JPH0446185A - モノハロゲノシランの製造方法 - Google Patents
モノハロゲノシランの製造方法Info
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- JPH0446185A JPH0446185A JP2154915A JP15491590A JPH0446185A JP H0446185 A JPH0446185 A JP H0446185A JP 2154915 A JP2154915 A JP 2154915A JP 15491590 A JP15491590 A JP 15491590A JP H0446185 A JPH0446185 A JP H0446185A
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、シリル化剤または種々の有機ケイ素化合物の
合成原料として有用なモノハロゲノシランの製造方法に
関するものである。
合成原料として有用なモノハロゲノシランの製造方法に
関するものである。
特開昭52−65226号公報にはハロゲン化されてい
ないジシロキサンからモノハロゲノシランを得る方法が
開示されている。これはハロゲン化されていないジシロ
キサン、即ち非ハロゲノジシロキサンとポリハロゲノシ
ランとをヘキサアルキルリン酸トリアミド塩酸塩の存在
下で反応させる方法である。しかしながら、近年、ヘキ
サメチルリン酸トリアミドが強い発がん性を有すること
が見いだされ、その入手、取扱い、廃液の処理が困難と
なっている。
ないジシロキサンからモノハロゲノシランを得る方法が
開示されている。これはハロゲン化されていないジシロ
キサン、即ち非ハロゲノジシロキサンとポリハロゲノシ
ランとをヘキサアルキルリン酸トリアミド塩酸塩の存在
下で反応させる方法である。しかしながら、近年、ヘキ
サメチルリン酸トリアミドが強い発がん性を有すること
が見いだされ、その入手、取扱い、廃液の処理が困難と
なっている。
本発明はこのような不都合のあるヘキサアルキルリン酸
トリアミド類を使用することなく、モノハロゲノシラン
を容易に高収率で得る方法を提供することを目的とする
。
トリアミド類を使用することなく、モノハロゲノシラン
を容易に高収率で得る方法を提供することを目的とする
。
前記の目的を達成するためになされた本発明の方法は、
−数式 %式%() で示されるオルガノジシロキサンと、 R式R’1Sj
X4−++
(11)で示されるポリハロゲノシランとを活性炭ま
たは数式 %式%[11) で示されるアンモニウム塩を触媒として再分配反応させ
て、−数式 %式%) で示されるモノハロゲノシランを得ることを特徴とする
方法であり、下記の式で示される。 (R’R2R”5ilJ + 2R’1lSIX4−
n活性炭またはR’R’R’R’NY 2R’R2R”SiX + (R’、、x3−、.
5z)zO始発原料として使用される前記(I)式で示
されるオルガノジシロキサンは、その式中のl(1,R
2およびR3が水素原子または一価の炭化水素基である
。この炭化水素基は、飽和もしくは不飽和の非環式脂肪
族炭化水素および環式脂肪族炭化水素、アリール基、ア
ラルキル基が例示される。さらにそれらの基に結合して
いる水素原子の一部がハロゲン原子、シアノ基等で置換
された基であってもよい。このような、R1,R2、R
3を持つ前記(I)式で示されるオルガノジシロキサン
としては、例えば1,1,3.3−テトラメチルジシロ
キサン、1.1,3゜3−テトラジイソプロビルジシロ
キサン、ヘキサメチルジシロキサン、1,1,3.3−
テトラメチル−1,3ジビニルジシロキサン、1.3−
ジアリル−1,1,3,3テトラメチルジシロキサン、
1.3−ジェチニル−I。 1.3.3−テトラメチルジシロキサン、1.3−シク
ロへキシル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサ
ン、1゜3−ジシアノエチル−1,1,3,3−ジメチ
ルジシロキサン、■、3−ジメチルー1.1,3.3−
テトラフエニルジシロキサンがある。 前記(IT)式で示されるポリハロゲノシランのR4は
、−価の炭化水素基であり、R1、R2およびR3と同
様の基が例示される。また、Xはハロゲン原子、nは0
かlまたは2を表わす。このポリハロゲノシランを具体
的に列記すると、例えばジメチルジクロロシラン、ジメ
チルジブロモシラン、メチルトリクロロシラン、ジフェ
ニルジクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、メチ
ルフエニルジクロロシラン、メチルビニルジクロロシラ
ン、テトラクロロシランがある。 前記(III )式で、アンモニウム塩のR’、R6、
R7は一価の炭化水素基、R8は水素原子または一価の
炭化水素基を表わす。−価の炭化水素基としてはR’、
R2およびR3と同様の基が例示される。また、式中
のYは一価の陰イオンを表わし、例えば塩素イオン、臭
素イオン、硫酸イオン、過塩素酸イオンがある。このア
ンモニウム塩の具体例は、例えばトリメチルアミン塩酸
塩、トリエチルアミン塩酸塩、トリーローブチルアミン
塩酸塩、ジメチルフェニルアミン臭酸塩等の三級アンモ
ニウム塩、テトラ−n−ブチルアンモニウムクロリド、
テトラ−n−ブチルアンモニウムプロミド、テトラメチ
ルアンモニウムサルフエイトの四級アンモニウム塩があ
る。 目的物である前記(IV )式の化合物としては、例え
ばジメチルクロロシラン、ジメチルビニルクロロシラン
、アリルジメチルクロロシラン、エチニルジメチルクロ
ロシラン、シアノエチルジメチルジクロロシラン、メチ
ルジフェニルク口ロシラン、ジイソプロピルクロロシラ
ン、トリメチルブロモシランがあげられる。 この反応は、オルガノジシロキサンとポリハロゲノシラ
ンとを活性炭またはアンモニウム塩と共にフラスコに仕
込み、ここへ水を少量添加し、数時間撹拌する。この反
応液を蒸留するとモノハロゲノシランが得られる。 反応に際し、触媒として使用される活性炭またはアンモ
ニウム塩は、広い範囲で変えることかでき、通常は反応
原料全体に対し、0.001〜80重量%、好ましくは
0.1〜10%の範囲で反応系に存在させることがよい
。また、反応温度は 0〜200℃。 好ましくは20〜150℃の間の温度とすることがよい
。 この再分配反応は酸性系において進行しやすいため、反
応が遅い場合少量の水あるいはプロトン系溶媒を添加し
てハロゲノシランと反応させ、酸を発生させると効果的
である。 なお、前記(ff+)式のアンモニウム塩で、三級アン
モニウム塩を使用するときは、三級アミンの状態で前記
2種の始発原料とともに反応器へ仕込んでもよい。そこ
へ酸の添加をするか、またはボッハロゲノシランと反応
して酸を発生する水あるいはアルコールのような化合物
の添加により系内で三級アンモニウム塩に変換できる。
−数式 %式%() で示されるオルガノジシロキサンと、 R式R’1Sj
X4−++
(11)で示されるポリハロゲノシランとを活性炭ま
たは数式 %式%[11) で示されるアンモニウム塩を触媒として再分配反応させ
て、−数式 %式%) で示されるモノハロゲノシランを得ることを特徴とする
方法であり、下記の式で示される。 (R’R2R”5ilJ + 2R’1lSIX4−
n活性炭またはR’R’R’R’NY 2R’R2R”SiX + (R’、、x3−、.
5z)zO始発原料として使用される前記(I)式で示
されるオルガノジシロキサンは、その式中のl(1,R
2およびR3が水素原子または一価の炭化水素基である
。この炭化水素基は、飽和もしくは不飽和の非環式脂肪
族炭化水素および環式脂肪族炭化水素、アリール基、ア
ラルキル基が例示される。さらにそれらの基に結合して
いる水素原子の一部がハロゲン原子、シアノ基等で置換
された基であってもよい。このような、R1,R2、R
3を持つ前記(I)式で示されるオルガノジシロキサン
としては、例えば1,1,3.3−テトラメチルジシロ
キサン、1.1,3゜3−テトラジイソプロビルジシロ
キサン、ヘキサメチルジシロキサン、1,1,3.3−
テトラメチル−1,3ジビニルジシロキサン、1.3−
ジアリル−1,1,3,3テトラメチルジシロキサン、
1.3−ジェチニル−I。 1.3.3−テトラメチルジシロキサン、1.3−シク
ロへキシル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサ
ン、1゜3−ジシアノエチル−1,1,3,3−ジメチ
ルジシロキサン、■、3−ジメチルー1.1,3.3−
テトラフエニルジシロキサンがある。 前記(IT)式で示されるポリハロゲノシランのR4は
、−価の炭化水素基であり、R1、R2およびR3と同
様の基が例示される。また、Xはハロゲン原子、nは0
かlまたは2を表わす。このポリハロゲノシランを具体
的に列記すると、例えばジメチルジクロロシラン、ジメ
チルジブロモシラン、メチルトリクロロシラン、ジフェ
ニルジクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、メチ
ルフエニルジクロロシラン、メチルビニルジクロロシラ
ン、テトラクロロシランがある。 前記(III )式で、アンモニウム塩のR’、R6、
R7は一価の炭化水素基、R8は水素原子または一価の
炭化水素基を表わす。−価の炭化水素基としてはR’、
R2およびR3と同様の基が例示される。また、式中
のYは一価の陰イオンを表わし、例えば塩素イオン、臭
素イオン、硫酸イオン、過塩素酸イオンがある。このア
ンモニウム塩の具体例は、例えばトリメチルアミン塩酸
塩、トリエチルアミン塩酸塩、トリーローブチルアミン
塩酸塩、ジメチルフェニルアミン臭酸塩等の三級アンモ
ニウム塩、テトラ−n−ブチルアンモニウムクロリド、
テトラ−n−ブチルアンモニウムプロミド、テトラメチ
ルアンモニウムサルフエイトの四級アンモニウム塩があ
る。 目的物である前記(IV )式の化合物としては、例え
ばジメチルクロロシラン、ジメチルビニルクロロシラン
、アリルジメチルクロロシラン、エチニルジメチルクロ
ロシラン、シアノエチルジメチルジクロロシラン、メチ
ルジフェニルク口ロシラン、ジイソプロピルクロロシラ
ン、トリメチルブロモシランがあげられる。 この反応は、オルガノジシロキサンとポリハロゲノシラ
ンとを活性炭またはアンモニウム塩と共にフラスコに仕
込み、ここへ水を少量添加し、数時間撹拌する。この反
応液を蒸留するとモノハロゲノシランが得られる。 反応に際し、触媒として使用される活性炭またはアンモ
ニウム塩は、広い範囲で変えることかでき、通常は反応
原料全体に対し、0.001〜80重量%、好ましくは
0.1〜10%の範囲で反応系に存在させることがよい
。また、反応温度は 0〜200℃。 好ましくは20〜150℃の間の温度とすることがよい
。 この再分配反応は酸性系において進行しやすいため、反
応が遅い場合少量の水あるいはプロトン系溶媒を添加し
てハロゲノシランと反応させ、酸を発生させると効果的
である。 なお、前記(ff+)式のアンモニウム塩で、三級アン
モニウム塩を使用するときは、三級アミンの状態で前記
2種の始発原料とともに反応器へ仕込んでもよい。そこ
へ酸の添加をするか、またはボッハロゲノシランと反応
して酸を発生する水あるいはアルコールのような化合物
の添加により系内で三級アンモニウム塩に変換できる。
以下、本発明の詳細な説明する。
実施例1
[トリメチルクロロシランの合成〕
撹拌機、還流冷却器、滴下ロートおよび温度計を備えた
1βの4つロフラスコにヘキサメチルジシロキサン32
4.8g(2,0mall、ジメチルジクロロシラン2
71.0g(2,1mo1.)および活性炭logを仕
込み、滴下ロートにて水1 、8g (0,1mol)
を室温下に添加しそのまま5時間撹拌した。この反応液
を蒸留したところ、トリメチルクロルシラン349.0
gが得られた(収率80.3%)。この物質は赤外スペ
クトル、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトルで確認
できた。 実施例2 [ジメチルビニルクロロシランの合成(1)11.1,
3.3−テトラメチル−1,3−ジビニルジシロキサン
372.8gf2.0mall、ジメチルジクロロシラ
ン271.0gf2.1mol)およびトリーn−ブチ
ルアミン塩酸塩1.1.1gf0.05mol)を仕込
み、ここへ水1.8g(0,1mo1.lを室温下に添
加し、そのまま5時間撹拌した。この反応液を蒸留した
ところジメチルビニルクロロシラン396.7gが得ら
れた(収率82.2%)。 この物質は赤外スペクトル、核磁気共鳴スペクトル、質
量スペクトルで確認できた。 実施例3 [ジメチルビニルクロロシランの合成(2)]実施例2
のトリーn−ブチルアミン塩酸塩をトリーn−ブチルア
ミン9.3g(0,05mo1.l に変更した以外は
同様にして反応をおこない、ジメチルビニルクロロシラ
ン388.8gが得られた(収率80.6%)。 この物質は赤外スペクトル、核磁気共鳴スペクトル、質
量スペクトルで確認できた。 実施例4 [ジメチルクロロシランの合成] 1.1,3.3−テトラメチルジシロキサン268.7
g (2,0mai1.ジメチルジクロロシラン271
.0g(2,1mo+、1およびテトラ−n−ブチルア
ンモニウムプロミド16.1g(0,05mol)を仕
込み、ここへ水1.8g(0,1mallを室温下に滴
下し、そのまま5時間撹拌した。この反応液を蒸留した
ところ、ジメチルクロロシラン283.5gが得られた
(収率74.9%)。この物質は赤外スペクトル、核磁
気共鳴スペクトル、質量スペクトルで確認できた。 実施例5 しアリルジメチルクロロシランの合成]1.3−ジアリ
ル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン428
.9g(2,0mall、メチルトリクロロシラン20
9.3g(1,4mol)およびテトラメチルアンモニ
ウムクロリド5.5g[0,05mall を仕込み、
ここへ水1.8g(0,1mol)を室温下に滴下し、
そのまま5時間撹拌した。この反応液を蒸留したところ
、アリルジメチルクロロシラン415.4gが得られた
(収率77.1%) この物質は赤外スペクトル、核磁
気共鳴スペクトル、質量スペクトルで確認できた。 実施例6 [シアノエチルジメチルクロロシランの合成11.3−
ジシアノエチル−1,1,3,3−テトラメチルジシロ
キサン480.9g[2,On+ol)、ジメチルジク
ロロシラン271.0g[0,1w+ol)およびトリ
ーn−ブチルアミン9.3g(0,05mo11を仕込
み、ここへ水1.8g(0,1mallを室温下に滴下
し、50℃で2時間撹拌した。この反応液を蒸留したと
ころ、シアノエチルジメチルクロロシラン407.6g
が得られた(収率69.0%)。 この物質は赤外スペクトル、核磁気共鳴スペクトル、質
量スペクトルで確認できた。
1βの4つロフラスコにヘキサメチルジシロキサン32
4.8g(2,0mall、ジメチルジクロロシラン2
71.0g(2,1mo1.)および活性炭logを仕
込み、滴下ロートにて水1 、8g (0,1mol)
を室温下に添加しそのまま5時間撹拌した。この反応液
を蒸留したところ、トリメチルクロルシラン349.0
gが得られた(収率80.3%)。この物質は赤外スペ
クトル、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトルで確認
できた。 実施例2 [ジメチルビニルクロロシランの合成(1)11.1,
3.3−テトラメチル−1,3−ジビニルジシロキサン
372.8gf2.0mall、ジメチルジクロロシラ
ン271.0gf2.1mol)およびトリーn−ブチ
ルアミン塩酸塩1.1.1gf0.05mol)を仕込
み、ここへ水1.8g(0,1mo1.lを室温下に添
加し、そのまま5時間撹拌した。この反応液を蒸留した
ところジメチルビニルクロロシラン396.7gが得ら
れた(収率82.2%)。 この物質は赤外スペクトル、核磁気共鳴スペクトル、質
量スペクトルで確認できた。 実施例3 [ジメチルビニルクロロシランの合成(2)]実施例2
のトリーn−ブチルアミン塩酸塩をトリーn−ブチルア
ミン9.3g(0,05mo1.l に変更した以外は
同様にして反応をおこない、ジメチルビニルクロロシラ
ン388.8gが得られた(収率80.6%)。 この物質は赤外スペクトル、核磁気共鳴スペクトル、質
量スペクトルで確認できた。 実施例4 [ジメチルクロロシランの合成] 1.1,3.3−テトラメチルジシロキサン268.7
g (2,0mai1.ジメチルジクロロシラン271
.0g(2,1mo+、1およびテトラ−n−ブチルア
ンモニウムプロミド16.1g(0,05mol)を仕
込み、ここへ水1.8g(0,1mallを室温下に滴
下し、そのまま5時間撹拌した。この反応液を蒸留した
ところ、ジメチルクロロシラン283.5gが得られた
(収率74.9%)。この物質は赤外スペクトル、核磁
気共鳴スペクトル、質量スペクトルで確認できた。 実施例5 しアリルジメチルクロロシランの合成]1.3−ジアリ
ル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン428
.9g(2,0mall、メチルトリクロロシラン20
9.3g(1,4mol)およびテトラメチルアンモニ
ウムクロリド5.5g[0,05mall を仕込み、
ここへ水1.8g(0,1mol)を室温下に滴下し、
そのまま5時間撹拌した。この反応液を蒸留したところ
、アリルジメチルクロロシラン415.4gが得られた
(収率77.1%) この物質は赤外スペクトル、核磁
気共鳴スペクトル、質量スペクトルで確認できた。 実施例6 [シアノエチルジメチルクロロシランの合成11.3−
ジシアノエチル−1,1,3,3−テトラメチルジシロ
キサン480.9g[2,On+ol)、ジメチルジク
ロロシラン271.0g[0,1w+ol)およびトリ
ーn−ブチルアミン9.3g(0,05mo11を仕込
み、ここへ水1.8g(0,1mallを室温下に滴下
し、50℃で2時間撹拌した。この反応液を蒸留したと
ころ、シアノエチルジメチルクロロシラン407.6g
が得られた(収率69.0%)。 この物質は赤外スペクトル、核磁気共鳴スペクトル、質
量スペクトルで確認できた。
本発明の方法によれば、有害なヘキサアルキルリン酸ト
リアミド系触媒を使用することなく、シリル化剤あるい
は種々の有機ケイ素化合物の合成原料として有用なモノ
ハロゲノシランを容易に高収率で得ることができる。 平成3年9月lO日 特許庁長官 深 沢 亘 殿 1、事件の表示 平成2年 特許願 第154915号 2、発明の名称 モノハロゲノシランの製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 信越化学工業株式会社 4、代 理 人 〒169 住 所 東京都新宿区高田馬場4丁目14番9号 補 正 明 細 書 1、発明の名称 モノハロゲノシランの製造方法 2、特許請求の範囲 1−数式 %式% で示されるオルガノジシロキサンと、−数式R’、5i
X4−r。 で示されるポリハロゲノシランとを、活性炭または一般
式 %式% で示されるアンモニウム塩を触媒として反応させ、−数
式 %式% で示されるモノハロゲノシラン(各式中、R’、R2、
R1、R8は水素原子または一価の炭化水素基、R4、
R’、 R’、R7は一価の炭化水素基、各炭化水素基
中の水素は置換または非置換、Xはハロゲン原子、Yは
一価の陰イオン、nは0かlまたは2を表わす)を得る
ことを特徴とするモノハロゲノシランの製造方法。 2、特許請求の範囲第1項記載の活性炭またはアンモニ
ウム塩はオルガノジシロキサンとポリハロゲノシランと
の総量に対し、 0.1−10重量%であることを特徴
とするモノハロゲノシランの製造方法。 3、特許請求の範囲第1項記載の反応の温度は20〜1
50℃であることを特徴とするモノハロゲノシランの製
造方法。 4、特許請求の範囲第1項記載の反応は酸性系で行なう
ことを特徴とするモノハロゲノシランの製造方法。 3、発明の詳細な説明
リアミド系触媒を使用することなく、シリル化剤あるい
は種々の有機ケイ素化合物の合成原料として有用なモノ
ハロゲノシランを容易に高収率で得ることができる。 平成3年9月lO日 特許庁長官 深 沢 亘 殿 1、事件の表示 平成2年 特許願 第154915号 2、発明の名称 モノハロゲノシランの製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 信越化学工業株式会社 4、代 理 人 〒169 住 所 東京都新宿区高田馬場4丁目14番9号 補 正 明 細 書 1、発明の名称 モノハロゲノシランの製造方法 2、特許請求の範囲 1−数式 %式% で示されるオルガノジシロキサンと、−数式R’、5i
X4−r。 で示されるポリハロゲノシランとを、活性炭または一般
式 %式% で示されるアンモニウム塩を触媒として反応させ、−数
式 %式% で示されるモノハロゲノシラン(各式中、R’、R2、
R1、R8は水素原子または一価の炭化水素基、R4、
R’、 R’、R7は一価の炭化水素基、各炭化水素基
中の水素は置換または非置換、Xはハロゲン原子、Yは
一価の陰イオン、nは0かlまたは2を表わす)を得る
ことを特徴とするモノハロゲノシランの製造方法。 2、特許請求の範囲第1項記載の活性炭またはアンモニ
ウム塩はオルガノジシロキサンとポリハロゲノシランと
の総量に対し、 0.1−10重量%であることを特徴
とするモノハロゲノシランの製造方法。 3、特許請求の範囲第1項記載の反応の温度は20〜1
50℃であることを特徴とするモノハロゲノシランの製
造方法。 4、特許請求の範囲第1項記載の反応は酸性系で行なう
ことを特徴とするモノハロゲノシランの製造方法。 3、発明の詳細な説明
本発明は、シリル化剤または種々の有機ケイ素化合物の
合成原料として有用なモノハロゲノシランの製造方法に
関するものである。
合成原料として有用なモノハロゲノシランの製造方法に
関するものである。
特開昭52−65226号公報にはハロゲン化されてい
ないジシロキサンからモノハロゲノシランを得る方4が
開示されている。これはハロゲン化されていないジシロ
キサン、即ち非ハロゲノジシロキサンとポリハロゲノシ
ランとをヘキサアルキルリン酸トリアミド塩酸塩の存在
下で反応させる方法である。しかしながら、近年、ヘキ
サメチルリン酸トリアミドが強い発がん性を有すること
が見いだされ、その入手、取扱い、廃液の処理が困難と
なっている。
ないジシロキサンからモノハロゲノシランを得る方4が
開示されている。これはハロゲン化されていないジシロ
キサン、即ち非ハロゲノジシロキサンとポリハロゲノシ
ランとをヘキサアルキルリン酸トリアミド塩酸塩の存在
下で反応させる方法である。しかしながら、近年、ヘキ
サメチルリン酸トリアミドが強い発がん性を有すること
が見いだされ、その入手、取扱い、廃液の処理が困難と
なっている。
本発明はこのような不都合のあるヘキサアルキルリン酸
トリアミド類を使用することなく、モノハロゲノシラン
を容易に高収率で得る方法を提供することを目的とする
。
トリアミド類を使用することなく、モノハロゲノシラン
を容易に高収率で得る方法を提供することを目的とする
。
前記の目的を達成するためになされた本発明の方法は、
−数式 %式%(1) で示されるオルガノジシロキサンと、−数式R’n5i
X4−n ([[)で示され
るポリハロゲノシランとを活性炭または一般式 %式%) で示されるアンモニウム塩を触媒として再分配反応させ
て、−数式 %式%) で示されるモノハロゲノシランを得ることを特徴とする
方法であり、下記の式で示される。 (R’R”R”5z)J + 2R’aSx14−a活
性炭マタはR’R’R’R”!IY 2)1’R”R″SzX + (R’aXm−as
z)J始発原料として使用される前記(I)式で示され
るオルガノジシロキサンは、その式中のR’、 R”お
よびR3が水素原子または一価の炭化水素基である。こ
の炭化水素基は、飽和もしくは不飽和の非環式脂肪族炭
化水素および環式脂肪族炭化水素、アリール基、アラル
キル基が例示される。さらにそれらの基に結合している
水素原子の一部がハロゲン原子、シアノ基等で置換され
た基であってもよい。このような、R1、R2、R3を
持つ前記(I)式で示されるオルガノジシロキサンとし
ては、例えば1,1.:1,3−テトラメチルジシロキ
サン、1,1,3゜3−テトラジイソプロビルジシロキ
サン、ヘキサメチルジシロキサン、1,1,3.3−テ
トラメチル−1,3ジビニルジシロキサン、1.3−ジ
アリル−1,1,3,3テトラメチルジシロキサン、1
.3−ジェチニル−1゜1.3.3−テトラメチルジシ
ロキサン、1.3−シクロへキシル−1,1,3,3−
テトラメチルジシロキサン、■。 3−ジシアノエチル−1,1,3,3−ジメチルジシロ
キサン、1.3−ジメチル−1、1,、3、3−テトラ
フエニルジシロキサンがある。 前記(ff)式で示されるポリハロゲノシランのR4は
、−価の炭化水素基であり、R’、 R”およびR3と
同様の基が例示される。また、Xはハロゲン原子、nは
0か1またば2を表わす。このポリハロゲノシランを具
体的に列記すると、例えばジメチルジクロロシラン、ジ
メチルジブロモシラン、メチルトリクロロシラン、ジフ
ェニルジクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、メ
チルフエニルジクロロシラン、メチルビニルジクロロシ
ラン、テトラクロロシランがある。 前記(III )式でアンモニウム塩のR@、R6、R
7は一価の炭化水素基、R8は水素原子または一価の炭
化水素基を表わす。−価の炭化水素基としてはR1、R
2およびR3と同様の基が例示される。また、式中のY
は一価の陰イオンを表わし、例えば塩素イオン、臭素イ
オン、硫酸イオン、過塩素酸イオンがある。このアンモ
ニウム塩の具体例は、例えばトリメチルアミン塩酸塩、
トリエチルアミン塩酸塩、トリーローブチルアミン塩酸
塩、ジメチルフェニルアミン臭酸塩等の三級アンモニウ
ム塩、テトラ−n−ブチルアンモニウムクロリド、テト
ラ−n−ブチルアンモニウムプロミド、テトラメチルア
ンモニウムサルフエイトの四級アンモニウム塩がある。 目的物である前記(rV)式の化合物としては、例えば
ジメチルクロロシラン、ジメチルビニルクロロシラン、
アリルジメチルクロロシラン、エチニルジメチルクロロ
シラン、シアノエチルジメチルジクロロシラン、メチル
ジフェニルク口口シラン、ジイソプロピルクロロシラン
、トリメチルブロモシランがあげられる。 この反応は、オルガノジシロキサンとポリハロゲノシラ
ンとを活性炭またはアンモニウム塩と共にフラスコに仕
込み、ここへ水を少量添加し、数時間撹拌する。この反
応液を蒸留するとモノハロゲノシランが得られる。 反応に際し、触媒として使用される活性炭またはアンモ
ニウム塩は、広い範囲で変えることができ、通常は反応
原料全体に対し、0.001〜80重量%、好ましくは
0.1〜10%の範囲で反応系に存在させることがよい
。また、反応温度はO〜2[10℃好ましくは20〜1
50℃の間の温度とすることがよい。 この再分配反応は酸性系において進行しやすいため、反
応が遅い場合少量の水あるいはプロトン系溶媒を添加し
てハロゲノシランと反応させ、酸を発生させると効果的
である。 なお、前記([TI)式のアンモニウム塩で、三級アン
モニウム塩を使用するときは、三級アミンの状態で前記
2種の始発原料とともに反応器、へ仕込んでもよい。そ
こへ酸の添加をするか、またはポリハロゲノシランと反
応して酸を発生する水あるいはアルコールのような化合
物の添加により系内で三級アンモニウム塩に変換できる
。
−数式 %式%(1) で示されるオルガノジシロキサンと、−数式R’n5i
X4−n ([[)で示され
るポリハロゲノシランとを活性炭または一般式 %式%) で示されるアンモニウム塩を触媒として再分配反応させ
て、−数式 %式%) で示されるモノハロゲノシランを得ることを特徴とする
方法であり、下記の式で示される。 (R’R”R”5z)J + 2R’aSx14−a活
性炭マタはR’R’R’R”!IY 2)1’R”R″SzX + (R’aXm−as
z)J始発原料として使用される前記(I)式で示され
るオルガノジシロキサンは、その式中のR’、 R”お
よびR3が水素原子または一価の炭化水素基である。こ
の炭化水素基は、飽和もしくは不飽和の非環式脂肪族炭
化水素および環式脂肪族炭化水素、アリール基、アラル
キル基が例示される。さらにそれらの基に結合している
水素原子の一部がハロゲン原子、シアノ基等で置換され
た基であってもよい。このような、R1、R2、R3を
持つ前記(I)式で示されるオルガノジシロキサンとし
ては、例えば1,1.:1,3−テトラメチルジシロキ
サン、1,1,3゜3−テトラジイソプロビルジシロキ
サン、ヘキサメチルジシロキサン、1,1,3.3−テ
トラメチル−1,3ジビニルジシロキサン、1.3−ジ
アリル−1,1,3,3テトラメチルジシロキサン、1
.3−ジェチニル−1゜1.3.3−テトラメチルジシ
ロキサン、1.3−シクロへキシル−1,1,3,3−
テトラメチルジシロキサン、■。 3−ジシアノエチル−1,1,3,3−ジメチルジシロ
キサン、1.3−ジメチル−1、1,、3、3−テトラ
フエニルジシロキサンがある。 前記(ff)式で示されるポリハロゲノシランのR4は
、−価の炭化水素基であり、R’、 R”およびR3と
同様の基が例示される。また、Xはハロゲン原子、nは
0か1またば2を表わす。このポリハロゲノシランを具
体的に列記すると、例えばジメチルジクロロシラン、ジ
メチルジブロモシラン、メチルトリクロロシラン、ジフ
ェニルジクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、メ
チルフエニルジクロロシラン、メチルビニルジクロロシ
ラン、テトラクロロシランがある。 前記(III )式でアンモニウム塩のR@、R6、R
7は一価の炭化水素基、R8は水素原子または一価の炭
化水素基を表わす。−価の炭化水素基としてはR1、R
2およびR3と同様の基が例示される。また、式中のY
は一価の陰イオンを表わし、例えば塩素イオン、臭素イ
オン、硫酸イオン、過塩素酸イオンがある。このアンモ
ニウム塩の具体例は、例えばトリメチルアミン塩酸塩、
トリエチルアミン塩酸塩、トリーローブチルアミン塩酸
塩、ジメチルフェニルアミン臭酸塩等の三級アンモニウ
ム塩、テトラ−n−ブチルアンモニウムクロリド、テト
ラ−n−ブチルアンモニウムプロミド、テトラメチルア
ンモニウムサルフエイトの四級アンモニウム塩がある。 目的物である前記(rV)式の化合物としては、例えば
ジメチルクロロシラン、ジメチルビニルクロロシラン、
アリルジメチルクロロシラン、エチニルジメチルクロロ
シラン、シアノエチルジメチルジクロロシラン、メチル
ジフェニルク口口シラン、ジイソプロピルクロロシラン
、トリメチルブロモシランがあげられる。 この反応は、オルガノジシロキサンとポリハロゲノシラ
ンとを活性炭またはアンモニウム塩と共にフラスコに仕
込み、ここへ水を少量添加し、数時間撹拌する。この反
応液を蒸留するとモノハロゲノシランが得られる。 反応に際し、触媒として使用される活性炭またはアンモ
ニウム塩は、広い範囲で変えることができ、通常は反応
原料全体に対し、0.001〜80重量%、好ましくは
0.1〜10%の範囲で反応系に存在させることがよい
。また、反応温度はO〜2[10℃好ましくは20〜1
50℃の間の温度とすることがよい。 この再分配反応は酸性系において進行しやすいため、反
応が遅い場合少量の水あるいはプロトン系溶媒を添加し
てハロゲノシランと反応させ、酸を発生させると効果的
である。 なお、前記([TI)式のアンモニウム塩で、三級アン
モニウム塩を使用するときは、三級アミンの状態で前記
2種の始発原料とともに反応器、へ仕込んでもよい。そ
こへ酸の添加をするか、またはポリハロゲノシランと反
応して酸を発生する水あるいはアルコールのような化合
物の添加により系内で三級アンモニウム塩に変換できる
。
以下、本発明の詳細な説明する。
実施例1
[トリメチルクロロシランの合成]
撹拌機、還流冷却器、滴下ロートおよび温度計を備えた
1βの4つロフラスコにヘキサメチルジシロキサン32
4.8g (2,(lsol)、ジメチルクロロシラン
271.(Ig(2,1■ol)および活性炭10gを
仕込み、滴下ロートにて水1.8g(0,1覆01)を
室温下に添加しそのまま5時間撹拌した。この反応液を
蒸留したところ、トリメチルクロルシラン349.0g
が得られた(収率803%)。この物質は赤外スペクト
ル、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトルで確認でき
た。核磁気共鳴スペクトルの測定結果は以下の通りであ
る。 ’HNMRfcDc131 : δ (ppml(
CHユ)、、5iC1 fCH113−0,40(9H,sl 実施例2 [ジメチルビニルクロロシランの合成(1)]1.1,
3.3−テトラメチル−1,3−ジビニルジシロキサン
372.8g(2,0■ol、l、ジメチルジクロロシ
ラン271.0gF2.l■allおよびトリーロープ
チルアミン塩酸塩11.1gfO,05wallを仕込
み、ここへ水L8g(0,1■ol)を室温下に添加し
、そのまま5時間撹拌した。この反応液を蒸留したとこ
ろジメチルビニルクロロシラン396.7gが得られた
(収率822%)。 この物質は赤外スペクトル、核磁気共鳴スペクトル、質
量スペクトルで確認できた。核磁気共鳴スペクトルの測
定結果は以下の通りである。 ’HNMRIC肛】3) δfppm)fcH,=
cH1(CH31、Si(:1fCH−1−=−0,4
4(6H,5lfcH,=c旧 −・・ 555〜6.
57 +3H,■)実施例3 〔ジメチルビニルクロロシランの合成(2)1実施例2
のトリーロープチルアミン塩酸塩をトリー〇−ブヂルア
ミン9.3g (Q、 (15扉oil に変更した以
外は同様にして反応をおこない、ジメチルビニルクロロ
シラン388.8gが得られた(収率80.6%)、。 この物質は赤外スペクトル、核磁気共鳴スベク1−ル、
質量スペクトルで確認できた。核磁気共鳴スペクトルの
測定結果は以下の通りである。 ’HNtlR(CDC13) 二 δ fppml
fcH□=cnl (CH−)zstcl((:H,1
2・−0,44f6H,5lfcH2=cH1・・・
5,55〜6.57 +3H,ml実施例4 [ジメチルクロロシランの合成] 1.1,3.3−テ1−ラメチルジシロキサン268.
7g +2.0■oli、ジメチルジクロロシラン27
1.0g(2,1■oliおよびテトラ−n−ブチルア
ンモニウムプロミド16、1g (0,05111ol
)を仕込み、ここへ水1.8g(0,1■ol)を室温
下に滴下し2そのまま5時間撹拌した。この反応液を蒸
留したところ、ジメチルク口口シラン283.5gが得
られた(収率74.9%)。この物質は赤外スペクトル
、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトルで確認できた
。核磁気共鳴スペクトルの測定結果は以下の通りである
。 ’F(NMRICCCl2、l : δ fp
p層)fcu312 (nlsi、ct (co、12 ・・−0,49(6H,di(旧
・・・ 4.81 fin、ql実施例5 [アリルジメチルクロロシランの合成]1.3−ジアリ
ル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン428
.9gF2.01all、メチルトリクロロシラン20
9、3g (1,4■allおよびテトラメチルアンモ
ニウムクロリド5.5g (0,05mall を仕込
み、ここへ水1.8g(0,1mo1.lを室温下に滴
下し、そのまま5時間撹拌した。この反応液を蒸留した
ところ、アリルジメチルクロロシラン415.4gが得
られた(収率77.1%)。この物質は赤外スペクトル
、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトルで確認できた
。核磁気共鳴スペクトルの測定結果を以下に示す。 ’HNMR(CDC1,31: δ (pp腸)(C
H,・CHCHzl fcH31−5tC1(CH,l
、 ・・・ 0.40(Cf(、:CHC
H21−・・ 1.71f6H,sl 〜1.84 (2H)1 [I j ′IC”’ CHCHz l ・・・ 4.7
0〜4.83 flL履)■ (ンC=CHCH1) ・−・ 4.94〜5−
01. (IH,■)((J12=CHCHzl
−・・ 5,37〜6.07 flH,■)実施例
6 [シアノエチルジメチルクロロシランの合成]■、3−
ジシアノエチル−1,1,3,3−テトラメチルジシロ
キサン480.9g f2.0■all、ジメチルジク
ロロシラン271.0g(2,1■allおよびトリー
〇−ブチルアミン9、3g [0,05mollを仕込
み、ここへ水1.8gf0.1mo1.1を室温下に滴
下し、50℃で2時間撹拌した。この反応液を蒸留した
ところ、シアノエチルジメチルクロロシラン407.6
gが得られた(収率69.0%)。 この物質は赤外スペクトル、核磁気共鳴スペクトル、質
量スペクトルで確認できた。核磁気共鳴スペクトルの測
定結果を以下に示す。 ’HNMR(CDC1zl : δ(+)I)■)f(
jf−CH2C121fcH312SiC1(CH31
g −0,48f6H,5l(CN−CH2(:
旦、1−1.17 (28,tl(CN−CH2Cl、
l−2,40(2)f、tl
1βの4つロフラスコにヘキサメチルジシロキサン32
4.8g (2,(lsol)、ジメチルクロロシラン
271.(Ig(2,1■ol)および活性炭10gを
仕込み、滴下ロートにて水1.8g(0,1覆01)を
室温下に添加しそのまま5時間撹拌した。この反応液を
蒸留したところ、トリメチルクロルシラン349.0g
が得られた(収率803%)。この物質は赤外スペクト
ル、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトルで確認でき
た。核磁気共鳴スペクトルの測定結果は以下の通りであ
る。 ’HNMRfcDc131 : δ (ppml(
CHユ)、、5iC1 fCH113−0,40(9H,sl 実施例2 [ジメチルビニルクロロシランの合成(1)]1.1,
3.3−テトラメチル−1,3−ジビニルジシロキサン
372.8g(2,0■ol、l、ジメチルジクロロシ
ラン271.0gF2.l■allおよびトリーロープ
チルアミン塩酸塩11.1gfO,05wallを仕込
み、ここへ水L8g(0,1■ol)を室温下に添加し
、そのまま5時間撹拌した。この反応液を蒸留したとこ
ろジメチルビニルクロロシラン396.7gが得られた
(収率822%)。 この物質は赤外スペクトル、核磁気共鳴スペクトル、質
量スペクトルで確認できた。核磁気共鳴スペクトルの測
定結果は以下の通りである。 ’HNMRIC肛】3) δfppm)fcH,=
cH1(CH31、Si(:1fCH−1−=−0,4
4(6H,5lfcH,=c旧 −・・ 555〜6.
57 +3H,■)実施例3 〔ジメチルビニルクロロシランの合成(2)1実施例2
のトリーロープチルアミン塩酸塩をトリー〇−ブヂルア
ミン9.3g (Q、 (15扉oil に変更した以
外は同様にして反応をおこない、ジメチルビニルクロロ
シラン388.8gが得られた(収率80.6%)、。 この物質は赤外スペクトル、核磁気共鳴スベク1−ル、
質量スペクトルで確認できた。核磁気共鳴スペクトルの
測定結果は以下の通りである。 ’HNtlR(CDC13) 二 δ fppml
fcH□=cnl (CH−)zstcl((:H,1
2・−0,44f6H,5lfcH2=cH1・・・
5,55〜6.57 +3H,ml実施例4 [ジメチルクロロシランの合成] 1.1,3.3−テ1−ラメチルジシロキサン268.
7g +2.0■oli、ジメチルジクロロシラン27
1.0g(2,1■oliおよびテトラ−n−ブチルア
ンモニウムプロミド16、1g (0,05111ol
)を仕込み、ここへ水1.8g(0,1■ol)を室温
下に滴下し2そのまま5時間撹拌した。この反応液を蒸
留したところ、ジメチルク口口シラン283.5gが得
られた(収率74.9%)。この物質は赤外スペクトル
、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトルで確認できた
。核磁気共鳴スペクトルの測定結果は以下の通りである
。 ’F(NMRICCCl2、l : δ fp
p層)fcu312 (nlsi、ct (co、12 ・・−0,49(6H,di(旧
・・・ 4.81 fin、ql実施例5 [アリルジメチルクロロシランの合成]1.3−ジアリ
ル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン428
.9gF2.01all、メチルトリクロロシラン20
9、3g (1,4■allおよびテトラメチルアンモ
ニウムクロリド5.5g (0,05mall を仕込
み、ここへ水1.8g(0,1mo1.lを室温下に滴
下し、そのまま5時間撹拌した。この反応液を蒸留した
ところ、アリルジメチルクロロシラン415.4gが得
られた(収率77.1%)。この物質は赤外スペクトル
、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトルで確認できた
。核磁気共鳴スペクトルの測定結果を以下に示す。 ’HNMR(CDC1,31: δ (pp腸)(C
H,・CHCHzl fcH31−5tC1(CH,l
、 ・・・ 0.40(Cf(、:CHC
H21−・・ 1.71f6H,sl 〜1.84 (2H)1 [I j ′IC”’ CHCHz l ・・・ 4.7
0〜4.83 flL履)■ (ンC=CHCH1) ・−・ 4.94〜5−
01. (IH,■)((J12=CHCHzl
−・・ 5,37〜6.07 flH,■)実施例
6 [シアノエチルジメチルクロロシランの合成]■、3−
ジシアノエチル−1,1,3,3−テトラメチルジシロ
キサン480.9g f2.0■all、ジメチルジク
ロロシラン271.0g(2,1■allおよびトリー
〇−ブチルアミン9、3g [0,05mollを仕込
み、ここへ水1.8gf0.1mo1.1を室温下に滴
下し、50℃で2時間撹拌した。この反応液を蒸留した
ところ、シアノエチルジメチルクロロシラン407.6
gが得られた(収率69.0%)。 この物質は赤外スペクトル、核磁気共鳴スペクトル、質
量スペクトルで確認できた。核磁気共鳴スペクトルの測
定結果を以下に示す。 ’HNMR(CDC1zl : δ(+)I)■)f(
jf−CH2C121fcH312SiC1(CH31
g −0,48f6H,5l(CN−CH2(:
旦、1−1.17 (28,tl(CN−CH2Cl、
l−2,40(2)f、tl
本発明の方法によれば、有害なヘキサアルキルリン酸ト
リアミド系触媒を使用することなく、シリル化剤あるい
は種々の有機ケイ素化合物の合成原料として有用なモノ
ハロゲノシランを容易に高収率で得ることができる。
リアミド系触媒を使用することなく、シリル化剤あるい
は種々の有機ケイ素化合物の合成原料として有用なモノ
ハロゲノシランを容易に高収率で得ることができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 (R^1R^2R^3Si)_2O で示されるオルガノジシロキサンと、一般式R^4_n
SiX_4_−_n で示されるポリハロゲノシランとを、活性炭または一般
式 R^5R^6R^7R^8NY で示されるアンモニウム塩を触媒として反応させ、一般
式 R^1R^2R^3SiX で示されるモノハロゲノシラン(各式中、R^1、R^
2、R^3、R^8は水素原子または一価の炭化水素基
、R^4、R^5、R^6、R^7は一価の炭化水素基
、各炭化水素基中の水素は置換または非置換、Xはハロ
ゲン原子、Yは一価の陰イオン、nは0か1または2を
表わす)を得ることを特徴とするモノハロゲノシランの
製造方法。 2、特許請求の範囲第1項記載の活性炭またはアンモニ
ウム塩はオルガノジシロキサンとポリハロゲノシランと
の総量に対し、0.1〜10重量%であることを特徴と
するモノハロゲノシランの製造方法。 3、特許請求の範囲第1項記載の反応の温度は20〜1
50℃であることを特徴とするモノハロゲノシランの製
造方法。 4、特許請求の範囲第1項記載の反応は酸性系で行なう
ことを特徴とするモノハロゲノシランの製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2154915A JP2851131B2 (ja) | 1990-06-13 | 1990-06-13 | モノハロゲノシランの製造方法 |
| EP19910109515 EP0461597B1 (en) | 1990-06-13 | 1991-06-10 | Method for preparing monohalogenosilanes |
| DE1991607692 DE69107692T2 (de) | 1990-06-13 | 1991-06-10 | Verfahren zur Herstellung von Monohalogenosilanen. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2154915A JP2851131B2 (ja) | 1990-06-13 | 1990-06-13 | モノハロゲノシランの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0446185A true JPH0446185A (ja) | 1992-02-17 |
| JP2851131B2 JP2851131B2 (ja) | 1999-01-27 |
Family
ID=15594743
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2154915A Expired - Fee Related JP2851131B2 (ja) | 1990-06-13 | 1990-06-13 | モノハロゲノシランの製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0461597B1 (ja) |
| JP (1) | JP2851131B2 (ja) |
| DE (1) | DE69107692T2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008246243A (ja) * | 2008-07-11 | 2008-10-16 | Fujishoji Co Ltd | 弾球遊技機 |
| JP2008246244A (ja) * | 2008-07-11 | 2008-10-16 | Fujishoji Co Ltd | 弾球遊技機 |
| JP2014084311A (ja) * | 2012-10-25 | 2014-05-12 | Adeka Corp | ジアルキルクロロシラン化合物の製造方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2798317B2 (ja) * | 1992-02-18 | 1998-09-17 | 信越化学工業株式会社 | モノクロロシラン類の製造方法 |
| CN114634524B (zh) * | 2020-12-16 | 2023-12-26 | 江西贝特利新材料有限公司 | 一种二甲基乙烯基氯硅烷的制备方法及其应用 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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