JPH0446205Y2 - - Google Patents
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- JPH0446205Y2 JPH0446205Y2 JP1986191497U JP19149786U JPH0446205Y2 JP H0446205 Y2 JPH0446205 Y2 JP H0446205Y2 JP 1986191497 U JP1986191497 U JP 1986191497U JP 19149786 U JP19149786 U JP 19149786U JP H0446205 Y2 JPH0446205 Y2 JP H0446205Y2
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/26—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/26—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
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- G01N27/30—Electrodes, e.g. test electrodes; Half-cells
- G01N27/333—Ion-selective electrodes or membranes
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- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
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- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、PH等イオン濃度を測定するために用
いられるイオン測定用シート型電極に関する。
いられるイオン測定用シート型電極に関する。
近時、PH等イオン濃度を測定する電極において
は、電極全体の構造の小型化、製造コストの低廉
化並びに操作性、保守性の改善を図るため、電極
をシート化することが行われるようになつてきて
いる。
は、電極全体の構造の小型化、製造コストの低廉
化並びに操作性、保守性の改善を図るため、電極
をシート化することが行われるようになつてきて
いる。
第７図Ａは本願出願人が昭和61年11月28日付で
出願したシート型のPH測定用複合電極の外観を示
し、第７図Ｂはそのうちの測定電極の断面を示す
もので、両図において、６１はポリエチレンフタ
レートのように、電解物質を含有する溶液中に浸
漬しても十分に高い電気絶縁性を有する材料から
なる基板である。６２はこの基板６１の上面に形
成された電極で、例えば所定の前処理を施した後
Agペーストをシルクスクリーン印刷することに
より形成され、その一部は例えばAgCl等の電極
材料で被覆された内部電極部６３に形成され、他
の部分はそのままリード部６４に形成してある。
出願したシート型のPH測定用複合電極の外観を示
し、第７図Ｂはそのうちの測定電極の断面を示す
もので、両図において、６１はポリエチレンフタ
レートのように、電解物質を含有する溶液中に浸
漬しても十分に高い電気絶縁性を有する材料から
なる基板である。６２はこの基板６１の上面に形
成された電極で、例えば所定の前処理を施した後
Agペーストをシルクスクリーン印刷することに
より形成され、その一部は例えばAgCl等の電極
材料で被覆された内部電極部６３に形成され、他
の部分はそのままリード部６４に形成してある。
６５は内部電極部６３に対応する個所に貫通孔
６６を有する例えばポリエチレンテレフタレート
のように、電解物質を含有する溶液中に浸漬して
も十分に高い電気絶縁性を有する材料からなる支
持層で、この支持層６５はリード線６４及びその
周辺を露出させる状態で基板６１の上に形成され
ている。
６６を有する例えばポリエチレンテレフタレート
のように、電解物質を含有する溶液中に浸漬して
も十分に高い電気絶縁性を有する材料からなる支
持層で、この支持層６５はリード線６４及びその
周辺を露出させる状態で基板６１の上に形成され
ている。
そして、貫通孔６６には例えばAgCl過飽和の
3.3N＝Kclに燐酸緩衝剤を添加した基本的な内部
液に、寒天等のゲル化剤とグリセリン等のゲル蒸
発防止剤とを添加して構成された円板型のゲル状
内部液６７が例えば加熱によりペースト状とした
上でスクリーン印刷法等により、自由状態におい
てその上面が支持層６５の上面よりも若干突出す
る状態に充填されて、内部電極部６３上に重ねて
設けられている。
3.3N＝Kclに燐酸緩衝剤を添加した基本的な内部
液に、寒天等のゲル化剤とグリセリン等のゲル蒸
発防止剤とを添加して構成された円板型のゲル状
内部液６７が例えば加熱によりペースト状とした
上でスクリーン印刷法等により、自由状態におい
てその上面が支持層６５の上面よりも若干突出す
る状態に充填されて、内部電極部６３上に重ねて
設けられている。
６８は平板状の選択性イオン応答膜で、その下
面がゲル状内部液６７の上面に密着し、かつ、こ
のゲル状内部液６７が貫通孔６６内に密封される
状態に、十分に高い電気絶縁性を有する接合材料
６９（例えばシランカツプリング剤等を含むシリ
コン系、エポキシ系、ウレタン系等の有機高分子
接着剤）を用いて、その周囲において支持層６５
の上面に固着され、測定電極に構成されている。
面がゲル状内部液６７の上面に密着し、かつ、こ
のゲル状内部液６７が貫通孔６６内に密封される
状態に、十分に高い電気絶縁性を有する接合材料
６９（例えばシランカツプリング剤等を含むシリ
コン系、エポキシ系、ウレタン系等の有機高分子
接着剤）を用いて、その周囲において支持層６５
の上面に固着され、測定電極に構成されている。
又、第７図Ａにおいて、７０はKClを含浸させ
た無機焼結多孔体又は有機高分子多孔体等からな
る液絡膜（液絡部材）で、その下面が他方のゲル
状内部液の上面に密着する状態に、その周囲にお
いて支持層６５の上面に接合され、比較電極に構
成されており、その内部構造は第７図Ｂに示す測
定電極と略同じである。７１は被検液ホルダ部で
ある。
た無機焼結多孔体又は有機高分子多孔体等からな
る液絡膜（液絡部材）で、その下面が他方のゲル
状内部液の上面に密着する状態に、その周囲にお
いて支持層６５の上面に接合され、比較電極に構
成されており、その内部構造は第７図Ｂに示す測
定電極と略同じである。７１は被検液ホルダ部で
ある。
而して、上記構成のものでは、例えば測定電極
において、選択性イオン応答膜６８と、内部電極
部６３及びリード部６４……とが基板６１の同一
平面上に設けられているため、次のような欠点が
ある。
において、選択性イオン応答膜６８と、内部電極
部６３及びリード部６４……とが基板６１の同一
平面上に設けられているため、次のような欠点が
ある。
即ち、被検液ホルダ部７１から被検液が溢れ出
たり、又、不用意に被検液を滴下する等してリー
ド部６４……に被検液が付着し、これによつてリ
ード部６４……において絶縁不良が生ずることが
ある。
たり、又、不用意に被検液を滴下する等してリー
ド部６４……に被検液が付着し、これによつてリ
ード部６４……において絶縁不良が生ずることが
ある。
又、選択性イオン応答膜６８が透光性である場
合は、外部の光が直接内部電極部６３に入射し、
これによつて測定時において光影響を受けるとい
つた欠点がある。
合は、外部の光が直接内部電極部６３に入射し、
これによつて測定時において光影響を受けるとい
つた欠点がある。
又、比較電極の方も同様な問題点がある。
本考案は、上述の事柄に留意してなされたもの
で、測定電極と比較電極とを有するイオン測定用
シート型電極を、操作ミスや不注意等による絶縁
不良の発生をなくし、かつ、光影響を受けること
なく正確に測定を行うことができるように構成す
ることを目的としている。
で、測定電極と比較電極とを有するイオン測定用
シート型電極を、操作ミスや不注意等による絶縁
不良の発生をなくし、かつ、光影響を受けること
なく正確に測定を行うことができるように構成す
ることを目的としている。
本考案は上述の目的を達成するための手段を以
下のように構成している。
下のように構成している。
すなわち、第１の内部液を介して第１の内部電
極と導通する選択性イオン応答膜と、第２の内部
液を介して第２の内部電極と導通する液絡部材と
を有するイオン測定用シート型電極にあつて、前
記第１の内部電極と第２の内部電極とが各々にリ
ード端子を一体に有して十分に高い絶縁性を有す
る基板の下面に被着形成され、その各リード端子
がその基板の端部に導出されるとともに、前記基
板の上下両面が十分に高い絶縁性を有する第１の
支持層と第２の支持層との間に挟着されて前記各
リード端子をその基板の端部とともに外部に突出
させ、前記第１の内部電極が、前記基板と第１の
支持層に開設した第１の貫通孔に充填された第１
の内部液を介して前記選択性イオンク応答膜と導
通接続され、その選択性イオン応答膜が前記第１
の支持層に開設した第１の貫通孔を封止するよう
にその第１の支持層の上面に被着される一方、前
記基板と第１の支持層および第２の支持層に第２
の貫通孔を開設し、その第２の貫通孔を介して前
記第２の内部電極と第２の内部液および液絡部材
とが導通接続され、その第２の内部液が前記第２
の支持層と底ケースとの間に保持されるととも
に、その液絡部材が前記第２の貫通孔を封止して
前記選択性イオン応答膜と離間した前記第１の支
持層の上面に露出して設けられていることを特徴
としている。
極と導通する選択性イオン応答膜と、第２の内部
液を介して第２の内部電極と導通する液絡部材と
を有するイオン測定用シート型電極にあつて、前
記第１の内部電極と第２の内部電極とが各々にリ
ード端子を一体に有して十分に高い絶縁性を有す
る基板の下面に被着形成され、その各リード端子
がその基板の端部に導出されるとともに、前記基
板の上下両面が十分に高い絶縁性を有する第１の
支持層と第２の支持層との間に挟着されて前記各
リード端子をその基板の端部とともに外部に突出
させ、前記第１の内部電極が、前記基板と第１の
支持層に開設した第１の貫通孔に充填された第１
の内部液を介して前記選択性イオンク応答膜と導
通接続され、その選択性イオン応答膜が前記第１
の支持層に開設した第１の貫通孔を封止するよう
にその第１の支持層の上面に被着される一方、前
記基板と第１の支持層および第２の支持層に第２
の貫通孔を開設し、その第２の貫通孔を介して前
記第２の内部電極と第２の内部液および液絡部材
とが導通接続され、その第２の内部液が前記第２
の支持層と底ケースとの間に保持されるととも
に、その液絡部材が前記第２の貫通孔を封止して
前記選択性イオン応答膜と離間した前記第１の支
持層の上面に露出して設けられていることを特徴
としている。
本考案においては、十分に高い電気絶縁性を有
する材料からなる基板の上面側には、被検液に接
する選択性イオン応答膜および液絡部材を設け、
下面側には、それぞれ対応する第１の内部電極と
第２の内部電極を設けるとともに各リード端子を
基板の端部下面に導出させているので、測定時に
は基板の絶縁特性を十二分に活用することがで
き、操作ミスや不注意等により被検液を滴下させ
たり溢れさせたりした場合にも各リード端子に被
検液が接触することがなく絶縁不良の発生が防止
できる。
する材料からなる基板の上面側には、被検液に接
する選択性イオン応答膜および液絡部材を設け、
下面側には、それぞれ対応する第１の内部電極と
第２の内部電極を設けるとともに各リード端子を
基板の端部下面に導出させているので、測定時に
は基板の絶縁特性を十二分に活用することがで
き、操作ミスや不注意等により被検液を滴下させ
たり溢れさせたりした場合にも各リード端子に被
検液が接触することがなく絶縁不良の発生が防止
できる。
又、例えば測定電極の選択性イオン応答膜が透
光性であつても、外部からの光は基板によつて遮
断されるので、その下面に被着形成されている内
部電極部に光が直接入射することがなく測定値に
光影響が生じるのが防止される。
光性であつても、外部からの光は基板によつて遮
断されるので、その下面に被着形成されている内
部電極部に光が直接入射することがなく測定値に
光影響が生じるのが防止される。
以下、本考案の実施例を、図面に基づいて説明
する。尚、ここでは、PH測定用シート型複合電極
を例に挙げて説明する。
する。尚、ここでは、PH測定用シート型複合電極
を例に挙げて説明する。
第１図は本考案に係るPH測定用シート型複合電
極の分解斜視図、第２図はその外観を示す斜視
図、第３図は部分展開断面図、そして、第４図は
第２図における−線に沿う断面図である。
極の分解斜視図、第２図はその外観を示す斜視
図、第３図は部分展開断面図、そして、第４図は
第２図における−線に沿う断面図である。
第１図乃至第４図において、１は例えばポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタ
レート、アクリル、ポリフツ化エチレン等の有機
高分子材料或いは石英ガラス、パイレツクスガラ
ス等の無機材料のように、電解物質を含有する溶
液中に浸漬しても十分に高い電気絶縁性を有する
材料から構成される基板（本例では、ポリエチレ
ンテレフタレート板）である。
チレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタ
レート、アクリル、ポリフツ化エチレン等の有機
高分子材料或いは石英ガラス、パイレツクスガラ
ス等の無機材料のように、電解物質を含有する溶
液中に浸漬しても十分に高い電気絶縁性を有する
材料から構成される基板（本例では、ポリエチレ
ンテレフタレート板）である。
この基板１の下面には、電気良導体であるAg，
Cu，Au，Pt等及びこれらの合金等のうちから選
ばれた金属或いはその金属を含むペースト又は
IrO2，SnO2等の半導体を、真空蒸着法、CVD法
等の物理的メツキ法或いは電解法、無電解法等の
化学的メツキ法又はシルクスクリーン法、凸版
法、平板法等の印刷法により、内外２対の電極２
Ａ，２Ｂ，３Ａ，３Ｂが付着形成されている（本
例では、基板１の下面にグラフト加工及びシラン
カツプリング剤等によるアンカー処理を施した上
で、Agペーストのシルクスクリーンをしてい
る）。
Cu，Au，Pt等及びこれらの合金等のうちから選
ばれた金属或いはその金属を含むペースト又は
IrO2，SnO2等の半導体を、真空蒸着法、CVD法
等の物理的メツキ法或いは電解法、無電解法等の
化学的メツキ法又はシルクスクリーン法、凸版
法、平板法等の印刷法により、内外２対の電極２
Ａ，２Ｂ，３Ａ，３Ｂが付着形成されている（本
例では、基板１の下面にグラフト加工及びシラン
カツプリング剤等によるアンカー処理を施した上
で、Agペーストのシルクスクリーンをしてい
る）。
そして、各電極２Ａ，２Ｂ，３Ａ，３Ｂにおけ
る基板１の一端縁部に位置する基端部分はその各
電極と一体に形成されたリード部（リード端子）
４Ａ，４Ｂ，５Ａ，５Ｂとされ、外側の一対の電
極２Ａ，２Ｂにおける基板１の略中央部に位置す
る他方の略円形先端部分は例えばAgCl等の電極
材料で被覆された（前記と同様に、物理的メツキ
法或いは化学的メツキ法又は印刷法等による）内
部電極部６Ａ（第１の内部電極）、６Ｂ（第２の内
部電極）に形成され、一方の内部電極部６Ａ（PH
測定電極側Ｐ）の略中央には電極スルーホールと
しての内面に導電処理が施してなる貫通孔（第１
の貫通孔）７が形成してあり、他方の内部電極部
６Ｂ（比較電極側Ｒ）の近傍には貫通孔（第２の
貫通孔）８が形成してある。７ａは貫通孔７内の
導電部である。又、内側の一対の電極３Ａ，３Ｂ
における基板１の略中央部に位置する他方の先端
部分間に亘つて例えばサーミスタ等の温度補償用
電極部９が設けられている。
る基板１の一端縁部に位置する基端部分はその各
電極と一体に形成されたリード部（リード端子）
４Ａ，４Ｂ，５Ａ，５Ｂとされ、外側の一対の電
極２Ａ，２Ｂにおける基板１の略中央部に位置す
る他方の略円形先端部分は例えばAgCl等の電極
材料で被覆された（前記と同様に、物理的メツキ
法或いは化学的メツキ法又は印刷法等による）内
部電極部６Ａ（第１の内部電極）、６Ｂ（第２の内
部電極）に形成され、一方の内部電極部６Ａ（PH
測定電極側Ｐ）の略中央には電極スルーホールと
しての内面に導電処理が施してなる貫通孔（第１
の貫通孔）７が形成してあり、他方の内部電極部
６Ｂ（比較電極側Ｒ）の近傍には貫通孔（第２の
貫通孔）８が形成してある。７ａは貫通孔７内の
導電部である。又、内側の一対の電極３Ａ，３Ｂ
における基板１の略中央部に位置する他方の先端
部分間に亘つて例えばサーミスタ等の温度補償用
電極部９が設けられている。
１０は基板１の上面に設けられた第１の支持層
で、基板１と同様に、十分に高い電気絶縁性を有
する材料（本例では、ポリエチレンテレフタレー
ト層）からなり、かつ、基板１に形成された一方
の内部電極部６Ａを貫通する孔７及び他方の内部
電極部６Ｂの近傍に設けられた貫通孔８にそれぞ
れ対応する個所に形成された貫通孔１１（第１の
貫通孔）、１２（第２の貫通孔）と、この貫通孔
１１を含むように基板１の上面側に所定の大きさ
を有するように形成された凹陥部１３とを備えて
いる。
で、基板１と同様に、十分に高い電気絶縁性を有
する材料（本例では、ポリエチレンテレフタレー
ト層）からなり、かつ、基板１に形成された一方
の内部電極部６Ａを貫通する孔７及び他方の内部
電極部６Ｂの近傍に設けられた貫通孔８にそれぞ
れ対応する個所に形成された貫通孔１１（第１の
貫通孔）、１２（第２の貫通孔）と、この貫通孔
１１を含むように基板１の上面側に所定の大きさ
を有するように形成された凹陥部１３とを備えて
いる。
この第１の支持層１０は例えばスクリーン印刷
法又は十分に高い電気絶縁性（例えば10MΩ以
上）を保証し得る接合剤（例えばポリオレフイン
系、シリコンレジン系等）を用いた熱融着手段を
用いて形成してある。尚、第１の支持層１０の上
面にもグラフト加工及びシランカツプリング剤等
によるアンカー処理を施されている。
法又は十分に高い電気絶縁性（例えば10MΩ以
上）を保証し得る接合剤（例えばポリオレフイン
系、シリコンレジン系等）を用いた熱融着手段を
用いて形成してある。尚、第１の支持層１０の上
面にもグラフト加工及びシランカツプリング剤等
によるアンカー処理を施されている。
１４は基板１の下面に設けられた第２の支持層
で、基板１及び第１の支持層１０と同様に、十分
に高い電気絶縁性を有する材料（本例では、ポリ
エチレンテレフタレート層）からなり、かつ、基
板１に形成された他方の内部電極部６Ｂ及び貫通
孔８にそれぞれ対応する個所に貫通孔１５及び１
６（第２の貫通孔）を備えている。この第２の支
持層１４の形成方法は第１の支持層１０と同様で
ある。
で、基板１及び第１の支持層１０と同様に、十分
に高い電気絶縁性を有する材料（本例では、ポリ
エチレンテレフタレート層）からなり、かつ、基
板１に形成された他方の内部電極部６Ｂ及び貫通
孔８にそれぞれ対応する個所に貫通孔１５及び１
６（第２の貫通孔）を備えている。この第２の支
持層１４の形成方法は第１の支持層１０と同様で
ある。
１７は第１の支持層１０の貫通孔１１内に装填
されたゲル状内部液（第１の内部液）で、例えば
AgCl過飽和の3.3N−KClに燐酸緩衝液を加えて
なる基本的な内部液に、ゲル化剤（例えば寒天、
ゼラチン、ニカワ、アルギン酸、各種アクリル系
吸水性ポリマー等）とゲル蒸発防止剤（例えばグ
リセリンやエチレングリコール等）とを添加して
例えば円盤状に形成されている。
されたゲル状内部液（第１の内部液）で、例えば
AgCl過飽和の3.3N−KClに燐酸緩衝液を加えて
なる基本的な内部液に、ゲル化剤（例えば寒天、
ゼラチン、ニカワ、アルギン酸、各種アクリル系
吸水性ポリマー等）とゲル蒸発防止剤（例えばグ
リセリンやエチレングリコール等）とを添加して
例えば円盤状に形成されている。
このゲル状内部液１７は例えば加熱によりペー
スト状とした上で、スクリーン印刷法により、自
由状態においてその上面が第１の支持層１０の上
面よりも若干突出する状態で充填されていて、所
定の大きさを有するように形成された平板状の選
択性イオン応答膜１８を、その下面がゲル状内部
液１７の上面に密着するように設けることによつ
て、貫通孔１１内に密封されると共に、貫通孔７
の導電部を介して内部電極部６Ａに接続される。
スト状とした上で、スクリーン印刷法により、自
由状態においてその上面が第１の支持層１０の上
面よりも若干突出する状態で充填されていて、所
定の大きさを有するように形成された平板状の選
択性イオン応答膜１８を、その下面がゲル状内部
液１７の上面に密着するように設けることによつ
て、貫通孔１１内に密封されると共に、貫通孔７
の導電部を介して内部電極部６Ａに接続される。
１９は選択性イオン応答膜１８をその周囲にお
いて、第１の支持層１０に対して固着するための
十分に高い電気絶縁性を有する接合材料で、例え
ばシランカツプリング剤等を含むシリコン系、エ
ポキシ系、ウレタン系等の高分子接着剤である。
いて、第１の支持層１０に対して固着するための
十分に高い電気絶縁性を有する接合材料で、例え
ばシランカツプリング剤等を含むシリコン系、エ
ポキシ系、ウレタン系等の高分子接着剤である。
２０は第１の支持層１０、基板１、第２の支持
層１４にそれぞれ対応する位置に形成された貫通
孔１２，８，１６を挿通するようにして装填され
た液絡部材であるゲル含浸親水性高分子多孔体
で、ゲル含浸親水性高分子多孔体２０は、化学的
に安定な親水性高分子粒体を焼結形成してなる親
水性高分子多孔体、例えばポリオレフインと同程
度の機械的強度を有し、かつ、変性処理によつて
親水性を付与したオレフイン系ハイポリマー粉体
の焼結成形体〔例えばサンフアインAQ（商品
名：旭化成社製）〕に、空気中に放置しておいて
もKClが析出したり、多孔体表面の湿潤さを失う
等ドライアウトしないゲル組成体、例えばアクリ
ル系ポリマーのNa塩を主成分とする含水ジエリ
ー〔例えばＵジエリー（商品名：昭和電工社製）〕
を含浸させてなるもので、第１の支持層１０の表
面より若干突出するように装填してあり、このゲ
ル含浸親水性高分子多孔体２０は比較電極の液絡
部として機能する。
層１４にそれぞれ対応する位置に形成された貫通
孔１２，８，１６を挿通するようにして装填され
た液絡部材であるゲル含浸親水性高分子多孔体
で、ゲル含浸親水性高分子多孔体２０は、化学的
に安定な親水性高分子粒体を焼結形成してなる親
水性高分子多孔体、例えばポリオレフインと同程
度の機械的強度を有し、かつ、変性処理によつて
親水性を付与したオレフイン系ハイポリマー粉体
の焼結成形体〔例えばサンフアインAQ（商品
名：旭化成社製）〕に、空気中に放置しておいて
もKClが析出したり、多孔体表面の湿潤さを失う
等ドライアウトしないゲル組成体、例えばアクリ
ル系ポリマーのNa塩を主成分とする含水ジエリ
ー〔例えばＵジエリー（商品名：昭和電工社製）〕
を含浸させてなるもので、第１の支持層１０の表
面より若干突出するように装填してあり、このゲ
ル含浸親水性高分子多孔体２０は比較電極の液絡
部として機能する。
２１はゲル状内部液（第２の内部液）で、その
化学的組成は上記ゲル状内部液１７と同様であ
り、貫通孔１５を介して内部電極部６Ｂと接触す
ると共に、ゲル親水性高分子多孔体２０とも接触
した状態にある。
化学的組成は上記ゲル状内部液１７と同様であ
り、貫通孔１５を介して内部電極部６Ｂと接触す
ると共に、ゲル親水性高分子多孔体２０とも接触
した状態にある。
２２は底ケース、２３は第１の支持層１０の周
囲に設けられた被検液ホルダである。
囲に設けられた被検液ホルダである。
而して、上記構成において、十分に高い電気絶
縁性を有する材料からなる基板１の上面側に形成
された被検液に接する選択性イオン応答膜１８
は、ゲル状内部液１７及び基板１に形成された貫
通孔７内の導電部７ａを介して、基板１の下面側
に形成された内部電極部６Ａと接続されることと
なり、他方、同様にして十分に高い電気絶縁性を
有する材料からなる基板１の上面側に形成された
ゲル含浸親水性高分子多孔体２０は、ゲル状内部
液２１を介して、基板１の下面側に形成された内
部電極部６Ｂと接続されることとなつて、所定の
PH測定を行うことができる。
縁性を有する材料からなる基板１の上面側に形成
された被検液に接する選択性イオン応答膜１８
は、ゲル状内部液１７及び基板１に形成された貫
通孔７内の導電部７ａを介して、基板１の下面側
に形成された内部電極部６Ａと接続されることと
なり、他方、同様にして十分に高い電気絶縁性を
有する材料からなる基板１の上面側に形成された
ゲル含浸親水性高分子多孔体２０は、ゲル状内部
液２１を介して、基板１の下面側に形成された内
部電極部６Ｂと接続されることとなつて、所定の
PH測定を行うことができる。
この場合、基板１の下面側には内部電極部６
Ａ，６Ｂ、リード部４Ａ，４Ｂ，５Ａ，５Ｂを形
成しているので、上記基板１の絶縁特性を十二分
に活用することができ、操作ミス等によるリード
部４Ａ，４Ｂ，５Ａ，５Ｂにおける絶縁不良の発
生が防止できる。つまり、不用意に被検液を滴下
させたり溢れさせたりした場合にも各リード部に
被検液を接触させることがない。
Ａ，６Ｂ、リード部４Ａ，４Ｂ，５Ａ，５Ｂを形
成しているので、上記基板１の絶縁特性を十二分
に活用することができ、操作ミス等によるリード
部４Ａ，４Ｂ，５Ａ，５Ｂにおける絶縁不良の発
生が防止できる。つまり、不用意に被検液を滴下
させたり溢れさせたりした場合にも各リード部に
被検液を接触させることがない。
又、選択性イオン応答膜１８が透光性であつて
も、外部からの光は基板１によつて遮断されるの
で、内部電極部６Ａに光が直接入射するのが防止
され、正確に測定を行うことができる。
も、外部からの光は基板１によつて遮断されるの
で、内部電極部６Ａに光が直接入射するのが防止
され、正確に測定を行うことができる。
上述の実施例においては、基板１に形成された
貫通孔７内に導電部７ａを形成していたが、第５
図に示すように、第２の支持層１４の内部電極部
６Ａに対応する位置に、貫通孔７と連通するよう
に貫通孔（第１の貫通孔）３０を形成し、この貫
通孔３０内にもゲル状内部液１７と同様組成のゲ
ル状内部液（第１の内部液）３１を充填するよう
にしてもよい。尚、同図において、３２はゲル状
内部液２１とゲル状内部液３１とが互いに接触し
ないように区画する第３の支持層で、第１の支持
層１０及び第２の支持層１４と同様にして形成さ
れる。
貫通孔７内に導電部７ａを形成していたが、第５
図に示すように、第２の支持層１４の内部電極部
６Ａに対応する位置に、貫通孔７と連通するよう
に貫通孔（第１の貫通孔）３０を形成し、この貫
通孔３０内にもゲル状内部液１７と同様組成のゲ
ル状内部液（第１の内部液）３１を充填するよう
にしてもよい。尚、同図において、３２はゲル状
内部液２１とゲル状内部液３１とが互いに接触し
ないように区画する第３の支持層で、第１の支持
層１０及び第２の支持層１４と同様にして形成さ
れる。
上記のように構成した場合、基板１の上面側の
選択性イオン応答膜１８は、ゲル状内部液１７及
びゲル状内部液３１を介して、基板１の下面側に
形成された内部電極部６Ａと接続されることとな
る。
選択性イオン応答膜１８は、ゲル状内部液１７及
びゲル状内部液３１を介して、基板１の下面側に
形成された内部電極部６Ａと接続されることとな
る。
又、比較電極として、第６図に示す構造のもの
を採用してもよい。即ち、同図において、２０′
はKClを含浸させた無機焼結多孔体又は有機高分
子多孔体からなる液絡膜（液絡部材）で、その下
面がゲル状内部液（第２の内部液）２１の上面に
密着する状態で、その周囲において高電気絶縁性
接合材料１９′を用いて第１の支持層１０、被検
液ホルダ２３に接合されている。尚、４０は第３
の支持層で、例えば第１の支持層１０と同様の材
料が用いられる。又、第６図において、第１図に
示すものと同じ構成部材については同一の符号は
付してその説明を省略した。
を採用してもよい。即ち、同図において、２０′
はKClを含浸させた無機焼結多孔体又は有機高分
子多孔体からなる液絡膜（液絡部材）で、その下
面がゲル状内部液（第２の内部液）２１の上面に
密着する状態で、その周囲において高電気絶縁性
接合材料１９′を用いて第１の支持層１０、被検
液ホルダ２３に接合されている。尚、４０は第３
の支持層で、例えば第１の支持層１０と同様の材
料が用いられる。又、第６図において、第１図に
示すものと同じ構成部材については同一の符号は
付してその説明を省略した。
本考案は、上記PH測定用シート型測定電極の
他、各種の測定電極（ガラス電極）、比較電極、
及びこれら両電極を組み合わせたイオン測定用の
複合電極に適用し得ることは云うまでもない。
他、各種の測定電極（ガラス電極）、比較電極、
及びこれら両電極を組み合わせたイオン測定用の
複合電極に適用し得ることは云うまでもない。
以上説明したように、本考案に係るイオン測定
用シート型電極は、十分に高い電極絶縁性を有す
る材料からなる基板の上面に、十分に高い電気絶
縁性を有する材料からなる第１の支持層を被着さ
せると共に、前記基板の下面に、リード端子を一
体に有する内部電極を被着させ、そのリード端子
を基板の端部とともに外部に突出させた状態で更
に、十分に高い電気絶縁性を有する材料からなる
第２の支持層を、前記基板の下面に被着させ内部
電極とそのリード端子とが基板を介して被検液が
滴下される反対側に設けられているので、操作ミ
スや不注意等による絶縁不良を防止することがで
き、又、たとえ透光性の選択性イオン応答膜を採
用しても、光影響を受けずに正確に測定を行うこ
とができるようになつた。
用シート型電極は、十分に高い電極絶縁性を有す
る材料からなる基板の上面に、十分に高い電気絶
縁性を有する材料からなる第１の支持層を被着さ
せると共に、前記基板の下面に、リード端子を一
体に有する内部電極を被着させ、そのリード端子
を基板の端部とともに外部に突出させた状態で更
に、十分に高い電気絶縁性を有する材料からなる
第２の支持層を、前記基板の下面に被着させ内部
電極とそのリード端子とが基板を介して被検液が
滴下される反対側に設けられているので、操作ミ
スや不注意等による絶縁不良を防止することがで
き、又、たとえ透光性の選択性イオン応答膜を採
用しても、光影響を受けずに正確に測定を行うこ
とができるようになつた。
第１図乃至第４図は本考案の一実施例を示し、
第１図は本考案を適用したPH測定用シート型電極
の分解斜視図、第２図はその外観を示す斜視図、
第３図は一部展開断面図、第４図は第２図におけ
る−線に沿う断面図である。第５図は本考案
の他の実施例を示す断面図、第６図は本考案の更
に他の実施例を示す一部を破断した斜視図であ
る。第７図Ａ及び第７図Ｂはそれぞれ従来技術を
説明するための斜視図である。 １……基板、４Ａ，４Ｂ……リード端子、６Ａ
……第１の内部電極、６Ｂ……第２の内部電極、
７，１１……第１の貫通孔、８，１２，１６，３
０……第２の貫通孔、１０……第１の支持層、１
４……第２の支持層、１７……第１の内部液、１
８……選択性イオン応答膜、２０……液絡部材、
２２……底ケース。
第１図は本考案を適用したPH測定用シート型電極
の分解斜視図、第２図はその外観を示す斜視図、
第３図は一部展開断面図、第４図は第２図におけ
る−線に沿う断面図である。第５図は本考案
の他の実施例を示す断面図、第６図は本考案の更
に他の実施例を示す一部を破断した斜視図であ
る。第７図Ａ及び第７図Ｂはそれぞれ従来技術を
説明するための斜視図である。 １……基板、４Ａ，４Ｂ……リード端子、６Ａ
……第１の内部電極、６Ｂ……第２の内部電極、
７，１１……第１の貫通孔、８，１２，１６，３
０……第２の貫通孔、１０……第１の支持層、１
４……第２の支持層、１７……第１の内部液、１
８……選択性イオン応答膜、２０……液絡部材、
２２……底ケース。
Claims (1)
- 第１の内部液を介して第１の内部電極と導通す
る選択性イオン応答膜と、第２の内部液を介して
第２の内部電極と導通する液絡部材とを有するイ
オン測定用シート型電極において、前記第１の内
部電極と第２の内部電極とが各々にリード端子を
一体に有して十分に高い絶縁性を有する基板の下
面に被着形成され、その各リード端子がその基板
の端部に導出されるとともに、前記基板の上下両
面が十分に高い絶縁性を有する第１の支持層と第
２の支持層との間に挟着されて前記各リード端子
をその基板の端部とともに外部に突出させ、前記
第１の内部電極が、前記基板と第１の支持層に開
設した第１の貫通孔に充填された第１の内部液を
介して前記選択性イオン応答膜と導通接続され、
その選択性イオン応答膜が前記第１の支持層に開
設した第１の貫通孔を封止するようにその第１の
支持層の上面に被着される一方、前記基板と第１
の支持層および第２の支持層に第２の貫通孔を開
設し、その第２の貫通孔を介して前記第２の内部
電極と第２の内部液および液絡部材とが導通接続
され、その第２の内部液が前記第２の支持層と底
ケースとの間に保持されるとともに、その液絡部
材が前記第２の貫通孔を封止して前記選択性イオ
ン応答膜と離間した前記第１の支持層の上面に露
出して設けられていることを特徴とするイオン測
定用シート型電極。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986191497U JPH0446205Y2 (ja) | 1986-12-11 | 1986-12-11 | |
| KR1019870012981A KR900005242B1 (ko) | 1986-12-11 | 1987-11-18 | 이온측정용 시이트형 전극 |
| US07/124,970 US4872966A (en) | 1986-12-11 | 1987-11-24 | Sheet type electrode for use in the measurement of ion concentrations |
| EP87118325A EP0271100B1 (en) | 1986-12-11 | 1987-12-10 | Sheet type electrode |
| ES198787118325T ES2033783T3 (es) | 1986-12-11 | 1987-12-10 | Electrodo de hoja. |
| CN87107351A CN1009960B (zh) | 1986-12-11 | 1987-12-10 | 离子测量中所用的片状电极 |
| DE8787118325T DE3780922T2 (de) | 1986-12-11 | 1987-12-10 | Blattaehnliche elektrode. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986191497U JPH0446205Y2 (ja) | 1986-12-11 | 1986-12-11 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6396456U JPS6396456U (ja) | 1988-06-22 |
| JPH0446205Y2 true JPH0446205Y2 (ja) | 1992-10-29 |
Family
ID=16275631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986191497U Expired JPH0446205Y2 (ja) | 1986-12-11 | 1986-12-11 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4872966A (ja) |
| EP (1) | EP0271100B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0446205Y2 (ja) |
| KR (1) | KR900005242B1 (ja) |
| CN (1) | CN1009960B (ja) |
| DE (1) | DE3780922T2 (ja) |
| ES (1) | ES2033783T3 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5310473A (en) * | 1986-03-19 | 1994-05-10 | Horiba Ltd. | Removable sample testing member for use in measuring ion concentration |
| US4980043A (en) * | 1986-12-11 | 1990-12-25 | Horiba, Ltd. | Reference electrode |
| JP5834599B2 (ja) * | 2011-08-01 | 2015-12-24 | オムロンヘルスケア株式会社 | センサヘッド、電気化学的センサおよび電気化学的センサの使用方法 |
| JP5740299B2 (ja) * | 2011-12-28 | 2015-06-24 | 株式会社堀場製作所 | 液膜型イオン選択性電極 |
| US10473610B2 (en) * | 2016-10-17 | 2019-11-12 | Akubic (Cayman) Limited | Planar ammonia selective sensing electrode and manufacturing method thereof |
| EP4516402A3 (en) * | 2020-12-21 | 2025-06-04 | F. Hoffmann-La Roche AG | Sensor assembly |
| WO2025216252A1 (ja) * | 2024-04-08 | 2025-10-16 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 電気化学式ガスセンサ、ガス検知装置、およびガス検知システム |
Family Cites Families (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3250688A (en) * | 1963-02-20 | 1966-05-10 | Beckman Instruments Inc | Electrochemical transducer and method of using the same |
| US3833495A (en) * | 1970-09-28 | 1974-09-03 | Gen Electric | Reference electrode half cell |
| US3957612A (en) * | 1974-07-24 | 1976-05-18 | General Electric Company | In vivo specific ion sensor |
| US3911901A (en) * | 1974-07-24 | 1975-10-14 | Gen Electric | In vivo hydrogen ion sensor |
| US4105509A (en) * | 1975-02-28 | 1978-08-08 | Leeds & Northrup Company | Combination measuring and reference potential electrode and method of measuring ph in samples subject to large voltage gradients |
| US4280889A (en) * | 1976-03-11 | 1981-07-28 | Honeywell Inc. | Solid state ion responsive and reference electrodes |
| US4053381A (en) * | 1976-05-19 | 1977-10-11 | Eastman Kodak Company | Device for determining ionic activity of components of liquid drops |
| US4133735A (en) * | 1977-09-27 | 1979-01-09 | The Board Of Regents Of The University Of Washington | Ion-sensitive electrode and processes for making the same |
| US4180771A (en) * | 1977-12-02 | 1979-12-25 | Airco, Inc. | Chemical-sensitive field-effect transistor |
| US4282079A (en) * | 1980-02-13 | 1981-08-04 | Eastman Kodak Company | Planar glass ion-selective electrode |
| EP0061810A3 (fr) * | 1981-03-31 | 1984-10-10 | Philippe Bogard | Dispositif de détection à électrode à élément sensible solide et son procédé de préparation |
| FR2510260A1 (fr) * | 1981-07-24 | 1983-01-28 | Suisse Fond Rech Microtech | Dispositif semiconducteur sensible aux ions |
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| US4468271A (en) * | 1982-10-28 | 1984-08-28 | Eastman Kodak Company | Method of making a device for determining analyte activity |
| US4454007A (en) * | 1983-01-27 | 1984-06-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ion-selective layered sensor and methods of making and using the same |
| FR2541462A1 (fr) * | 1983-02-17 | 1984-08-24 | Texaim | Electrode de reference electrochimique miniature |
| US4508613A (en) * | 1983-12-19 | 1985-04-02 | Gould Inc. | Miniaturized potassium ion sensor |
| EP0154147B1 (en) * | 1984-01-25 | 1989-04-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Apparatus for measuring ionic activity |
| JPS60260844A (ja) * | 1984-06-07 | 1985-12-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | イオン活量測定器具 |
| US4549951A (en) * | 1984-09-11 | 1985-10-29 | Sentech Medical Corporation | Ion selective electrode |
| DE3687646T3 (de) * | 1985-06-21 | 2001-05-31 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Biosensor und dessen herstellung. |
| JPS629264A (ja) * | 1985-07-05 | 1987-01-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | イオン活量測定方法および測定器具 |
| US4789435A (en) * | 1985-08-15 | 1988-12-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method and device of measuring ion activity |
| US4592824A (en) * | 1985-09-13 | 1986-06-03 | Centre Suisse D'electronique Et De Microtechnique S.A. | Miniature liquid junction reference electrode and an integrated solid state electrochemical sensor including the same |
| US4713165A (en) * | 1986-07-02 | 1987-12-15 | Ilex Corporation | Sensor having ion-selective electrodes |
-
1986
- 1986-12-11 JP JP1986191497U patent/JPH0446205Y2/ja not_active Expired
-
1987
- 1987-11-18 KR KR1019870012981A patent/KR900005242B1/ko not_active Expired
- 1987-11-24 US US07/124,970 patent/US4872966A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-12-10 DE DE8787118325T patent/DE3780922T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-12-10 EP EP87118325A patent/EP0271100B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-12-10 ES ES198787118325T patent/ES2033783T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1987-12-10 CN CN87107351A patent/CN1009960B/zh not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4872966A (en) | 1989-10-10 |
| EP0271100A2 (en) | 1988-06-15 |
| DE3780922T2 (de) | 1993-03-18 |
| EP0271100A3 (en) | 1990-05-02 |
| CN1009960B (zh) | 1990-10-10 |
| ES2033783T3 (es) | 1993-04-01 |
| JPS6396456U (ja) | 1988-06-22 |
| CN87107351A (zh) | 1988-06-22 |
| KR900005242B1 (ko) | 1990-07-21 |
| KR880008017A (ko) | 1988-08-30 |
| EP0271100B1 (en) | 1992-08-05 |
| DE3780922D1 (de) | 1992-09-10 |
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