JPH0444701B2 - - Google Patents

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JPH0444701B2
JPH0444701B2 JP58019822A JP1982283A JPH0444701B2 JP H0444701 B2 JPH0444701 B2 JP H0444701B2 JP 58019822 A JP58019822 A JP 58019822A JP 1982283 A JP1982283 A JP 1982283A JP H0444701 B2 JPH0444701 B2 JP H0444701B2
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electro
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light
optical
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Kazuyuki Nagatsuma
Kazumasa Takagi
Hiroyoshi Matsumura
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Hitachi Ltd
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Hitachi Cable Ltd
Hitachi Ltd
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/03Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on ceramics or electro-optical crystals, e.g. exhibiting Pockels effect or Kerr effect

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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は電気光学効果を利用した電界測定装置
に係り、特に電気光学効果用媒質としてBi4Ge3
O12,Bi4Si3O12,Bi4(Ge,Si)3O12などのユーリ
タイト(eulytite)構造を有する電気光学結晶を
利用することにより温度特性を良好にし測定感度
を高くしたものである。 〔従来技術〕 電気光学効果(ポツケルス効果、Pockels
effect)を利用した電界測定装置における電気光
学効果用媒質には、従来、主として電圧測定用と
して使用されてきたKDP(KH2PO4),ADP
(NH4H2PO4),LiNbO3,LiTaO3などの電気光
学結晶が採用されているが、これらを用いたとき
は、測定装置の温度特性が悪かつた。最近、上記
の電気光学結晶のかわりに、Bi12Sio20,Bi12
GeO20,Bi4Si3O12またはBi4Ge3O12単結晶を使用
すると温度特性が改善されることが指摘されてい
る(特開昭56−100364および特開昭57−20669)。
しかしながら、上記Bi12SiO20またはBi12GeO20
結晶は、電気光学効果とともに、自然旋光能(直
線偏光が通過するとき偏光面を回転させる性質)
を有しており、素子長さを長くすると電気光学効
果と相殺することになり、素子長さを長くしても
大きな電気光学効果を生じさせることができず、
また、比誘電率も40〜60程度と比較的大きいた
め、電界検出感度が小さく、特に低電界での測定
に支障をきたすという問題があり、さらに、比誘
電率が大きいことは測定すべき電界分布を乱すこ
とになり、正しい電界分布の測定を難しくすると
いう問題があつた。また、特開昭57−20669号公
報には、Bi4Si3O12またはBi4Ge3O12により形成さ
れた電気光学結晶を用いる電界測定器が開示され
ているが、素子長さと電界検出感度との相関関係
について触れられていなかつた。本発明は特に、
ユーリタイト構造の電気光学結晶を用いた電界測
定装置において、高感度を得られる素子長を規定
するものである。すなわち、後に第3図を用いて
説明するごとく、自然旋光能を持たないユーリタ
イトと、従来の自然旋光能を有する電気光学結晶
とでは感度の特性曲線が異なり、単に素子材料を
置換するのみでは高感度を得ることができない。 〔発明の目的〕 本発明の目的は、電界の測定感度が大きく、温
度特性も良好で、かつ、測定電界を乱さない光方
式電界測定装置を提供することにある。 〔発明の概略〕 本発明の特徴は、光方式の電界測定装置におい
て、電気光学効果用媒質として、Bi4Ge3O12
Bi4Si3O12,Bi4(Ge,Si)3O12などのユーリタイト
構造を有する電気光学結晶を用いると共に、この
電気光学結晶の光の伝搬方向における長さを、ユ
ーリタイト構造を有する電気光学結晶での素子長
さlにおける変調率と点群23に属する構造を有す
る電気光学結晶での素子長さlにおける変調率と
が等しくなる条件から決まる素子長さl以上とす
ることにある。 従来用いられてきたBi12SiO20,Bi12GeO20は結
晶構造が32種類の結晶群中の点群23に属し、とも
に、約10deg/mmという大きな旋光能を有してい
る。これに対し、本願発明において採用しようと
するBi4Si3O12,Bi4Ge3O12などのユーリタイト構
造を有するる電気光学結晶は点群43mに属し、旋
光能を持たない。また、Bi12SiO20,Bi12GeO20
比誘電率はそれぞれ56,40程度と大きいのに対
し、Bi4Ge3O12のそれは、約16でありBi12SiO20
Bi12GeO20に比べ約1/3.5〜1/2.5と小さい。Bi4
Si3O12及び他のユーリタイト構造を有する電気光
学結晶の比誘電率もBi4Ge3O12と同程度と推定さ
れる。 第1表に、上記4種の単結晶の屈折率n0、ポツ
ケルス定数r41、比誘電率ε、旋光能θの値を示
す。第1表は、浜崎他:電子通信学会通信学技
報、OQE80−4;久間他:電気学会「第2回セ
ンサの基礎と応用」シンポジウム(1982,5.27)
講演予稿p15;R.E.Adrich et al:J.Appl.Phys,
42(1971)p493;D.P.Bortfeld et al:J.Appl.
Phys,43(1972)p5110から転記または推定した
ものである。 【表】 〔発明の実施例〕 具体的な実施例の説明に入る前に、まず基本と
なる関係式について述べる。電界センサ素子の電
界検出感度を比較する手段として、センサ素子の
大きさに比べて十分距離が離れた電極板間に電界
センサが挿入された時のセンサの信号出力対無信
号出力の比を変調率と定義する。 まず、光の伝搬方向と電界の印加方向が同一で
ある縦型変調方式の電界センサを取上げる。第1
図に、電界方向をEで表わし、その基本構成を示
す。1は偏光子、2は1/4波長板、3は電界検出
素子、4は検光子である。光の伝搬方向(即ち電
界の印加方向)での素子の長さをl、外部電界の
大きさをE0、使用する光の自由空間での波長を
λとするとき、素子にかかる電圧Vは、近似的に V=l/εE0 ……(1) と表わされ、素子を通過する光の位相がπ変化す
るのに要する電圧(半波長電圧)Vπは Vπ=
λ/2n0 3r41 ……(2) である。ε,n0,r41はそれぞれ、素子の比誘電
率、屈折率、ポツケルス定数である。第1図にお
いて、偏光子1及び1/4波長板2により円偏光を
作り、これを電界検出素子3に入射する。電界検
出素子3の結晶方位と検光子4の偏光方向を最適
化すると出力I0は入力光Iiに対し I0=Ii/2(1+πV/Vπ sing/g) ……(3) と表わされる。 ここで、変調率mは、前述のように、I0の無信
号出力(I00と信号出力(I0sの比で定義されて
いるので m=πV/Vπ・sing/g =2πn0 3r41・l/ε・E0・sing/g ……(5) と表わされる。 次に、光の伝搬方向と電界の印加方向とが垂直
な横型変調方式について述べる。第2図に、第1
図と同様に、電界印加方向をEで表わし、その基
本構成図を示す。第2図で、素子の電界印加方向
での長さをd、外部電界の大きさをE0とすると、
素子にかかる電圧Vは、近似的に V=d/εE0 ……(6) と表わされる。横型変調方式の場合の半波長電圧
Vπは Vπ=λ/2n0 3r41 d/l ……(7) である。 横型変調方式においても、最適条件下では縦型
変調方式におけると同様に、(3),(4)式が成り立
つ。(6),(7),(3),(4)式を用いて変調率mを算出す
ると m=πV/Vπ・sing/g =2πn0 3r41/λ・l/ε・E0・sing/g……(8) となり、(5)式と一致する。これは(V/Vπ)が
横型、縦型方式とも同一となるためである。 ここで、(4)式における(πV/Vπ)と(2θl)
の具体値の比較を行う。Bi4Ge3O12などの非旋光
性の結晶では(2θl)は零であり、(4)式では
(πV/Vπ)の項のみとなる。このときmは変調
方式によらず m=sin(2πn0 3r41/λ・l/ε・E0 ……(9) となる。 一方、Bi12SiO20、Bi12GeO20では、旋光能2θl
は約(20×l)deg、即ち(0.35×l)radであ
る。通常の電界測定ではE0≦10kV/mmである。
E0=10kV/mmでの(πV/Vπ)をBi12SiO20で試
算すると約(0.086×l)radとなり、(πV/Vπ)
2と(2θl)2の比は6:100程度となり、最大測定
電界でも(πV/Vπ)2≪(2θl)2と考えられる。
Bi12GeO20の場合、(πV/Vπ)はBi12SiO20に比
べより小さくなるのて近似の程度はさらに良好と
なる。即ち、Bi12SiO20,Bi12GeO20を用いて通常
の10のkV/mm以下の電界側定を行う場合(πV/
Vπ)2≪(2θl)2であり、(4)式のgは g≒2θl ……(10) と近似して大過ない。このときmは(10)式と(8)式か
ら変調方式によらず、 m=2πn0 3r41/λ・l/ε ・E0・sin(2θl)/2θl ……(11) となる。 (9)式と(11)式を用いて、Bi4Ge3O12とBi12
SiO20,Bi12GeO20の変調率mの比較を行う。m
の具体値を算出するためE=100V/mm,λ=
0.85μmを仮定し、第1表の各数値を使用して式
算した。第3図に計算結果を示す。第3図で明ら
かなように、Bi12SiO20,Bi12GeO20は旋光性のた
めに素子の長さlを大きくしてもmに制限がある
のに対し、Bi4Ge3O12は非旋光性であるため、l
を大きくすることにより、mをより大きくするこ
とができる。 第3図における、Bi4Ge3O12の特性線とBi12
SiO20及びBi12GeO20の特性線の交点の素子の長
さl、即ち(9)式=(11)式とする素子の長さl、
を求めるとl=5.34mm及び5.40mmとなる。つま
り、(9)式=(11)式の条件から決まる素子の長さ
l以上の長さをもつBi4Ge3O12素子を用いると、
変調方式によらず、Bi12SiO20、Bi12GeO20より大
きな変調率が得られる。E=100V/mm、λ=
0.85μmの場合は第3図からl=5.40mm以上とすれ
ばよい。 以上では、ユーリタイト構造をもつ電気光学結
晶の代表例としてBi4Ge3O12を採り上げて説明し
たが、他のBi4Si3O12、Bi4(Ge,Si)3O12などの結
晶でも、同様に、非旋光性の有用性を示し得るこ
とは明らかである。 さて、以上では、1個の非旋光性の素子で、そ
の光の伝搬方向の長さを十分大きく設定すること
により電界検出感度を大きくすることを述べた
が、素子として、複数個の素子を用意し、これを
光の伝搬方向に縦に配置することによつても上記
と全く同様の効果を得ることができる。このよう
に複数個の素子を採用すると、素子表面での反射
損が増加する欠点が発生するが、これは無反射防
止処置によつて対策でき、むしろ、小さな素子で
構成されるため、素子サイズで規定される圧電ダ
ンピング周波数が上昇し、検出可能な電界の周波
数が広くなるという利点が生ずる。このように、
複数個の素子を光の伝搬方向の縦続し、その全光
路長を、上記のように(9)式=(11)式の条件から
決まるlの値以上となるようにする構成を本発明
の第1の実施態様とする。 次に、素子の静電容量について述べる。素子の
光の伝搬方向に垂直な断面の表面積を仮に、5×
5mm2程度と仮定し、電界方向での素子の長さlを
換えたときの素子の静電容量Cの試算結果を縦型
変調方式、横型変調方式のそれぞれについて、第
4図(縦型)及び第5図(横型)に示す。第4
図、第5図より明らかなように、Bi4Ge3O12は比
誘電率が16と小さいため、静電容量CがBi12
SiO20,Bi12GeO20に比べて小さく、静電容量1pF
以下の素子の実現も可能である。特に縦型方式で
は、素子の長さを長くとることにより静電容量も
小さくなり有利となる。一方、横型方式では、静
電容量は素子の長さに応じて大きくなるため不利
であるが、次のようにしてこの短所を避けること
ができる。 即ち、素子の長さを小さく抑え、素子内で光を
多重反射させる構成とすることにより、実効的な
光路長を大きくすることである。このようにして
も、(6)式、(7)式、(8)式において、lを実効的な光
路長とし、静電容量を大きくせず、有効な電界測
定を実施可能である。また、上記のように(9)式=
(11)式の条件から決まるlの値以上の光路長に
なるように上記の、素子内で光を多重反射させる
構成を本発明の第2の実施態様とする。 以上では静電容量でのBi4Ge3O12の有用性を、
Bi12SiO20,Bi12GeO20に比較して述べたが、Bi4
Si3O12,Bi4(Ge,Si)3O12など他のユーリタイト
構造の電気光学結晶についても、それらの特性値
を仮定し、lを十分大きくすることにより、同様
にその有用性を示すことができることは自明であ
る。 温度特性に関しては、ここで採り上げている結
晶、Bi4Ge3O12,Bi4Si3O12,Bi12GeO20,Bi12
SiO20などは点群の違いがあるものの全て等軸晶
系に属し、自然複屈折を有さないことから、同程
度に良好であることが予想され、LiNbO3
LiTaO3,KDP,ADP等の自然複屈折を有する
他の結晶に比べ優れているものと考えられる。 以下、本発明のさらに具体的な実施例を述べ
る。 実施例 1 第6図は本発明の光方式電界測定装置の構成図
である。光源5としては、出力60mW、波長
0.8μmの発光ダイオードを用い、クラツド外径が
0.6mmの石英光フアイバー6−1に入射し、レン
ズ7−1を介して検出部Aに導く。電界検出部A
は、偏光子1、1/4波長板2、電界検出素子3及
び検光子(偏光ビームスプリツタ)40より成り
ガラスセラミツク製容器に収納している。ここ
で、電界検出素子としてはBi4Ge3O12単結晶の
(100)を3面とする、3×3×5,3×3×10,
3×3×15(単位は全てmm)の3組の直方状素子
のいずれかを用いた。電界印加方向と光の伝搬方
向を素子の長手方向にとつている。検光子40か
らは、2つの直線偏光成分を取り出し、それぞ
れ、レンズ7−2,7−3に導き、石英光フアイ
バー6−2、6−3を経て、PINフオトダイオー
ド8−2,8−3で電気信号P1,P2i変換する。
その後、電気的な演算回路で S=P1−P2/P1+P2 なる演算を行う、このSと前述の変調率mは比例
関係にある。この演算処理により、伝送路の損
失、振動に影響をほとんど受けない安定な測定が
可能である。印加電界は、直径50cm、間隔20cmの
平行平板電極を用いて、交流50Hz、最大40kVを
用いた。 第7図に、l=10mmとしたときの印加電界と出
力Sならびに印加電界と出力信号P1側で測定し
た変調率mの測定結果を示す。また、第8図に素
子長さを5,10,15mmの3種類に換えて用いたと
きの出力Sの相対変化を示す。 第7図は、予想どおり印加電界に対し大きな信
号が、直線性良く得られていることを示してい
る。また、第8図は、素子の長さに比例して、電
界検出感度を大きくできることを示している。 さらに、l=10mmとし、一定電界(100V/mm)
を印加しながら、電界センサの温度を20〜70℃の
範囲で変化させたときの出力の安定性を調べた実
験結果を第9図に示す。第9図より温度安定性も
良好なことがわかる。 実施例 2 実施例1で用いた3×3×15(単位mm)の素子
を、3×3×5(単位mm)の3つの素子に分割し、
その光の通過面を研摩した後、光路方向に並べ、
分割前とほぼ同一の光路長として、実施例1の同
様、変調率の測定を行つた。その結果、分割前と
分割後でほぼ同一の変調率が得られた。また、分
割前後の、素子の長さに依存する圧電振動の周波
数を変調率の周波数依存性を測定することによ
り、調べたところ、分割前は、約130kHzであつ
たものが、分割後は約400kHzと上昇したことが
確かめられた。 実施例 3 電気光学結晶としてBi4Si3O12単結晶〔(110)×
(110)×(001);4mm×4mm×4mm〕を用いて、
実施例1と同一構成の電界測定装置を作製した。
ただし、電界印加方向を〔110〕とし、光の伝搬
方向を〔110〕方向よりわずかずつ傾けて、結晶
中を多重反射する回数を1回、2回、3回と変え
て変調率の大きさを調べた。その結果、取り出さ
れる光の絶対強度は小さくなるものの、変調率の
大きさは往復回数に比例して大きくなることがわ
かつた。また、変調率の絶対値は、100V/mmの
電界印加で、光を結晶中で2往復させた後取り出
した際、約0.5%と実施例1と同程度の結果が得
られた。 実施例 4 電気光学結晶として、Siを5%置換したBi4
(Ge,Si)3O12単結晶を作成し、実施例2と同様
の実験を行つた。その結果、Bi4Si3O12と同等以
上の結果が得られた。 〔発明の効果〕 以上のように、本発明によれば、測定感度が大
きく、温度特性も良好で、かつ測定電界を乱さな
い光方式電界測定装置を提供できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図はそれぞれ縦型変調方式、横型
変調方式の電界測定装置の基本構成図、第3図は
光方式電界測定装置における素子長さと変調率の
関係を説明する図、第4図、第5図はそれぞれ縦
型変調方式、横型変調方式における素子長さと静
電容量の関係を説明する図、第6図は本発明の一
実施例装置の構成図、第7図、第8図はそれぞれ
第6図実施例の出力特性を示す図、第9図は第6
図実施例装置の温度特性を示す図である。 1……偏光子、2……1/4波長板、3……電界
検出素子、4,40……検光子、5……光源、6
−1,6−2,6−3……石英光フアイバ、7−
1,7−2,7−3……レンズ、8−2,8−3
……PINフオトダイオード。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 光源と、ユーリタイト構造を有する電気光学
    結晶を用いる電界検出部と、上記検出部からの光
    を計測する計測部と、上記光源と検出部及び計測
    部を光学的に結合する光伝送路とからなる電界測
    定装置において、上記電気光学結晶はその光の伝
    搬方向における長さを、ユーリタイト構造を有す
    る電気光学結晶での素子長さlにおける変調率と
    点群23に属する構造を有する電気光学結晶での
    素子長さlにおける変調率とが等しくなる条件か
    ら決まる素子長さl以上とすることを特徴とする
    光方式電界測定装置。 2 特許請求の範囲第1項記載の装置において、
    前記電気光学結晶を複数個用い、それらを光の伝
    搬方向に沿つて並べ、その全光路長を、前記条件
    から決まる素子長さl以上とすることを特徴とす
    る光方式電界測定装置。 3 特許請求の範囲第1項記載の装置において、
    光が電気光学結晶中を少なくとも1回以上往復
    し、結晶中の実質光路長が、前記条件から決まる
    素子長さl以上であることを特徴とする光方式電
    界測定装置。 4 特許請求の範囲第1項記載の装置において、
    前記電気光学結晶の光の伝搬方向における長さを
    5.4mm以上とすることを特徴とする光方式電界測
    定装置。 5 特許請求の範囲第1項記載の装置において、
    前記電気光学結晶として、複数個の電気光学結晶
    を用い、それらを光の伝搬方向に沿つて並べ、そ
    の全光路長を5.4mm以上とすることを特徴とする
    光方式電界測定装置。 6 特許請求の範囲第1項記載の装置において、
    光が電気光学結晶中を少なくとも1回以上往復
    し、結晶中の実質光路長が5.4mm以上であること
    を特徴とする光方式電界測定装置。 7 特許請求の範囲第1項乃至第6項のいずれか
    の項に記載の装置において、前記ユーリタイト構
    造を有する電気光学結晶が、Bi4Ge3O12,Bi4Si3
    O12,Bi4(Ge,Si)3O12のうちのいずれか一つで
    あることを特徴とする光方式電界測定装置。
JP58019822A 1983-02-10 1983-02-10 光方式電界測定装置 Granted JPS59147274A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58019822A JPS59147274A (ja) 1983-02-10 1983-02-10 光方式電界測定装置
US06/575,783 US4631402A (en) 1983-02-10 1984-02-01 Optical electric-field measuring apparatus
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DE19843404608 DE3404608A1 (de) 1983-02-10 1984-02-09 Vorrichtung zur optischen messung eines elektrischen feldes

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Families Citing this family (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62123364A (ja) * 1985-11-22 1987-06-04 Toshiba Corp 光学的電圧計
US4767195A (en) * 1986-03-21 1988-08-30 Hughes Aircraft Company System and method for encoding information onto an optical beam
JPS62272158A (ja) * 1986-05-20 1987-11-26 Ngk Insulators Ltd 検電装置
US4926043A (en) * 1987-03-31 1990-05-15 Siemens Aktiengesellschaft Apparatus and method for optical measuring and imaging of electrical potentials
US4908568A (en) * 1987-06-09 1990-03-13 Siemens Aktiengesellschaft Mechanical probe for optical measurement of electrical potentials
US5164667A (en) * 1987-06-10 1992-11-17 Hamamatsu Photonics K. K. Voltage detecting device
JP3175935B2 (ja) * 1987-09-30 2001-06-11 株式会社東芝 光ファイバ応用センサ
JPH0194270A (ja) * 1987-10-06 1989-04-12 Murata Mfg Co Ltd 表面電位検出装置
DE3740468A1 (de) * 1987-11-28 1989-06-08 Kernforschungsz Karlsruhe Vorrichtung zur beruehrungslosen messung statischer und/oder zeitlich veraenderlicher elektrischer felder
US4919522A (en) * 1988-02-25 1990-04-24 Geo-Centers, Inc. Optical switch having birefringent element
JPH01259266A (ja) * 1988-04-08 1989-10-16 Hamamatsu Photonics Kk 電圧測定装置
US4947107A (en) * 1988-06-28 1990-08-07 Sundstrand Corporation Magneto-optic current sensor
FR2634553B1 (fr) * 1988-07-21 1990-09-07 Schlumberger Ind Sa Dispositif a capteurs optiques principal et secondaire
US5055770A (en) * 1989-04-12 1991-10-08 Hamamatsu Photonics K. K. Method and apparatus for detecting voltage
US5111135A (en) * 1989-07-12 1992-05-05 Ngk Insulators, Ltd. Method for optically measuring electric field and optical voltage/electric-field sensor
DE3924369A1 (de) * 1989-07-22 1991-01-31 Asea Brown Boveri Verfahren zur messung eines elektrischen feldes oder einer elektrischen spannung und einrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
US4973899A (en) * 1989-08-24 1990-11-27 Sundstrand Corporation Current sensor and method utilizing multiple layers of thin film magneto-optic material and signal processing to make the output independent of system losses
FR2661003B2 (fr) * 1989-12-26 1992-06-12 Commissariat Energie Atomique Capteur de champ electrique a effet pockels.
US5109189A (en) * 1990-02-27 1992-04-28 Geo-Centers, Inc. Single crystal electro-optic sensor with three-axis measurement capability
JP2986503B2 (ja) * 1990-03-09 1999-12-06 株式会社日立製作所 光方式直流電圧変成器
IT1248820B (it) * 1990-05-25 1995-01-30 Pirelli Cavi Spa Sensore polarimetrico direzionale di campo
US5090824A (en) * 1990-07-31 1992-02-25 Geo-Centers, Inc. Fast optical switch having reduced light loss
JPH04320975A (ja) * 1991-04-19 1992-11-11 Koatsu Gas Kogyo Kk 静電気監視装置
GB2261503A (en) * 1991-10-08 1993-05-19 Novacare Products Limited Monitoring a parameter of a magnetic or electromagnetic field
US5635831A (en) * 1991-12-11 1997-06-03 Imatran Voima Oy Optical voltage and electric field sensor based on the pockels effect
US5280173A (en) * 1992-01-31 1994-01-18 Brown University Research Foundation Electric and electromagnetic field sensing system including an optical transducer
DE4205509A1 (de) * 1992-02-24 1993-08-26 Mwb Pruefsysteme Gmbh Verfahren und sensor zum messen von elektrischen spannungen und/oder elektrischen feldstaerken
US5305136A (en) * 1992-03-31 1994-04-19 Geo-Centers, Inc. Optically bidirectional fast optical switch having reduced light loss
US5298964A (en) * 1992-03-31 1994-03-29 Geo-Center, Inc. Optical stress sensing system with directional measurement capabilities
US5483161A (en) * 1992-12-11 1996-01-09 The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce Faraday effect continuous circuit flux concentrating magnetic field sensor
JPH06265574A (ja) * 1993-03-15 1994-09-22 Hamamatsu Photonics Kk E−oプローブ
KR100310373B1 (ko) * 1993-10-01 2001-12-15 칼 하인쯔 호르닝어 온도 보상으로 교류 전기량을 측정하기 위한 방법및장치
DE4436181A1 (de) * 1994-10-10 1996-04-11 Siemens Ag Verfahren und Vorrichtung zum Messen einer elektrischen Wechselgröße mit Temperaturkompensation durch Fitting
DE59505669D1 (de) * 1994-10-12 1999-05-20 Siemens Ag Optisches messverfahren und optische messvorrichtung zum messen einer elektrischen wechselspannung oder eines elektrischen wechselfeldes mit temperaturkompensation
DE19638645A1 (de) * 1996-09-20 1998-03-26 Siemens Ag Nach dem Prinzip des Pockels-Effekt arbeitende optische Meßvorrichtung für elektrische Feldstärke-/Spannungsmessung mit minimaler Temperaturabhängigkeit
DE19639948C1 (de) * 1996-09-27 1998-05-20 Siemens Ag Optische Meßvorrichtung für elektrische Felder/Spannungen mit planarem Aufbau und optimierter Kleinsignalempfindlichkeit und insbesondere linearer Kennlinie
DE19716477B4 (de) * 1997-03-05 2011-11-10 Areva T&D Sa Verfahren und Einrichtung zur Messung einer elektrischen Spannung
DE19719970A1 (de) * 1997-05-13 1998-11-19 Siemens Ag Generator und Verfahren zur Messung einer Generatorspannung
US6351579B1 (en) * 1998-02-27 2002-02-26 The Regents Of The University Of California Optical fiber switch
EP1462811A1 (de) * 2003-03-28 2004-09-29 Abb Research Ltd. Elektrooptischer Spannungssensor für hohe Spannungen
JP5534653B2 (ja) * 2008-05-28 2014-07-02 株式会社東芝 光電圧センサ
CN103134997B (zh) * 2013-01-30 2015-11-25 中国电子科技集团公司第三十八研究所 一种基于光学原理的雷电探测装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB305074A (en) * 1927-10-29 1929-01-29 William Henry Eccles Means for controlling the intensity of a beam of light for use, for example, in recording sound
GB426233A (en) * 1933-07-05 1935-03-29 Sueddeutsche Telefon App Kabel Improvements in and relating to the control of light for television purposes and forthe optical recording of sound
US3560874A (en) * 1966-10-12 1971-02-02 Bell Telephone Labor Inc Variable optical frequency shifter
JPS4920915B1 (ja) * 1968-09-13 1974-05-28
JPS493849B1 (ja) * 1969-03-15 1974-01-29
CH512076A (de) * 1970-02-04 1971-08-31 Bbc Brown Boveri & Cie Magnetfeldsonde
NL181528C (nl) * 1980-01-12 1987-09-01 Sumitomo Electric Industries Inrichting voor het meten van een spanning of van een elektrisch veld met gebruikmaking van licht.
JPS58109859A (ja) * 1981-12-24 1983-06-30 Sumitomo Electric Ind Ltd 光による電圧・電界測定器

Also Published As

Publication number Publication date
GB8402975D0 (en) 1984-03-07
DE3404608A1 (de) 1984-08-16
GB2135050A (en) 1984-08-22
CA1211155A (en) 1986-09-09
GB2135050B (en) 1987-06-10
US4631402A (en) 1986-12-23
JPS59147274A (ja) 1984-08-23
DE3404608C2 (ja) 1987-06-19

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