JPH0445930B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0445930B2
JPH0445930B2 JP60253017A JP25301785A JPH0445930B2 JP H0445930 B2 JPH0445930 B2 JP H0445930B2 JP 60253017 A JP60253017 A JP 60253017A JP 25301785 A JP25301785 A JP 25301785A JP H0445930 B2 JPH0445930 B2 JP H0445930B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
tip
auger
electrons
energy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP60253017A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61176044A (ja
Inventor
Jeorugu Bedonorutsu Yohanesu
Kajimiazu Jimuzeusukii Jeemuzu
Reiru Buruuno
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
International Business Machines Corp
Original Assignee
International Business Machines Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by International Business Machines Corp filed Critical International Business Machines Corp
Publication of JPS61176044A publication Critical patent/JPS61176044A/ja
Publication of JPH0445930B2 publication Critical patent/JPH0445930B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/252Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers
    • H01J37/256Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers using scanning beams
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
    • H01J37/06Electron sources; Electron guns
    • H01J37/073Electron guns using field emission, photo emission, or secondary emission electron sources

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 A 産業上の利用分野 本発明は、材料表面の元素分布、すなわち粒子
境界、汚染等を空間的に分解して観察するのに有
用な走査型オージエ電子顕微鏡に関するものであ
る。
B 開示の概要 このオージエ電子顕微鏡は、試料7の表面上、
一定距離に保持された電界放出先端部10を備え
ている。先端部10は先端部の半径が50nm以下
のタングステン100のウイスカからなり、作動
距離は1mm台である。試料7の表面から放出され
るオージエ電子は、通常の方法により処理するた
め、電子エネルギ・アナライザ11により集めら
れる。先端部10と試料7の相互走査変位が、
xyz駆動モジユール6により得られ、このモジユ
ールはまた先端部10の作動距離を調節するのに
も用いられる。顕微鏡の装置全体は振動吸収装置
4,5に取付けられ、必要であれば適当なフラン
ジ1により真空装置に挿入される。
C 従来技術 集束された電子線が試料表面に衝突すると、表
面上または表面下の原子と、多くの相互作用を生
じる。特に、入射電子が十分なエネルギを持つて
いると、内殻電子を追い出して原子をイオン化す
る。その原子は、外殻電子を内殻の空所に移動さ
せて、直ちに元の基底状態に戻る。この原子の緩
和は、X線のフオトンの放出およびオージエ電子
の放出のいずれか、または両方によるエネルギの
そう失を伴い、これら2つの合計は一定で、オー
ジエ電子の放出が優先的に起こる。電子は離散的
エネルギ・レベルにあるため、放出されたオージ
エ電子も、原子の初期状態と最終状態のエネルギ
差に等しい離散的エネルギを有する。放出される
オージエ電子のエネルギ・レベルは、放出する元
素に特有のものである。したがつて、オージエ電
子顕微鏡は、試料の材質、少くともその表面にお
ける材料の化学組成を調査するのに適している。
観察中の試料に衝突する電子線は、検出器におけ
ると同様、細く集束されているため、得られる情
報は常に焦点における組成に関するものである。
より大きな領域に関する組成の情報を得るために
は、電子線および検出器がその領域をラスタ走査
し、選定した解像度に従つてラスタ内の各点につ
いて情報を記録しなければならない。
D 発明が解決しようとする問題点 走査型オージエ電子顕微鏡は公知のものであ
り、市販されている。通常オージエ電子顕微鏡
は、試料に照射する電子線を発生させるために電
子銃を使用し、その最も細い電子線の直径は約
35nmである。しかし、オージエ分析は、電子が
放出される容積により制限される。試料表面に垂
直な深度解像度は、電子の平均自由行程と放射角
の関数である有効脱出深度によつて決まる。電子
の運動エネルギは比較的小さいため、深度解像度
はわずか2〜3の単分子層しかない。さらに空間
的分解能を上げようとすれば、元素の分解能は、
SN比〔一次ビーム電流(通常このような解像度
では1nA未満)の関数〕の低下により、かなり低
下するはずである。
高電圧と、5cm以上の作動距離が従来技術によ
るオージエ電子顕微鏡に特有なものである。高電
圧による危険のほかに、これらの顕微鏡には、作
動時の高電流密度により、試料が損傷する可能性
があるという欠点がある。また、サブミクロン程
度の微小領域に電子を集束させる電子励起源は、
扱いにくく、高価であり、さらに作動距離が長い
ため、すべての高解像度装置に生じる主要な制限
を特に強く受ける。すなわち、それは試料と電子
源の間の機械的振動であり、これはそれ自身振動
する真空室によつて伝達される。従来技術による
オージエ電子顕微鏡のもうひとつの欠点は、その
大きさであり、特に、約10-8Paに減圧し、それ
に維持する必要がある真空装置が大きいことであ
る。
E 問題点を解決するための手段 従来技術によるオージエ電子顕微鏡のこれらの
欠点は、本発明の電界放出走査型オージエ電子顕
微鏡により解決される。この顕微鏡は、電界放出
源、試料支持装置、電界放出源および試料支持装
置を相互に変位させる走査手段、電子式データ処
理回路を伴う電子検出器、および得られたエネル
ギ・スペクトルの表示および記録の両方または一
方を行う手段からなる。本発明の顕微鏡は、従来
技術のもの比べると、電界放出源に、先端の半径
が50nmで、試料表面から≦1mmの一定距離を保
つ鋭い先端があり上記の先端と上記の試料との間
に電位が存在するという点で異つている。
F 実施例 第1図は本発明によるオージエ電子顕微鏡の主
要部の略図で、真空装置にねじ込むことができる
100mmフランジ1に取付けられる。フランジ1に
はフレーム3を懸架するサポート2が取付けられ
ている。懸架装置は図では簡単のためバネ4およ
び5で示してあるが、実際にはより精功な振動吸
収装置からなる。フレーム3上にはxyz駆動モジ
ユール6が設けられ、これはたとえば圧電素子を
用いる従来の型のものである。検査する試料7
は、駆動モジユールの上面に支持される。フレー
ム3の上部アーム8には、電界放出源9が取付け
られ、その鋭い先端10は、試料7の表面上、短
い距離をあけて支持されている。電子エネルギ・
アナライザ11には、先端10と試料7との間に
電位Eが印加されたとき試料7の表面から放出さ
れるオージエ電子を集めるよう、柱12に支持さ
れている。
先端10は試料7の表面上に1mm台の一定の距
離で支持されている。表面が粗面であつても、距
離を数ナノメータ以内に制御することは比較的容
易である。従来法の1つでは、電界放出電流しの
変動を測定し、これを試料がxy平面内で走査さ
れている間、xyz駆動モジユール6のZ座標ドラ
イブへの入力として使用する。
たとえば、100の配向を有するタングステン
電界放出先端部10が、5×10-11ミリバールの
真空中で、シリコン111の表面から1mm以内の
所に置かれ、シンコン試料7が接地電位に保持さ
れ、電界放出先端部10が試料7に対し−1kVに
バイアスされると、電界放出電流しは1μA台であ
る。この電流はxyz駆動モジユール6のZ入力に
フイードバツクされ、所定の値(たとえば上記の
1μA)からの偏差により、モジユール6が試料7
の表面から先端部10までの距離を調節する。
先端部10(先端の面積約1μm2)と試料7の
表面とのギヤツプ内の電界が極めて不均一である
ことは当業者には明らかである。したがつて、試
料7の表面から放出されるオージエ電子の軌跡は
何らかのひずみを受ける。この事実にかかわら
ず、また、多くのオージエ電子が表面で再び捕促
され、またはエネルギ・アナライザ11に到達し
ないにもかかわらず、効率は約10-3である。すな
わち、チツプ10から放出される一次電子1000個
に対して1個のオージエ電子が捕捉されて電子エ
ネルギ・アナライザ11の出力信号として使用さ
れる。
本発明のオージエ電子顕微鏡に用いる電子エネ
ルギ・アナライザは周知のもので、市販されてい
るものである。簡単に述べれば、この種のアナラ
イザは、識別電位が印加されるベント・チヤネル
と、これに接続された電子マルチプライヤ13か
らなる。チヤネルに入り、チヤネル11に印加さ
れる電位に対応するエネルギを有する電子は電子
マルチプライヤ13へ到達し、ここでさらに多く
の二次電子を生成する。チヤネル電位に対応しな
いエネルギを持つ電子は、電子マルチプライヤ1
3の出力信号には役立たないと考えられる。
公知のごとく、オージエ電子のエネルギは、そ
れを放出した元素に特有のものである。したがつ
て、オージエ電子のエネルギを分析することによ
り、試料表面の物質の組成を知る手がかりが得ら
れる。しかし、オージエ電子は外殻からの電子が
内殻に生じた空所を埋めるときだけ放出されるの
で、単一の殻しか持たない水素およびヘリウムは
検出されない。ほとんどの元素はオージエ遷移を
行い、一般に50ないし2000eVのエネルギを持つ
電子を放出する。これらのエネルギは、低エネル
ギの二次電子のエネルギ範囲よりわずかに大き
い。観察されるオージエ電子スペクトルは広く、
比較的弱いピークを有する。これらは二次電子お
よび後方散乱電子によるバツクグラウンド・ノイ
ズと重なり、オージエ・ピークの位置の測定を困
難にする。したがつて、オージエ・ピークの位置
を正確に測定するため、不要なバツクグラウンド
を抑制し、SN比を改善するために、電子分布曲
線の一次導関数を求めることが一般に行われてい
る。
前述のごとく、オージエ顕微鏡法により、試料
表面の物質の組成に関する情報が得られる。事
実、オージエ電子は、試料の原子層のうち最上の
数層からのみ放出され、影響を受ける正確な層の
数は、入射一次電子線の幅とエネルギによつて決
まる。高エネルギの一次電子により、さらに深い
層からオージエ電子が生成することがあるが、、
物質内での軌跡が長いため、これらのオージエ電
子の特有のエネルギは、表面に到着する前に二次
電子の生成により、一部変化し、または完全に吸
収される。一般に、試料表面がオーシエ顕微鏡法
によつて分析できる深さは、エネルギ範囲10〜
1000eVのオージエ電子の場合で0.1〜1nmであ
る。
第2図は従来のオージエ電子顕微鏡と、本発明
による電界放出オージエ電子顕微鏡の性能を比較
したグラフである。第2図で、曲線Aは、市販の
電子銃から放出される547eVの一次電子を用いて
得られたエネルギ損失スペクトルを示す。弾性ピ
ークが547eV、半値全幅が1eV、そして表面プラ
ズモンωSによるエネルギー損失が上記ピーク
より6.3eV下にあり、バルク・プラズモンωB
よるエネルギー損失が上記ピークよりそれぞれ
12.8eV、25.3eV、38.3eV及び50eV下にある。
第2図の曲線Bは−547Vにバイアスし、シリ
コン表面上1mmの距離に置いたタングステン10
0電界放出チツプの場合に得られる類似の結果で
ある。もちろん、弾性ピークは同じエネルギのと
ころにあるが、半値全幅は1.5eVとわずかに広く
なつている。表面プラズモンおよびバルク・プラ
ズモンのエネルギ・レベルはそれぞれ幾分減少し
ている。この一次ピークの幅と強さの減少は、幾
何学形状に依存し、その影響は散乱電子の運動エ
ネルギが減少するほど増大する。従来のエネルギ
損失スペクトルと、電界放出エネルギ損失スペク
トルは非常に良く一致し、高い空間解像度によ
り、局部エネルギ損失スペクトルの測定が可能な
ことを示している。
第2図で、曲線Aの電子線は直径が約2mmであ
り、電界放出源9の先端部10から放出された、
曲線Bの電子線は直径が約100nmであつて、は
るかに高い横方向または空間解像度が得られるこ
とに注目すべきである。従来の電子銃の直径を、
電界放出先端部で容易に得られる直径まで小さく
するには10kVをはるかに超える電圧と、電子的
収束または磁気的収束が必要となる。
さらに考慮すべき点は、振動により装置が影響
を受け、SN比が低下することである。明らかに、
10cm以上の電子線を用いる装置では、臨界距離が
1mm台のものより振動の妨害を受ける傾向がはる
かに大きい。
前述のごとく、本発明の走査型オージエ電子顕
微鏡は、第1図にバネ4および5で示す振動吸収
装置を含んでいる。顕微鏡に用いる効果的な振動
吸収装置については、アイ・ビー・エム・テクニ
カル・デイスクロージヤ・ブレテイン第27巻第5
号3137ページに記載されている。
作動時には、先端部10を試料7から作動距離
内になるよう、粗調整手段、たとえばねじ14に
より調節し、端子15に電圧Eを印加し、試料を
接地して先端部10と試料7の間に電位差を設け
る。先端部10は、たとえばタングステン・ウイ
スカからなり、電子の放出を増大するための加熱
装置を備えたものとする。
先端部10と試料7の間の約1kVの電位差によ
り、作動距離が約1mmの場合、約0.5×10-7Aの電
界放出電流が流れる。試料7の表面に衝突する電
子線によりオージエ電子が放出し、その一部は入
射レンズが接地レベルであるエネルギ・アナライ
ザ11により集められる。
非常に鋭い先端(半径約50nm)を持つタング
ステン・ウイスカを用いれば、放出される電子線
の直径はそれだけ細くなる。したがつて、エネル
ギ・アナライザが受けたオージエ電子によつて、
電子線が入射する試料7の小面積だけの組成の情
報が得られる。これより大きい面積の組成の情報
を得るためには、試料7をxyz駆動モジユール6
によりX座標およびY座標に沿つて、段階的に移
動させる。移動中に、先端部10と試料7との作
動距離の著しい変動を生ずる表面の粗さにぶつか
ると、端子16における電界放出電流しの変動と
なつて現れる。この変動は駆動モジユール6のZ
入力17にフイードバツクされ、作動距離が自動
的に調節される。
オージエ電子は試料7の表面からあらゆる方向
に放出され、そのうち円錐状の部分がエネルギ・
アナライザ11の入射レンズにより集められる。
端子18を通じて、電位Aがアナライザ11に印
加され、これにより相当するエネルギのオージエ
電子が電子マルチプライヤ13に進む。マルチプ
ライヤ13の出力信号が端子19から得られ、従
来のデータ取得技術により処理することができ
る。
オージエ分析は深さ1nm未満の材料から得ら
れるので、測定が数層の単分子層の表面汚染物に
より妨害され、試料のバルク材料の組成ではなく
てこれらの汚染物の組成が実際に分析されること
がある。したがつて、オージエ測定は高真空下で
行う必要がある。第1図に示す装置のフランジ1
は、適当な真空装置に合わせて設計するのが好ま
しい。
G 発明の効果 本発明によれば、従来のオージエ電子顕微鏡よ
りも、高分解能で且つ、機械的振動の影響を受け
にくい装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明による電界放出走査型オージ
エ電子顕微鏡の主要部の略図である。第2図は、
従来のオージエ電子顕微鏡と、本発明によるオー
ジエ電子顕微鏡の性能を比較するグラフである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 電界放出源、試料支持装置、電界放出源と試
    料とを相互に変位させる走査手段、及びデータ処
    理回路を備えた電子検出器を有するオージエ電子
    顕微鏡において、上記電界放出源は、先端の半径
    が100nm以下の、鋭い先端部を有し、上記先端
    部は、上記試料の表面から1mm以下の一定距離に
    維持され、上記先端部と上記試料との間に電位差
    が保たれることを特徴とする電界放出走査型オー
    ジエ電子顕微鏡。
JP60253017A 1985-01-29 1985-11-13 電界放出走査型オ−ジエ電子顕微鏡 Granted JPS61176044A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP85100892A EP0189498B1 (en) 1985-01-29 1985-01-29 Field-emission scanning auger electron microscope
CH85100892.0 1985-01-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61176044A JPS61176044A (ja) 1986-08-07
JPH0445930B2 true JPH0445930B2 (ja) 1992-07-28

Family

ID=8193262

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60253017A Granted JPS61176044A (ja) 1985-01-29 1985-11-13 電界放出走査型オ−ジエ電子顕微鏡

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4698502A (ja)
EP (1) EP0189498B1 (ja)
JP (1) JPS61176044A (ja)
CN (1) CN1009145B (ja)
CA (1) CA1236592A (ja)
DE (1) DE3570012D1 (ja)
ES (1) ES8705995A1 (ja)
IN (1) IN166497B (ja)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0252745A3 (en) * 1986-07-11 1990-01-24 AGENCY OF INDUSTRIAL SCIENCE & TECHNOLOGY MINISTRY OF INTERNATIONAL TRADE & INDUSTRY Relative displacement control apparatus
JPS63304103A (ja) * 1987-06-05 1988-12-12 Hitachi Ltd 走査表面顕微鏡
JPH0319961U (ja) * 1988-06-20 1991-02-27
US5019707A (en) * 1989-03-23 1991-05-28 International Business Machines Corporation High speed waveform sampling with a tunneling microscope
DE3918249C1 (ja) * 1989-06-05 1990-09-13 Forschungszentrum Juelich Gmbh, 5170 Juelich, De
US5047649A (en) * 1990-10-09 1991-09-10 International Business Machines Corporation Method and apparatus for writing or etching narrow linewidth patterns on insulating materials
US5260577A (en) * 1992-11-09 1993-11-09 International Business Machines Corp. Sample carriage for scanning probe microscope
JP3153366B2 (ja) * 1992-12-04 2001-04-09 日本電子株式会社 走査トンネル顕微鏡
US5898176A (en) * 1994-12-27 1999-04-27 Japan Science And Technology Corp. Element analyzing method with a scanning type probe microscope and super short high voltage pulse applying method using the element analyzing method
JP2000106121A (ja) * 1998-07-29 2000-04-11 Jeol Ltd 電子顕微鏡あるいはその類似装置
US6399944B1 (en) * 1999-07-09 2002-06-04 Fei Company Measurement of film thickness by inelastic electron scattering
GB0002367D0 (en) * 2000-02-03 2000-03-22 Limited Spectrometer
SE0103781D0 (sv) * 2001-11-12 2001-11-12 Nanofactory Instruments Ab Mätanordning för elektronmikroskop
CN101366095B (zh) * 2005-12-02 2010-11-10 阿利斯公司 离子源、系统和方法
CN102496541B (zh) * 2011-12-08 2014-04-30 北京大学 一种场发射电子源发叉钨丝成型装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2151167C3 (de) * 1971-10-14 1974-05-09 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen Elektronenstrahl-Mikroanalysator mit Auger-Elektronen-Nachweis
US3809899A (en) * 1972-08-17 1974-05-07 Tektronix Inc Electron-beam tube including a thermionic-field emission cathode for a scanning electron microscope
CH643397A5 (de) * 1979-09-20 1984-05-30 Ibm Raster-tunnelmikroskop.
US4550257A (en) * 1984-06-29 1985-10-29 International Business Machines Corporation Narrow line width pattern fabrication
US4618767A (en) * 1985-03-22 1986-10-21 International Business Machines Corporation Low-energy scanning transmission electron microscope

Also Published As

Publication number Publication date
ES8705995A1 (es) 1987-05-16
DE3570012D1 (en) 1989-06-08
JPS61176044A (ja) 1986-08-07
EP0189498A1 (en) 1986-08-06
CN86100036A (zh) 1986-07-23
EP0189498B1 (en) 1989-05-03
ES551308A0 (es) 1987-05-16
CA1236592A (en) 1988-05-10
US4698502A (en) 1987-10-06
IN166497B (ja) 1990-05-19
CN1009145B (zh) 1990-08-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4618767A (en) Low-energy scanning transmission electron microscope
JP2602287B2 (ja) X線マスクの欠陥検査方法及びその装置
US6664546B1 (en) In-situ probe for optimizing electron beam inspection and metrology based on surface potential
JPH0445930B2 (ja)
US6627884B2 (en) Simultaneous flooding and inspection for charge control in an electron beam inspection machine
Janzen et al. A pulsed electron gun for ultrafast electron diffraction at surfaces
Pijper et al. Detection of energy-selected secondary electrons in coincidence with energy-loss events in thin carbon foils
KR102382493B1 (ko) 펠리클을 통한 포토마스크의 촬상을 위한 방법 및 시스템
JP2019035744A (ja) 透過型荷電粒子顕微鏡における回折パターン検出
US4665313A (en) Apparatus and method for displaying hole-electron pair distributions induced by electron bombardment
US6996492B1 (en) Spectrum simulation for semiconductor feature inspection
EP4330657A1 (en) Back-scatter electrons (bse) imaging with a sem in tilted mode using cap bias voltage
Thiel et al. Two-stage gas amplifier for ultrahigh resolution low vacuum scanning electron microscopy
US7855362B1 (en) Contamination pinning for auger analysis
US6060707A (en) Apparatus and method for analyzing microscopic area
US6992287B2 (en) Apparatus and method for image optimization of samples in a scanning electron microscope
JP2004500542A (ja) 電子出現分光法を用いる欠陥の化学分析
US7049588B2 (en) Device for measuring the emission of X-rays produced by an object exposed to an electron beam
JPS6360543A (ja) 試料の無充電検査法と装置
JP4954470B2 (ja) 電流測定装置
Diebold et al. Comparison of the submicron particle analysis capabilities of Auger electron spectroscopy, time-of-flight secondary ion mass spectrometry, and scanning electron microscopy with energy dispersive x-ray spectroscopy for particles deposited on silicon wafers with 1 μm thick oxide layers
JPH07174717A (ja) 元素分析方法及び元素分析装置
JPH082603Y2 (ja) X線分析装置
WO2025262940A1 (ja) 荷電粒子線装置および試料観察方法
JPH11307031A (ja) 分析電子顕微鏡

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees