JPH0445867A - 潤滑剤塗布方法 - Google Patents

潤滑剤塗布方法

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JPH0445867A
JPH0445867A JP15307690A JP15307690A JPH0445867A JP H0445867 A JPH0445867 A JP H0445867A JP 15307690 A JP15307690 A JP 15307690A JP 15307690 A JP15307690 A JP 15307690A JP H0445867 A JPH0445867 A JP H0445867A
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JP
Japan
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lubricant
substrate
coated
solution
lubricant solution
Prior art date
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Pending
Application number
JP15307690A
Other languages
English (en)
Inventor
Naohiko Fujino
直彦 藤野
Hisatoshi Hata
久敏 秦
Fumiaki Satake
佐竹 文明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、例えば磁気記録媒体などの被塗物に潤滑油
等を塗布する潤滑剤塗布方法および装置に関するもので
ある。
[従来の技術] 最近、めっき、蒸着、スパッタなどによって成膜される
薄膜磁気記録媒体の耐磨耗等の機械的耐久性改善の要求
が高まっている。この耐久性は、潤滑処理技術に大きく
左右され、たとえ優れた潤滑性能を有する潤滑剤を用い
て処理したとしても、その処理方法(条件)が適切でな
いと十分な性能を発揮しない。そのため潤滑性能の優れ
た材料開発も急がれていることは言うまでもないが、そ
の材料特性を十分活かしきるための最適処理方法を開発
することは、より重要なテーマと考えられる。
第3図は例えば文献(Dr、Pier、The sym
posiumon memory and advan
ced recording technologie
s、Ws−3−C−1<1986)) +:示さレタ従
来のディッヒング塗布装置の概略構成を示す斜視図であ
る。図において、(1)は潤滑剤溶液(2)を収容する
潤滑剤溶液槽、(3)は潤滑剤溶液(2)が塗布される
被塗物基板、〈4〉は被塗物基板(3)を支持する基板
ホルダ、り5)は基板ホルダ〈4〉を上下に動かすため
のアクチュエータである。
次にこの従来装置の作用について説明する。被塗物基板
(3〉を潤滑剤溶液槽(1>の潤滑剤溶液く2)の中に
浸漬した後、アクチュエータク5)をゆっくり上方に移
動させ被塗物基板〈3を引き上げることにより潤滑剤溶
液を被塗物基板(3〉に塗布するものであり、このとき
溶液槽〈1)から被塗物基板(3〉を引き上げた場合に
は、被塗物基板(3〉に潤滑剤溶液<2)が付着して持
ち上げられ、時間の経過とともに塗工溶液は重力によっ
て下方に流れ落ち、平衡状態になった残存塗液が最終的
には塗膜として被塗物基板(3)に固着し、潤滑膜の厚
さが決定される。これについては参考文献(日本潤滑学
会秋季大会予稿集(1987) P、485〜488)
に詳細に記載されている。
第4図は特願 BPSOO23号明細書に示される別の
従来例である潤滑剤抜き取り型ディッピング装置の概略
構成を示す斜視図である。図においてく11)は潤滑剤
溶液(12)を収容する潤滑剤溶液槽、(13〉は潤滑
剤溶液(12〉が塗布される被塗物基板、(14)は被
塗物基板〈13〉を支持する基板ホルダー (15)は
潤滑剤溶液抽入用バルブ、(16)は潤滑剤溶液〈12
)の液面位置わ調整するための潤滑剤溶液流出用バルブ
である。
次にこの従来装置の作用について説明する。被塗物基板
〈13〉を潤滑剤溶液槽(11)の潤滑剤溶液〈12〉
の中に浸漬した後、潤滑剤溶液流出用バルブ(16)を
開放することにより潤滑剤溶液(12)の液面位置を低
速で下げることにより、相対的に被塗物基板り13)を
、液面位置から移動させ、潤滑剤を被塗物基板(13〉
に塗布するものである。一般に塗膜の膜厚は溶料溶液槽
中の溶料溶液面と、被塗物基板との間の相対速度の関数
で表されることが知られている。 (これについては、
中村 孝−1友野信の材料 14.294 (1965
) ; B、V、Derycigin、 S、MLev
i:Kollid、 Zh 15.24 (1953)
+ Don 5SSR79゜2830941) ; G
oucher、 FS etn ; Ph11.Mny
 44゜P 1002 (1922)等に詳述されてい
る。)[発明が解決しようとする課題] 上記のような従来のディッピング装置や潤滑剤抜き取り
型ディッピング装置では、潤滑剤溶液〈12)中に、単
に被塗物基板(13〉を浸漬するに留まるため、被塗物
基板<13)の表面と潤滑剤溶液(12)との界面にお
いて、小さな気泡を巻き込んだり、あるいは、被塗物基
板<13)表面にダスI・が存在したりして、これが潤
滑剤溶液<12)と被塗物基板〈13)との間の立体障
害になり、潤滑剤塗布時の残存溶液の平衡状態に悪影響
を及ぼしたり、また、ある部分のみ潤滑剤が塗られなか
ったりして、潤滑膜の膜厚が微妙に変わったり塗り残し
の要因となったりして、結果的に充分な潤滑処理になら
ず、被塗物基板である磁気記録媒体の耐磨耗性にたいし
て充分な信頼性を与えることができなかった。
本発明はかかる課題を解決するためになされたもので、
被塗物基板に均一に潤滑剤を塗布することができる潤滑
剤塗布方法を得ることを目的とする。
[課題を解決するための手段] この発明にかかる潤滑剤塗布方法は、被塗物基板を潤滑
剤溶液中に浸漬しながら超音波を印加する二とにより上
記被塗物基板に潤滑剤を塗布するものである。
[作用] 被塗物基板が潤滑剤溶液中に浸漬されている間に一定時
間超音波を印加すると、被塗物基板表面に存在した気泡
、ダスト、汚染物は被塗物基板から速やかに溶液中へ除
去されるとともに、代わって潤滑剤溶液中に存在する潤
滑剤分子が被塗物基板に移る。そのため、被塗物基板表
面は、完全に潤滑剤溶液に覆われる様になる。この様な
状態を確保した後に被塗物基板を潤滑剤溶液から引き上
げることにより、潤滑剤を被塗物基板上に均一に塗布で
きる様になる。そのため、結果として、被塗物基板であ
る磁気記録媒体の耐磨耗性は改善出来る様になる。
[実施例] 以下、二の発明の実施例を図について説明する。
第1図は、この発明の一実施例にかかる潤滑剤塗布方法
を採用した潤滑剤塗布装置の概略構成を示す斜視図であ
る。図において、<11〉は潤滑剤溶液〈12)を収容
する潤滑剤溶液槽、(13)は潤滑剤溶液(12)によ
って塗布される被塗物基板、(14〉は潤滑剤溶液槽(
11〉内に設けられ被塗物基板(13)を支持する支持
基板である基板ホルダ、(15)は潤滑剤溶液槽〈11
)の−側面に設けられ潤滑剤溶液(12)を潤滑剤溶液
槽(11)内部に抽入するための潤滑剤溶液抽入用バル
ブ、(16〉は潤滑剤溶液槽〈11〉の−側面に設けら
れ潤滑剤溶液槽〈11〉内部の潤滑剤溶液を外部に流出
させるための潤滑剤溶液流出用バルブである。潤滑剤溶
液流出用バルブク16〉は、流量計付パ゛ルブであり、
特に潤滑剤溶液〈12〉の液面の変位が被塗物基板(1
3)に対して一定の相対速度(降下速度)になるように
調整して潤滑剤溶液り12)を外部に流出させるための
ものである。(17)は潤滑剤溶液(12)に超音波振
動を与えるための超音波振動発生装置である。
次にこの潤滑剤塗布装置の作用について説明する。被塗
物基板り13〉を基板ホルダ(14〉に支持した1組 
潤滑剤溶液抽入用バルブ(15)から潤滑剤溶液(12
〉を潤滑剤溶液槽〈11)内に抽入し、被塗物基板(1
3)を潤滑剤溶液〈12)に浸漬する。次に、超音波振
動発生装置り17〉に通電を行ない所定時間潤滑剤溶液
(12〉に超音波振動を与える。この時、被塗物基板〈
13)表面に存在した気泡、ダストおよび汚染物は除去
されるため、被塗物基板(13)は潤滑剤溶液(12)
に完全に1夏われる。次に超音波振動発生装置(17)
の通電を止めたiL  潤滑剤溶液流出用バルブク16
)を開、!i−潤滑剤溶液(12)を外部に流出する。
この流出課程において、潤滑剤溶液槽(11)内の潤滑
剤溶液<12)の液面の位置変化を調整して潤滑剤溶液
り12)を流出させる。即ち、被塗物基板(13〉に対
する潤滑剤溶液<12)の液面の下方向移動の相対速度
を潤滑剤溶液流出用バルブク16)の流量から調整し、
潤滑剤溶液〈12〉を流出させる。このとき、被塗物基
板〈13〉は静止したままで、潤滑剤溶液く12)の液
面には何ら振動が生じないので、結果的に被塗物基板(
13)上には塗りむらなく、潤滑剤を塗布することがで
きる。また被塗物基板〈13)上には、気泡、ダスト、
汚染物が存在しないため、立体障害による塗り残しが無
くなる。
次にこの実施例の潤滑剤塗布装置を用いて被塗物基板(
13)に潤滑剤を塗布した場合の実験結果を参考として
述べておく。第2図は被塗物基板〈13)に、フッ素系
潤滑剤KRYTOX 157 FS (M)(デニボン
社製フッ素変成オイル)を本装置で塗布した場合の塗布
特性を示すグラフである。ただし塗布条件は塗料溶液〈
12〉にKRYTOX 157FS(M)を トリフル
オロトリクロロエタンダイキン製フッ素変成希釈溶液)
の濃度を変えて塗料溶液面と被塗物基板間の相対速度が
0.25(m/分〕とするとともに、被塗物基板り13
〉の潤滑剤溶液(12)中での超音波振動発生装置り1
7〉の通電時間を変えて塗布している。図中、ムは通電
時間0秒、×は10秒、・は200秒である。なお、被
塗物基板(13〉にCo−Ni合金基板を用いた場合の
KRYTOX 1 5 7 FS (M)0)分子式は
以下に示す型をとる。
FICF(CF3>CF2O nCF(CF3)COO
H)(ただしnはlO〜60の自然数である。)第2図
によれば、実験的に潤滑層膜厚は潤滑剤溶液濃度に比例
して厚く塗布されることが分かる。
また、この時の塗布される膜厚は超音波振動発生装置く
17〉の通電により数 程炭厚く塗布されることが分か
る。これは被塗物基板表面に形成されていたダストや気
泡が除去されたことによる効果と考えられる。
上述したように、この実施例の潤滑剤塗布装置は数百 
以下の膜厚制御も容易に行うことができる。なお、この
実験で用いた膜厚測定法はFTIRによる膜厚測定法で
あり、その詳細については文献(日本潤滑学会・秋季大
会・予稿集(1987))に説明されている。
次表は、潤滑剤溶液濃度0.6g/l. 1.og/l
で被塗物基板に潤滑剤を塗布した基板を用いて、コンタ
クト・スター1・・ストップ(CSS)K験をフェトラ
イトヘッド 表面状態、および動摩擦係数が08を超えるまでのCS
S回数を示す。なお表面状態の評価は目視で行っている
また、CSS試験方法については、文献(精密機械工学
会誌 54. 5. P73〜79(1988))等に
詳細に紹介されている。この表に示される結果から、潤
滑剤塗布時に被塗物基板および潤滑剤溶液に超音波を印
加することで大幅に機械特性が改善されたことがオ)か
る1。
なお、上記実施例では第4図に示す従来例にこの発明を
適用した場合について説明したが、この発明は第3図に
示す従来例にも適用でき上記実施例と同様の効果が辱ら
れるのは明白である。
[発明の効果] 以上のように、この発明によれば、被塗物基板を潤滑剤
溶液中に浸漬しながら超音波を印加することにより上記
被塗物基板に潤滑剤を塗布するので、被塗物基板表面に
存在する気泡、ダスト、汚染物を除去でき、被塗物基板
上に均一に潤滑剤が塗布できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例による潤滑剤塗布方法を採
用した塗布装置を示す斜視図、第2図は第1図に示す潤
滑剤塗布装置を用いて潤滑剤を塗布する場合のその塗布
特性を示す特性図、第3図、第4図はそれぞれ従来の方
法による塗料塗布装置を示す斜視図である。 図において(11)は塗料溶液槽、〈12)は塗料溶液
、〈13)は被塗物基板、〈14)は基板ホルダ(支持
部材)、 (16)は塗料溶液流出用バルブ、〈17)
は超音波振動発生装置である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分をホす。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 被塗物基板を潤滑剤溶液中に浸漬しながら超音波を印加
    することにより上記被塗物基板に潤滑剤を塗布する潤滑
    剤塗布方法。
JP15307690A 1990-06-11 1990-06-11 潤滑剤塗布方法 Pending JPH0445867A (ja)

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JP15307690A JPH0445867A (ja) 1990-06-11 1990-06-11 潤滑剤塗布方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05273760A (ja) * 1992-03-26 1993-10-22 Matsushita Electric Works Ltd レジスト膜形成方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH05273760A (ja) * 1992-03-26 1993-10-22 Matsushita Electric Works Ltd レジスト膜形成方法

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