CI+・)7;C0O−(f
fiは1〜3の整数を表わす)、−0−−−SO□Z
CO−−−CON −−5O2N−−−CONIIC
OO素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよい
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デ
シル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基
、2−クロロエチル基、2ブロモエチル基、2−シアノ
エチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メト
キシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜
18の置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メ
チル1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニ
ル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1ペンテニル基
、1−へキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−
2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換されても
よいアラルキル基(例えば、ヘンシル基、フェネチル基
、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナ
フチルエチル基、クロロヘンシル基、ブロモベンジル基
、メチルヘンシル基、エチルヘンシル基、メI・キシヘ
ンシル基、ジメチルペンシル基、ジメトキシヘンシル基
等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例え
ば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、
2−シクロペンチルエチル基等)、又は炭素数6〜12
の置換されてもよい芳香族基(例えば、)lニル基、ナ
フチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基
、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフ
ェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、
ブチルフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフ
ェニル基、ジクロロフェニル基、フロモフェニル基、シ
アノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボ
ニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブト
キシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、
プロピオアミドフェニル基、l・デシロイルアミドフェ
ニル基等)があげられる。In general formula (1), V is -COO-2-OCO-(
-CI+・)-OCO-+CI+・)7;C0O-(f
fi represents an integer from 1 to 3), -0---SO□Z CO---CON --5O2N--CONIIC
Examples of the OO elementary group include an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group) group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), carbon number 4 to
18 optionally substituted alkenyl groups (e.g., 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2 -hexenyl group, 4-methyl-
2-hexenyl group, etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g., hensyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorohensyl group, bromobenzyl group) group, methylhensyl group, ethylhensyl group, dimethylpencil group, dimethoxyhensyl group, etc.), optionally substituted alicyclic groups having 5 to 8 carbon atoms (e.g., cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group), basis,
2-cyclopentylethyl group, etc.), or carbon number 6 to 12
An optionally substituted aromatic group (for example) l-nyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group,
Butylphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, fromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group,
propioamidophenyl group, l-decoylamidophenyl group, etc.).
R1は炭化水素基を表わし、好ましくは上記Z1で好ま
しい炭化水素基として挙げたものと同様のものである。R1 represents a hydrocarbon group, preferably the same as those listed as preferred hydrocarbon groups for Z1 above.
の池水素原子を表わし、更にヘンゼン環は置換基を有し
てもよい。置換基としては、ハロゲン原子(例えば塩素
原子、臭素原子等)、アルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、クロロメチル基、メト
キシメチル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、
エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基等)等が挙げ
られる。represents a hydrogen atom, and the Hensen ring may have a substituent. Examples of substituents include halogen atoms (e.g., chlorine atom, bromine atom, etc.), alkyl groups (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), alkoxy groups (e.g., methoxy group,
ethoxy group, propioxy group, butoxy group, etc.).
a、及びa2は、互いに同しでも異なっていてもよく、
好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子
、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、−COOZ2又は炭化水素を介したC00Z2
(Z2は、水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基
、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基またはアリー
ル基を表わし、これらは置換されていてもよく、具体的
には、」−記Z1について説明したものと同様の内容を
表わす)を表わす。a and a2 may be the same or different from each other,
Preferably a hydrogen atom, a halogen atom (e.g., a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (e.g., a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, etc.), -COOZ2 or carbonized C00Z2 via hydrogen
(Z2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group, an aralkyl group, an alicyclic group, or an aryl group, which may be substituted, specifically, "-" Z1 represents the same content as that described for ).
−ト記炭化水素を介した一COO−Zz基における炭化
水素としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基
等が挙げられる。- Examples of the hydrocarbon in the COO-Zz group via the hydrocarbon include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and the like.
更に好ましくは、−儀式(1)において、vlはOCO
−−−CIIzOCO−1−C112COO0−−CO
NH−−3o□til+−又はってもよく、水素原子、
メチル基、 C00Z2又はCIl□C00Z2 (Z
2はより好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基等)を表わす)を表わす。更により好ま
しくは、al+ 82においていずれか一方が水素原子
を表わす。More preferably, in ritual (1), vl is OCO
---CIIzOCO-1-C112COO0--CO
NH--3o□til+- or may be a hydrogen atom,
Methyl group, C00Z2 or CIl□C00Z2 (Z
2 more preferably represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, etc.). Even more preferably, one of al+ 82 represents a hydrogen atom.
更には該B−ブロック中に式(1)の単量体以外の重合
体成分が含有されていてもよく、式(T)に示される重
合体成分とともに共重合しうる他の繰り返し単位に相当
する単量体として、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル、複素環ビニル類(例えばビニルピリジン、ビニル
イミダゾール、ビニルピロリドン、ビニルチオフェン、
ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルオキサジ
ン等)等が挙げられる。これら他の単量体はB−フロッ
クの全重合体成分100重量部中20重量部を越えない
範囲で用いられる。又、該Bブロック中には、該A−ブ
ロックの構成成分である酸性基を含有する重合体成分を
含有しない事が好ましい。Bブロックにおいて2種以上
の共重合成分が存在する場合には、これら2種以上の共
重合成分はBブロックにおいてランダム共重合又はフロ
ック共重合のいずれで含有されていてもよいが、合成の
簡便さよりランダムに含有されることが好ましい。Furthermore, the B-block may contain a polymer component other than the monomer of formula (1), which corresponds to another repeating unit that can be copolymerized with the polymer component represented by formula (T). Examples of monomers include acrylonitrile, methacrylonitrile, heterocyclic vinyls (e.g. vinylpyridine, vinylimidazole, vinylpyrrolidone, vinylthiophene,
vinyl pyrazole, vinyl dioxane, vinyl oxazine, etc.). These other monomers are used in an amount not exceeding 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the total polymer components of B-floc. Further, it is preferable that the B block does not contain a polymer component containing an acidic group, which is a constituent component of the A-block. When two or more types of copolymerization components are present in the B block, these two or more types of copolymerization components may be contained in the B block by either random copolymerization or flock copolymerization, but it may be necessary to simplify the synthesis. It is more preferable that the elements are contained randomly.
次に本発明のマクロモノマー(M)において−に記した
酸性基を含有する成分から成るAブロックと一般式(1
)で示される重合体成分を含有することから成るBブロ
ックをA−B型で連結し且つ八−フロックと連結するB
ブロックの他の末端に連結される重合性二重合基につい
て説明する。Next, in the macromonomer (M) of the present invention, a block A consisting of a component containing an acidic group indicated by - and the general formula (1
) A B block consisting of a polymer component shown in A-B is connected in an A-B type and is connected to an 8-floc.
The polymerizable double group connected to the other end of the block will be explained.
具体的には下記−儀式(1)で示される重合性二重結合
基が例として挙げられる。Specifically, a polymerizable double bond group shown in the following formula (1) can be mentioned as an example.
−儀式(I[I)
b、 b2
CH=C
〔式(III)中、v2は式(I)中のV+と同一の内
容を表わす。l)z b2は互いに同一でも異なっても
よく、式(1)中のal+ 82と同一の内容を表わす
。〕即ち、−儀式(III)で示される重合性二重結合
基として、より具体的には、CIl□−CH−C−0O
=C−O
O=C−O
CIl□−C11−0
COO1+ 0
C1l□−C−C112−C−0
Ctl。−Ctl (Cllz) 2−Co。-Ritual (I[I) b, b2 CH=C [In formula (III), v2 represents the same content as V+ in formula (I). l) z b2 may be the same or different and represent the same content as al+82 in formula (1). ] That is, as the polymerizable double bond group represented by the -ritual (III), more specifically, CIl□-CH-C-0O
=C-O O=C-O CIl□-C11-0 COO1+ 0 C1l□-C-C112-C-0 Ctl. -Ctl(Cllz)2-Co.
CIl□−CH−CO
CH2=CJIICH2)2 0 C−等が挙げられ
る。CIl□-CH-CO CH2=CJIICH2)20C- and the like.
本発明に供されるマクロモノマー(M)は上述の如きB
−ブロンクの片末端に、−儀式(III)で示される如
き重合性二重結合基が、直接結合するか、あるいは、任
意の連結基で結合された化学構造を有するものである。The macromonomer (M) used in the present invention is B as described above.
- It has a chemical structure in which a polymerizable double bond group as shown in formula (III) is directly bonded to one end of the bronch or bonded by an arbitrary linking group.
連結する基としては、炭素−炭素結合(−重結合あるい
は二重結合)、炭素−へテロ原子結合(ヘテロ原子とし
ては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素
原子等)、ヘテロ原子−へテロ原子結合の原子団の任意
の組合せで構成されるものである。即ち、具体的には、
れ水素原子、ハロゲン原子(例えば、)・ン素原子、塩
素原子、臭素原子等)、シアノ基、ヒドロキシル基、ア
ルキル基(例えばメチル基、エチル基、子、前記式(1
)におけるR1と同様の内容を表わす炭化水素基等を示
す〕等の原子団から選ばれた単独の連結基もしくは任意
の組合−Uで構成された連結基を表わす。Linking groups include carbon-carbon bonds (-double bonds or double bonds), carbon-heteroatom bonds (heteroatoms include, for example, oxygen atoms, sulfur atoms, nitrogen atoms, silicon atoms, etc.), heteroatoms - It is composed of any combination of atomic groups of heteroatom bonds. That is, specifically,
hydrogen atoms, halogen atoms (for example), nitrogen atoms, chlorine atoms, bromine atoms, etc.), cyano groups, hydroxyl groups, alkyl groups (for example, methyl groups, ethyl groups,
) represents a hydrocarbon group etc. representing the same content as R1 in )] or a linking group composed of an arbitrary combination -U.
マクロモノマー(M)の重量平均分子量が2×104を
超えると、他のモノマー(例えば式(It)との共重合
性が低下するため好ましくない。他方、重量平均分子量
が小さすぎると、感光層の電子写真特性の向上効果が小
さくなるため、■×103以上であることが好ましい。If the weight average molecular weight of the macromonomer (M) exceeds 2 x 104, the copolymerizability with other monomers (for example, formula (It)) will decrease, which is undesirable. On the other hand, if the weight average molecular weight is too small, the photosensitive layer Since the effect of improving electrophotographic properties becomes small, it is preferable that the ratio is ■×103 or more.
本発明のマクロモノマ−(M)は、従来公知の合成方法
よって製造することができる。例えば、該特定の酸性基
を含有する重合体成分に相当する単量体において、酸性
基を予め保護した官能基としておき、有機金属化合物(
例えばアルキルリチウム類、リチウムジイソプルアミド
、アルキルマグネシウムハライド類等)あるいはヨウ化
水素、ヨウ素系等によるイオン重合反応で、ポルフィリ
ン金属錯体を触媒とする光重合反応、あるいはグループ
移動重合反応等の公知のいわゆるリビング重合反応でA
−Bブロック共重合体を合成した後、このリビングポリ
マーの末端に種々の試薬を反応させて重合性二重結合基
を導入する。この後、酸性基を保護した官能基を加水分
解反応、加水素分解反応、酸化分解反応あるいは、光分
解反応等によって、脱保護反応を行ない、酸性基を形成
させる方法が挙げられる。その1つの例を下記の反応ス
キーム(1)に示した。The macromonomer (M) of the present invention can be produced by a conventionally known synthesis method. For example, in the monomer corresponding to the polymer component containing the specific acidic group, the acidic group is previously protected as a functional group, and the organometallic compound (
Ionic polymerization reactions using hydrogen iodide, iodine, etc. (e.g., alkyllithiums, lithium diisoproamide, alkylmagnesium halides, etc.), photopolymerization reactions using porphyrin metal complexes as catalysts, or group transfer polymerization reactions. In the so-called living polymerization reaction of A
After synthesizing the -B block copolymer, various reagents are reacted at the ends of this living polymer to introduce polymerizable double bond groups. Thereafter, the functional group with the protected acidic group is deprotected by hydrolysis reaction, hydrogenolysis reaction, oxidative decomposition reaction, photolysis reaction, etc. to form an acidic group. One example is shown in reaction scheme (1) below.
例えば、P、Lutz、 P、Masson etal
、 Polym、Bull、。For example, P, Lutz, P, Masson et al.
, Polym, Bull.
12、 79(1984) B、C,八nders
on、 G、D、八ndreiys etalMa
cromolecules、 14. 1601(1
981) K、tlatada+ K。12, 79 (1984) B, C, Eighters
on, G, D, eight andreiys etalMa
cromolecules, 14. 1601 (1
981) K, tlatada+K.
Ute、etal、 Polym、J、17.977(
1985)、18.1037(1986)。Ute, etal, Polym, J, 17.977 (
1985), 18.1037 (1986).
右手浩−1畑田耕−1高分子加工、共、 366(19
87)東村敏延、沢本光男、高分子論文集、46.18
9(1989) M、Kuroki、 T、Aida
、 T、Am、Chem、Soc、 1094737
(1987)、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、4
3、300(1985) D、Y、Sogah、 W
、R,l1ertler etalMacromole
cules、 20.1473(1987)等に記載の
合成方法に従って容易にリビングポリマーを合成するこ
とができる。又、該リビングポリマーの末端に重合性二
重結合基を導入する方法としては、従来公知のマクロモ
ノマー法の合成法に従って容易に本発明のマクロモノマ
ーとすることができる。Hiroshi Miguchi-1 Ko Hatada-1 Polymer processing, together, 366 (19
87) Toshinobu Higashimura, Mitsuo Sawamoto, Collection of Polymer Papers, 46.18
9 (1989) Kuroki, M., Aida, T.
, T,Am,Chem,Soc, 1094737
(1987), Takuzo Aida, Shohei Inoue, Synthetic Organic Chemistry, 4
3, 300 (1985) D, Y., Sogah, W.
,R,l1ertler etal Macromole
Living polymers can be easily synthesized according to the synthesis method described in J. C. Cules, 20.1473 (1987), etc. Moreover, as a method for introducing a polymerizable double bond group to the terminal of the living polymer, the macromonomer of the present invention can be easily obtained by following a conventionally known synthesis method of macromonomer method.
具体的には、P、Dreyfuss & R,P、Qu
irk、 lEncycPolym、Sci、Eng、
、 1.551(1987)、 P、F、RemppE
、Franta+ ^du、、 Polym、Sci、
58.1(1984)、V、Percec+App1.
、 Polym、Sci、+銘L−95(1984)、
R,Asami。Specifically, P, Dreyfuss & R, P, Qu
irk, lEncycPolym, Sci, Eng,
, 1.551 (1987), P.F.RemppE.
, Franta+ ^du,, Polym, Sci,
58.1 (1984), V. Percec+App1.
, Polym, Sci, + signature L-95 (1984),
R, Asami.
M、TakaRi、 Makvamol、Chem、5
upp1.12.163(1985)P、Rempp、
etal、 Makvamol、Chem、5upp
1.8. 3(1984)用上雄資、化学工業、共、
56(1,987)、山下雄也、高分子、鉦、 988
(1982) 、小林四部、高分子、別。M, TakaRi, Makvamol, Chem, 5
upp1.12.163 (1985) P, Rempp,
etal, Makvamol, Chem, 5upp
1.8. 3 (1984) Yuji Kami, Kagaku Kogyo Co., Ltd.
56 (1,987), Yuya Yamashita, polymer, gong, 988
(1982), Shibe Kobayashi, Polymers, Separate.
625(1981) 、東村敏延、日本接着協会誌 測
、536(1982)、伊藤浩−1高分子加工、剥、2
62(1986)、乗置四部、津田隆、機能材料、19
87 No、10.5等の総説及びそれに引例の文献
・特許等に記載の方法に従って合成することができる。625 (1981), Toshinobu Higashimura, Japan Adhesive Association Journal Measurement, 536 (1982), Hiroshi Ito-1 Polymer processing, peeling, 2
62 (1986), Nojoki Shibu, Takashi Tsuda, Functional Materials, 19
It can be synthesized according to the methods described in reviews such as No. 87 No. 10.5 and the literature/patents cited therein.
又、本発明の特定の酸性基を保護する保護基及びその保
護基の脱離(脱保護反応)については、従来公知の知見
を利用して容易に行なうことができる。例えば前記した
引用文献にも種々記載されており、更には、岩倉善男、
栗田恵輔、「反応性高分子」■講談社刊(1977年)
、T、W、Greene’Protective G
roups in Organic 5ynthesi
s」、John Wiley & 5ous(1981
年) 、J、F、W、McOmierProtecti
ve Groups in Organic Chem
istry」Plenum Press、 (1973
年)等の総説に詳細に記載されている方法を適宜選択し
て行なうことができる。Further, the protecting group that protects the specific acidic group of the present invention and the removal (deprotection reaction) of the protecting group can be easily carried out using conventionally known knowledge. For example, it is variously described in the cited documents mentioned above, and furthermore, Yoshio Iwakura,
Keisuke Kurita, “Reactive Polymer” ■Kodansha (1977)
, T, W, Greene'Protective G
roups in Organic 5ynthesi
John Wiley & 5ous (1981
), J.F.W.McOmierProtecti
ve Groups in Organic Chem
istry” Plenum Press, (1973
Methods described in detail in reviews such as 2010) can be selected as appropriate.
他のA−B型ブロック共重合体の合成法とじては、ジシ
オカーハメント化合物を開始剤とした光イニファークー
重合法によって合成することもできる。例えば、大津除
行、高分子、鉦、 248(]、988)、検査役−1
大津隆−1Polym、Rep、Jap、37.350
8(1988)、特開昭64−111号、特開昭64−
26619号等に記載の合成方法に従って合成される。As another method for synthesizing the AB type block copolymer, it can also be synthesized by a photoinifer copolymerization method using a dithiocarhament compound as an initiator. For example, Yoyuki Otsu, Polymer, Gong, 248 (], 988), Inspector-1
Takashi Otsu-1 Polym, Rep, Jap, 37.350
8 (1988), JP-A-64-111, JP-A-64-
It is synthesized according to the synthesis method described in No. 26619 and the like.
これを上記したマクロモノマー合成法を利用して本発明
のマクロモノマーを得ることができる。The macromonomer of the present invention can be obtained using the macromonomer synthesis method described above.
本発明のマクロモノマー(M)は、具体的には、下記の
化合物を例として挙げることができる。但し、本発明の
範囲は、これらに限定されるものではない。但し、下記
化合物例において、c、d及びeはそれぞれ、=■、−
C1,又は−CII□COOCH3を示し、fは−II
又は−CH3を示し、R1+はへC,lh、。1(pは
1〜18の整数) 、−(CO□)QC6H5(qは1
〜を示ず、R12は−Csllzs++(Sは1〜8の
整数)又は−(C;fiz) 9C6+15を示し、Y
2はC00I+。Specific examples of the macromonomer (M) of the present invention include the following compounds. However, the scope of the present invention is not limited to these. However, in the following compound examples, c, d and e are respectively =■, -
C1, or -CII□COOCH3, f is -II
or -CH3, R1+ is C, lh,. 1 (p is an integer from 1 to 18), -(CO□)QC6H5 (q is 1
~, R12 represents -Csllzs++ (S is an integer of 1 to 8) or -(C; fiz) 9C6+15, Y
2 is C00I+.
を示し、t=2〜12の整数を示し、 Uは2〜6の 整数を示す。, t = an integer from 2 to 12, U is from 2 to 6 Indicates an integer.
(ト1)
(ト2)
C1h 、−0CH3又は−COCI+3を示ず)又は
(ト3)
(トロ)
(ト4)
(ドア)
(ト5)
(ト8)
Z
(ト9)
f
□
(M−10)
(M−11)
(M−16)
前記したマクロモノマー(M)と共重合する単量体は例
えば前記−儀式(II)で示される。式(II)におい
てR2は式(1)中のR1と同一の内容を表わす。(G1) (G2) C1h, -0CH3 or -COCI+3) or (G3) (Toro) (G4) (Door) (G5) (G8) Z (G9) f □ ( M-10) (M-11) (M-16) Monomers that copolymerize with the above-mentioned macromonomer (M) are shown, for example, in the above-mentioned formula (II). In formula (II), R2 represents the same content as R1 in formula (1).
又、重合体主鎖中には、−PO,l+□基、−3O31
1基、C0011基、−C11基、−811基及び−P
O,RI+基の酸性基を含有する共重合成分を含有しな
いものが好ましい。In addition, in the polymer main chain, -PO, l+□ group, -3O31
1 group, C0011 group, -C11 group, -811 group and -P
Preferably, it does not contain a copolymer component containing acidic groups such as O and RI+ groups.
更に、本発明の低分子量の樹脂(A)は、−儀式(na
)及び/又は−儀式(Ilb)で示される2位又は2,
6−位に特定の置換基を有するヘンゼン環又はナフタレ
ン環を含有する特定の置換基をもつメタクリレートを共
重合成分として含有するグラフト共重合体(以下樹脂〔
A′〕と称することもある)である事が好ましい。Furthermore, the low molecular weight resin (A) of the present invention has -ritual (na)
) and/or - 2nd place or 2nd indicated by the ritual (Ilb),
A graft copolymer (hereinafter referred to as resin
A') is preferable.
(?l−12)
H3
(M−14)
(M−15)
−S式(IIa)において、好ましいX、及びx2とし
てそれぞれ、水素原子、塩素原子及び臭素原子のほかに
、好ましい炭化水素基として、炭素数1〜4のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、炭素数7〜9のアラルキル基(例えばヘンシル基
、フェネチル基、3フエニルプロピル基、クロロベンジ
ル基、ジクロロヘンシル基、ブロモヘンシル基、メチル
ヘンシル基、メトキシヘンシル基、クロロ−メチルヘン
シル基等)及びアリール基(例えばフェニル基、トリル
基、シリル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基
、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基等)、並びに
−COZ3及び−COOZ3 (好ましいZ3として
は上記好ましい炭化水素基として記載したものを挙げる
ことができる)を挙げることができる。但し、×、とx
2がともに水素原子を表わすことはない。(?l-12) H3 (M-14) (M-15) -S In formula (IIa), in addition to hydrogen, chlorine and bromine atoms as preferred X and x2, respectively, as preferred hydrocarbon groups , an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.), an aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (e.g. hensyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, chlorobenzyl group) , dichlorohensyl group, bromohensyl group, methylhensyl group, methoxyhensyl group, chloro-methylhensyl group, etc.) and aryl groups (e.g. phenyl group, tolyl group, silyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group) etc.), and -COZ3 and -COOZ3 (preferred examples of Z3 include those described as the above-mentioned preferred hydrocarbon groups). However, × and x
Both 2 do not represent a hydrogen atom.
式(Ila)において、L、は−COO−とヘンゼン環
を結合する、単結合又は +Ctlz +[(ILは1
〜3の整数を表わず) 、cLcllzOco −1n
ctlz0)蒼2−(mzは1又は2の整数を表わす)
、
CH2Cl+20
等の如き連結原子数1〜4個の連結基を表わす。In formula (Ila), L is a single bond or +Ctlz + [(IL is 1
(does not represent an integer of ~3), cLcllzOco -1n
ctlz0) Ao2- (mz represents an integer of 1 or 2)
, CH2Cl+20, etc. represents a linking group having 1 to 4 linking atoms.
式(Ilb)におけるL2はL と同一の内容を表わす。L2 in formula (Ilb) is L represents the same content as .
本発明の樹脂(A’
〕で用いられる、
式(IIa)
又は(Ilb)で示される単量体の具体例を以下に挙げ
ろ。Specific examples of the monomer represented by the formula (IIa) or (Ilb) used in the resin (A') of the present invention are listed below.
しかし、 本発明の範囲は、 これらに限定さ されるものではない。but, The scope of the present invention is limited to these It is not something that will be done.
CH。CH.
l1i し! C1l:+ CH3 ■4) CH3 CH。l1i death! C1l:+ CH3 ■4) CH3 CH.
CI+3 C1(3 CH3 r CI+3 C)13 し■3 C113 CtL+ Ctl+ C11゜ 1li C1(。CI+3 C1(3 CH3 r CI+3 C) 13 ■3 C113 CtL+ Ctl+ C11゜ 1li C1(.
CI+3 CH3 C1l□ CH。CI+3 CH3 C1l□ CH.
CI(2
CH3
C112=C
3G)
Ca+3
i −34)
CI+3
CH3
CH2=C
CH:+
CI+2=(1:
更には、本発明のグラフト型共重合体において」1記マ
クロモノマー(M)と共重合する成分としては、−儀式
(IT)、(IIa)又は(Ilb)以外の単量体であ
ってもよく、例えば、α−オレフィン類、アルカン酸ビ
ニル又はアリルエステル類、アクリロニトリル、メタク
リロニトリル、ビニルエーテル類、アクリルアミド類、
メタクリルアミド類、スチレン類、複素環ビニル類〔例
えば窒素原子以外の非金属原子(酸素原子、イオウ原子
等)を1〜3個含有する5員〜7員環の複素環であり、
具体的な化合物として、ビニルチオフェン、ビニルジオ
キサン、ビニルフラン等〕等が挙げられる。CI(2 CH3 C112=C 3G) Ca+3 i -34) CI+3 CH3 CH2=C CH:+ CI+2=(1: Furthermore, in the graft type copolymer of the present invention, copolymerization with the macromonomer (M) described in 1. The component may be a monomer other than (IT), (IIa) or (Ilb), such as α-olefins, vinyl alkanoates or allyl esters, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, acrylamides,
Methacrylamides, styrenes, heterocyclic vinyls [for example, 5- to 7-membered heterocycles containing 1 to 3 nonmetallic atoms (oxygen atoms, sulfur atoms, etc.) other than nitrogen atoms,
Specific compounds include vinylthiophene, vinyldioxane, vinylfuran, etc.
好ましい例としては、例えば、炭素数1〜3のアルカン
酸ビニル又はアリルエステル類、アクリロニトリル、メ
タクリlコニI・リル、スチレン及びスチl/ ン誘i
体(例えばビニルトルエン、ブチルスチレン、メト;ト
シスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチI/ン、ブ
ロモスチレン、工l−キシスチレン笠)等が挙げられる
。Preferred examples include vinyl alkanoates or allyl esters having 1 to 3 carbon atoms, acrylonitrile, methacrylonitrile, styrene, and styrene derivatives.
Examples include vinyltoluene, butylstyrene, meth; tocystyrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, and dichlorostyrene.
更に、本発明の樹脂(A)は、更に、熱及び光のうちの
少なくともいずれかにより樹脂の硬化反応を行なう官能
基、即ら「熱及び/又は光硬化性官能基」を含有するこ
とが好ましい。即ら、樹脂(A)は前記マクロモノマー
(M)及び他の単量体(例えば弐(II)、好ましくは
(Ila)、(Ilb)の単量体)にそれぞれ相当する
共重合成分に加えて、更に熱及び/又は光硬化性官能基
を含有する共重合体成分を含有することが好ましく、そ
れにより膜強度が向」ニし、電子写真感光体の機械的強
度が増大する。Furthermore, the resin (A) of the present invention may further contain a functional group that performs a curing reaction of the resin with at least one of heat and light, that is, a "thermal and/or photocurable functional group". preferable. That is, the resin (A) contains, in addition to copolymerization components corresponding to the macromonomer (M) and other monomers (for example, monomers of II (II), preferably (Ila) and (Ilb)), respectively. Furthermore, it is preferable to further contain a copolymer component containing a heat-curable and/or photo-curable functional group, thereby improving the film strength and increasing the mechanical strength of the electrophotographic photoreceptor.
本発明の樹脂〔A〕における上記[熱及び/又は光硬化
性官能基を含有する共重合体成分」の割合は、該樹脂〔
A〕中好ましくは1〜30重量%である。より好ましく
は、5〜30重量%である。The proportion of the above-mentioned [copolymer component containing a thermally and/or photocurable functional group] in the resin [A] of the present invention is
A], preferably 1 to 30% by weight. More preferably, it is 5 to 30% by weight.
結着樹脂における熱及び/又は光硬化性の官能基が存在
する場合に、その含有量が1重量%より少ないと硬化反
応不足で硬化性官能基による光導電層の膜強度向上の効
果が見られない。−刃金有量が30重世%を超えると、
本発明の結着樹脂(A)においても、優れた電子写真特
性の保持が難しくなり、従来公知の結着樹脂と同様の特
性に低下してしまう。更にオフセットマスターとして用
いた時に、印刷物の非画像部の地汚れが発生してしまつ
。When heat-curable and/or photo-curable functional groups are present in the binder resin, if the content is less than 1% by weight, the curing reaction will be insufficient and the effect of improving the film strength of the photoconductive layer due to the curable functional groups will not be observed. I can't. -If the amount of blade metal exceeds 30%,
Even with the binder resin (A) of the present invention, it becomes difficult to maintain excellent electrophotographic properties, and the properties deteriorate to the same as those of conventionally known binder resins. Furthermore, when used as an offset master, background stains occur in non-image areas of printed matter.
光硬化性官能基として具体的には、乾英夫、永松元太部
、「感光性高分子」 (講談社、1977年刊)、角田
隆弘、「新感光性樹脂」 (印刷学会出版部、1981
年刊)加藤清視、[紫外線硬化システム 第5章〜第7
章、総合技術センター(1989年刊)、G、E、Gr
een and B、I’、5trark、J、Mac
ro、Sci、Reas。Specific examples of photocurable functional groups include Hideo Inui, Gentabe Nagamatsu, "Photosensitive Polymer" (Kodansha, 1977), Takahiro Tsunoda, "New Photosensitive Resin" (Printing Society Publishing Department, 1981)
Annual publication) Kiyomi Kato, [Ultraviolet curing system Chapters 5 to 7
Chapter, General Technology Center (published in 1989), G, E, Gr.
een and B, I', 5trak, J, Mac
ro, Sci, Reas.
Macro Chem、 C2](2)、187〜27
3(1981〜B2) 、C,GRattey、 ’
Photopolymirization of 5u
rface Co。Macro Chem, C2] (2), 187-27
3 (1981-B2), C, GRattey, '
Photopolymerization of 5u
rface Co.
tings 」(八、Wiley InterScie
nce Pub、 1982年刊)、等の総説に引例さ
れた光硬化性樹脂として従来公知の感光性樹脂等に用い
られる官能基が用いられる。tings” (8, Wiley InterScie
Functional groups used in conventionally known photosensitive resins and the like are used as photocurable resins, as cited in the review articles such as CE Pub, 1982).
また本発明における「熱硬化性官能基」は、前記の酸性
基以外の官能基であって、例えば、遠藤剛、「熱硬化性
高分子の精密化J (C,M、C,■、1986年刊)
、原崎勇次「最新バインダー技術便覧」第H−1章(総
合技術センター、1985年刊)、大津除行「アクリル
樹脂の合成・設計と新用途開発」(中部経営開発センタ
ー出版部、1985年刊)、大森英三[機能性アクリル
系樹脂」 (テクノシステJ1.1985年刊)等の総
説に引例の官能基を用いることができる。Furthermore, the "thermosetting functional group" in the present invention refers to a functional group other than the above-mentioned acidic group, and includes, for example, Tsuyoshi Endo, "Refinement of Thermosetting Polymers J (C, M, C, Annual)
, Yuji Harasaki "Latest Binder Technology Handbook" Chapter H-1 (General Technology Center, published in 1985), Yoshiyuki Otsu "Synthesis, design and development of new applications of acrylic resin" (Chubu Management Development Center Publishing Department, published in 1985), The functional groups cited in the review by Eizo Omori [Functional Acrylic Resins] (Technosyste J1, published in 1985) can be used.
例えば−〇i+基、−5l+基、−Ni1□基、−NI
IR7基[R7は炭化水素基を表わし、例えば炭素数1
〜10の置換されてもよいアルキル基(例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オク
チル基、デシル基、2−クロロエチル基、2メトキシエ
チル基、2−シアノエチル基等)、炭素数4〜8の置換
されてもよいシクロアルキル基(例えばソクロヘプチル
基、シクロヘキシルw等)、炭素数7〜12の置換され
てもよいアラルキル基(例えばヘンシル基、)lネチル
基、3−フェニルプロピル基、クロロヘンシル基、メチ
ルl\ンジル基、メトキシヘンシル基等)、置換されて
もよいアリール基(例えばフェニル基、トリル基、キシ
リル基、クロロエチル基、ブロモフェニル基、メI・キ
シフェニル基、ナフチル基等)等が挙げられる〕、
C0NIICI+20R8CRoは水素原子又は炭素数
1〜8のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等)d、
d2
を表わす) 、−Jl−C=O基及び−C= C11基
(dI及びd2は、各々水素原子、ハロゲン原子(例え
ば塩素原子、臭素原子等)又は炭素数1〜4のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基等)を表わす)等を挙げ
ることができる。又該重合性二重結合基として、例えば
、
Cl13CH30
C1+2=C−CONI+−1CIl=CI+、、C0
NH−8CH2・C1l−0−CC1h OO
I II lI
C1l□:C−0−C−1C1l□=CH−C11□−
0−CC1+2・Cl1−CIL、−NHCO−1C1
12・Cll−802C112=C)1−(1−1C1
12=CIl−C11□0、C1l、=Cll−C0−
1
[熱/光硬化性官能基]含有の繰返し単位について例示
する。但し、以下の各側において、b及びCは前記と同
様の意味を表わし、R21は−CII=CH2又は−C
112CIl=CI+2を表わし、R2゜はCH3
1i −3)
は
CII = CII。、
C1l□又は
CIl
1li
−←CH2
C→−
CH。For example, -〇i+ group, -5l+ group, -Ni1□ group, -NI
IR7 group [R7 represents a hydrocarbon group, for example, a carbon number of 1
~10 optionally substituted alkyl groups (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, 2-chloroethyl group, 2methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, etc.), An optionally substituted cycloalkyl group having 4 to 8 carbon atoms (e.g., socloheptyl group, cyclohexyl group, etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g., hensyl group, 1-netyl group, 3-phenylpropyl group) aryl group, which may be substituted (e.g., phenyl group, tolyl group, xylyl group, chloroethyl group, bromophenyl group, methyl xyphenyl group, etc.), C0NIICI+20R8CRo is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, etc.) d,
d2), -Jl-C=O group and -C=C11 group (dI and d2 are each a hydrogen atom, a halogen atom (e.g. chlorine atom, bromine atom, etc.) or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, etc.). Further, as the polymerizable double bond group, for example, Cl13CH30 C1+2=C-CONI+-1CIl=CI+,,C0
NH-8CH2・C1l-0-CC1h OO I II lI C1l□:C-0-C-1C1l□=CH-C11□-
0-CC1+2・Cl1-CIL, -NHCO-1C1
12・Cll-802C112=C)1-(1-1C1
12=Cll-C11□0, C1l,=Cll-C0-
1 Examples of repeating units containing [heat/photocurable functional group] are given below. However, on each side below, b and C represent the same meanings as above, and R21 is -CII=CH2 or -C
112CIl=CI+2, R2° is CH3 1i -3) CII=CII. , C1l□ or CII1li -←CH2 C→- CH.
Coo(C1h)v−Coo−R2゜
を表わし、I?zs
は
C)I=CI+、、
CIl2又は
1〜11の整数
ii −4)
千CH2
C→−
のアルキル基を表わし、OIは
又は
を表
Coo(C112) vOCO(CH2) v−COO
−R2わし、0□は
011又は
Nl+□
を表わし、■
は1〜11
(Vは同一でも異なってもよい)
の整数を表わし、
Xは1〜10の整数を表わし、
は1〜4の整数を表わし、
Zは2〜11の整数を表
わす。Coo(C1h) represents v-Coo-R2°, I? zs represents C) I=CI+, CIl2 or an integer from 1 to 11 ii -4) 1,000 CH2 C→- an alkyl group, OI represents or Coo(C112) vOCO(CH2) v-COO
-R2, 0□ represents 011 or Nl+□, ■ represents an integer from 1 to 11 (V may be the same or different), X represents an integer from 1 to 10, and represents an integer from 1 to 4 , and Z represents an integer from 2 to 11.
ii −1)
−(−c l(2
C→□
Coo−R2
COOC)I=C11□
ii −2)
C00(C1vOCO−1?22
一←CH2
C→−
COOCII□Cl1=CI+2
ii −8)
ii −12)
−(−CI「C→−−
CONII(CIl2) X−0CO−R24ii −
9)
ii −13)
−6H2
C→−□
−tel+
C→□□
C00(CH2)、−CIl−CI+□−0−GO−R
zsCONllCI+2011
0〜Co−Rzs
(R2゜
は同じでも異なってもよい)
ii −14)
ii −10)
−(−CI
C→□□
1℃I■2
C→−−
C0NHCH20R26
CONII (C112)vC00C112−CIIC
11200C−R24ii −15)
ii −11)
一+ClI
C→−
ii −21)
b
−(−CIl□−C→−
COO(Cth) 2−NGO
ii −18)
c
mfc)I −C?
COO(CI+2) 2−Q□
ii −19)
□(−CH−CH−ナー
ii −20)
本発明の結着樹脂は、前記マクロモノマー(M)及び他
の単量体(例えば−儀式(n)で示される単量体、更に
は任意の光及び/又は熱硬化性官能基含有単量体)のう
ちから各々少なくとも1種選ばれた化合物を所望の割合
で共重合させることによって製造することができる。重
合方法としては溶液重合、懸濁重合、沈殿重合、乳化重
合等の公知の方法を用いることにより製造することがで
きる。例えば溶液重合ではヘンゼン、トルエン等の溶媒
中、単量体を所定の割合で添加し、アゾビス系化合物、
過酸化化合物、ラジカル重合開始剤によって重合せしめ
共重合体溶液を得ることができる。これを乾燥または負
溶剤に添加することにより所望の共重合体を得ることが
できる。また、懸濁重合ではポリビニルアルコール、ポ
リビニルピロリドン等の分散剤の存在下、単量体を懸濁
させ、ラジカル重合開始剤の存在下で共重合せしめ共重
合体を得ることができる。ii -1) -(-c l(2 C→□ Coo-R2 COOC) I=C11□ ii -2) C00(C1vOCO-1?22 1←CH2 C→- COOCII□Cl1=CI+2 ii -8) ii -12) -(-CI"C→-- CONII (CIl2) X-0CO-R24ii -
9) ii -13) -6H2 C→-□ -tel+ C→□□ C00 (CH2), -CIl-CI+□-0-GO-R
zsCONllCI+2011 0~Co-Rzs (R2゜ may be the same or different) ii -14) ii -10) -(-CI C→□□ 1℃I■2 C→-- C0NHCH20R26 CONII (C112)vC00C112-CIIC
11200C-R24ii -15) ii -11) 1+ClI C→- ii -21) b -(-CIl□-C→- COO(Cth) 2-NGO ii -18) c mfc) I -C? COO (CI+2) 2-Q□ ii -19) □ (-CH-CH-ner ii -20) The binder resin of the present invention contains the macromonomer (M) and other monomers (for example, -ritual (n ), and any photo- and/or thermosetting functional group-containing monomer), by copolymerizing at least one compound selected from the following in a desired ratio. I can do it. As the polymerization method, it can be produced by using known methods such as solution polymerization, suspension polymerization, precipitation polymerization, and emulsion polymerization. For example, in solution polymerization, monomers are added in a predetermined ratio in a solvent such as Hensen or toluene, and azobis-based compounds,
A copolymer solution can be obtained by polymerization using a peroxide compound and a radical polymerization initiator. A desired copolymer can be obtained by drying it or adding it to a negative solvent. In suspension polymerization, monomers are suspended in the presence of a dispersant such as polyvinyl alcohol or polyvinylpyrrolidone, and copolymerized in the presence of a radical polymerization initiator to obtain a copolymer.
樹脂(A)において、A−B型ブロック共重合体中にお
ける該特定の酸性基を含有する重合体成分の存在量は、
樹脂(A)100重量部中、好ましくは1〜30重景%
で、より好ましくは3〜20重世%である。In the resin (A), the amount of the polymer component containing the specific acidic group in the AB type block copolymer is as follows:
Preferably 1 to 30% by weight in 100 parts by weight of resin (A)
More preferably, it is 3-20%.
樹脂(A)の重量平均分子量は好ましくは3×103〜
lXl0’である。The weight average molecular weight of the resin (A) is preferably 3 x 103~
lXl0'.
本発明では、本発明に従う樹脂(A)とともに、熱及び
/光硬化性樹脂CB)の少なくとも1種あるいは架橋剤
の少なくともいずれか一方を共存させる。これにより樹
脂(A)の特性を何ら阻害せずに電子写真感光体の膜強
度を向上させることができる。In the present invention, together with the resin (A) according to the present invention, at least one of heat and/or photo-curable resins CB) or at least one of a crosslinking agent is allowed to coexist. Thereby, the film strength of the electrophotographic photoreceptor can be improved without impairing the properties of the resin (A).
樹脂(B)は、架橋性官能基、即ち熱及び光のうちの少
なくともいずれか一方により感光層を形成後、膜中で架
橋反応を生成し、ポリマー間の橋かけを形成する官能基
を含有する熱及び/又は光硬化性樹脂であり、好ましく
は、樹脂〔A〕中に含有され得る前記熱及び/又は光硬
化性官能基と反応して架橋構造を形成するものである。The resin (B) contains a crosslinkable functional group, that is, a functional group that generates a crosslinking reaction in the film to form a bridge between polymers after forming a photosensitive layer using at least one of heat and light. It is a heat and/or photocurable resin that reacts with the heat and/or photocurable functional group that may be contained in the resin [A] to form a crosslinked structure.
即ち、縮合反応、付加反応等による分子間の結合、ある
いは重合反応による架橋等を熱及び/又は光によって生
じさせる反応様式を利用するものである。That is, it utilizes a reaction mode in which bonding between molecules by condensation reaction, addition reaction, etc., or crosslinking by polymerization reaction is caused by heat and/or light.
熱硬化性官能基としては具体的には解離性の水素原子を
有する官能基(例えば−011基、−sng、N1(1
?3.基(R3,は、水素原子、炭素数1〜12の置換
されてもよい脂肪族基又は置換されてもよいアリル基を
表わす))と
NC5、環状ジカルボン酸無水物との群から各々選ばれ
た官能基の組合せを少なくとも1組含有する場合あるい
は−CON1((:1(201?3□(R3゜は水素原
子又はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、へ
キシル基等の炭素数1〜6のアルキル基を表わす)又は
重合性二重結合基等が挙げられる。Specifically, the thermosetting functional group includes a functional group having a dissociable hydrogen atom (for example, -011 group, -sng, N1(1
? 3. (R3 represents a hydrogen atom, an optionally substituted aliphatic group having 1 to 12 carbon atoms, or an optionally substituted allyl group); and NC5, each selected from the group of a cyclic dicarboxylic acid anhydride. or -CON1((:1(201?3□(R3゜ is a hydrogen atom or the number of carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, etc.) 1 to 6 alkyl groups) or a polymerizable double bond group.
解離性の水素原子を有する官能基として好ましくは一0
11基、−511基、−NIIR3□基が4Sげられる
。The functional group having a dissociable hydrogen atom is preferably 10
11 groups, -511 groups, and -NIIR3□ groups are given as 4S.
該重合性二重結合基及び光硬化性官能基としては、具体
的には前記樹脂(A]中に含有される「熱及び/光硬化
性官能基」に記載した内容と同様のものがあげられる。Specifically, the polymerizable double bond group and photocurable functional group include those described in the "thermal and/or photocurable functional group" contained in the resin (A). It will be done.
かかる官能基を含有する重合体又は共重合体が本発明の
樹脂CB)の例として挙げられる。具体的には、遠藤剛
「熱硬化性高分子の精密化」(C1M、C(株) 、1
.986年刊)、原崎勇次「最新バインダー技術便覧」
第11−1章(総合技術センター1985年刊)、大津
除行[アクリル樹脂の合成・設計と新用途開発」(中部
経営開発センター出版部1985年刊ン、大森英三「機
能性アクリル系樹脂J(テクノシステム1985年刊)
等の総説に引例された従来公知の樹脂が用いられる。例
えば、ポリエステル樹脂、変圧されていないエポキシ樹
脂、ポリカーボネ−1・樹脂、アルカン酸ビニル樹脂、
変性ポリアミ]・樹脂、フェノール樹脂、変性アルキ7
ト樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂等
が挙げられ、これら樹脂中に前記した架橋反応形成の官
能基が含有されていればよい。好ましくは、これらの樹
脂中に樹脂(A)で示される酸性基は含有しないか又は
変性されているものを本発明の樹脂として用いることが
できる。Polymers or copolymers containing such functional groups are examples of the resins CB) of the invention. Specifically, Tsuyoshi Endo "Refinement of thermosetting polymers" (C1M, C Co., Ltd., 1)
.. 986), Yuji Harasaki “Latest Binder Technology Handbook”
Chapter 11-1 (Published by General Technology Center, 1985), Yoshiyuki Otsu [Synthesis, design and development of new applications of acrylic resins] (Published by Chubu Business Development Center Publishing Department, 1985), Eizo Omori, "Functional Acrylic Resins J ( Techno System (published in 1985)
Conventionally known resins cited in the review of et al. are used. For example, polyester resin, untransformed epoxy resin, polycarbonate resin, vinyl alkanoate resin,
Modified polyamide]・Resin, phenol resin, modified alkyl 7
Examples of the resin include a resin, a melamine resin, an acrylic resin, a styrene resin, etc., as long as these resins contain the functional group for forming the crosslinking reaction described above. Preferably, these resins that do not contain the acidic group represented by resin (A) or have been modified can be used as the resin of the present invention.
これらの官能基を含有する共重合体成分に相当する単量
体の具体的なものとして、例えば該官能基を含有するビ
ニル系化合物を挙げることができる。Specific examples of monomers corresponding to copolymer components containing these functional groups include vinyl compounds containing these functional groups.
例えば、高分子学会′tFAr高分子データ・ハンドブ
ンク(基礎編〕」培風館(1986刊)等に記載されて
いる。具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換ア
クリル酸(例えばα−アセトキン体、α−アセ1へキシ
メチル体、α−(2−アミノ)メチル体、α−り四日体
、α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリブヂルシリル
体、α−シアノ体、β−りlコロ体、α−ブロモ体、α
−クロロ−βメトキシ体、α、β−ジクロロ体等)、メ
タクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イ
タコン酸半アミF類、クロトン酸、2−アルケニルカル
ボン酸類(例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘ
キセン酸、2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン
酸、4−エチル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マ
レイン酸半エステル類、マレイン酸半アミド頻、ビニル
ベンゼンスルボン酸、ビニルベンゼンスルボン酸、ビニ
ルスルボン酸、ビニルポスボン酸、ジカルボン酸類のビ
ニル基又はアリル基の半エステル誘導体、及びこれらの
カルボン酸又はスルボン酸のニスデル誘導体、アミド誘
導体の置換基中に、又はスチレン誘導体の置換基中に、
前記官能基が含有されたビニル化合物類が挙げられる。For example, it is described in the Society of Polymer Science's ``tFAr Polymer Data Handbook (Basic Edition)'' Baifukan (1986).Specifically, acrylic acid, α- and/or β-substituted acrylic acid (e.g. α-acetoquine α-ace1hexymethyl, α-(2-amino)methyl, α-bromo, α-fluoro, α-tribudylsilyl, α-cyano, β-ri l-colloid, α-bromo, α
-chloro-β-methoxy form, α, β-dichloro form, etc.), methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid half amide F, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (e.g. 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amide, vinyl In the substituents of benzenesulfonic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylposboxylic acid, half-ester derivatives of vinyl or allyl groups of dicarboxylic acids, and Nisder derivatives and amide derivatives of these carboxylic acids or sulfonic acids, or in the substituent of the styrene derivative,
Examples include vinyl compounds containing the above-mentioned functional groups.
更に具体的には、前記した一般式(I)で示される単量
体を共重合成分として、その総量で30重量%以上含有
する(メタ)アクリル系共重合体を樹脂(B)の例とし
て挙げることができる。More specifically, as an example of the resin (B), a (meth)acrylic copolymer containing a total amount of 30% by weight or more of the monomer represented by the general formula (I) described above as a copolymerization component. can be mentioned.
樹脂CB)における「架橋し得る(架橋性)官能基を含
有する共重合成分jの含有量は0.5〜40モル%が好
ましい。The content of the copolymer component j containing a crosslinkable (crosslinkable) functional group in the resin CB) is preferably 0.5 to 40 mol%.
樹脂(13)の重量平均分子量は好ましくは1×103
〜1×105であり、より好ましくは5X10’〜5X
10’である。The weight average molecular weight of the resin (13) is preferably 1×103
~1x105, more preferably 5X10'~5X
10'.
また、樹脂CB)のガラス転移点は好ましくは20°C
〜120°C1より好ましくは0°C〜100°Cであ
る。Furthermore, the glass transition point of the resin CB) is preferably 20°C.
-120°C1, more preferably 0°C - 100°C.
本発明に用いる樹脂〔A〕と樹脂CB)の使用量の割合
は、使用する無機光導電材料の種類、粒径、表面状態に
よって異なるが一般に樹脂(A)と樹脂CB)の用いる
割合は5〜60対95〜40(重量比)であり、好まし
くは10〜40対90〜60(重量比)である。The ratio of resin [A] and resin CB) used in the present invention varies depending on the type, particle size, and surface condition of the inorganic photoconductive material used, but generally the ratio of resin (A) to resin CB) is 5. ~60:95-40 (weight ratio), preferably 10-40:90-60 (weight ratio).
一方、本発明においては樹脂〔A〕とともに架橋剤を併
用することができる。とくに樹脂(A)及び/又は樹脂
〔B〕が光及び/又は熱硬化性官能基を含有する場合に
は、架橋剤を併用して膜中での架橋を促進させることが
できる。用いられる架橋剤としては、通常架橋剤として
用いられる化合物を使用することができる。具体的には
、山下昔三、金子東助編「架橋剤ハンFブック」大成社
刊(1981年)高分子学会編「高分子データハフ1−
ブック基礎編」培風館(1986年)等に記載されてい
る化合物を用いることができる。On the other hand, in the present invention, a crosslinking agent can be used together with the resin [A]. In particular, when the resin (A) and/or the resin [B] contain photo- and/or thermosetting functional groups, a cross-linking agent can be used in combination to promote cross-linking in the film. As the crosslinking agent used, compounds commonly used as crosslinking agents can be used. Specifically, "Crosslinking agent Han F book" edited by Machizo Yamashita and Tosuke Kaneko, published by Taiseisha (1981), "Polymer data Huff 1-
Compounds described in "Book Basic Edition" Baifukan (1986) etc. can be used.
例えば、有機シラン系化合物(例えば、ビニルトリブト
キシシラン、ビニルトリブトキシシラン、T−グリシド
キシプロピルトリフ1−キンシラン、γ メルカプトプ
ロピルI−リエトキシシラン、Tアミノプロピルトリエ
トキシシラン等のシランカップリング剤等)、ポリイソ
シアナート系化合物(例えば、トルイレンジイソシアナ
ート、0トルイレンジイソシアナート、ジフェニルメタ
ンシイソシアナ−1〜、1〜リフェニルメタントリイソ
シアナート、ポリメチレンボリフェニルイソシアナ−1
・、ヘキシメチレンジイソシアナート、イソポロンジイ
ソシアナート、高分子ポリイソシアナート等)、ポリオ
ール系化合物(例えば、1.4ブタンジオール、ポリオ
キシプロピレングリコール、ポリオキシアルギレングリ
コール、■、11−トリメヂロールプロパン等)、ポリ
アミン系化合物(例えば、エチレンジアミン、T−ヒド
ロキソプロピル化エチレンジアミン、フェニレンジアミ
ン、ヘキシメチレンジアミン、N−アミノエチルピペラ
ジン、変性脂肪族ポリアミン類等)、ポリエポキシ基含
有化合物及びエポキシ樹脂(例えば、垣内弘編著「エポ
キシ樹脂」昭晃堂(1985年刊)、橋本邦之編著「エ
ポキシ樹脂」日刊工業新聞社(1969年刊)等に記載
された化合物類)、メラミン樹脂(例えば、三輪一部、
松永英夫編著[ユリア・メラミン樹脂]日刊工業新聞社
(1969年刊)、等に記載された化合物類)、ポリ(
メタ)アクリレート系化合物(例えば、大河原信、三枝
武夫、東イ4敏延編「オリゴマー」講談社(1976年
)、大森英三「機能性アクリル系樹脂」テクノシステム
(1985年刊)等に記載された化合物類が挙げられ、
具体的には、ポリエチレングリコールジアクリレート、
ネノペンナルグリコールジアクリラト、1.6−ヘキザ
ンジオールアクリラート、トリメチロールプロパントリ
アクリラート、ペンタエリスリト−ルポリアクリラーI
〜、ビスフェノールA−ジグリシジルエーテルジアクリ
ラート、オリゴエステルアクリラーI・=これらのメタ
クリラド体等がある。)等を挙げることができる本発明
に用いられる架橋剤の使用量は全結着樹脂量に対し0.
5〜30重量%、特に1〜10重量%であることが好ま
しい。For example, silane coupling of organic silane compounds (e.g., vinyltributoxysilane, vinyltributoxysilane, T-glycidoxypropyltrif-1-quinsilane, γ-mercaptopropyl I-liethoxysilane, T-aminopropyltriethoxysilane, etc.) agents, etc.), polyisocyanate compounds (e.g., toluylene diisocyanate, 0 toluylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate-1~, 1~riphenylmethane triisocyanate, polymethylene polyphenylisocyanate-1)
・Heximethylene diisocyanate, isopolone diisocyanate, polymeric polyisocyanate, etc.), polyol compounds (for example, 1.4-butanediol, polyoxypropylene glycol, polyoxyargylene glycol, polyamine compounds (e.g., ethylenediamine, T-hydroxypropylated ethylenediamine, phenylenediamine, hexymethylenediamine, N-aminoethylpiperazine, modified aliphatic polyamines, etc.), polyepoxy group-containing compounds, and epoxy Resins (for example, compounds described in "Epoxy Resin" edited by Hiroshi Kakiuchi, Shokodo (1985), Kuniyuki Hashimoto (ed. Department,
Compounds described in Hideo Matsunaga (ed.) [Uria Melamine Resin] Nikkan Kogyo Shimbun (1969), etc.), poly(
meth)acrylate compounds (for example, those described in Makoto Okawara, Takeo Saegusa, and Toshinobu Toi, eds., "Oligomer", Kodansha (1976), Eizo Omori, "Functional Acrylic Resin", Technosystem (published in 1985), etc. Compounds are mentioned,
Specifically, polyethylene glycol diacrylate,
Nenopenal glycol diacrylate, 1,6-hexanediol acrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol polyacrylate I
-, bisphenol A-diglycidyl ether diacrylate, oligoester acrylic I. ), etc. The amount of the crosslinking agent used in the present invention is 0.00% based on the total amount of binder resin.
Preferably it is 5 to 30% by weight, especially 1 to 10% by weight.
本発明では、感光層膜中での架橋反応を促進さゼるため
に、結着樹脂に必要に応して反応促進剤を添加してもよ
い。In the present invention, a reaction accelerator may be added to the binder resin, if necessary, in order to promote the crosslinking reaction in the photosensitive layer.
架橋反応が官能基間の化学結合を形成する反応様式の場
合には、例えば有機酸(酢酸、プロピオンL 1酸、ヘ
ンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等)等が挙
げられる。When the crosslinking reaction is a reaction mode in which a chemical bond is formed between functional groups, examples thereof include organic acids (acetic acid, propionic L 1 acid, Hensensulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, etc.).
架橋反応が重合性反応様式の場合には、重合開始剤(過
酸化物、アゾビス系化合物等が挙げられ、好ましくは、
アゾビス系重合開始剤である)、多官能重合性含有の単
量体(例えばビニルメタクリレート、アリルメタクリレ
ート、エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレ
ングリコールジアクリレート、ジビニルコハク酸エステ
ル、ジビニルアジピン酸エステル、ジアリルコハク酸エ
ステル、2−メチルビニルメタクリレート、ジビニルベ
ンゼン等)等が挙げられる。When the crosslinking reaction is a polymerizable reaction mode, a polymerization initiator (peroxide, azobis compound, etc.) may be used, and preferably,
azobis polymerization initiator), polyfunctional polymerizable monomers (e.g. vinyl methacrylate, allyl methacrylate, ethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, divinyl succinate, divinyl adipate, diallyl succinate) , 2-methylvinyl methacrylate, divinylbenzene, etc.).
更に、本発明では、本発明の樹脂以外の他の樹脂を併用
させるごともできる。それらの樹脂としては、例えば、
アルキッド樹脂、ポリブチラール樹脂、ポリオレフィン
類、エチレン−酢ビ共重合体、スチレン樹脂、スチレン
−ブタジェン樹脂、アクリレートブタジェン樹脂、アル
カン酸ビニル樹脂等が挙げられる。Furthermore, in the present invention, other resins other than the resin of the present invention may be used in combination. Examples of these resins include:
Examples include alkyd resins, polybutyral resins, polyolefins, ethylene-vinyl acetate copolymers, styrene resins, styrene-butadiene resins, acrylate-butadiene resins, vinyl alkanoate resins, and the like.
アクリレ−1−ブタジェン樹脂、アルカン酸ビニル樹脂
等が挙げられる。Examples include acrylate-1-butadiene resin and vinyl alkanoate resin.
上記他の樹脂は、本発明の樹脂を用いた全結着樹脂量の
30%(重量比)を越えると本発明の効果(特に静電特
性の向」二)が失われる。When the above-mentioned other resin exceeds 30% (weight ratio) of the total binder resin amount using the resin of the present invention, the effects of the present invention (particularly the improvement of electrostatic properties) are lost.
本発明の結着樹脂は、感光層形成物を塗布した後、架橋
又は熱硬化される。架橋又は熱硬化を行なうためには、
例えば、乾燥条件を従来の感光体作製時の乾燥条件より
厳しくする。例えば、乾燥条件を高温度及び/又は長時
間とする。あるいは塗布溶剤の乾燥後、更に加熱処理す
ることが好ましい。例えば60’C〜120°Cで5〜
120分間処理する。上述の反応促進剤を併用すると、
より穏やかな条件で処理することができる。The binder resin of the present invention is crosslinked or thermally cured after applying the photosensitive layer forming material. To perform crosslinking or thermosetting,
For example, the drying conditions are made stricter than those used in conventional photoreceptor production. For example, the drying conditions are high temperature and/or long time. Alternatively, after drying the coating solvent, it is preferable to further perform a heat treatment. For example, 5~ at 60'C~120°C
Process for 120 minutes. When used together with the reaction accelerators mentioned above,
Can be processed under milder conditions.
本発明に使用する無機光導電材料としては、酸化亜鉛、
酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウ
ム、セレン化亜鉛、セレン他力1′ミウム、セレン化テ
ルル、硫化鉛等が挙げられる。Inorganic photoconductive materials used in the present invention include zinc oxide,
Examples include titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, cadmium carbonate, zinc selenide, 1'mium selenium, tellurium selenide, lead sulfide, and the like.
無機光導電材料に対して用いる結着樹脂の総量は、光導
電対100重量部に対して、結着樹脂を10〜100重
量部なる割合、好ましくは15〜50重量部なる割合で
使用する。The total amount of binder resin used for the inorganic photoconductive material is 10 to 100 parts by weight, preferably 15 to 50 parts by weight, per 100 parts by weight of the photoconductive couple.
本発明では、必要に応して各種の色素を分光増感剤とし
て併用することができる。例えば、宮本晴視、武井秀彦
、イメージング1973 (No、 8 )第12頁、
C,J、 Young等、RCA Review 15
469(1954)、清田航平等、電気通信学会論文
誌ユ63−C(No、2)97(1980)、原崎勇次
等、工業科学雑誌朋78及び188(1963) 、谷
忠昭、日本写真学会誌器、208(1972)等の総説
引例のカーボニウム系色素、ジフェニルメタン色素、ト
リフェニルメタン色素、キサンチン系色素、フタレイン
系色素、ポリメチン色素(例えば、オキソノール色素、
メロシアニン色素、シアニン色素、ログシアニン色素、
スチリル色素等)、フタロシアニン色素(金属含有して
もよい)等が挙げられる。In the present invention, various dyes can be used in combination as spectral sensitizers, if necessary. For example, Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging 1973 (No. 8) p. 12,
C, J, Young et al., RCA Review 15
469 (1954), Wataru Kiyota, Journal of the Institute of Electrical Communication, 63-C (No, 2) 97 (1980), Yuji Harasaki et al., Industrial Science Journal 78 and 188 (1963), Tadaaki Tani, Journal of the Photographic Society of Japan Carbonium dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, xanthine dyes, phthalein dyes, polymethine dyes (e.g., oxonol dyes,
merocyanine pigment, cyanine pigment, logocyanine pigment,
Styryl dyes, etc.), phthalocyanine dyes (which may contain metal), and the like.
更に具体的には、カーボニウム系色素、トリフェニルメ
タン色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素を中心
に用いたものとしては、特公昭51452号、特開昭5
0−90334号、特開昭50−114227号、特開
昭53−39130号、特開昭53−82353号、米
国特許筒3,052,540号、米国特許筒4 、05
4 、450号、特開昭57−16456号等に記載の
ものが挙げられる。More specifically, examples using mainly carbonium dyes, triphenylmethane dyes, xanthine dyes, and phthalein dyes include Japanese Patent Publication No. 51452 and Japanese Patent Publication No. 5
0-90334, JP 50-114227, JP 53-39130, JP 53-82353, U.S. Patent No. 3,052,540, U.S. Patent No. 4, 05
4, No. 450, and JP-A-57-16456.
オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、
ロダシアニン色素等のポリメチン色素としては、F、
M、 Harmmer 「The Cyanine
Dyes andRelated Compounds
J等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的に
は、米国特許筒3,047,384号、米国特許筒3,
110,591号、米国特許筒3,121,008号、
米国特許筒3,125.447号、米国特許筒3. ]
28.179号、米国特許筒3,132.942号、米
国特許筒3.622.317号、英国特許第1,226
,892号、英国特許第1,309,274号、英国特
許第1.405,898号、特公昭4B−7814号、
特公昭55−18892号等に記載の色素が挙げられる
。oxonol dye, merocyanine dye, cyanine dye,
Polymethine dyes such as rhodacyanine dyes include F,
M.Harmmer “The Cyanine
Dyes and Related Compounds
It is possible to use dyes described in U.S. Pat. No. 3,047,384, U.S. Pat.
No. 110,591, U.S. Patent No. 3,121,008,
U.S. Patent No. 3,125.447, U.S. Patent No. 3. ]
No. 28.179, U.S. Patent No. 3,132.942, U.S. Patent No. 3.622.317, British Patent No. 1,226
, No. 892, British Patent No. 1,309,274, British Patent No. 1,405,898, Japanese Patent Publication No. 4B-7814,
Examples include dyes described in Japanese Patent Publication No. 55-18892.
更に700nm以上の長波長の近赤外〜赤外光域を分光
増感するポリメチン色素として、特開昭47840号、
特開昭47−44180号、特公昭51−41061号
、特開昭49−5034号、特開昭49−45122号
、特開昭5746245号、特開昭56−35141号
、特開昭57−157254号、特開昭61−2604
4号、特開昭61−27551号、米国特許筒3,61
9,154号、米国特許筒4.175,956号、rR
esearch Disclosure J 1982
年、216、第117〜118頁等に記載のものが挙げ
られる。本発明の感光体は種々の増感色素を併用させて
も、その性能が増悪色素により変動しにくい点において
優れている。更には、必要に応して、化学増感剤等の従
来知られている電子写真感光層用各種添加剤を併用する
こともできる。例えば、前記した総説・イメージング1
9フ3 (No、8)第12頁等の総説引例の電子受容
性化合物(例えば、ハロゲン、ヘンヅキノン、クロラニ
ル、酸無水物、有機カルボン酸等)、小門宏等、「最近
の光導電材料と感光体の開発。Furthermore, as a polymethine dye that spectrally sensitizes the near-infrared to infrared light region with a long wavelength of 700 nm or more, JP-A No. 47840,
JP 47-44180, JP 51-41061, JP 49-5034, JP 49-45122, JP 5746245, JP 56-35141, JP 57- No. 157254, JP-A-61-2604
No. 4, JP-A No. 61-27551, U.S. Patent No. 3,61
No. 9,154, U.S. Pat. No. 4,175,956, rR
search Disclosure J 1982
216, pp. 117-118. The photoreceptor of the present invention is excellent in that even when various sensitizing dyes are used in combination, its performance does not easily change due to the sensitizing dye. Furthermore, if necessary, various conventionally known additives for electrophotographic photosensitive layers such as chemical sensitizers can be used in combination. For example, the above-mentioned review/imaging 1
9F 3 (No. 8), p. 12, etc., of the review citations for electron-accepting compounds (e.g., halogens, henzquinone, chloranil, acid anhydrides, organic carboxylic acids, etc.), Hiroshi Komon et al., "Recent Photoconductive Materials" and development of photoreceptors.
実用化」第4章〜第6章:日本科学情報(株)出版部(
1986年)の総説引例のポリアリールアルカン化合物
、ヒンダードフェノール化合物、P−フェニレンジアミ
ン化合物等が挙げられる。"Practical Application" Chapters 4 to 6: Japan Scientific Information Co., Ltd. Publishing Department (
Examples include polyarylalkane compounds, hindered phenol compounds, P-phenylenediamine compounds, etc. cited in the review of 1986).
これら各種添加剤の添加量は、特に限定的ではないが、
通常光導電体100重量部に対してo、ooot〜2.
0重量部である。The amount of these various additives added is not particularly limited, but
Normally o, ooot to 2.0% per 100 parts by weight of photoconductor.
It is 0 parts by weight.
光導電層の厚さは1〜100μ、特に10〜50μが好
適である。The thickness of the photoconductive layer is preferably 1 to 100 microns, particularly 10 to 50 microns.
また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷発
生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さ
は0.01〜1μ、特に0.05〜0.5μが好適であ
る。In addition, when a photoconductive layer is used as a charge generation layer of a photoconductor with a stacked structure of a charge generation layer and a charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is preferably 0.01 to 1μ, particularly 0.05 to 0.5μ. It is.
感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の改善等を主目
的として絶縁層を付設させる場合もある。In some cases, an insulating layer is added mainly for the purpose of protecting the photoreceptor, improving its durability, dark decay characteristics, etc.
この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。At this time, the insulating layer is set to be relatively thin, and when the photoreceptor is used for a specific electrophotographic process, the insulating layer provided is set to be relatively thick.
後者の場合、絶縁層の厚さは、5〜70μ、特には、1
0〜50μに設定される。In the latter case, the thickness of the insulating layer is between 5 and 70μ, in particular 1
It is set to 0 to 50μ.
積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリビニルカルハ
ソール、オキザゾール系色素、ビラプリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素などがある。Charge transport materials for the laminated photoreceptor include polyvinyl carhasol, oxazole dyes, birapurin dyes, triphenylmethane dyes, and the like.
電荷輸送層の厚さとしては5〜40μ、特には10〜3
0μが好適である。The thickness of the charge transport layer is 5 to 40 μm, particularly 10 to 3 μm.
0μ is suitable.
絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる樹脂としては
、代表的なものば、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ酸ビ共重合体樹脂、ポリアク
リル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、ポリエ
ステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹
脂の熱可塑性樹脂及び効果性樹脂が適宜用いられる。Typical resins used to form the insulating layer or charge transport layer include polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride copolymer resin, and polyvinyl chloride copolymer resin. Thermoplastic resins and effective resins such as acrylic resin, polyolefin resin, urethane resin, polyester resin, epoxy resin, melamine resin, and silicone resin are used as appropriate.
本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設ける
ことができる。一般に云って電子写真感光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチックシ
ート等の基本に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基本の裏面(感光層を設ける面と反対面
)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的
で少なく々も1層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が設
けられたもの、八を等を蒸着した基体導電化プラスチッ
クを紙にラミネートしたもの等が使用できる。The photoconductive layer according to the invention can be provided on a conventionally known support. Generally speaking, the support for the electrophotographic photosensitive layer is preferably electrically conductive.As the electrically conductive support, for example, metal, paper, plastic sheet, etc. are basically impregnated with a low-resistance substance, just as in the conventional case. those that have been subjected to conductive treatment, such as those that are coated with at least one layer for the purpose of imparting conductivity to the back side of the base (the side opposite to the side on which the photosensitive layer is provided) and preventing curling, etc. A water-resistant adhesive layer is provided on the surface of the support, at least one pre-coat layer is provided as necessary on the surface layer of the support, a conductive plastic base is coated with 8, etc. You can use paper laminated.
具体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例として、
坂本幸男、電子写真、14(No、1)、P2〜11(
1975)、森賀弘之、「入門特殊紙の化学」高分子刊
行会(1975)、M、 F、 Hoover、 J、
Macromol、 Sci。Specifically, examples of conductive substrates or conductive materials include:
Yukio Sakamoto, electronic photography, 14 (No, 1), P2-11 (
1975), Hiroyuki Moriga, “Introductory Special Paper Chemistry” Kobunshi Publishing (1975), M. F., Hoover, J.
Macromol, Sci.
Chem、 A 4 (6)、第1327〜第141
7頁(1970)等に記載されているもの等を用いる。Chem, A 4 (6), No. 1327-141
7 (1970) etc. is used.
(実施例)
以下に本発明の実施例を例示するが、本発明の内容がこ
れらに限定されるものではない。(Example) Examples of the present invention are illustrated below, but the content of the present invention is not limited thereto.
マクロモノマー(M)の合成例]:(M−1)トリフェ
ニルメチルメタクリレ−1・30g及びトルエン100
gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し一20°Cに
冷却した。1,1−ジフェニルブチルリチウム1.0g
を加え10時間反応した。Synthesis example of macromonomer (M): (M-1) Triphenylmethyl methacrylate 1.30 g and toluene 100
The mixed solution of g was thoroughly degassed under a nitrogen stream and cooled to -20°C. 1,1-diphenylbutyllithium 1.0g
was added and reacted for 10 hours.
更にこの混合溶液に、エチルメタクリレート70g及び
トルエン100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気
した後、添加し、更に10時間反応した。Further, a mixed solution of 70 g of ethyl methacrylate and 100 g of toluene was added to this mixed solution after sufficiently degassing under a nitrogen stream, and the mixture was reacted for further 10 hours.
この混合物を0°Cにした後炭酸ガスを60#lIl/
minの流量で30分間通気し、重合反応を停止させた
。After bringing this mixture to 0°C, add 60 #lIl/of carbon dioxide gas.
Aeration was carried out for 30 minutes at a flow rate of min to stop the polymerization reaction.
得られた反応液を攪拌下に、温度25°Cとし、2ヒド
ロキシ工チルメタクリレート6gを加え、更に、シシク
ロヘキシル力ルボジイミFL2g、4N、N−ジメチル
アミノピリジン1.0g及び塩化メチレン20gの混合
溶液を30分間で滴下し、そのまま3時間攪拌した。The resulting reaction solution was brought to a temperature of 25°C with stirring, and 6 g of 2-hydroxyl methacrylate was added, followed by a mixed solution of 2 g of cyclohexyl methacrylate FL, 1.0 g of 4N,N-dimethylaminopyridine, and 20 g of methylene chloride. was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was stirred for 3 hours.
析出した不溶物を濾別後、この混合溶液に、30%塩化
水素エタノール溶液10 mlを加え1時間攪拌した。After filtering out the precipitated insoluble matter, 10 ml of a 30% hydrogen chloride ethanol solution was added to the mixed solution, and the mixture was stirred for 1 hour.
次に、減圧下に反応混合物を全体量が半分になるまで溶
媒を留去した後、石油エーテル11中に再沈した。沈殿
物を補集し、減圧乾燥して得られた重合体は、Few
6.5XIO’で収量56gであっ(M−1)
lh
マクロモノマ−(M)の合成例2; (M−2)ヘンシ
ルメタクリレート5g1 (テトラフェニルボルフイナ
ート)アルミニウムメチルO,Ig及び塩化メチレン6
0gの混合溶液を窒素気流下に温度30°Cとした。こ
れに300に一キセノンランプ光をガラスフィルターを
通して25印の距離から光照射し、12時間反応した。Next, the solvent was distilled off from the reaction mixture under reduced pressure until the total volume was reduced to half, and then reprecipitated into petroleum ether 11. The polymer obtained by collecting the precipitate and drying it under reduced pressure is Few
6.5XIO', the yield was 56 g (M-1) lh Synthesis example 2 of macromonomer (M); (M-2) 5 g of hensyl methacrylate (tetraphenylborufinate) aluminum methyl O, Ig and methylene chloride 6
0 g of the mixed solution was brought to a temperature of 30° C. under a nitrogen stream. This was irradiated with 300 m xenon lamp light from a distance of 25 marks through a glass filter, and reacted for 12 hours.
この混合物に更にブチルメタクリレ−)45gを加え、
同様に8時間光照射した後、この反Tj5混合物に4−
ブロモメチルスチレン10gを加え、30分間攪拌し反
応を停止させた。Furthermore, 45 g of butyl methacrylate was added to this mixture,
After 8 hours of light irradiation, this anti-Tj5 mixture was irradiated with 4-
10 g of bromomethylstyrene was added and stirred for 30 minutes to stop the reaction.
次にこの反応混合物にPd−Cを加え、温度25°Cで
1時間接触還元反応を行なった。Next, Pd-C was added to this reaction mixture, and a catalytic reduction reaction was carried out at a temperature of 25°C for 1 hour.
不溶物を濾別した後石油エーテル500mR中に再沈し
、沈殿物を補集し乾燥した。得られた重合体は収量33
gで日w7×101であった。After filtering out insoluble matter, the mixture was reprecipitated into 500 mR of petroleum ether, and the precipitate was collected and dried. The obtained polymer had a yield of 33
g and day w7×101.
(M−2)
マクロモノマ−(M)の合成例3 : (M−3)4
−ビニルフェニルオキシトリメチルシラン20g及びト
ルエン100gの混合溶液を窒素気流下に、充分に脱気
し、0°Cに冷却した。1,1−ジフェニル3−メチル
ペンチルリチウム2gを加え、6時間攪拌した。更にこ
の混合物に2−クロロ−6メチルフ工ニルメタクリレー
ト80g及び1、ルエン100gの混合溶液を窒素気流
下に充分脱気した後、添加して8時間反応した。この反
応混合物に充分に攪(牛しながらエチレンオニトザイド
を30mR/minの流量で30分間通気した後、温度
15°Cに冷却しメタクリル酸クロライド12gを30
分間で滴下し、更にそのまま3時間攪拌した。(M-2) Synthesis example 3 of macromonomer (M): (M-3)4
-A mixed solution of 20 g of vinylphenyloxytrimethylsilane and 100 g of toluene was sufficiently degassed under a nitrogen stream and cooled to 0°C. 2 g of 1,1-diphenyl3-methylpentyllithium was added and stirred for 6 hours. Further, a mixed solution of 80 g of 2-chloro-6 methylphenyl methacrylate and 100 g of toluene was added to this mixture after sufficiently degassing under a nitrogen stream, and the mixture was reacted for 8 hours. After thoroughly stirring (while stirring) ethylene onitozide was aerated at a flow rate of 30 mR/min for 30 minutes, the reaction mixture was cooled to a temperature of 15°C, and 12 g of methacrylic acid chloride was added at 30 mR/min.
The mixture was added dropwise over a period of minutes, and the mixture was further stirred for 3 hours.
次にこの反応混合物に30%塩化水素エタノール溶液]
Ogを加え、25°Cで1時間攪拌した後、石油エーテ
ル1p中に再沈し、補集した沈殿物をジエヂルエーテル
300m1で2回洗浄し乾燥した。得られた重合体は、
収量55gでFtw7,8XIQ″であった。Next, add 30% hydrogen chloride ethanol solution to this reaction mixture]
After adding Og and stirring at 25°C for 1 hour, the mixture was reprecipitated into 1p of petroleum ether, and the collected precipitate was washed twice with 300ml of diethyl ether and dried. The obtained polymer is
The yield was 55g and Ftw7.8XIQ''.
(M〜3)
CIL+
マクロモノマー(M)の合成例4 : (M−/l)
トリフェニルメチルメタクリレート40g及びトルエン
100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−2
0°Cに冷却した。(M~3) Synthesis example 4 of CIL+ macromonomer (M): (M-/l)
A mixed solution of 40 g of triphenylmethyl methacrylate and 100 g of toluene was thoroughly degassed under a nitrogen stream, and -2
Cooled to 0°C.
5ec−ブチルリチウム2gを加え10時間反応した。2 g of 5ec-butyllithium was added and reacted for 10 hours.
次に、この混合?8液に、スチレン60g及びトルエン
100gの混合溶液を充分に窒素気流下で脱気した後、
添加し12時間反応した。この混合物をO′Cにした後
、ベンジルプロマイl”]、1.gを加え1時間反応し
、温度25°Cで更に2時間反応させた。Next, this mixture? After thoroughly degassing a mixed solution of 60 g of styrene and 100 g of toluene to the 8 liquid under a nitrogen stream,
The mixture was added and reacted for 12 hours. After the mixture was brought to O'C, 1.g of benzylpromyelin was added and reacted for 1 hour, and further reacted for 2 hours at a temperature of 25°C.
この反応混合物に30%塩水素含有エタノール溶液溶液
gを加え、2時間攪拌した。不)容器を濾別後、n−ヘ
キサンiff中に再沈し、沈殿物を補集して減圧乾燥し
た。得られた重合体の収量は58gTFiW4.5X1
03であった。To this reaction mixture, g of a 30% hydrogen chloride-containing ethanol solution was added, and the mixture was stirred for 2 hours. After the container was filtered, the precipitate was reprecipitated in n-hexane IF, and the precipitate was collected and dried under reduced pressure. The yield of the obtained polymer was 58g TFiW4.5X1
It was 03.
(M−4) し再び10時間光照射した。(M-4) Then, light was irradiated again for 10 hours.
得られた反応混合物に、2−イソシアナートエチルメタ
クリレ−1・12gを、温度30°Cで1時間で滴下し
、更に2時間攪拌した。To the obtained reaction mixture, 1.12 g of 2-isocyanatoethyl methacrylate was added dropwise at a temperature of 30° C. over 1 hour, and the mixture was further stirred for 2 hours.
得られた反応物をヘキサン1.5ρに再沈、補集し乾燥
した。得られた重合体ば、68 g T:〜6.O×1
03であった。The obtained reaction product was reprecipitated in 1.5 ρ of hexane, collected, and dried. The obtained polymer weighed 68 g T: ~6. O×1
It was 03.
(M−5)
CI+3
マクロモノマー(M)の合成例5:(M−5)フェニル
メタクリレ−1−70g、ヘンシル−Nヒドロキシルエ
チル−N−エチルジチオカーハノ−l・4.hの混合物
を、窒素気流下に容器に密閉し、温度60゛Cに加温し
た。これに400弱の高圧水銀灯で10cmの距離から
ガラスフィルターを通して、10時間光照射し光重合し
た。これにアクリル酸30g及びメヂルエチルケ1−ン
180gを加えた後、窒素置換樹脂[Alの合成例]、
:[A−1]
エチルメタクリレ−1・80g1マクロモノマー(M−
1)120g、)・ルエン150gの混合溶液を窒素気
流下に温度95゛Cに加温した。2.2’−アヅビス(
イソブチロニトリル)(AI[N) 6 gを加え3時
間反応し、更に2時間毎にA、1.−B、N 2 gを
加え反応した。(M-5) CI+3 Synthesis Example 5 of Macromonomer (M): (M-5) Phenylmethacryle-1-70g, Hensyl-N-hydroxylethyl-N-ethyldithiocarhano-1.4. The mixture of h was sealed in a container under nitrogen flow and heated to a temperature of 60°C. This was irradiated with light for 10 hours from a distance of 10 cm through a glass filter using a high-pressure mercury lamp of just under 400 liters for photopolymerization. After adding 30 g of acrylic acid and 180 g of methane, a nitrogen-substituted resin [synthesis example of Al],
:[A-1] Ethyl methacrylate-1・80g1 macromonomer (M-
1) A mixed solution of 120 g and 150 g of luene was heated to a temperature of 95°C under a nitrogen stream. 2.2'-Azubis (
Add 6 g of isobutyronitrile (AI[N) and react for 3 hours, and then add A, 1. -B, N2g was added and reacted.
得られた共重合体の隔は9XI03であった。The spacing of the obtained copolymer was 9XI03.
〔A
1〕
樹脂(A)の合成例2:l:A−2]
2−りr1r7フエニルメククリレー1−70g、マク
lvモ)マー (M−2)30g、n−ドデシルメルカ
プタン2g及びトルエン100gの混合溶液を窒素気流
下に温度80°Cに加温した。2,2′−アゾビス(イ
ソバレロニトリル) (AIVN) 3gを加え3
時間反応し、更にA、1.V、11.1 gを加え2時
間反応した。[A1] Synthesis Example 2 of Resin (A): l:A-2] 2-r1r7 phenylmerocryl 1-70 g, Maclvmo)mer (M-2) 30 g, n-dodecyl mercaptan 2 g, and A mixed solution of 100 g of toluene was heated to a temperature of 80° C. under a nitrogen stream. Add 3 g of 2,2'-azobis(isovaleronitrile) (AIVN) and add 3
time reaction, and further A, 1. V, 11.1 g was added and reacted for 2 hours.
次に ^、1.B、N、 1 gを加え温度90°Cに
加温して3時間反応した。得られた共重合体の隔は7.
6XIO’であった。Next ^, 1. 1 g of B and N were added, heated to 90°C, and reacted for 3 hours. The spacing of the obtained copolymer was 7.
It was 6XIO'.
(以下余白)
樹脂〔A〕の合成例3〜18 : fA−31〜[A4
8]樹脂〔A)の合成例Jと同様の重合条件で、エチル
メタクリレートを他の単量体に代えて下記表1の共重合
体を合成した。得られた各重合体のhは5×103〜9
XIO’であった。(Left below) Synthesis examples 3 to 18 of resin [A]: fA-31 to [A4
8] Copolymers shown in Table 1 below were synthesized under the same polymerization conditions as in Synthesis Example J of Resin [A), except that ethyl methacrylate was replaced with another monomer. h of each obtained polymer is 5 x 103~9
It was XIO'.
表−1
CII3CI+、+
x +y +20=100(重量比)
樹脂(A)の合成例19〜35 : [A−19]〜[
A−351樹〔A〕の合成例2において、マクロモノマ
ー(M−2)の代わりに他のマクロモノマー(M)を用
いた他は、合成例2と同様の重合条件で下記表−2の共
重合体を合成した。得られた各重合体の隔は2X10’
〜lXl0’であった。Table-1 CII3CI+, + x + y + 20 = 100 (weight ratio) Synthesis examples 19 to 35 of resin (A): [A-19] to [
In Synthesis Example 2 of A-351 tree [A], the polymerization conditions shown in Table 2 below were carried out under the same polymerization conditions as Synthesis Example 2, except that another macromonomer (M) was used instead of the macromonomer (M-2). A copolymer was synthesized. The distance between each polymer obtained is 2X10'
~lXl0'.
1〜2 び ”A−B
樹脂(A−1)6g(固形分量として)、下記構造の樹
脂CB−]、 ) 30g (固形分量として)、下記
構造のシアニン色素(1:] 0.018g、サリチル
酸0.1.5g及びトルエン300gの混合物をボール
ミル中で4時間分散し、更にグルタル酸無水物3gわ加
えボールミル中5分間分散して、感光層形成物を調製し
、ごれを導電処理した紙に、1>2燥イ」着量が25g
/ %となる様に、ワイヤーバーで塗布し、] 10
’Cで30秒間乾燥した後、更に120°Cで2時間加
熱した。ついで暗所で20°C65%R1+の条件下で
24時間放置することにより、電子写真感光材料を作製
した。1 to 2 "A-B Resin (A-1) 6g (as solid content), Resin CB- with the following structure], ) 30g (as solid content), Cyanine dye (1:) with the following structure 0.018g, A mixture of 0.1.5 g of salicylic acid and 300 g of toluene was dispersed in a ball mill for 4 hours, and 3 g of glutaric anhydride was further added and dispersed in a ball mill for 5 minutes to prepare a photosensitive layer-forming product, and conductive treatment was performed to remove dirt. 1>2 drying amount on paper: 25g
/% with a wire bar, ] 10
After drying at 120°C for 30 seconds, it was further heated at 120°C for 2 hours. Then, an electrophotographic light-sensitive material was prepared by leaving it for 24 hours at 20° C. and 65% R1+ in a dark place.
樹脂CB−1) シアニン色素(1) (CH2)4SO。Resin CB-1) Cyanine dye (1) (CH2)4SO.
(CI+2) 4SO3に
実施例2
実施例1において、樹脂[A−1) 6 g(7)代わ
りに、樹脂[A−2〕6g(固形分量として)を用いた
他は、実施例1と同様に操作して、電子写真感光写真材
料を作製した。(CI+2) Example 2 for 4SO3 Same as Example 1 except that 6 g (as solid content) of resin [A-2] was used instead of 6 g (7) of resin [A-1] in Example 1. An electrophotographic light-sensitive photographic material was produced by the following steps.
北較尉A:
実施例1において、樹脂[A−1)6gの代わりに下記
に示す樹脂[R−1)6gを用いる以外は、実施例1と
同様の操作で、電子写真感光材料を作製した。Kitakyou A: An electrophotographic light-sensitive material was produced in the same manner as in Example 1, except that 6 g of resin [R-1] shown below was used instead of 6 g of resin [A-1]. did.
[R−1)
CI(3C1(:1
十011□−C−)■「□+C++Z−C±「 (重
量比)COOC211s COCooH6X
IO3(ランダム共重合体)
此t]澹W;
実施例1において、樹脂(A−1)6gの代わりに下記
に示す樹脂〔R−2〕6gを用いる以外は、実施例]と
同様の操作で、電子写真感光材料を作製した。[R-1) CI(3C1(:1 1011□-C-)■"□+C++Z-C±" (Weight ratio) COOC211s COCooH6X
IO3 (random copolymer) [T] 澹W; Same operation as in Example] except that 6 g of resin [R-2] shown below was used instead of 6 g of resin (A-1) in Example 1. An electrophotographic light-sensitive material was prepared.
(R−2) C1l。(R-2) C1l.
1100cmCI+。−5−(CI+ 2−C)−−C
OOC2115
Mw 8.0X103
これらの感光材料について、静電特性、撮像性及び環境
条件(20°C165%R11)及び(30°C180
%RH)とした時の撮像性を調べた。1100cmCI+. -5-(CI+ 2-C)--C
OOC2115 Mw 8.0
%RH) was investigated.
以上の結果をまとめて表−3に示す。The above results are summarized in Table 3.
(以下余白)
■
■
表−3に示した評価項目の実施の態様は以下の通りであ
る。(Left below) ■ ■ The implementation of the evaluation items shown in Table 3 is as follows.
注1)静電特性:
温度20°C165%R11の暗室中で、各感光材料に
ペーパーアナライザー(川口電機Q菊製ペーパーアナラ
イザー5P−428型)を用いて一6kvで20秒間コ
ロナ放電させた後、10秒間放置し、この時の表面電位
V、。を測定した。次いでそのまま暗中で90秒間静置
させた後の電位V100を測定し、90秒間暗減衰させ
た後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率CDIIR(
り )を(V+oo/Lo) X100(%)で求めた
。Note 1) Electrostatic properties: After each photosensitive material was subjected to corona discharge at -6kV for 20 seconds using a paper analyzer (Kawaguchi Electric Q Kiku Paper Analyzer 5P-428 model) in a dark room at a temperature of 20°C and 165% R11. , left for 10 seconds, and the surface potential at this time is V. was measured. Next, the potential V100 was measured after being allowed to stand still in the dark for 90 seconds, and the retention of the potential after dark decay for 90 seconds, that is, the dark decay retention rate CDIIR (
) was determined by (V+oo/Lo) x100 (%).
又コロナ放電により光導電層表面を一400■に帯電さ
せた後、該光導電層表面をガリウム−アルミニウムーヒ
素半導体レーザー(発振波長780nm)光で照射し、
表面電位(V+O)が1/10に減衰するまでの時間を
求め、これから露光tE+z+o(erg/CA)を算
出する。又、同様に表面電位(V+。)が1 /100
に減衰するまでの時間を求め、これから露光量E1z+
oo(erg/cJ)を算出する。測定時の環境条件は
、20°C65%R11(1)と30°C980%R1
1(II)で行なった。Further, after the surface of the photoconductive layer is charged to -400 μm by corona discharge, the surface of the photoconductive layer is irradiated with light from a gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength: 780 nm).
The time required for the surface potential (V+O) to attenuate to 1/10 is determined, and exposure tE+z+o (erg/CA) is calculated from this time. Similarly, the surface potential (V+) is 1/100
Find the time it takes for the light to attenuate and calculate the exposure amount E1z+ from this
Calculate oo(erg/cJ). The environmental conditions at the time of measurement were 20°C 65% R11 (1) and 30°C 980% R1.
1 (II).
注2)撮像性:
各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した後、各感
光材料を一6kVで帯電し、光源として2.8m−出力
のガリウム−アルミニウム−ヒ素、半導体レーザー(発
振波長780nm )を用いて、感光材料表面」−で5
0erg/cJの照射量下、ピッチ25μl及びスキャ
ニング速度300m/seeのスピード露光後液体現像
剤として、ELP−T (富士写真フィルム■製)を用
いて現像し、定着することで得られた複写画像(カブリ
、画像の画質)を目視評価した。Note 2) Imaging performance: After leaving each photosensitive material for one day and night under the following environmental conditions, each photosensitive material was charged at -6kV and used as a light source with a 2.8m-output gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength 780nm) at the surface of the photosensitive material.
Copied image obtained by developing and fixing using ELP-T (manufactured by Fuji Photo Film ■) as a liquid developer after exposure under an irradiation dose of 0 erg/cJ, a pitch of 25 μl, and a scanning speed of 300 m/see. (Fog, image quality) were visually evaluated.
撮像時の環境条件は20°C65%1711 (1)と
30°C80%R11(II)で実施した。The environmental conditions during imaging were 20°C, 65% 1711 (1) and 30°C, 80% R11 (II).
表−3に示す様に、本発明の感光材料は、静電特性が良
好で、実際の複写画像も地力ブリがなく複写画質も鮮明
であった。一方比較例A、Bは、帯電電位(V+O)の
低下あるいは、光感度(IEI/+o及びE+/+Oo
)の低下が生し、実際の複写画像でも画像の濃度(DH
)の低下、それによる細線・文字等のカスレ、地力ブリ
の発生が生してしまった。As shown in Table 3, the photosensitive material of the present invention had good electrostatic properties, and the actual copied images had no blurring and the quality of the copied images was clear. On the other hand, in Comparative Examples A and B, the charging potential (V+O) decreased or the photosensitivity (IEI/+o and E+/+Oo
), and even in actual copied images, the image density (DH
), which resulted in fading of fine lines, letters, etc., and the occurrence of burrs.
特に、本発明の感光体と比較例の感光体とてはE+z+
oo値が大きく異なる。E、7.。。値は、実際の撮像
性において、露光後、非画像部(既に露光された部位)
にどれだけの電位が残っているかを示すものであり、こ
の値が小さい程現像後の非画像部の地汚れが生じなくな
る事を示す。In particular, the photoreceptor of the present invention and the photoreceptor of the comparative example are E+z+
oo values are significantly different. E, 7. . . The value is the non-image area (already exposed area) after exposure in actual imaging performance.
This value indicates how much potential remains in the image, and the smaller this value is, the less background smear will occur in the non-image area after development.
具体的には一10V以下の残留電位にすることが必要と
なり、即ち実際には■、l−10V以下とするために、
どれだけ露光量が必要となるかということで、半導体レ
ーザー光によるスギャンニング露光方式では、小さい露
光量で■8を一10V以下にするごとは、複写機の光学
系の設計」二(装置のコスト、光学系光路の精度等)非
常に重要なことである。Specifically, it is necessary to make the residual potential below -10V, that is, in order to actually make it below -10V,
How much exposure is required? In the scanning exposure method using semiconductor laser light, it is important to reduce , accuracy of the optical system optical path, etc.) is very important.
以」二のことより、本発明の樹脂を用いた場合にのみ静
電特性を満足する電子写真感光体が得られる。From the above two points, an electrophotographic photoreceptor that satisfies the electrostatic properties can be obtained only when the resin of the present invention is used.
更に、本発明の樹脂を用いた場合においても、特定の置
換基を有するメタクリレート成分を含有する樹脂〔A〕
から成る実施例2の方が実施例1に比べてより静電特性
が向上し、特に半導体レザー光スキヤニング露光方式の
感光体システムにイ憂位になることが明らかとなった。Furthermore, even when the resin of the present invention is used, the resin [A] containing a methacrylate component having a specific substituent
It has become clear that Example 2, consisting of the following, has better electrostatic properties than Example 1, and is particularly useful for semiconductor laser optical scanning exposure type photoreceptor systems.
実施例3
樹脂(A −19] 5.4g (固形分量として)、
下記構造の樹脂CB −2) 30.6g 、酸化亜鉛
200g、下記構造のシアニン色素(II ’J O,
018g及びトルエン300gの混合物をボールミル中
で4時間分散した。Example 3 Resin (A-19) 5.4g (as solid content),
Resin CB-2) with the following structure: 30.6 g, zinc oxide: 200 g, cyanine dye with the following structure (II'J O,
A mixture of 018 g and 300 g of toluene was dispersed in a ball mill for 4 hours.
更に、これに1,3−ギシリレンジイソシアナート2.
5gを加えてボールミル中5分間分散した。これを導電
処理した紙に、乾燥付着量が22g/ nTとなる様に
、ワイヤーバーで塗布し、]00°Cで30秒間乾燥し
た。ついで120°Cで1.5時間加熱した。Furthermore, 1,3-gysilylene diisocyanate 2.
5 g was added and dispersed in a ball mill for 5 minutes. This was applied to electrically conductive treated paper using a wire bar so that the dry adhesion amount was 22 g/nT, and dried at 00°C for 30 seconds. It was then heated at 120°C for 1.5 hours.
ついで暗所で20°C165%R11の条件下で24時
間放置することにより、電子写真感光材料を作製した。Then, an electrophotographic light-sensitive material was prepared by leaving it for 24 hours in a dark place at 20° C. and 165% R11.
樹脂(B−2)
Mw 3.8 XIO’
(重量比)
シアニン色素〔■]
表
C4119CdL
この感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、静電特性、撮
像性、印刷性及び環境条件を30’C,80%R1+と
した時の静電特性、撮像性及び印刷性を調べた。Resin (B-2) Mw 3.8 'C, 80% R1+, the electrostatic properties, imaging properties, and printability were investigated.
結果を表−4に示す。The results are shown in Table 4.
(以下余白)
表−4に示した評価項目の実施の態様は以下の通りであ
る。(The following is a blank space) The manner in which the evaluation items shown in Table 4 are implemented is as follows.
注3)表面層の平滑性:
得られた感光材料は、ヘンク平滑度試験機(熊谷理工■
製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑度(
sec/cc)を測定した。Note 3) Smoothness of surface layer: The obtained photosensitive material was tested using a Henk smoothness tester (Kumagai Riko).
The smoothness (
sec/cc) was measured.
注4)光導電層の機械的強度:
得られた感光材料をヘイトン−14型表面製試験祠(新
来化学■製)を用いて児荷重70g/cm2/のちので
エメリー紙(11000)で500回繰り返し探り摩耗
粉を取り除き感光層の重量減少から残膜率(χ)を求め
機械的強度とした。Note 4) Mechanical strength of photoconductive layer: The obtained photosensitive material was tested using a Heyton-14 type surface tester (manufactured by Shinrai Kagaku ■) with a weight of 70 g/cm2/later with emery paper (11000) at 500 g/cm2. The residual film ratio (χ) was determined from the weight loss of the photosensitive layer by repeatedly removing abrasion powder and using it as mechanical strength.
注5)水との接触角:
各感光材料を不感脂化処理液EPL−EX (富士写真
フィルム■製)を蒸留水で2倍に希釈した溶液を用いて
、エツチングプロセッサーに1回通して光導電層面を不
感脂化処理した後、これに蒸留水2Alの水滴を乗せ、
形成された水との接触角をゴニオメータ−で測定する。Note 5) Contact angle with water: Each photosensitive material is exposed to light by passing it through an etching processor once using a solution prepared by diluting the desensitizing liquid EPL-EX (manufactured by Fuji Photo Film) twice with distilled water. After desensitizing the surface of the conductive layer, droplets of 2Al distilled water were placed on it,
The formed contact angle with water is measured with a goniometer.
注6)耐刷性:
各感光材料を、前記性2)の撮像性と同条件にして、製
版して、トナー画像を形成し、上記性5)と同条件で不
感脂化処理し、これをオフセットマスターとして、オフ
セット印刷機(桜井製作所■オリバー52型)にかけ、
印刷物の非画像部の地汚れ及び画像部の画質に問題が生
しないで印刷できる枚数を示す(印刷枚数が多い程、耐
剛性が良好なことを表わす)。Note 6) Printing durability: Each photosensitive material is plate-made to form a toner image under the same conditions as the imaging performance in property 2) above, and then desensitized under the same conditions as property 5) above. As an offset master, apply it to an offset printing machine (Sakurai Seisakusho Oliver 52 model),
It indicates the number of prints that can be printed without causing problems with background stains in non-image areas and image quality in image areas of printed matter (the higher the number of prints, the better the rigidity resistance).
表−4に示す様に、本発明の感光材料は、光導電層の平
滑性膜の機械的強度及び静電特性が良好で、実際の複写
画像も地力ブリがなく複写画質も鮮明であった。このこ
とは光導電体と結着樹脂が充分に吸着し、且つ、粒子表
面を被覆していることによるものと推定される。同様の
理由で、オフセントマスター原版として用いた場合でも
不感脂化処理液による不感脂化処理が充分に進行し、非
画像部の水との接触角が10度以下と小さく、充分に親
水化されていることが判る。実際に印刷して印刷物の地
汚れを観察しても地汚れは全く認められず、鮮明な画質
の印刷物が一万枚得られた。As shown in Table 4, in the photosensitive material of the present invention, the smooth film of the photoconductive layer had good mechanical strength and electrostatic properties, and the actual copied images had no blurring and the quality of the copied images was clear. . This is presumed to be due to the photoconductor and the binder resin being sufficiently adsorbed and covering the particle surface. For the same reason, even when used as an offset master original, the desensitization treatment with the desensitization treatment liquid progresses sufficiently, and the contact angle with water in the non-image area is as small as 10 degrees or less, making it sufficiently hydrophilic. It is clear that it has been done. When actually printing and observing the background smudges on the printed matter, no background smudge was observed, and 10,000 prints with clear image quality were obtained.
以上の事は、樹脂(A)の作用を疎外することなく、樹
脂〔B〕あるいは樹脂CB)と架橋剤の働きによって、
膜の強度を著しく向上させていることを示すものである
。The above can be achieved by the action of resin [B] or resin CB) and crosslinking agent without alienating the action of resin (A).
This shows that the strength of the film has been significantly improved.
実施例4〜11
実施例3において、樹脂[A−In2.4g、樹脂CB
−2’J 30.6g及び架橋剤としての1,3−キ
シリレンジイソシアナ−1・2.5gの代わりに下記表
5の各樹脂及び架橋剤を各々用い、又、シアン色素CB
)の代わりに下記構造のシアニン色素〔D〕を0.02
0g用いた他は、実施例3と同様にし゛CC悪感光材料
作製した。Examples 4 to 11 In Example 3, resin [A-In 2.4 g, resin CB
In place of 30.6 g of -2'J and 1.2.5 g of 1,3-xylylene diisocyanate as a crosslinking agent, each resin and crosslinking agent shown in Table 5 below was used, and cyan dye CB
) with 0.02 cyanine dye [D] having the following structure.
A CC photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 3, except that 0 g was used.
シアニン色素CD)
C2Hs C2II 5実施例
3と同様にして、各特性を測定した。表5には(30°
C580%RH)条件下の静電特性を示した。Cyanine dye CD) C2Hs C2II 5 In the same manner as in Example 3, each characteristic was measured. Table 5 shows (30°
The electrostatic properties under C580%RH) condition were shown.
本発明の各感光材料は帯電性、暗電荷保持率、光感度に
優れ、実際の複写画像を高温高湿(30”C180%R
11)の過酷な条件においても地力ブリの発生や細線飛
びの発生等のない鮮明な画像を与えた。Each of the photosensitive materials of the present invention has excellent chargeability, dark charge retention, and photosensitivity, and can be used at high temperatures and high humidity (30" C180% R
11) Even under the harsh conditions described above, clear images were produced without any occurrence of ground blur or fine line skipping.
オフセットマスター原版として印刷した所、いずれも、
地汚れのない、鮮明な画像の印刷物を一万枚以上印刷で
きた。Any place printed as an offset master master plate,
It was possible to print more than 10,000 sheets with clear images and no background smudges.
実施例12〜I5
下記の表−6樹脂(A)6g、下記表−6の樹脂(B)
X群18g、酸化亜鉛200g、前記ンアニン色素(A
)0.018g、及びトルエン300gの混合物をボー
ルミル中で3時間分散した。Examples 12 to I5 6 g of resin (A) in Table 6 below, resin (B) in Table 6 below
Group X 18g, zinc oxide 200g,
) and 300 g of toluene were dispersed in a ball mill for 3 hours.
これに下記表−6の樹脂(B)Y群を12g加え、ボー
ルミル中10分間更に分散した。これを導電処理した紙
に、乾燥付着量が20g/m2となる様にワイヤーパー
で塗布し、100°Cで15秒間加熱した後、120°
Cで2時間更に加熱した。次いで、20°C165%R
Hの条件下で24時間放置することにより電子写真感光
材料を作製した。To this was added 12 g of Resin (B) Group Y shown in Table 6 below, and further dispersed in a ball mill for 10 minutes. This was applied to conductive-treated paper using a wire spar so that the dry adhesion amount was 20 g/m2, heated at 100°C for 15 seconds, and heated to 120°C.
Further heating was performed at C for 2 hours. Then, 20°C 165%R
An electrophotographic light-sensitive material was prepared by leaving it for 24 hours under H conditions.
本発明の各感光材料はいずれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿(30°C8
80%RH)の過酷な条件においても、地力ブリの発生
のない鮮明な画像を得た。Each of the photosensitive materials of the present invention has chargeability, dark charge retention,
It has excellent light sensitivity, and the actual copied images can be produced even under high temperature and high humidity (30°C8).
Even under the harsh conditions of 80% RH), clear images with no soil burr were obtained.
更に、これをオフセントマスター原版として用いて印刷
した所、一方杖でも鮮明な画質の印刷物を得た。Furthermore, when this was used as an off-cent master original plate for printing, a print with clear image quality was obtained even with a cane.
実施例J6
樹脂[A−15] 6 g、下記樹脂CB −15)
18g、酸化亜鉛200g、ローズヘンガルを0.50
g、テトラブロムフェノールブルーを0.25 g 、
ウラニンをo、3og及びトルエンを240g混合し、
ボールミル中で4時間分散した。これに下記の樹脂(B
−15)12gを加え、5分間分散した。これを導電処
理した紙に、乾燥付着量が20 g 7m2となる様に
ワイヤーバーで塗布し、110°Cで30秒間加熱した
後、120゛Cで2時間加熱した。次いで、20℃、6
5%R11の条件下で24時間放置することにより電子
写真感光材料を作製した。Example J6 Resin [A-15] 6 g, following resin CB-15)
18g, zinc oxide 200g, rose hengal 0.50g
g, 0.25 g of tetrabromophenol blue,
Mix 3 og of uranine and 240 g of toluene,
Dispersion was carried out in a ball mill for 4 hours. Add the following resin (B
-15) 12g was added and dispersed for 5 minutes. This was applied to electrically conductive treated paper using a wire bar so that the dry adhesion amount was 20 g (7 m2), heated at 110°C for 30 seconds, and then heated at 120°C for 2 hours. Then, 20℃, 6
An electrophotographic light-sensitive material was prepared by leaving it for 24 hours under the condition of 5% R11.
樹月旨 (B−15) C1h CIL。Jugetsuji (B-15) C1h CIL.
+CHz−C−hT−fC1lz C−h−COOC
H2C6H5C00(C112)20CO(CI+2)
2COOIIMw 3.OXIO’ (重量組成比)
実施例1と同様にして、各特性を測定したところ以下の
結果が得られた。+CHz-C-hT-fC1lz C-h-COOC
H2C6H5C00(C112)20CO(CI+2)
2COOIIMw 3. OXIO' (weight composition ratio)
When each characteristic was measured in the same manner as in Example 1, the following results were obtained.
光導電層の平滑性: 430(cc/5ec)光導電
層の強度 :97%
撮像性;(20°C165χR11)及び(30’C,
80χR1+) イずれの条件でも、良好な複写画像を
得た。Smoothness of photoconductive layer: 430 (cc/5ec) Strength of photoconductive layer: 97% Imaging property: (20°C165χR11) and (30'C,
80χR1+) A good copy image was obtained under both conditions.
耐刷性:1万枚まで良好な印刷画像を得た。Printing durability: Good printed images were obtained up to 10,000 sheets.
以上の様に、本発明の感光材料は優れた電子写真特性と
高耐刷性を得ることができた。As described above, the photosensitive material of the present invention was able to obtain excellent electrophotographic properties and high printing durability.
但し、静電特性及び撮像性は以下の通りに行なった。However, electrostatic properties and imaging performance were determined as follows.
静電特性:
温度20゛C165%R11の暗室中で、各感光材料に
ペバーアナライサー(川口電機(株)製ペーパーアナラ
イザー5P−428型)を用いて6kVで20秒間コロ
ナ放電をさせた後、10秒間放置し、この時の表面電位
VIGを測定した。次いでそのまま暗中で60秒間静置
した後の電位V70を測定し、60秒間暗減衰させた後
の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率(DRR(χ)]
を、(V7o/V+o) X100(χ)で求めた。Electrostatic properties: After each photosensitive material was subjected to corona discharge for 20 seconds at 6 kV using a Pever Analyzer (Paper Analyzer 5P-428 model manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd.) in a dark room at a temperature of 20°C, 165% R11. , and the surface potential VIG at this time was measured. Next, the potential V70 was measured after leaving it in the dark for 60 seconds, and the retention of the potential after dark decaying for 60 seconds, that is, the dark decay retention rate (DRR (χ))
was determined by (V7o/V+o)X100(χ).
又、コロナ放電により光導電層表面を一400Vに帯電
させた後、該光導電層表面を照射2,0ルツクスの可視
光で照射し、表面電位(V+O)が1710に減衰する
までの時間を求め、これから露光量El/In(ルンク
ス秒)を算出する。In addition, after the surface of the photoconductive layer is charged to -400 V by corona discharge, the surface of the photoconductive layer is irradiated with visible light of 2.0 lux, and the time required for the surface potential (V + O) to attenuate to 1710 V is determined. From this, the exposure amount El/In (runx seconds) is calculated.
撮像性:
感光材料の製版は、全自動製版機ELP404V(富士
写真フィルム(株)製)でE L P−Tをトナーとし
て用いて、トナー画像を形成した。Imaging properties: The plate making of the photosensitive material was carried out using a fully automatic plate making machine ELP404V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) using E L PT as a toner to form a toner image.
実施例17及び18
樹脂(A−3)及び[A−21)各7g、下記表7の樹
脂[I3]各29g、酸化亜鉛200g、ウラニンo、
o2g、ローズヘンガル0.04g、ブロムフェノール
ブルー0.03 g及びトルエン300gの混合物を、
ボールミル中で4時間分散して感光層形成物を調整し、
これを導電処理した紙に、乾燥付着量が25g /m2
となる様にワイヤーバーで塗布し、] 10 ’Cで1
分間乾燥した。次に、高圧水銀灯で3分間露光した後、
次いで暗所で20°C165%R1+の条件下で24時
間放置することにより各電子写真感光体を作製した。得
られた感光体の特性を表−8に示した。Examples 17 and 18 7 g each of resins (A-3) and [A-21], 29 g each of resin [I3] in Table 7 below, 200 g of zinc oxide, uranine o,
A mixture of 2 g of o, 0.04 g of rose hengal, 0.03 g of bromophenol blue, and 300 g of toluene,
Disperse in a ball mill for 4 hours to prepare a photosensitive layer formed product,
The dry adhesion amount is 25g/m2 on conductive treated paper.
Apply it with a wire bar so that it becomes 1 at 10'C.
Dry for a minute. Next, after exposure for 3 minutes with a high-pressure mercury lamp,
Next, each electrophotographic photoreceptor was prepared by leaving it for 24 hours at 20° C. and 165% R1+ in a dark place. The characteristics of the obtained photoreceptor are shown in Table 8.
(以下余白)
本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿の(30°
C−80%RH)の過酷な条件においても、地力ブリの
発生のない、鮮明な画像を与えた。(Left below) The photosensitive material of the present invention has chargeability, dark charge retention,
It has excellent light sensitivity, and the actual copied images can be used even under high temperature and high humidity conditions (30°).
Even under the harsh conditions of (C-80% RH), clear images were produced with no soil blurring.
更に、これをオフセントマスターの原版として用いて、
印刷した所、8500〜9000枚でも鮮明な画質の印
刷物を得た。Furthermore, using this as the original version of Offcent Master,
Even when printing 8,500 to 9,000 sheets, prints with clear image quality were obtained.
実施例19〜27
結着樹脂として、下記表−9に記した樹脂〔A〕5.4
g及び樹脂(B ) 30.6g 、酸化亜鉛200g
、ローズヘンガル0.05g 、テトラブロムフェノー
ルブルー0.03g、ウラニン0.02g及びトルエン
240gの?捏合物をボールミル中で4時間分散した。Examples 19 to 27 As a binder resin, resin [A] 5.4 shown in Table 9 below was used.
g and resin (B) 30.6g, zinc oxide 200g
, Rose Hengal 0.05g, Tetrabromophenol Blue 0.03g, Uranine 0.02g and Toluene 240g? The mixture was dispersed in a ball mill for 4 hours.
この分散物に下記表−9の架橋剤を所定量添加し、更に
、ボールミル中で5分間分散した。これを導電処理した
紙に、乾燥付着量20 g /mi!となる様にワイヤ
バーで塗布し110’cで30秒間加熱し、後、120
°Cで2時間加熱した。次いで20°C165%RHの
条件下で24時間放置することにより電子写真感光材料
を作製した。A predetermined amount of the crosslinking agent shown in Table 9 below was added to this dispersion, and the mixture was further dispersed in a ball mill for 5 minutes. The dry adhesion amount on conductive-treated paper was 20 g/mi! Apply with a wire bar and heat at 110'C for 30 seconds.
Heated at °C for 2 hours. Next, an electrophotographic light-sensitive material was prepared by leaving it for 24 hours at 20° C. and 165% RH.
本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿の(30°
C−80%R1+)の過酷な条件においても、地力ブリ
の発生のない、鮮明な画像を与えた。The photosensitive material of the present invention has chargeability, dark charge retention,
It has excellent light sensitivity, and the actual copied images can be used even under high temperature and high humidity conditions (30°).
Even under the harsh conditions of C-80%R1+), clear images were provided without any ground blurring.
更に、これをオフセットマスターの原版として用いて印
刷した所、8000枚の所でも鮮明な画質の印刷物を得
た。Furthermore, when printing was performed using this as an original plate for an offset master, prints with clear image quality were obtained even after printing 8,000 sheets.
(発明の効果)
本発明によれば、静電特性(とくに厳しい条件下での静
電特性)に優れた、鮮明で良質な画像を有する電子写真
感光体を得ることができる。特に半導体レーザー光を用
いたスキャニング露光方式に有効である。(Effects of the Invention) According to the present invention, it is possible to obtain an electrophotographic photoreceptor that has excellent electrostatic properties (especially electrostatic properties under severe conditions) and has clear and high-quality images. This is particularly effective for scanning exposure methods using semiconductor laser light.
また、とくに樹脂[A]において、式(Ha)及び/又
は(nb)で示される単量体から成る重合成分をマクロ
モノマー(M)とともに用いることにより更に電子写真
特性が向上する。Further, in particular, in the resin [A], the electrophotographic properties are further improved by using a polymerization component consisting of a monomer represented by the formula (Ha) and/or (nb) together with the macromonomer (M).
更に、熱及び/又は光硬化性官能基を本発明の樹脂に含
有させることにより得られる電子写真感光体の機械的強
度が増大する。Furthermore, the mechanical strength of the electrophotographic photoreceptor obtained is increased by incorporating a thermally and/or photocurable functional group into the resin of the present invention.
更に、本発明の樹脂を熱及び/又は光硬化性樹脂、及び
/又は架橋剤と併用することによっても、電子写真感光
体の機械的強度が増大する。Furthermore, the mechanical strength of the electrophotographic photoreceptor can also be increased by using the resin of the present invention in combination with a heat and/or photocurable resin and/or a crosslinking agent.
Claims (3)
る光導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹
脂が下記樹脂〔A〕の少なくとも1種と熱及び/又は光
硬化性樹脂〔B〕及び架橋剤のうちの少なくともいずれ
か1つとを含有して成ることを特徴とする電子写真感光
体。 樹脂〔A〕; −PO_3H_2基、−COOH基、−SO_3H基、
フェノール性OH基、▲数式、化学式、表等があります
▼基{Rは炭化水素基又は−OR′基(R′は炭化水素
基を示す)を示す}及び環状酸無水物含有基から選択さ
れる少なくとも1つの酸性基を含有する重合体成分を少
なくとも1種含有するAブロックと、下記一般式( I
)で示される重合体成分を少なくとも含有するBブロッ
クとから構成されるA・Bブロック共重合体のBブロッ
クの重合体主鎖の末端に重合性二重結合基を結合して成
る一官能性マクロモノマー(M)を少なくとも1種共重
合成分として含有する重量平均分子量1×10^3〜2
×10^4のグラフト型共重合体。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式( I )中、a_1及びa_2はそれぞれ水素原子
、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。 V_1は−COO−、−OCO−、▲数式、化学式、表
等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼(
l_1、l_2は1〜3の整数を 表わす)、−O−、−SO_2−、−CO−、▲数式、
化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があ
ります▼、−CONHCOO−、−CONHCONH−
又は▲数式、化学式、表等があります▼を表わす(ここ
でZ_1は水素原子又は炭化水素基を表わす)。 R_1は、炭化水素基を表わす。但しV_1が▲数式、
化学式、表等があります▼を表わす場合、R_1は水素
原子又は炭化水素基を表わす。〕(1) In an electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductive material and a binder resin, the binder resin includes at least one of the following resins [A] and a heat and/or photocurable resin [ B] and at least one of a crosslinking agent. Resin [A]; -PO_3H_2 group, -COOH group, -SO_3H group,
Selected from phenolic OH groups, ▲mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ groups {R represents a hydrocarbon group or -OR' group (R' represents a hydrocarbon group)} and cyclic acid anhydride-containing groups. A block containing at least one kind of polymer component containing at least one acidic group, and the following general formula (I
) and a B block containing at least a polymer component represented by Weight average molecular weight 1 x 10^3 to 2 containing at least one macromonomer (M) as a copolymerization component
×10^4 graft type copolymer. General formula (I) ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. are available▼ [In formula (I), a_1 and a_2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or a hydrocarbon group. V_1 is -COO-, -OCO-, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(
l_1, l_2 represent integers from 1 to 3), -O-, -SO_2-, -CO-, ▲ Formula,
There are chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, -CONHCOO-, -CONHCONH-
Or ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (here, Z_1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group). R_1 represents a hydrocarbon group. However, V_1 is ▲formula,
There are chemical formulas, tables, etc. When representing ▼, R_1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. ]
基を含有する繰り返し単位を重合体成分として1〜30
重量%含有する事を特徴とする請求項(1)に記載の電
子写真感光体。(2) The resin [A] further contains 1 to 30 repeating units containing heat and/or photocurable functional groups as a polymer component.
The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the electrophotographic photoreceptor contains % by weight.
とともに、下記一般式(IIa)及び一般式(IIb)で示
される単量体のうちの少なくとも1種を共重合成分とし
て30重量%以上含有する事を特徴とする請求項(1)
又は(2)記載の電子写真感光体。 一般式(IIa) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式(IIb) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、X_1及びX_2は互いに独立に、それぞれ水
素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原子、臭素
原子、−COZ_3又は−COOZ_3(Z_3は各々
炭素数1〜10の炭化水素基を示す)を表わす。但し、
X_1とX_2がともに水素原子を表わすことはない。 L_1及びL_2はそれぞれ−COO−とベンゼン環を
結合する、単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表
わす。〕(3) In the resin [A], the macromonomer (M)
Claim (1) characterized in that it contains at least 30% by weight of at least one of the monomers represented by the following general formula (IIa) and general formula (IIb) as a copolymerization component.
Or the electrophotographic photoreceptor described in (2). General formula (IIa) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ General formula (IIb) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, X_1 and 10 hydrocarbon groups, chlorine atom, bromine atom, -COZ_3 or -COOZ_3 (Z_3 each represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms). however,
Both X_1 and X_2 do not represent hydrogen atoms. L_1 and L_2 each represent a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms that connects -COO- to the benzene ring. ]
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15172590A JPH0444047A (en) | 1990-06-12 | 1990-06-12 | Electrophotographic sensitive body |
| DE69118417T DE69118417T2 (en) | 1990-01-19 | 1991-01-18 | Photosensitive electrophotographic material |
| EP91100595A EP0439072B1 (en) | 1990-01-19 | 1991-01-18 | Electrophotographic light-sensitive material |
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Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP15172590A Pending JPH0444047A (en) | 1990-01-19 | 1990-06-12 | Electrophotographic sensitive body |
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|---|---|
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-
1990
- 1990-06-12 JP JP15172590A patent/JPH0444047A/en active Pending
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