JPH0447061B2 - - Google Patents
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- JPH0447061B2 JPH0447061B2 JP6821984A JP6821984A JPH0447061B2 JP H0447061 B2 JPH0447061 B2 JP H0447061B2 JP 6821984 A JP6821984 A JP 6821984A JP 6821984 A JP6821984 A JP 6821984A JP H0447061 B2 JPH0447061 B2 JP H0447061B2
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- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 13
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 12
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 10
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- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 3
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 11
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、織機の緯糸フイーラの改良に関する
もので、その目的とするところは緯糸探知精度の
高い緯糸フイーラを提供するにある。
もので、その目的とするところは緯糸探知精度の
高い緯糸フイーラを提供するにある。
周知のとおり、流体噴射式無杼織機において
は、ヘルド動作によつて各ピツク毎に開口された
緯糸の間に緯糸が正常に挿通されたかどうかを探
り、異常があつた時にその作動を停止させる制御
手段として緯糸フイーラを必要とする。
は、ヘルド動作によつて各ピツク毎に開口された
緯糸の間に緯糸が正常に挿通されたかどうかを探
り、異常があつた時にその作動を停止させる制御
手段として緯糸フイーラを必要とする。
従来、かゝる制御手段としての緯糸フイーラに
は、いわゆる機械系に属するものと光学系に属す
るものとがあるけれども、機械系のものは慣性抵
抗の影響が不可避的で近来の高速度織機には的確
に追従し得ないところから、いきおい最近では追
従性の面で有利な光学系の緯糸フイーラが有望視
されている。
は、いわゆる機械系に属するものと光学系に属す
るものとがあるけれども、機械系のものは慣性抵
抗の影響が不可避的で近来の高速度織機には的確
に追従し得ないところから、いきおい最近では追
従性の面で有利な光学系の緯糸フイーラが有望視
されている。
ところが、光学系のものは緯糸の飛走路に探査
光を照射し、照射下にある飛走路の緯糸の有無に
よつて増減する反射光の光量変化に光電素子を応
動させて探査信号を得るという方式が採用されて
いるため、如何にして反射光の光量変化を正確に
探知するか、あるいは、如何にして光量変化を探
知し易いように大きくするかが問題となる。
光を照射し、照射下にある飛走路の緯糸の有無に
よつて増減する反射光の光量変化に光電素子を応
動させて探査信号を得るという方式が採用されて
いるため、如何にして反射光の光量変化を正確に
探知するか、あるいは、如何にして光量変化を探
知し易いように大きくするかが問題となる。
従来、特公昭54−24501号や実公昭61−11262
号、特開昭57−117651号などが提案されて、緯入
による光量の変化の把握を確実に探知せんとされ
てきた。この内、特公昭54−24501号は、光源の
光をレンズで平行光線にして照射し、照射面から
の反射光をオプチカル・フアイバーで受光器へ送
り返すものであるが、織機の設計上、光源と飛走
路照射面とをかなりの距離離さなければならない
ので、レンズで集光した程度では、照射される探
照光の明るさが充分ではないという欠点があり、
また、オプチカル・フアイバーは光受光面の大き
さに限界があつて、受光伝送できる反射光量に限
界があるという欠点があつた。また、実公昭61−
11262号は、光源から直接照射し、反射光をレン
ズで集光しながら受光器へと導くものであるが、
やはり、光源と照射面との距離のため、探照光量
が不十分であるという欠点があつたのであり、特
開昭57−117651号は、探照光をオプチカル・フア
イバーで伝送し、反射光をオプチカル・フアイバ
ーで返送するもので、照射面正面に探照光照射用
のオプチカル・フアイバーと反射光受光用のオプ
チカル・フアイバーとを共に配置しなければなら
ないため、照射用のオプチカル・フアイバーの照
射面も受光用のオプチカル・フアイバーの受光面
も面積が小さくなつて、受光器で受光できる反射
光が少なくなるという欠点があつたのである。
号、特開昭57−117651号などが提案されて、緯入
による光量の変化の把握を確実に探知せんとされ
てきた。この内、特公昭54−24501号は、光源の
光をレンズで平行光線にして照射し、照射面から
の反射光をオプチカル・フアイバーで受光器へ送
り返すものであるが、織機の設計上、光源と飛走
路照射面とをかなりの距離離さなければならない
ので、レンズで集光した程度では、照射される探
照光の明るさが充分ではないという欠点があり、
また、オプチカル・フアイバーは光受光面の大き
さに限界があつて、受光伝送できる反射光量に限
界があるという欠点があつた。また、実公昭61−
11262号は、光源から直接照射し、反射光をレン
ズで集光しながら受光器へと導くものであるが、
やはり、光源と照射面との距離のため、探照光量
が不十分であるという欠点があつたのであり、特
開昭57−117651号は、探照光をオプチカル・フア
イバーで伝送し、反射光をオプチカル・フアイバ
ーで返送するもので、照射面正面に探照光照射用
のオプチカル・フアイバーと反射光受光用のオプ
チカル・フアイバーとを共に配置しなければなら
ないため、照射用のオプチカル・フアイバーの照
射面も受光用のオプチカル・フアイバーの受光面
も面積が小さくなつて、受光器で受光できる反射
光が少なくなるという欠点があつたのである。
本発明は従来の緯糸フイーラに上記の問題点が
あつたことに鑑みてなされたもので、より検出精
度の高い光探照式の緯糸フイーラを提供すること
を技術的課題とするものである。
あつたことに鑑みてなされたもので、より検出精
度の高い光探照式の緯糸フイーラを提供すること
を技術的課題とするものである。
本発明において、上記課題解決のために採用さ
れた手段は、次のとおりである。
れた手段は、次のとおりである。
即ち、本発明によれば、多数のオプチカルフア
イバーの密束体であつて、一方の端面側に配置さ
れた投光源が発生する探照光を伝送して、もう一
方の端面より目標方向へ面状に投射し緯糸飛走路
に一定範囲のクリア探照区域を形成せしめる光伝
送手段と; この光伝送手段が形成するクリア探照区域に照
応合致する探査区域を緯糸飛走路上に有し、照応
合致する探照・探査区域内における緯糸の有無に
よつて増減される反射光をシリンダレンズで集光
すると共に、該集光を感知しながら、その光量変
化に感応して緯入探査信号を出力する緯入探査手
段とを包含することを特徴とした緯糸フイーラが
提供される。
イバーの密束体であつて、一方の端面側に配置さ
れた投光源が発生する探照光を伝送して、もう一
方の端面より目標方向へ面状に投射し緯糸飛走路
に一定範囲のクリア探照区域を形成せしめる光伝
送手段と; この光伝送手段が形成するクリア探照区域に照
応合致する探査区域を緯糸飛走路上に有し、照応
合致する探照・探査区域内における緯糸の有無に
よつて増減される反射光をシリンダレンズで集光
すると共に、該集光を感知しながら、その光量変
化に感応して緯入探査信号を出力する緯入探査手
段とを包含することを特徴とした緯糸フイーラが
提供される。
以下、本発明の構成を図示の実施例に従つて説
明する。
明する。
第1図は、本発明原理を利用して構成された反
射型緯糸フイーラの全体を示す斜視図で、後述の
緯入探査手段1が、緯糸Wの飛走するリード2前
面の緯糸飛走路に対向併設されている。この緯入
探査手段1の両側には光源4から二乂に分岐して
延びるオプチカルフアイバーの密束体からなる光
伝送手段3の一方の端面3a,3aが配置され
る。この端面3a,3aは、反対側の端面に配置
された投光源4(半導体レーザーを使用)が発生
する光線を探照光として探査手段1の前方正面を
平行投射する箇所であり、この端面3aに対応す
る面積のクリア探照区域Sを緯糸飛走路の探査手
段1前方に大きな照度差をもつて判然と形成せし
める。同図中、5は増巾器、6は織機の主軸と同
期して駆動するカムスイツチ、7は比較器、8は
シキイ値設定器、9は停止信号発生器である。
射型緯糸フイーラの全体を示す斜視図で、後述の
緯入探査手段1が、緯糸Wの飛走するリード2前
面の緯糸飛走路に対向併設されている。この緯入
探査手段1の両側には光源4から二乂に分岐して
延びるオプチカルフアイバーの密束体からなる光
伝送手段3の一方の端面3a,3aが配置され
る。この端面3a,3aは、反対側の端面に配置
された投光源4(半導体レーザーを使用)が発生
する光線を探照光として探査手段1の前方正面を
平行投射する箇所であり、この端面3aに対応す
る面積のクリア探照区域Sを緯糸飛走路の探査手
段1前方に大きな照度差をもつて判然と形成せし
める。同図中、5は増巾器、6は織機の主軸と同
期して駆動するカムスイツチ、7は比較器、8は
シキイ値設定器、9は停止信号発生器である。
しかして、緯入探査手段1が出力する緯入探査
信号は増巾器5に入力され、この増巾器5におい
て増巾された検知信号はカムスイツチ6を介して
所定のタイミングで比較器7に入力される。比較
器7においては、シキイ値設定器8からのシキイ
値入力信号とカムスイツチ6から間歇的に入力さ
れる検知信号とを比較し、検知信号の電位が前記
しきい値入力信号よりも低い場合にのみ異常緯入
信号を発し、停止信号発生器9を作動させること
によつて織機を停止せしめるのである。
信号は増巾器5に入力され、この増巾器5におい
て増巾された検知信号はカムスイツチ6を介して
所定のタイミングで比較器7に入力される。比較
器7においては、シキイ値設定器8からのシキイ
値入力信号とカムスイツチ6から間歇的に入力さ
れる検知信号とを比較し、検知信号の電位が前記
しきい値入力信号よりも低い場合にのみ異常緯入
信号を発し、停止信号発生器9を作動させること
によつて織機を停止せしめるのである。
本発明においては、第2図に示すように、探照
光は光伝送手段3で伝送されて、投光端面3aに
対する必要最小限の飛走路範囲のみを探照するに
すぎないので、緯糸Wに当たつて反射される帰還
光量Lsはノイズとなる他の反射光量Lnに対する
比率(Ls/Ls+Ln)が相対的に大きくなる。ま
た、投光端面3aからの探照光は平行光線成分が
多いので高密度にして指向性に富んでおり、不要
な方向に探照光が拡散して信号電位を低下させた
り、あるいは拡散光の緯入探査手段1への直接入
射といつた所謂カブリ現象から誤動作を起こすこ
ともない。したがつて、このクリア探照区域Sに
照応合致する探査区域内においては、緯糸有無に
対応する光量変化Lsが精度よく緯入探査手段1
によつて高精度で感知されることになり、緯糸探
知精度は飛躍的に向上する。
光は光伝送手段3で伝送されて、投光端面3aに
対する必要最小限の飛走路範囲のみを探照するに
すぎないので、緯糸Wに当たつて反射される帰還
光量Lsはノイズとなる他の反射光量Lnに対する
比率(Ls/Ls+Ln)が相対的に大きくなる。ま
た、投光端面3aからの探照光は平行光線成分が
多いので高密度にして指向性に富んでおり、不要
な方向に探照光が拡散して信号電位を低下させた
り、あるいは拡散光の緯入探査手段1への直接入
射といつた所謂カブリ現象から誤動作を起こすこ
ともない。したがつて、このクリア探照区域Sに
照応合致する探査区域内においては、緯糸有無に
対応する光量変化Lsが精度よく緯入探査手段1
によつて高精度で感知されることになり、緯糸探
知精度は飛躍的に向上する。
また、緯入探査手段1が有する探査区域と光伝
送手段3が形成するクリア探照区域との照応合致
を具体的に実現する仕組は、第4図に表される。
送手段3が形成するクリア探照区域との照応合致
を具体的に実現する仕組は、第4図に表される。
まず、緯入探査手段1は、探照区域からの帰還
探照光の増減に応じて光電効果を生ずる受光素子
(例えば、ホトダイオード、ホトセル等々)とシ
リンダレンズ10を含む。一方、光伝送手段3の
投光端面3aから平行投射された光は緯入探査手
段1の前方に高濃度のクリア探照区域を形成する
が、このクリア探照区域に対しては前記受光素子
との間にシリンダレンズ10が介在してあり、こ
のシリンダレンズ10の焦線距離が前記探照区域
Sをカバーできるように設定してあるので、当該
探照区域からの帰還探照光は漏れなく捕促される
ことになるのである。
探照光の増減に応じて光電効果を生ずる受光素子
(例えば、ホトダイオード、ホトセル等々)とシ
リンダレンズ10を含む。一方、光伝送手段3の
投光端面3aから平行投射された光は緯入探査手
段1の前方に高濃度のクリア探照区域を形成する
が、このクリア探照区域に対しては前記受光素子
との間にシリンダレンズ10が介在してあり、こ
のシリンダレンズ10の焦線距離が前記探照区域
Sをカバーできるように設定してあるので、当該
探照区域からの帰還探照光は漏れなく捕促される
ことになるのである。
また、緯入探査手段1と光伝送手段3との配置
構成は、第3図a〜dに示すごとく、各種の構成
を採用することができる。第3図aに示される配
置例においては、焦線に直交する方向に2分され
たシリンダレンズ10の間にオプチカル・フアイ
バーが挿入配置され、第3図c,dに示す例にお
いては、中心に穿孔されたシリンダレンズ10に
オプチカル・フアイバーの端面3aが挿入されて
いる。第3図bにおいては、オプチカル・フアイ
バーはシリンダレンズ10を取り巻くように配置
され、4方向から探照面に探照光を照射している
のである。
構成は、第3図a〜dに示すごとく、各種の構成
を採用することができる。第3図aに示される配
置例においては、焦線に直交する方向に2分され
たシリンダレンズ10の間にオプチカル・フアイ
バーが挿入配置され、第3図c,dに示す例にお
いては、中心に穿孔されたシリンダレンズ10に
オプチカル・フアイバーの端面3aが挿入されて
いる。第3図bにおいては、オプチカル・フアイ
バーはシリンダレンズ10を取り巻くように配置
され、4方向から探照面に探照光を照射している
のである。
以上、本発明を実施例に基づき説明したが、上
記実施例に本発明が限定されるものでなく、本発
明の要旨を逸脱することなく種々変更可能であ
る。
記実施例に本発明が限定されるものでなく、本発
明の要旨を逸脱することなく種々変更可能であ
る。
まず、投光源4については、GaAsダイオード
の如き半導体レーザーが小型化に有利であるが、
本発明ではオプチカルフアイバー密束体を光伝送
手段としているので光源の設置箇所を自由に選択
することが可能である。
の如き半導体レーザーが小型化に有利であるが、
本発明ではオプチカルフアイバー密束体を光伝送
手段としているので光源の設置箇所を自由に選択
することが可能である。
以上のとおり、本発明によれば、オプチカル・
フアイバーで探照光を必要とされる領域に有効的
確に誘導して照射することが可能となり、光源の
位置が何処にあつても、強い探照光の照射で緯糸
の有無を照出することができるようになつた。ま
た、受光面積の広いシリンダレンズで反射光を漏
れなく受光することによつて、緯糸の有無による
反射光の光量変化を確実に検出できるようになつ
たのである。
フアイバーで探照光を必要とされる領域に有効的
確に誘導して照射することが可能となり、光源の
位置が何処にあつても、強い探照光の照射で緯糸
の有無を照出することができるようになつた。ま
た、受光面積の広いシリンダレンズで反射光を漏
れなく受光することによつて、緯糸の有無による
反射光の光量変化を確実に検出できるようになつ
たのである。
このように、本発明の緯糸フイーラは、緯糸検
出精度が高く、産業上極めて有用である。
出精度が高く、産業上極めて有用である。
第1図は本発明原理を適用した反射光受光型緯
糸フイーラの全体を示す斜視図、第2図は本発明
の作動原理を示す正面図、第3図a,b,c,d
は緯入探査手段と光伝送手段の配置構成の説明
図、第4図は光伝送手段が形成するクリア探照区
域と緯入探査手段が有する探査区域の照応合致関
係を模式的に表した斜視説明図である。 1…緯入探査手段、3…光伝送手段、4…投光
源。
糸フイーラの全体を示す斜視図、第2図は本発明
の作動原理を示す正面図、第3図a,b,c,d
は緯入探査手段と光伝送手段の配置構成の説明
図、第4図は光伝送手段が形成するクリア探照区
域と緯入探査手段が有する探査区域の照応合致関
係を模式的に表した斜視説明図である。 1…緯入探査手段、3…光伝送手段、4…投光
源。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 多数のオプチカルフアイバーの密束体であつ
て、一方の端面側に配置された投光源が発生する
探照光を伝送して、もう一方の端面より目標方向
へ面状に投射し緯糸飛走路に一定範囲のクリア探
照区域を形成せしめる光伝送手段と;この光伝送
手段が形成するクリア探照区域に照応合致する探
査区域を緯糸飛走路上に有し、照応合致する探
照・探査区域内における緯糸の有無によつて増減
される反射光をシリンダレンズで集光すると共
に、集光された反射光を感知しながら、その反射
光の光量変化に感応して緯入探査信号を出力する
緯入探査手段とを包含することを特徴とした緯糸
フイーラ。 2 投光源としてレーザーが用いられる請求項1
記載の、緯糸フイーラ。 3 光伝送手段の投光端面が緯糸飛走路に並行す
る緯入探査手段の側面に配設されている請求項1
又は2記載の、緯糸フイーラ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6821984A JPS60215849A (ja) | 1984-04-04 | 1984-04-04 | 織機の緯糸フイ−ラ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6821984A JPS60215849A (ja) | 1984-04-04 | 1984-04-04 | 織機の緯糸フイ−ラ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60215849A JPS60215849A (ja) | 1985-10-29 |
| JPH0447061B2 true JPH0447061B2 (ja) | 1992-07-31 |
Family
ID=13367469
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6821984A Granted JPS60215849A (ja) | 1984-04-04 | 1984-04-04 | 織機の緯糸フイ−ラ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60215849A (ja) |
-
1984
- 1984-04-04 JP JP6821984A patent/JPS60215849A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60215849A (ja) | 1985-10-29 |
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