JPH0444610A - 複合型薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気ディスク、ＶＴＲなどの磁気記録装置に用
いられ、高密度磁気記録に好適な複合型薄膜磁気ヘッド
およびその製造方法に関する。

〔従来の技術〕

従来、磁気ヘッド先端部を：加工する場合、特開昭５２
−１４４１０号公報やアイ・イー・イー・イー、トラン
ザクション　オン　マグネチツクノ、。

エム　ニー　ジー１４．、（１９７８年）第５０３頁か
ら第５０５頁（ＩＥＥＥ、Ｔ＋ｄｎｓ、ｏ＋）Ｍａｇｎ
ｅｔｉｃｓ。

ＭＡら−１４（１９７８）円）５０３・５０５）　、お
よび信学技軸８８゜３０５　（１９８８年）第３：３頁
から第：３８頁において論じられているように、薄膜磁
気ヘッドの動作間隙を構成する部分の両側を部分的に１
ツチング法等により削除して整形し２．トラック幅の精
度向上１図っている。

また、磁気抵抗効果を利用した磁気ヘッドにおいては、
特開昭５９−３０２２３号公報にも示されているが、信
号取出し導体な摺動向（記録媒体と対向する面）に露出
させた構造となっている。

ところが、このように信号取出し導体を摺動面に露出さ
せていると、摺動ノイズの増加や信号取出し導体の断線
といった不具合が発生し易い。これを改善するために、
特開昭５８．−３７８３５号・公報、特開昭５８−１１
５６２２号公報および特開昭６０−６９８０７号公報に
は、信号取出し導体を摺動面に露出させない構造の磁気
ヘッドが示されている。

さらに、特開昭５８−１１５６２２号公報には、信号取
出し導体を摺動面に露出させないで、かつ信号取出し導
体の上面だけに絶縁層を設け、その上から新たにＭＲ膜
まで覆う絶縁層を設けて断差部の絶縁性を高めた磁気ヘ
ッドが示されている。

またさらに、特開昭６０−６１２号公報には、信号取出
し導体を摺動面に露出させないで、かつ磁気抵抗効果素
子に磁気抵抗変化率が小さくなる領域を設けることによ
り、トラック幅を規制して隣接トラックからの漏洩信号
を低減させるようにした磁気ヘッドが示されている。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで、近年、記録密度が高くなったことに伴い、広
い領域に記録して狭い領域で再生することにより、隣接
トラックからの信号磁界の再生を防ぎ情報再生の信頼性
を向上させる、いわゆる広幅記録狭幅再生（ワイドライ
ト　ナローリード）の技術が注目されている。

しかしながら、上記従来技術では、トラック幅が１０μ
ｍ以下になった場合には、記録ヘッド（誘導型ヘッド）
と再生ヘッドとのトラック幅方向の位置合わせ精度が低
下してしまうために、広幅記録狭幅再生の磁気ヘッドを
現実化することができないという問題がある。

また、上記従来技術では、再生ヘッドに磁気抵抗効果素
子を用いた場合、信号取出し導体の形状および磁気抵抗
効果素子の磁区構造について配慮がされておらず、磁区
構造の変動に伴うバルクハウゼンノイズが発生するとい
う問題もある。

本発明の目的は、記録ヘッドと再生ヘッドとのトラック
幅方向の位置合わせ精度を向上させた複合型薄膜磁気ヘ
ッドを提供することである。

また、本発明の他の目的は、再生ヘッドに磁気抵抗効果
素子を用いた場合でも、ノイズ発生が少ない複合型薄膜
磁気ヘッドを提供することである。

また、本発明の更に他の目的は、上記した複合型薄膜磁
気ヘッドの製造方法を提供することである。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するために、本発明は、記録ヘッドと再
生ヘッドが分離されて基板上に形成された複合型薄膜磁
気ヘッドにおいて、前記記録ヘッドと再生ヘッドのトラ
ック幅方向両隅部を切り取って両ヘッドの摺動面側を凸
形にしたものである。

ここで、記録ヘッドは磁気誘導型ヘッドであり、再生ヘ
ッドは磁気誘導型ヘッドまたは磁気抵抗効果型ヘッドで
ある。

また、本発明は、磁気シールド膜、絶縁のためのギャッ
プ膜、磁気抵抗効果膜、および該磁気抵抗効果膜に電流
を流すための電極膜からなる磁気抵抗効果型ヘッドを基
板上に設けるとともに、上部磁性膜、下部磁性膜、絶縁
のためのギャップ膜、導体膜、および該導体膜を絶縁す
る絶縁膜からなる磁気誘導型ヘッドを前記磁気抵抗効果
型ヘッドの上面に積層し、かつ該磁気誘導型ヘッドの上
面を保護材で覆った複合型薄膜磁気ヘッドにおいて、前
記磁気抵抗効果型ヘッドと磁気誘導型ヘッドのトラック
幅方向両隅部を切り取って、磁気抵抗効果型ヘッドと磁
気誘導型ヘッドの摺動面側を凸形にしたものである。

また１本発明は、上部磁性膜、下部磁性膜、絶縁のため
のギャップ膜、導体膜、および該導体膜を絶縁するＭ縁
膜からなる磁気誘導型ヘッドを基板上に設けるとともに
、磁気シールド膜、絶縁のためのギャップ膜、磁気抵抗
効果膜、および該磁気抵抗効果膜に電流を流すための電
極膜からなる磁気抵抗効果型ヘッドを前記磁気誘導型ヘ
ッドの上面に積層し、かつ該磁気抵抗効果型ヘッドの上
面を保護材で覆った複合型薄膜磁気ヘッドにおいて、前
記磁気誘導型ヘッドと磁気抵抗効果型ヘッドのトラック
幅方向両隅部を切り取って、磁気誘導型ヘッドと磁気抵
抗効果型ヘッドの摺動面側を凸形にしたものである。

また１本発明は、上記複合型薄膜磁気ヘッドのいずれか
を磁気記録装置に搭載したことである。

さらに、本発明は、基板上に記録ヘッドと再生ヘッドを
分離して形成した後に、フォーカスド・イオン・ビーム
技術を用いて、摺動面側または保護材側から前記記録ヘ
ッドと再生ヘッドのトラッり幅方向両隅部を一括して切
り取り、前記両ヘッドの摺動面側を凸形にすることによ
り、複合型薄膜磁気ヘッドを製造するようにしたことで
ある。

〔作用〕

記録再生を兼用した誘導型の薄膜磁気ヘッドでは、記録
の場合には、面記録密度が一平方インチ当り１５０メガ
ビツトになると記録される側の記録媒体の保磁力は１５
００工ルステツド以上になる。これは、記録媒体の保磁
力が小さい場合に高記録密度になると反磁界の影響が大
きいために記録状態を保持できなくなるからである。し
かし、高保磁力の記録媒体になると、薄膜磁気ヘッドの
磁性膜厚を厚くしなければならない。

一方、再生の場合には、記録密度の向上により線記録密
度も４０キロビット以上になる。このときに、再生波形
の隣接ビットとの干渉を避けるために薄膜磁気ヘッドの
磁性膜厚を薄くしなければならない。

このように、記録再生兼用の薄膜磁気ヘッドでは高記録
密度化の点で限界があり、記録ヘッドと再生ヘッドと分
離した複合型薄膜磁気ヘッドが必要になる。

そして、この複合型薄膜磁気ヘッドには、記録ヘッドに
厚い磁性膜の磁気誘導型を、再生ヘッドに薄い磁性膜の
磁気誘導型をそれぞれ用いたものと、記録ヘッドに厚い
磁性膜の磁気誘導型を、再生ヘッドに磁気抵抗効果型を
それぞれ用いたものとがある。磁気抵抗効果型のヘッド
とは、磁気抵抗効果素子（ＭＲ素子）の抵抗が印加され
た磁場に対して変化することを利用したものであり、こ
の抵抗変化を電圧変化として再生する。

このような複合型薄膜磁気ヘッドにおいて、記録ヘッド
と再生ヘッドを形成した後に、−括してトラック幅を加
工して摺動面側を凸形にすることにより、記録ヘッドと
再生ヘッドとの位置合わせ精度が向上し、記録された情
報をトラックずれすることなく再生することができると
ともに、再生時に隣接トラックからの信号磁界の影響を
受けることがなくなり、信号対雑音比（Ｓ／Ｎ比）を向
上させることができる。

また、再生ヘッドに磁気抵抗効果型のヘッドを用いた場
合、再生ヘッドから信号を取り出す導体を磁性体とすれ
ば、磁気抵抗効果型のヘッドの磁区を安定にすることが
でき、ノイズの出現を抑えることができる。

〔実施例〕

以下に本発明の一実施例を図面に従って説明する。

第１図は本発明の複合型薄膜磁気ヘッドを中央で縦に切
断した場合の斜視図、第２図は第１図の磁気ヘッドを矢
印Ａ方向からみた場合の要部拡大図である。図に示すよ
うに、セラミック系基板１０に下地層（ＡＱ、Ｏ，）１
１がスパッタされ、その上に下部ｉｌ気シールド材（Ｎ
ｉＦｅ）１６がパターニングされている。下部磁気シー
ルド材１６の上には、ギャップ材（ＡＱ２０３）１３、
磁気抵抗効果素子２．電極ｌ、ギャップ材１４が膜付は
パターニングされている。さらに、ギャップ材１４の上
には、誘導型記録ヘッドの下部磁性膜３、ギャップ材１
２．上部磁性膜４が膜付はパターニングされ、最上面は
保護材７で覆われている。ここで、図に示す磁気ヘッド
では左斜め下の端面が摺動面であり、記録媒体はこの摺
動面に沿って下から上へ移動する。また図に示した矢印
方向がトラック幅方向である。

そして、本実施例の特徴は、摺動面に溝が形成されてい
ることである。図に示した磁気ヘッドは左側半分だけで
、実際にはこれに右側半分が一体化されて１つの磁気ヘ
ッドが構成されており、右側半分の摺動面にも同様に溝
が形成されている。

つまり、２つの溝に挾まれた部分については、磁気ヘッ
ドの摺動面はトラック幅方向両隅部が切り取られて凸形
状に整形されている。この整形の大きさは、摺動面に垂
直な方向に０．１〜２μｍの切込量で、トラック幅方向
に０．１〜２μｍだけ切り取られている。

次に磁気抵抗効果素子２の詳細について第３図を用いて
説明する。

図において、実線で示した凸形形状は磁気抵抗効果素子
２の外形を表わしている。凸形形状の突山部上面は摺動
面であり、その摺動面の左右方向の長さがトラック幅と
なっている。このトラック幅は記録密度からその大きさ
が設定される。記録媒体は摺動面に対向した位置にあり
、摺動面から所定の浮上量を保持して紙面垂直方向に移
動している。また磁気抵抗効果素子２の両側端部には電
極１が設けられ、この電極１はその先端が摺動面からｇ
ｌだけヘッド後部（図の下方）へ後退した位置に配置さ
れている。なお、電極１を摺動面に接するように配置す
ると、トラック幅は１０μｍ以下なのに電極部分は５μ
ｍ以上あって隣接トラックからの信号磁界を読み取る恐
れがあり、また電極１を摺動面から離し過ぎると、信号
磁界を抵抗変化に変換する効率が悪化するために、ｇｉ
は０．１〜２μｍの値が適正な範囲である。

また、２つの電極１間の間隔は、トラック幅の両側にｇ
ｃ　（＝０．２μｍ）を加えた大きさとなっている。こ
のように、電極１間の間隔をトラック幅よりも長くすれ
ば、磁気抵抗効果素子２の抵抗が大きくなり、その分、
抵抗変化も大きくなるので信号磁界に対する再生出力を
高めることができる。

さらに、磁気抵抗効果素子２の摺動面側突出部は、その
幅がどこでもトラック幅と同じ幅となる形状にしたので
、摺動面側からヘッドを加工していった場合にトラック
幅の精度向上に役立っている。

なお、磁気抵抗効果素子２の形状は凸形に限らず、摺動
面側突出部の両側にある。トラック幅方向に沿った面を
、第４図（ａ）および（ｂ）のように、一定の曲率を持
った曲面にしてもよい。

次に磁気抵抗効果素子の他の例について第５図乃至第９
図を用いて説明する。

まず、第５図では磁気抵抗効果素子２と電極１が一体的
に形成されている。これは、磁気抵抗効果素子２の薄膜
（１００〜１０００人）を電極１の形状も含めた状態で
パターニングし、その後に軟磁性体の電極１を０．１〜
１μｍ程度膜付はパターニングしたものである。

このような構成によれば、磁気抵抗効果素子２内を矢印
のように流れる電流ｌにより、信号磁界による磁気抵抗
膜の抵抗変化を読み取ることができる。

第６図では磁気抵抗効果素子２と電極１が一体的に形成
されていて、この点は第５図の場合と同様であるが、第
６図では更に磁気抵抗効果素子２の反摺動面側（図の右
側）が電極１間に挟まれた構成となっている。これも、
第５図のときと同様にして膜をパターニングすることに
より製造できる。

このような構成によれば、電流工は磁気抵抗効果素子２
内を矢印のように最短距離で流れるようになり、磁気抵
抗効果素子２の摺動面側は抵抗変化を読み取れなくなっ
て、信号磁界を導くための案内部分となる。これにより
、記録媒体との摺動による抵抗変化への影響が小さくな
るため、安定した再生信号を得ることができる。

第７図では、磁気抵抗効果素子２のトラック幅方向の距
離を電極１間の距離（電極の外側部分から外側部分まで
の距離）よりも短くした構造となっている。

このように、トラック幅方向について、例えば一方の電
極１の幅が５μｍ程度であって、磁気抵抗効果素子２の
抵抗変化検知部分の幅を１０μｍ以下にした場合、隣接
トラックからの信号磁界による影響を少なくすることが
でき、検出感度の低下を防ぐことができる。すなわち、
従来のように、磁気抵抗効果素子上に抵抗変化検知部分
のトラック幅１０μｍを残して電極（Ｃｒ／ｃｕが使用
されている）を付けた構造では、磁気抵抗効果による磁
性体の抵抗変化を検出できるのは電流が流れているトラ
ック１１１１１０μｍの部分だけであるが。

信号磁界は隣接トラックからも出ているため、この信号
磁界を電極の下の磁気抵抗効果素子で感磁してしまい、
抵抗変化に影響を及ぼす。しかも。

電極は２つあるので、両方の場合を合わせると電極の下
の磁気抵抗効果素子で検出する信号磁界と。

抵抗変化検知部分で検出する信号磁界とが同程度になり
、検出感度が大幅に低下してしまう、これに対し、上記
構成のものでは磁気抵抗効果素子のトラック幅方向の距
離を短くシ、かつ電極の先端位置を後退させた構造にし
たので、隣接トラックからの信号磁界による影響が少な
くなり、検出感度を向上させることができる。

また、第８図のように、磁気抵抗効果素子２と電極１と
の接合部分に曲率を設けるようにしても同様な効果が得
られる。更にこのようにすれば。

製造上便利であるとともに耐久性を向上させることもで
きる。

第９図では、電極１は、その先端が摺動面に４敢して磁
気抵抗効果素子２上に設けられ、トラック幅方向の両端
が電極１の外側部分から所定量だけ削除された構成とな
っている。削除された箇所の摺動面からの奥行きｇ、は
０．１〜２μｍ程度である。なお１図においては、電極
１には摺動面に達する部分が一部に残されているが、こ
の部分をすべて削除してもよい。

このような構成によれば、第６図のときと同様に、電流
Ｉは磁気抵抗効果素子２内を矢印のように最短距離で流
れるので、安定した再生信号を得ることかできるととも
に、第７図と第８図のときと同様に、磁気抵抗効果素子
２の抵抗変化検知部分の幅を短くすることができ、隣接
トラックからの信号磁界による影響を少なくして検出感
度の向上を図ることができる。

次に本発明の複合型薄膜磁気ヘッドの他の実施例を説明
する。

前述した第１図の磁気ヘッドでは磁気抵抗効果素子２を
上部磁性膜と下部磁性膜の下方に設けたが、第１０図に
示すように、磁気抵抗効果素子２を上部磁性膜と下部磁
性膜の上方に設けることもできる。すなわち、第１０図
は磁気ヘッドを摺動面側からみた図であるが、図のよう
に、セラミック系基板１０に下地層（Ａｇ２Ｏ，）１１
がスパッタされ、その上の誘導型記録ヘッドの下部磁性
膜３、ギャップ材（Ａｆｉ、Ｏ，）１２．上部磁性膜４
゜ギャップ材１３が膜付はパターニングされている。

さらに誘導型記録ヘッドの上部には磁気抵抗効果素子２
、電極１、ギャップ材１４、磁気シール材１５がパター
ニングされ、最上面は保護材７で覆われている。

次に本発明の複合型薄膜磁気ヘッドを搭載した磁気記録
装置の一例について説明する。

第１１図は磁気ディスク装置の概略構成図である０図に
おいて、容器２０の内部には、ヘッド・ディスク・アッ
センブリ（以下、ＨＤＡという）２１と、ドライブ回路
および電源が入ったケース２２と、計算機およびインタ
ーフェースが入ったケース２３とが収納されている。Ｈ
ＤＡ２１は８個あって、それらは４個ずつ二段に分けら
れて設置され、そのＨＤＡ２１の各々にケース２２が接
続されている。容器２０は、底面が一辺０．５〜１．５
ｍの略正方形をなし、高さが約２ｍである。

−組のＨＤＡ２１とケース２２について、その詳細を示
したのが第１２図である。ＨＤＡ２１の内部には、スピ
ンドル３０に固定された５枚の磁気ディスク３１と、ス
ピンドル３０を回転駆動するモータ３２と、データ用磁
気ヘッド（これに本発明の複合型薄膜磁気ヘッドが用い
られる）３３および位置決め用磁気ヘッド３４を磁気デ
ィスク３１の半径方向へ移動するキャリッジ３５と、ボ
イスコイル３６およびマグメット３７からなりキャリッ
ジ３５を制御するボイスコイルモータ３８とが収納され
ている。そして、スピンドル３０、モータ３２、キャリ
ッジ３５およびボイスコイルモータ３８はベース３９に
配設されている。またケース２２の内部には、位置決め
用磁気ヘッド３４に接続されボイスコイルモータ３８を
制御するボイスコイルモータ制御回路４０と、データ用
磁気ヘッド３３に接続されたライト／リード回路４１と
、このライト／リード回路４１に接続されたインターフ
ェース４２とが収納されている。なお、インターフェー
ス４２は外部にある上位装置（例えばコンピュータシス
テム）４３に接続される。

磁気ディスク３１は、第１３図に示すように、アルミナ
等の非磁性円盤５０の片面または両面に磁性体層５１が
設けられたものである。磁性体層５１の表面には多数の
トラック溝が形成されている。磁気ディスク３１は矢印
の方向へ回転しており、その表面上にはスライダ５２に
取り付けられたデータ用磁気ヘッド３３が浮上している
。なお、図中、符号λは記録波長を、符号Ｔｐはトラッ
クピッチを、ｔは磁気ヘッド３３の浮上量を、各々示し
ている。

磁気ヘッド３３の面記録密度は一平方インチ当り１５０
〜４００メガビツトである。トラック密度は１インチ当
り３０００トラック以上とすることが望ましく、線記録
密度は１インチ当り５０キロビツト以上とすることが望
ましい。そして、これらの線記録密度とトラック密度の
範囲内で、両者の積である面密度記録を前述のように１
５０〜４００メガビツトとすることが望ましい。このよ
うにすることにより、ディスク径を著しく大きくするこ
となく記録密度を高めることができる。

記録密度が増大し情報の記録容量が大になってもデータ
転送速度がその分遅くなったのでは、利用価値が少ない
。データ転送速度を４．５〜９メガバイト／秒とすれば
、データの出し入れを速やかに行うことができる。この
データ転送速度はディスクの周速と線記録密度の積で決
まる。線記録密度は１インチ当り５０キロビツトである
から、データ転送速度４．５〜９メガバイト／秒は、直
径５．０〜１１インチのディスクの場合、ディスク回転
数を３５０Ｏｒｐｍ以上とすることにより実現できる。

この３５００ｐｐｍという回転数は、通常の磁気ディス
ク装置において採用されている一般的な回転数であり、
実現が極めて容易である。

なお第１２図では、１つのスピンドル３０に固定された
磁気ディスク３１の枚数は５枚であったが、これに限定
されるものではなく何枚であってもよい、またこのよう
に１つのスピンドル３ｏに磁気ディスク３１を固定した
ものを複数個設置してもよい。

次に本発明の複合型薄膜磁気ヘッドの製造方法の一例に
ついて説明する。ここでは、再生ヘッドに磁気抵抗効果
素子を用いた磁気ヘッドの場合について第１４図を用い
て述べる。まずセラミック系基板に下地層（Ａ１□０よ
）をスパッタリングしくステップ１００）、磁気シール
ド材（ＮｉＦｅ）をスパッタリングした後に、それをイ
オンミリングにより磁気シールド形状にパターンニング
する（ステップ１０１）、その上に第１絶縁材料（Ａ１
２０、）をスパッタリングする（ステップ１ｏ２）。次
に磁気抵抗効果素子を形成しくステップ１０３）、その
上に電極材（Ｔｉ／Ａｕ）スパッタリングしくステップ
１０４）、それをイオンミリングにより電極形状にパタ
ーンニングする（ステップ１０５）、さらに、第２絶縁
材料（Ａ１２０．）をスパッタリングしくステップ１０
６）、磁気シールド材（ＮｉＦｅ）をスパッタリングし
た後に。

それをイオンミリングにより磁気シールド形状にパター
ンニングする（ステップ１０７）、そして、第２絶縁材
料を端子形状にして穴を作成しくステップ１０８）を誘
導型薄膜磁気ヘッドを形成する（ステップ１０９）。こ
のようにしてできた磁気ヘッドをスライダ形状に加工（
ステップ１１０）した後に、フォーカスド・イオン・ビ
ーム（ＦＩＢ）技術等を用いて、摺動面側または保護材
側からトラック幅方向両隅部を一括して切り取って、記
録ヘッドと再生ヘッドの摺動面側を凸形に整形する（ス
テップ１１１）。

記録ヘッドと再生ヘッドの上下関係が逆の場合でも、上
記のようにフォーカスド・イオン・ビーム技術等を用い
て、トラック幅方向両隅部を切り取って、摺動面側を凸
形に整形することができる。

なお、磁気抵抗効果素子と信号取出し用の導体との接触
部はスルーホールを介して接続し、そのスルーホールの
絶縁膜としてフォトレジストを使用する。

また、再生ヘッドに磁気誘導型ヘッドを用いた場合には
、磁気誘導型ヘッドの上部磁性膜と下部磁性膜を１〜２
μｍ程度にするだけでよく、摺動面側を凸形に整形する
には、上記と同様にフォーカスド・イオン・ビーム技術
等を用いればよい。

〔発明の効果〕

以上説明したように１本発明によれば、記録ヘッドと再
生ヘッドの摺動面側を凸形にしたので、記録ヘッドと再
生ヘッドとの位置合わせ精度が向上するとともに、隣接
トラックからの信号磁界の影響を受けることがなくなり
、低ノイズ化を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の複合型薄膜磁気ヘッドを中央で縦に切
断した場合の斜視図、第２図は第１図の磁気ヘッドを矢
印Ａ方向から見た場合の要部拡大図、第３図は磁気抵抗
効果素子の形状を示す平面図、第４図は磁気抵抗効果素
子の他の形状を示す要部拡大図、第５図乃至第９図は磁
気抵抗効果素子の他の例を示し、第５図と第６図はその
斜視図、第７図、第８図および第９図はその平面図、第
１０図は本発明の複合型薄膜磁気ヘッドの他の実施例を
示す要部拡大図、第１１図は磁気記録装置の概略構成図
、第１２図はヘッド・ディスク・アッセンブリとその制
御回路の概略構成図、第１３図は磁気ディスク上にある
磁気ヘッドの様子を示す要部斜視図、第１４図は本発明
の複合型薄膜磁気ヘッドの製造手順を示すフローチャー
トである。 １・・・電極部、２−・・磁気抵抗効果素子、３・・・
下部磁性膜、４・・・上部磁性膜、５・・・絶縁膜、６
・・・導体、７・・・保護材、 １０・・・セラミック系基板、１１・・・下地層、１２
〜１４・・・ギャップ材、 １５．１６・・・磁気シールド材、 ３１・・・磁気ディスク、３３・・・データ用磁気ヘッ
ド、３４・・・位置決め用磁気ヘッド、３５・・・キャ
リッジ、３６・・・ボイスコイル、３７・・・マグネッ
ト、３８・・・ボイスコイルモータ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、記録ヘッドと再生ヘッドが分離されて基板上に形成
   された複合型薄膜磁気ヘッドにおいて、前記記録ヘッド
   と再生ヘッドのトラック幅方向両隅部を切り取って両ヘ
   ッドの摺動面側を凸形にしたことを特徴とする複合型薄
   膜磁気ヘッド。 ２、記録ヘッドと再生ヘッドが分離されて基板上に形成
   され、該記録ヘッドと再生ヘッドが共に磁気誘導型ヘッ
   ドで構成された複合型薄膜磁気ヘッドにおいて、 前記記録ヘッドと再生ヘッドのトラック幅方向両隅部を
   切り取って両ヘッドの摺動面側を凸形にしたことを特徴
   とする複合型薄膜磁気ヘッド。 ３、記録ヘッドと再生ヘッドが分離されて基板上に形成
   され、前記記録ヘッドが磁気誘導型ヘッドで、前記再生
   ヘッドが磁気抵抗効果型ヘッドでそれぞれ構成された複
   合型薄膜磁気ヘッドにおいて、 前記記録ヘッドと再生ヘッドのトラック幅方向両隅部を
   切り取って両ヘッドの摺動面側を凸形にしたことを特徴
   とする複合型薄膜磁気ヘッド。 ４、請求項１、２又は３記載の複合型薄膜磁気ヘッドに
   おいて、 前記記録ヘッドと再生ヘッドのトラック幅方向両隅部は
   、摺動面側から０．１〜２μｍの切込量で切り取られて
   いることを特徴とする複合型薄膜磁気ヘッド。 ５、請求項１又は３記載の複合型薄膜磁気ヘッドにおい
   て、 前記再生ヘッドに電流を流す電極を、前記摺動面より後
   退させて内側に設けたことを特徴とする複合型薄膜磁気
   ヘッド。 ６、磁気シールド膜、絶縁のためのギャップ膜、磁気抵
   抗効果膜、および該磁気抵抗効果膜に電流を流すための
   電極膜からなる磁気抵抗効果型ヘッドを基板上に設ける
   とともに、上部磁性膜、下部磁性膜、絶縁のためのギャ
   ップ膜、導体膜、および該導体膜を絶縁する絶縁膜から
   なる磁気誘導型ヘッドを前記磁気抵抗効果型ヘッドの上
   面に積層し、かつ該磁気誘導型ヘッドの上面を保護材で
   覆った複合型薄膜磁気ヘッドにおいて、前記磁気抵抗効
   果型ヘッドと磁気誘導型ヘッドのトラック幅方向両隅部
   を切り取って、磁気抵抗効果型ヘッドと磁気誘導型ヘッ
   ドの摺動面側を凸形にしたことを特徴とする複合型薄膜
   磁気ヘッド。 ７、上部磁性膜、下部磁性膜、絶縁のためのギャップ膜
   、導体膜、および該導体膜を絶縁する絶縁膜からなる磁
   気誘導型ヘッドを基板上に設けるとともに、磁気シール
   ド膜、絶縁のためのギャップ膜、磁気抵抗効果膜、およ
   び該磁気抵抗効果膜に電流を流すための電極膜からなる
   磁気抵抗効果型ヘッドを前記磁気誘導型ヘッドの上面に
   積層し、かつ該磁気抵抗効果型ヘッドの上面を保護材で
   覆った複合型薄膜磁気ヘッドにおいて、 前記磁気誘導型ヘッドと磁気抵抗効果型ヘッドのトラッ
   ク幅方向両隅部を切り取って、磁気誘導型ヘッドと磁気
   抵抗効果型ヘッドの摺動面側を凸形にしたことを特徴と
   する複合型薄膜磁気ヘッド。 ８、請求項６又は７記載の複合型薄膜磁気ヘッドにおい
   て、 前記磁気抵抗効果型ヘッドと磁気誘導型ヘッドのトラッ
   ク幅方向両隅部は、摺動面側から０．１〜２μｍの切込
   量で切り取られていることを特徴とする複合型薄膜磁気
   ヘッド。 ９、請求項６又は７記載の複合型薄膜磁気ヘッドにおい
   て、 前記磁気抵抗効果型ヘッドに電流を流す電極を、前記摺
   動面より後退させて内側に設けたことを特徴とする複合
   型薄膜磁気ヘッド。 １０、請求項９記載の複合型薄膜磁気ヘッドにおいて、 前記電極を軟磁性薄膜で形成したことを特徴とする複合
   型薄膜磁気ヘッド。 １１、請求項１〜１０のいずれかに記載の複合型薄膜磁
   気ヘッドを搭載したことを特徴とする磁気記録装置。 １２、基板上に記録ヘッドと再生ヘッドを分離して形成
   した後に、フォーカスド・イオン・ビーム技術を用いて
   、摺動面側または保護材側から前記記録ヘッドと再生ヘ
   ッドのトラック幅方向両隅部を一括して切り取り、前記
   両ヘッドの摺動面側を凸形にすることを特徴とする複合
   型薄膜磁気ヘッドの製造方法。