JPH0447699Y2 - - Google Patents
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- JPH0447699Y2 JPH0447699Y2 JP1985011844U JP1184485U JPH0447699Y2 JP H0447699 Y2 JPH0447699 Y2 JP H0447699Y2 JP 1985011844 U JP1985011844 U JP 1985011844U JP 1184485 U JP1184485 U JP 1184485U JP H0447699 Y2 JPH0447699 Y2 JP H0447699Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- aperture
- plate
- shutter
- actuating member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Diaphragms For Cameras (AREA)
- Shutters For Cameras (AREA)
- Shutter-Related Mechanisms (AREA)
- Exposure Control For Cameras (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は絞り羽根兼用のシヤツタ羽根を使用し
たプログラムシヤツタを備えるカメラにおける口
径検出装置に関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to an aperture detection device for a camera equipped with a program shutter using shutter blades that also serve as aperture blades.
標準的な被写体を撮影する場合、露出量の積分
値がフイルム感度によつて決定される値になつた
時に露出動作を終了すれば、適正な露出を与える
ことができることは周知の通りであり、絞り口径
とシヤツタ速度とを独立して制御できるカメラの
場合、絞り口径が指定されると被写界輝度に対応
してシヤツタ速度を決定し、シヤツタ速度が指定
されると被写界輝度に対応して絞り口径を決定す
ることにより適正露出を得ることができる。
It is well known that when photographing a standard subject, a proper exposure can be obtained by ending the exposure operation when the integral value of the exposure amount reaches the value determined by the film sensitivity. In the case of a camera that can control the aperture aperture and shutter speed independently, when the aperture aperture is specified, the shutter speed is determined according to the field brightness, and when the shutter speed is specified, it corresponds to the field brightness. Proper exposure can be obtained by determining the aperture aperture.
しかしながら、この様な露出制御をするために
は、絞り羽根とシヤツタ羽根(シヤツタ幕)及び
これらの駆動装置を独立して備える必要上高価に
なるという問題があり、絞り効果やシヤツタ効果
に関する作画上の専門的な知識がないと折角の高
価な機構を使いこなせないという問題もある。 However, in order to perform this kind of exposure control, there is a problem that the aperture blades, shutter blades (shutter curtains), and their drive devices must be provided independently, which makes them expensive, and it is difficult to create images with regard to the aperture effect and shutter effect. There is also the problem that unless you have specialized knowledge, you will not be able to make full use of this expensive mechanism.
このためコンパクトカメラでは一般に絞り羽根
兼用のシヤツタ羽根を使用したプログラムシヤツ
タを備えており、該種のプログラムシヤツタを使
用した場合、絞り羽根兼用のシヤツタ羽根を第6
図に示す様に直線近似に開口せしめるとともに、
露出量の積分値がフイルム感度に対応して決定さ
れた値に達した時に露出動作を終了する。 For this reason, compact cameras are generally equipped with a program shutter that uses a shutter blade that also functions as an aperture blade.
As shown in the figure, while opening the approximation to a straight line,
The exposure operation ends when the integral value of the exposure amount reaches a value determined corresponding to the film sensitivity.
ところで、該種のプログラムシヤツタの場合、
露出量が露出時間に比例するのはシヤツタ羽根が
開放口径に至つた後であり、シヤツタ羽根が開放
口径に至るまでの所謂三角領域では単位時間あた
りの露出量が露出時間の経過とともに上昇するの
で、γ値が1の受光素子を使用する場合はシヤツ
タ羽根が開放口径に至るまでの所謂三角領域では
シヤツタ羽根の開口特性に合わせて何等かの手法
によつてγ補正をしなければ、適正な露出制御を
することができない。 By the way, in the case of this type of program shutter,
The amount of exposure is proportional to the exposure time after the shutter blade reaches its open aperture, and in the so-called triangular region until the shutter blade reaches its open aperture, the amount of exposure per unit time increases as the exposure time passes. , when using a photodetector with a γ value of 1, in the so-called triangular region where the shutter blade reaches its open aperture, it is necessary to perform γ correction using some method according to the aperture characteristics of the shutter blade. Unable to control exposure.
尚、ここで、γ値とは受光素子の特性を表す数
値の一つであり、光起電性素子の場合光電流が、
光導電性素子の抵抗値の逆数が被写界輝度のγ乗
に比例する場合のそのγの値をいう。 Note that the γ value here is one of the numerical values representing the characteristics of the light receiving element, and in the case of a photovoltaic element, the photocurrent is
It refers to the value of γ when the reciprocal of the resistance value of the photoconductive element is proportional to the γ power of field brightness.
そしてこの三角領域におけるγ補正のための代
表的な手段としては、(1)シヤツタ羽根と連動して
開閉する副絞り羽根で受光素子の開口面積を調整
することにより口径の増大に伴つて光電流を制御
する副絞り羽根方式や、(2)シヤツタ羽根の開口特
性を予測し、予測された開口位置によつて露出制
御用の積分回路の充電電流を電気的に補正する予
測制御方式等が知られている。 Typical means for gamma correction in this triangular region are: (1) Adjusting the aperture area of the light receiving element with a sub-diaphragm blade that opens and closes in conjunction with the shutter blade, so that the photocurrent increases as the aperture increases. (2) A predictive control method that predicts the shutter blade aperture characteristics and electrically corrects the charging current of an integrating circuit for exposure control based on the predicted aperture position. It is being
しかしながら、(1)の副絞り羽根方式の場合、シ
ヤツタ羽根の現実の開口特性に追従して光電流が
変動するためシヤツタ羽根の開口特性が変動して
も十分な露出精度が得られるという長所がある反
面で、副絞り羽根を設けるためにシヤツタ羽根自
体の配置箇所や形状が制限されるとともに、受光
素子の配置箇所も制限されるという問題が指摘さ
れる。又、(2)の予測制御方式の場合、受光部の配
置箇所が機構的に制限されないという長所がある
反面で、この様な予測が成立するためにはシヤツ
タ羽根の走行特性が極めて安定していることが前
提となり、シヤツタ羽根の走行特性の安定化をは
かるためにガバナ等の調速機構を設ける必要上製
造コストが上昇するとともに、慣性重量も増大し
て大きなチヤージ力が要求されるという問題があ
る。 However, in the case of the sub-aperture blade method (1), the photocurrent fluctuates following the actual aperture characteristics of the shutter blades, so sufficient exposure accuracy can be obtained even if the aperture characteristics of the shutter blades change. On the other hand, it has been pointed out that the provision of the sub-diaphragm blades limits the arrangement location and shape of the shutter blade itself, and also limits the arrangement location of the light receiving element. In addition, in the case of the predictive control method (2), although it has the advantage that the location of the light receiving part is not mechanically restricted, the running characteristics of the shutter blade must be extremely stable in order for such a prediction to hold true. In order to stabilize the running characteristics of the shutter blades, it is necessary to provide a speed regulating mechanism such as a governor, which increases manufacturing costs, and also increases the inertial weight, which requires a large charging force. There is.
そしてシヤツタ羽根の走行による口径変化を追
跡して現実の口径値に対応して露出制御用の積分
回路の充電電流を電気的に補正する様にすれば、
上記両方式の問題を補完しながら、シヤツタ羽根
の走行特性の変動によつて露出誤差が発生しない
という副絞り羽根方式の長所と、受光部の配置箇
所に制限を受けないという予測制御方式の長所を
取り入れることができ、シヤツタ羽根の走行によ
る口径変化を高精度で検出することができる口径
検出装置が待ち望まれる。 Then, if you track the change in aperture due to the movement of the shutter blade and electrically correct the charging current of the integration circuit for exposure control in accordance with the actual aperture value,
While supplementing the problems of both of the above methods, the advantage of the auxiliary aperture blade method is that exposure errors do not occur due to fluctuations in the running characteristics of the shutter blades, and the advantage of the predictive control method is that there is no restriction on the location of the light receiving section. There is a need for an aperture detection device that is capable of incorporating this technology and detecting changes in aperture due to the movement of the shutter blade with high accuracy.
又、コンパクトカメラの多くにはガイドナンバ
が固定の小型ストロボが内蔵されていることは周
知の通りである。ガイドナンバが固定式のストロ
ボを使用する場合は、フイルム感度と撮影距離に
対応してストロボ同調時のF値を決定する制御が
必要になり、このストロボ撮影時の露出制御の手
法としては従来より、(1)シヤツタ羽根の走行経路
上に侵入する部材を設け、フイルム感度と撮影距
離に対応して開放口径を制限する口径制限方式
や、(2)シヤツタ羽根の走行特性を予測して、フイ
ルム感度と撮影距離に対応して決定されるF値が
得られたであろうタイミングでストロボ発光回路
をトリガする予測制御方式等が知られている。 Furthermore, it is well known that many compact cameras have a built-in small strobe with a fixed guide number. When using a strobe with a fixed guide number, it is necessary to control the F-number when synchronizing the strobe according to the film sensitivity and shooting distance. (1) An aperture restriction method that places a member that enters the travel path of the shutter blade and limits the aperture according to the film sensitivity and shooting distance; (2) A method that predicts the travel characteristics of the shutter blade and A predictive control method is known in which a strobe light emitting circuit is triggered at a timing when an F value determined in accordance with sensitivity and shooting distance is obtained.
しかしながら、(1)の口径制限方式の場合、シヤ
ツタ羽根の開口位置を機構的に制限するので、シ
ヤツタ羽根の走行特性の変動にかかわりなく安定
した露出精度を得られるという長所がある反面
で、口径を制限する機構部材を設けるためにシヤ
ツタ羽根自体の配置箇所や形状が制限されるとい
う問題が指摘される。又、(2)の予測制御方式の場
合、連動機構が不要になるのでシヤツタ羽根の形
状や配置箇所に制限がないという長所がある反面
で、この様な予測が成立するためにはシヤツタ羽
根の走行特性が極めて安定していなければ露出誤
差が発生し、シヤツタ羽根の走行特性の安定化を
図るためにガバナ等の調速機構を設ける必要があ
り、そのために製造コストが上昇するとともに、
慣性重量も増大して大きなチヤージ力が要求され
るという問題がある。 However, in the case of the aperture restriction method (1), since the aperture position of the shutter blade is mechanically limited, it has the advantage of being able to obtain stable exposure accuracy regardless of fluctuations in the running characteristics of the shutter blade. It has been pointed out that the provision of a mechanical member that limits the shutter blade itself limits the location and shape of the shutter blade itself. In addition, in the case of the predictive control method (2), there is no need for an interlocking mechanism, so there are no restrictions on the shape or location of the shutter blades. If the running characteristics are not extremely stable, exposure errors will occur, and in order to stabilize the running characteristics of the shutter blades, it is necessary to provide a speed regulating mechanism such as a governor, which increases manufacturing costs.
There is a problem in that the inertial weight also increases and a large charging force is required.
そしてシヤツタ羽根の走行による口径変化を追
跡してフイルム感度と撮影距離に対応して決定さ
れるF値が現実に得られたタイミングでストロボ
を発光させる様にすれば、上記両方式の問題を補
完しながら、各々の長所を取り入れることがで
き、その意味でもシヤツタ羽根の走行による口径
変化を高精度で検出することができる口径検出装
置が待ち望まれる。 Then, by tracking the change in aperture due to the movement of the shutter blade and firing the strobe at the timing when the F value determined according to the film sensitivity and shooting distance is actually obtained, the problems of both of the above methods can be solved. However, there is a need for an aperture detection device that can take advantage of the advantages of each, and in that sense can detect changes in aperture due to the movement of the shutter blade with high accuracy.
そして走行する部材の現在位置を検出する装置
としては、特に産業用機器の分野において、従来
より各種のパルスエンコーダが知られているが、
口径位置の検出用としての適合性を考えた場合、
カメラボテイ内の極めて狭いスペースに収納する
必要があるとともに、被写体に合わせてカメラ姿
勢も変動し、電源電圧も変動するという条件のも
とで、十分な検出精度を保証し得るものではなつ
た。 Various pulse encoders have been known as devices for detecting the current position of moving members, especially in the field of industrial equipment.
Considering its suitability for detecting aperture position,
It is no longer possible to guarantee sufficient detection accuracy because it must be stored in an extremely narrow space within the camera body, the camera position changes depending on the subject, and the power supply voltage also fluctuates.
本考案はこの様な現状に鑑みてなされたもので
あり、カメラボテイ内の極めて狭いスペースに収
納され、被写体に合わせてカメラ姿勢も変動し、
電源電圧も変動するという条件のもとで、十分な
検出精度を保証し得る口径検出装置を提供するこ
とを目的とする。
The present invention was developed in view of the current situation.The camera body is housed in an extremely narrow space, and the camera position changes depending on the subject.
It is an object of the present invention to provide an aperture detection device that can guarantee sufficient detection accuracy under the condition that the power supply voltage also fluctuates.
要約すれば、本考案の口径検出装置は、シヤツ
タ羽根を駆動する駆動手段と、シヤツタ羽根の開
口位置と1対1で対応する位置に、その作動方向
に沿つて適宜間隔を有してスリツトが形成されて
いる作動部材と、撮影用開口を有する第1の板状
体と、撮影用開口を備え、前記第1の板状体と対
向して配置されるとともに前記第1の板状体との
間に前記作動部材の作動空間を形成していて、且
つ前記作動部材のスリツトの面積に比して小さな
面積であるライトガイドスリツトを備えている第
2の板状体と、前記第2の板状体の前記作動部材
の作動空間とは反対の側面にあつて、且つ、前記
ライトガイドスリツトを介して、前記作動空間内
へと投射光を発する発光素子、および作動部材も
しくは第1の板状体からの反射光を受ける受光素
子を有した検知手段とを備えており、前記作動部
材は、少なくとも前記検知手段側の面の反射率を
前記検知手段の検知レベルよりも低い反射光のみ
が得られる水準にし、前記第1の板状体は、前記
作動空間側の面が前記検知手段の検知レベルより
も高い反射光が得られる反射率の反射面を有し、
前記ライトガイドスリツトは、前記検知手段の側
の面の反射率を前記検知手段の検知レベルよりも
低い反射光のみが得られる水準にし、前記検知手
段の投射光及び反射光は同一のライトガイドスリ
ツトを通過する用に成すことによつて上記目的を
達成するものである。 In summary, the aperture detection device of the present invention includes a driving means for driving a shutter blade, and a slit at a position corresponding one-to-one to the opening position of the shutter blade, with appropriate intervals along the operating direction. a first plate-like body having a photographing aperture; a second plate-shaped body forming an operating space for the operating member between the light guide slits and having a light guide slit having a smaller area than the slit of the operating member; a light emitting element, which is located on the opposite side of the plate-shaped body from the working space of the working member and emits projection light into the working space through the light guide slit; and a detection means having a light-receiving element that receives reflected light from the plate-shaped body, and the actuating member has a reflectance of at least a surface on the detection means side that is lower than the detection level of the detection means. the first plate-like body has a reflective surface on the side of the working space that has a reflectance that provides reflected light higher than the detection level of the detection means,
The light guide slit has a reflectance of the surface on the side of the detection means at a level that allows only reflected light lower than the detection level of the detection means to be obtained, and the projection light and the reflected light of the detection means are arranged in the same light guide. The above object is achieved by making it so that it can pass through a slit.
本考案の口径検出装置によれば、作動部材が第
1の板状体と第2の板状体の間に形成された作動
空間を走行する時に、作動部材に形成されたスリ
ツトが第2の板状体に形成されたライトガイドス
リツトを適宜の時間間隔で横切る。そして、この
時、検知手段を構成する受光素子の受光レベルが
変動し、これをパルス化して計数することによつ
て口径検出がなされる。本考案においては、作動
部材は第1の板状体と第2の板状体の間に形成さ
れた僅かな作動空間を走行するとともに、第1の
板状体や第2の板状体の厚みも少ないので、必要
最小限の厚みで検出動作がなされる。
According to the aperture detection device of the present invention, when the actuating member travels in the actuating space formed between the first plate-like body and the second plate-like body, the slit formed in the actuating member moves into the second plate-like body. The light guide slit formed in the plate-shaped body is traversed at appropriate time intervals. At this time, the level of light received by the light receiving element constituting the detection means fluctuates, and the aperture is detected by pulsing and counting this. In the present invention, the actuating member travels in a small operating space formed between the first plate-like body and the second plate-like body, and also moves between the first plate-like body and the second plate-like body. Since the thickness is also small, the detection operation can be performed with the minimum necessary thickness.
以下図面を参照して本発明の1実施例を詳細に
説明する。
Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
本考案は絞り羽根兼用のシヤツタ羽根を具備す
るプログラムシヤツタに適用されるものであり、
先ず、絞り羽根を兼用するシヤツタ羽根を有する
プログラムシヤツタの基本的な構成例を第1図に
示す。 The present invention is applied to a program shutter equipped with shutter blades that also serve as aperture blades.
First, FIG. 1 shows an example of the basic configuration of a program shutter having shutter blades that also serve as aperture blades.
第1図において1及び2は各々絞り羽根を兼用
したシヤツタ羽根を示し、シヤツタ羽根1及び2
は各々軸1a及び2aに回動自在に枢支されてい
る。又、3は光軸を中心にして回動自在に保持さ
れた羽根開閉リングを示し、羽根開閉リング3は
スプリング4によつて常時反時計廻りに付勢さ
れ、羽根開閉リング3に植設されたピン3a,3
bは各々シヤツタ羽根1,2に形成された長溝1
b,2bと係合している。又、5は羽根開閉レバ
ー3を時計廻りに回動させるためのアクチユエー
タの1例であるソレノイドを示す。 In FIG. 1, 1 and 2 indicate shutter blades that also serve as aperture blades, and the shutter blades 1 and 2
are rotatably supported on shafts 1a and 2a, respectively. Further, 3 indicates a blade opening/closing ring which is rotatably held around the optical axis, and the blade opening/closing ring 3 is always urged counterclockwise by a spring 4 and is implanted in the blade opening/closing ring 3. pins 3a, 3
b denotes a long groove 1 formed in each of the shutter blades 1 and 2;
b, 2b. Further, 5 indicates a solenoid, which is an example of an actuator for rotating the blade opening/closing lever 3 clockwise.
そして、その作用を説明すると、先ず、初期状
態においてソレノイド5は消磁されており、羽根
開閉リング3はスプリング4によつて反時計廻り
に付勢されている。従つて、羽根開閉リング3は
爪3cがストツパ6に当接した位置で停止してお
り、シヤツタ羽根1,2はアパーチユア7を閉じ
ている。 To explain its operation, first, in the initial state, the solenoid 5 is demagnetized and the blade opening/closing ring 3 is biased counterclockwise by the spring 4. Therefore, the blade opening/closing ring 3 is stopped at the position where the claw 3c contacts the stopper 6, and the shutter blades 1 and 2 close the aperture 7.
この状態でソレノイド5を励磁すると、羽根開
閉リング3はピン3a,3bが長溝1b,2bを
係止したまま、スプリング4の張力に抗して時計
廻りに回動するので、シヤツタ羽根1,2は各々
軸1a,2aを中心にして時計廻りに回動してア
パーチユア7を徐々に開口してゆき、羽根開閉リ
ング3の爪3dがストツパ6に当接した時点でア
パーチユア7は開放口径になる。そして適正露出
が得られたタイミングにおいてソレノイド5を消
磁すれば、羽根開閉リング3はスプリング4の張
力によつて反時計廻りに回動して、シヤツタ羽根
1,2はアパーチユア7を閉じて露出動作を終了
する。 When the solenoid 5 is energized in this state, the blade opening/closing ring 3 rotates clockwise against the tension of the spring 4 while the pins 3a and 3b lock the long grooves 1b and 2b. rotate clockwise around the shafts 1a and 2a to gradually open the aperture 7, and when the pawl 3d of the blade opening/closing ring 3 comes into contact with the stopper 6, the aperture 7 becomes an open diameter. . Then, when the solenoid 5 is demagnetized at the timing when proper exposure is obtained, the blade opening/closing ring 3 is rotated counterclockwise by the tension of the spring 4, and the shutter blades 1 and 2 close the aperture 7 and perform the exposure operation. end.
露出制御装置の具体的な構成に関しては後述す
るが、該種の露出制御装置はシヤツタレリーズと
連動して受光素子に流れる光電流に対応した充電
動作を行い、その充電レベルが所定値に達した時
に露出動作を終了する様になされている。 The specific configuration of the exposure control device will be described later, but this type of exposure control device performs a charging operation corresponding to the photocurrent flowing to the light receiving element in conjunction with the shutter release, and the charging level reaches a predetermined value. The exposure operation is terminated when this happens.
既に説明した様に、該種のプログラムシヤツタ
の場合開放口径に至るまでの三角領域においては
口径の拡大に伴つて単位時間あたりの露出量が増
加するので、γ値が1の受光素子を使用する場合
は、口径の拡大に伴つて充電電流を増加させるこ
とが必要になる。そして、本考案の口径検出装置
は口径値を高精度で検出できる様になされている
ので、口径検出装置によつて検出された口径の経
時的な変化により充電電流を補正すれば、適正な
露出を与えることができる。 As already explained, in the case of this type of program shutter, the amount of exposure per unit time increases as the aperture increases in the triangular region up to the open aperture, so a light receiving element with a γ value of 1 is used. In this case, it is necessary to increase the charging current as the diameter increases. The aperture detection device of the present invention is designed to be able to detect the aperture value with high precision, so if the charging current is corrected based on the change in aperture detected by the aperture detection device over time, appropriate exposure can be achieved. can be given.
又、ストロボ撮影時にも、口径検出装置の出力
がフイルム感度と撮影距離に対応して決定される
F値を示したタイミングにおいて、ストロボ同調
すれば、適正な露出を与えることができる。 Furthermore, when photographing with a strobe, proper exposure can be provided by synchronizing the strobe at the timing when the output of the aperture detection device indicates an F value determined in accordance with the film sensitivity and photographing distance.
光電式のエンコーダで撮影レンズの口径を検出
する場合の態様としてはシヤツタ羽根1(あるい
は2)の回動量を検出する手法、羽根開閉リング
3の回動量を検出する手法等種々の態様が考えら
れるが、以下においてはシヤツタ羽根1の回動量
を検出する様にした例を説明する。 When detecting the aperture of the photographic lens using a photoelectric encoder, various methods can be considered, such as a method of detecting the amount of rotation of the shutter blade 1 (or 2), a method of detecting the amount of rotation of the blade opening/closing ring 3, etc. However, in the following, an example in which the amount of rotation of the shutter blade 1 is detected will be explained.
即ち、シヤツタ羽根1には他の機構部材の作動
の妨げとならない箇所に軸1aを中心とした円周
上に多数のスリツト8aが形成され、該スリツト
8aが発光素子8bから受光素子8cに至る光路
を開閉する毎に受光素子8cにパルスを発生せし
め、このパルスを計数すれば、現在の口径を数値
化して検出することができる。 That is, a large number of slits 8a are formed on the circumference of the shutter blade 1 around the shaft 1a at locations that do not interfere with the operation of other mechanical members, and the slits 8a extend from the light emitting element 8b to the light receiving element 8c. By causing the light receiving element 8c to generate a pulse every time the optical path is opened or closed, and counting the pulses, the current aperture can be detected numerically.
第2図はこのエンコーダ8の要部拡大図であ
り、第3図は第1図及び第2図におけるA視断面
図である。 FIG. 2 is an enlarged view of the main part of this encoder 8, and FIG. 3 is a sectional view taken from A in FIGS. 1 and 2.
発光素子8bと受光素子8cの近傍には地板8
dと地板8eが平行状態を保つてカメラ本体に固
定され、本実施例では地板8dの反射率は極めて
高く、又、シヤツタ羽根1の反射率は極めて低く
形成されている。そして、シヤツタ羽根1は地板
8dと地板8eの間〓に浮遊する様に支持されて
おり、地板8dと地板8eの間隔はシヤツタ羽根
1の走行の妨げとならない範囲で必要最小限のも
のとなつている。 A ground plate 8 is provided near the light emitting element 8b and the light receiving element 8c.
d and the base plate 8e are fixed to the camera body while maintaining a parallel state. In this embodiment, the reflectance of the base plate 8d is extremely high, and the reflectance of the shutter blade 1 is extremely low. The shutter blade 1 is supported so as to float between the base plate 8d and the base plate 8e, and the distance between the base plate 8d and the base plate 8e is set to the minimum necessary distance without interfering with the movement of the shutter blade 1. ing.
又、地板8eに形成された開口には反射率及び
透過率が極めて低いライトガイド8fが埋設さ
れ、このライトガイド8fの概ね中央にはシヤツ
タ羽根1に形成されたスリツト8aよりも十分に
面積の小さいライトガイドスリツト8gが形成さ
れている。そして、発光素子8bの照射方向及び
受光素子8cの入射方向はともにライトガイドス
リツト8gに向かうとともに、発光素子8bと受
光素子8cを結ぶ線分はスリツト8aの進行方向
(即ち、シヤツタ羽根1の進行方向)と直交して
いる。 Furthermore, a light guide 8f with extremely low reflectance and transmittance is embedded in the opening formed in the base plate 8e, and a slit 8f with an area sufficiently larger than that of the slit 8a formed in the shutter blade 1 is located approximately in the center of the light guide 8f. A small light guide slit 8g is formed. The irradiation direction of the light emitting element 8b and the direction of incidence of the light receiving element 8c are both directed toward the light guide slit 8g, and the line segment connecting the light emitting element 8b and the light receiving element 8c is in the advancing direction of the slit 8a (that is, the direction of the shutter blade 1). direction of travel).
従つて、発光素子8bから照射された光束はラ
イトガイドスリツト8gを通過し、地板8dある
いはシヤツタ羽根1で反射されて、再度ライトガ
イドスリツト8gを通過して受光素子8bに入射
する。そして、本実施例においてはシヤツタ羽根
1の反射率は極めて低く、又、地板8dの反射率
は極めて高く形成されているので、シヤツタ羽根
1に形成されたスリツト8aがライトガイドスリ
ツト8gを横切る毎に受光素子8cに流れる光電
流が大きく変動することになり、これをパルス化
して計数すれば、シヤツタ羽根1の回動角度(即
ち、撮影レンズの口径)を数値化して検出するこ
とができる。 Therefore, the light beam emitted from the light emitting element 8b passes through the light guide slit 8g, is reflected by the base plate 8d or the shutter blade 1, passes through the light guide slit 8g again, and enters the light receiving element 8b. In this embodiment, the reflectance of the shutter blade 1 is extremely low, and the reflectance of the base plate 8d is extremely high, so that the slit 8a formed in the shutter blade 1 crosses the light guide slit 8g. The photocurrent flowing through the light-receiving element 8c varies greatly each time, and if this is pulsed and counted, the rotation angle of the shutter blade 1 (i.e., the aperture of the photographic lens) can be quantified and detected. .
第4図は受光素子8cに流れる光電流の変化に
対応してシヤツタ羽根1の回動位置(即ち、現在
のF値)を数値化するための回路例である。 FIG. 4 shows an example of a circuit for quantifying the rotational position of the shutter blade 1 (ie, the current F value) in response to changes in the photocurrent flowing through the light receiving element 8c.
先ず、第4図において、1,8a,8b,8
c,8d,8e,8f,8gは既に説明したシヤ
ツタ羽根1・スリツト8a・発光素子8b・受光
素子8c・地板8d,8e・ライトガイド8f・
ライトガイドスリツト8gを各々示し、図示する
実施例では発光素子8bの一例としてフオトダイ
オードを、受光素子8cの一例としてフオトトラ
ンジスタを使用している。 First, in Fig. 4, 1, 8a, 8b, 8
c, 8d, 8e, 8f, and 8g are the already explained shutter blade 1, slit 8a, light emitting element 8b, light receiving element 8c, base plate 8d, 8e, light guide 8f,
Each light guide slit 8g is shown, and in the illustrated embodiment, a photodiode is used as an example of the light emitting element 8b, and a phototransistor is used as an example of the light receiving element 8c.
そして、受光素子8cはそのコレクタ側を電源
の正極に、エミツタ側を抵抗R1を介してグラン
ドに各々接続されているので、受光素子8cに入
射した光エネルギーは抵抗R1の端子レベルとし
て電圧に変換され、抵抗R1の端子レベルは直流
カツト用のコンデンサ11を介してオペアンプ1
2の反転入力に印加される。このオペアンプ12
の出力はコンパレータ13の反転入力に印加さ
れ、コンパレータ13の非反転入力にはバイアス
電源14から基準レベルが印加され、コンパレー
タ13の出力はカウンタ20のクロツク端子に接
続されている。 The collector side of the light receiving element 8c is connected to the positive pole of the power supply, and the emitter side is connected to the ground via the resistor R1 , so that the light energy incident on the light receiving element 8c is converted into a voltage at the terminal level of the resistor R1 . The terminal level of the resistor R1 is connected to the operational amplifier 1 via the DC cut capacitor 11.
applied to the inverting input of 2. This operational amplifier 12
The output of comparator 13 is applied to the inverting input of comparator 13, a reference level is applied from bias power supply 14 to the non-inverting input of comparator 13, and the output of comparator 13 is connected to the clock terminal of counter 20.
次ぎに上記事項を参照して、本実施例の作用を
説明しよう。 Next, the operation of this embodiment will be explained with reference to the above matters.
先ず、ソレノイド5の励磁に伴いシヤツタ羽根
1は地板8dと地板8eの間〓を走行し、シヤツ
タ羽根1に形成されたスリツト8aはライトガイ
ドスリツト8gの位置を逐次横切る。 First, as the solenoid 5 is energized, the shutter blade 1 travels between the base plate 8d and the base plate 8e, and the slit 8a formed in the shutter blade 1 successively crosses the position of the light guide slit 8g.
一方、発光素子8bから照射された光はライト
ガイドスリツト8gを通過して、地板8dあるい
はシヤツタ羽根1で反射され、再度ライトガイド
スリツト8gを通過して受光素子8cに至る。既
述の通り、本実施例においては地板8dの反射率
は十分に高く、シヤツタ羽根1の反射率は十分に
低いので、スリツト8aがライトガイドスリツト
8gを通過する毎に受光素子8cに入射する光量
は大きく変動し、抵抗R1の端子レベルもこれに
伴つて変動する。 On the other hand, the light emitted from the light emitting element 8b passes through the light guide slit 8g, is reflected by the base plate 8d or the shutter blade 1, passes through the light guide slit 8g again, and reaches the light receiving element 8c. As mentioned above, in this embodiment, the reflectance of the base plate 8d is sufficiently high and the reflectance of the shutter blade 1 is sufficiently low, so that each time the slit 8a passes through the light guide slit 8g, the light is incident on the light receiving element 8c. The amount of light emitted fluctuates greatly, and the terminal level of resistor R1 also fluctuates accordingly.
この抵抗R1の端子レベルは、受光素子8cの
暗電流相当分が直流カツトコンデンサ11で除去
された後、オペアンプ12で増幅されてコンパレ
ータ13の反転入力に加えられる。そしてコンパ
レータ13はこれを電源14から加えられる基準
レベルと比較してパルス化するので、コンパレー
タ13からはスリツト8aがライトガイドスリツ
ト8gを通過する毎にパルスが発生され、このパ
ルスはカウンタ20のクロツク端子に加えられ、
カウンタ20をカウントアツプ(カウントダウン
でも可)するので、シヤツタ羽根1の回動位置は
カウンタ20の計数値として数値化される。 The terminal level of this resistor R 1 is amplified by an operational amplifier 12 and applied to an inverting input of a comparator 13 after a portion equivalent to the dark current of the light receiving element 8 c is removed by a DC cut capacitor 11 . Then, the comparator 13 compares this with the reference level applied from the power supply 14 and converts it into a pulse. Therefore, a pulse is generated from the comparator 13 every time the slit 8a passes the light guide slit 8g, and this pulse is sent to the counter 20. added to the clock terminal,
Since the counter 20 is counted up (or counted down), the rotational position of the shutter blade 1 is quantified as the count value of the counter 20.
ところで、、カメラ姿勢の変化その他の理由に
よりシヤツタ羽根1が傾斜することがあるが、本
実施例では地板8d,8e間の僅かな間〓をシヤ
ツタ羽根1が通過する様になされているので、シ
ヤツタ羽根1の傾斜はエンコーダ8の近傍では最
小限のものに規制される。 Incidentally, the shutter blade 1 may be tilted due to a change in camera posture or other reasons, but in this embodiment, the shutter blade 1 is configured to pass through a small space between the base plates 8d and 8e. The inclination of the shutter blade 1 is restricted to a minimum in the vicinity of the encoder 8.
又、上記の様にカメラ姿勢の変化等によつてシ
ヤツタ羽根1が不安定な走行をする場合、通常シ
ヤツタ羽根1はその進行方向、即ちスリツト8a
の進行方向に対して前後に傾斜するが、本実施例
では上記の様に発光素子8bと受光素子8cを結
ぶ線分がシヤツタ羽根1に形成されたスリツト8
aの進行方向に対して直交しているので、発光素
子8dから照射された光のシヤツタ羽根1に対す
る入射角度はシヤツタ羽根1の傾斜には殆ど影響
されない。 In addition, when the shutter blade 1 runs unstable due to changes in the camera posture as described above, the shutter blade 1 normally moves in the direction of movement, that is, through the slit 8a.
However, in this embodiment, as described above, the line segment connecting the light emitting element 8b and the light receiving element 8c is the slit 8 formed in the shutter blade 1.
Since it is perpendicular to the traveling direction of the light emitting element 8d, the angle of incidence of the light emitted from the light emitting element 8d onto the shutter blade 1 is hardly affected by the inclination of the shutter blade 1.
更に、本実施例では受光素子8cに対する入射
光量の変化を抵抗R1の端子レベルに変換し、こ
の端子レベルを基準レベルと比較したパルス化を
行つているが、図示する実施例の様に地板8dの
反射率を大きくするとともにシヤツタ羽根1の反
射率を小さくした場合、発光素子8bから照射さ
れた光が地板8dに反射されて受光素子8cに入
射した場合は抵抗R1の端子レベルはオンレベル
になり、発光素子8bから照射された光がシヤツ
タ羽根1に反射されて受光素子8cに入射した場
合は抵抗R1の端子レベルはオフレベルになる。
そして、シヤツタ羽根1の傾斜が抵抗R1の端子
レベルに影響を与えるのは、シヤツタ羽根1がラ
イトガイドスリツト8gをふさいだ時であるが、
シヤツタ羽根1がライトガイドスリツト8gをふ
さいだ時にシヤツタ羽根1が傾斜すると、抵抗
R1の端子レベルは本来のオフレベルよりも更に
レベル低下をするので、そのパルス化には全く影
響しないことになる。 Furthermore, in this embodiment, the change in the amount of light incident on the light receiving element 8c is converted to the terminal level of the resistor R1 , and this terminal level is compared with a reference level to form a pulse. When the reflectance of the shutter blade 8d is increased and the reflectance of the shutter blade 1 is decreased, and the light emitted from the light emitting element 8b is reflected on the ground plate 8d and enters the light receiving element 8c, the terminal level of the resistor R1 is turned on. When the light emitted from the light emitting element 8b is reflected by the shutter blade 1 and enters the light receiving element 8c, the terminal level of the resistor R1 becomes the off level.
The inclination of the shutter blade 1 affects the terminal level of the resistor R1 when the shutter blade 1 blocks the light guide slit 8g.
If the shutter blade 1 tilts when it blocks the light guide slit 8g, there will be resistance.
Since the terminal level of R1 is further lowered than the original off level, it has no effect on the pulsing.
更に、本実施例の口径検出装置の場合、ライト
ガイド8fはその反射率及び透過率を極めて低く
形成されているので、発光素子8bから照射され
た光のうちライトガイド8gで反射されて受光素
子8cに到達する成分は極めて少く、受光素子8
cに流れる暗電流は極めて少く、直流カツトコン
デンサ11によつて十分に除去される。 Furthermore, in the case of the aperture detection device of this embodiment, the light guide 8f is formed to have extremely low reflectance and transmittance, so that some of the light emitted from the light emitting element 8b is reflected by the light guide 8g and transmitted to the light receiving element. Very few components reach the light receiving element 8c.
The dark current flowing through c is extremely small and is sufficiently removed by the DC cut capacitor 11.
又、前述の様にライトガイドスリツト8gの面
積はシヤツタ羽根1に形成されたスリツト8aの
面積よりも十分に小さいので、シヤツタ羽根1に
形成されたスリツト8aはライトガイドスリツト
8gを瞬時に横切ることになり、受光素子8cに
流れる光電流は急激な立ち上がり及び立ち下がり
を示し、正確なパルス化が可能になる。 Furthermore, as mentioned above, the area of the light guide slit 8g is sufficiently smaller than the area of the slit 8a formed in the shutter blade 1, so the slit 8a formed in the shutter blade 1 instantly cuts through the light guide slit 8g. As a result, the photocurrent flowing through the light-receiving element 8c exhibits rapid rise and fall, making it possible to form accurate pulses.
そして、この様にしてカウンタ20の計数値と
して数値化されたシヤツタ羽根1の回動位置(即
ち、現在のF値)により露出制御用の積分回路の
充電電流を制御すれば、シヤツタ羽根1,2の開
口特性に対応した露出制御が可能になり、又、上
記の様にして検出されたF値がフイルム感度と撮
影距離に対応して決定されるレベルに達した時に
ストロボを同調させれば、フラツシユマチツクに
おける正確な露出制御が可能になる。 Then, if the charging current of the integrating circuit for exposure control is controlled by the rotational position of the shutter blade 1 digitized as the count value of the counter 20 (i.e., the current F value), the shutter blade 1, Exposure control corresponding to the aperture characteristics of 2 becomes possible, and if the strobe is synchronized when the F value detected as described above reaches a level determined according to the film sensitivity and shooting distance. , accurate exposure control in flash photography becomes possible.
そこで、次ぎに、本考案にかかる口径検出装置
によつて検出された実際のF値によつて露出制御
用の積分回路の充電電流を制御する手法及びフラ
ツシユマチツクモードにおけるストロボ同調タイ
ミングを決定する手法の1例を第5図を参照して
説明する。 Therefore, next, we determined the method of controlling the charging current of the integrating circuit for exposure control and the strobe synchronization timing in flash-matic mode based on the actual F value detected by the aperture detection device according to the present invention. An example of a method for doing this will be explained with reference to FIG.
第5図において30は公知の露出制御回路を、
40はシヤツタ羽根1,2を駆動するための駆動
回路を、50は各種のシーケンスを制御するシー
ケンス回路を各々示している。 In FIG. 5, 30 is a known exposure control circuit;
Reference numeral 40 indicates a drive circuit for driving the shutter blades 1 and 2, and 50 indicates a sequence circuit for controlling various sequences.
先ず、第5図に示す露出制御回路30は、暗電
流の影響を除去するために受光素子であるSPD
31を無バイアスで使用するとともに広汎な輝度
域に対応するためにログダイオード32をオペア
ンプ33の帰還抵抗として使用し、オペアンプ3
3にはバイアス電源34からバイアス電圧V1が
与えられる。 First, the exposure control circuit 30 shown in FIG.
31 is used without bias, and in order to support a wide range of brightness, the log diode 32 is used as a feedback resistor for the operational amplifier 33.
3 is supplied with a bias voltage V 1 from a bias power supply 34 .
従つて、被写界輝度に対応して光がSPD31
に入射すると、SPD31には光電流が逆方向に
流れ、ログダイオード32の両端にはこの光電流
による電圧降下V2が発生する。そして、この時
にスイツチング用のトランジスタ35が遮断され
ていると、オペアンプ33の出力端にはバイアス
電源34のバイアス電圧V1にログダイオード3
2の電圧降下V2を重畳したレベルが発生し、オ
ペアンプ33の出力電圧は対数伸長用のトランジ
スタ36のベースに加えられ、そのコレクタ電流
を制御し、トランジスタ36のコレクタ電流によ
つてコンデンサ37は充電される。 Therefore, the light changes to SPD31 depending on the field brightness.
When the photocurrent is incident on the SPD 31, a photocurrent flows in the opposite direction, and a voltage drop V 2 is generated across the log diode 32 due to this photocurrent. If the switching transistor 35 is cut off at this time, the log diode 3 is connected to the bias voltage V 1 of the bias power supply 34 at the output terminal of the operational amplifier 33.
The output voltage of the operational amplifier 33 is applied to the base of the logarithmic expansion transistor 36 to control its collector current, and the collector current of the transistor 36 causes the capacitor 37 to It will be charged.
そしてこのコンデンサ37の充電レベルはコン
パレータ37の反転入力に加えられ、これがコン
パレータ作動部材8の非反転入力にバイアス電源
39から加えられている基準レベルと一致した時
にコンパレータ38が発生するシヤツタ閉じ信号
がシーケンス回路50に加えられ、これに応じて
シーケンス回路50はトランジスタ41はカツト
オフしてソレノイド5を消磁し、シヤツタ羽根
1,2を閉鎖する様になされている。尚、コンデ
ンサ37と並列接続されたトランジスタ310は
露出制御回路30を能動化するものであり、シヤ
ツタレリーズと連動してトランジスタ310が遮
断されることによりコンデンサ37の充電動作が
開始される。 The charge level of this capacitor 37 is applied to the inverting input of the comparator 37, and when this matches the reference level applied from the bias power supply 39 to the non-inverting input of the comparator operating member 8, the shutter close signal generated by the comparator 38 is generated. In response to this, the transistor 41 is cut off, the solenoid 5 is demagnetized, and the shutter blades 1 and 2 are closed. Note that the transistor 310 connected in parallel with the capacitor 37 activates the exposure control circuit 30, and when the transistor 310 is cut off in conjunction with the shutter release, the charging operation of the capacitor 37 is started.
該種構造の露出制御回路30においては、トラ
ンジスタ35の遮断時におけるトランジスタ36
のコレクタ−エミツタ間電流がコンデンサ37の
充電電流になり、この充電電流は受光素子31に
流れる光電流によつてログダイオード32に発生
する電圧降下V2よつて決定されるが、トランジ
スタ35の遮断がコンデンサ37の充電のための
必要条件になるので、単位時間あたりのトランジ
スタ35の遮断時間の比率が多いほど単位時間あ
たりのコンデンサ37に蓄積される電荷量は多く
なる。 In the seed structure exposure control circuit 30, when the transistor 35 is cut off, the transistor 36
The collector-emitter current becomes the charging current of the capacitor 37, and this charging current is determined by the voltage drop V2 generated in the log diode 32 due to the photocurrent flowing through the light receiving element 31. is a necessary condition for charging the capacitor 37, so the greater the ratio of the cut-off time of the transistor 35 per unit time, the greater the amount of charge stored in the capacitor 37 per unit time.
そこで、本実施例の口径検出装置によつて数値
化されて検出された撮影レンズの実際の口径に対
応して、トランジスタ35の遮断時間の比率(即
ち、露出制御回路30のデユーテイー比)を決定
すれば、シヤツタ羽根1,2が開放口径に達する
までの所謂三角領域におけるγ補正をすることが
可能となる。 Therefore, the ratio of the cut-off time of the transistor 35 (i.e., the duty ratio of the exposure control circuit 30) is determined in accordance with the actual aperture of the photographing lens that is numerically detected and detected by the aperture detection device of this embodiment. This makes it possible to perform γ correction in the so-called triangular region until the shutter blades 1 and 2 reach their open apertures.
より具体的には、トランジスタ35のベースに
はデユーテイー変換回路80が発生する所定周期
のパルスが加えられており、カウンタ20の計数
値に対応してこのパルスのオフ時間の比率を決定
すればよい。 More specifically, a pulse of a predetermined period generated by the duty conversion circuit 80 is applied to the base of the transistor 35, and the off-time ratio of this pulse can be determined in accordance with the count value of the counter 20. .
デユーテイー変換回路80が発生するパルスの
オフ時間の比率を可変にするための手法としては
種々の態様が考えられるが、図示する例ではデユ
ーテイー変換回路80は、デジタル化及びマイコ
ン化を容易にするために、デユーテイー変換回路
80自体の基準クロツクを発生するための発振器
81及び時間テーブルを内蔵したパルス幅変換回
路82を備え、発振器81が基準クロツクを発生
する毎に、カウンタ20の値に対応して上記時間
テーブルから時間データを読み出し、この時間デ
ータに対応してパルスのオフ時間を決定する様に
なされている。 Various methods can be considered for varying the off-time ratio of pulses generated by the duty conversion circuit 80, but in the illustrated example, the duty conversion circuit 80 is designed to facilitate digitization and microcomputerization. The duty conversion circuit 80 itself includes an oscillator 81 for generating a reference clock, and a pulse width conversion circuit 82 with a built-in time table. Time data is read from the time table, and the off time of the pulse is determined in accordance with this time data.
尚、既に説明した様に、該種構造のプログラム
シヤツタの場合、シヤツタ羽根1,2の開口に伴
つて単位時間あたりの露出量は増加するので、カ
ウンタ20の計数値の上昇に伴つてパルス幅変換
回路82からトランジスタ35に与えるパルスの
オフ時間の比率が上昇する様な時間データをパル
ス幅変換回路82が内蔵する時間テーブルに用意
することはいうまでもない。更に、被写界輝度が
同一でもフイルム感度が異なれば、要求される露
出量が変化することは周知の通りである。そこで
例えばDXフイルム(フイルム感度や枚数等がパ
トローネの所定箇所に導電性のパターンで記載さ
れたフイルム)に対応するカメラを想定した場合
は、DX回路70の出力によつてパルス幅変換回
路82に内蔵された時間テーブルのページを選択
することにより、或いは上記時間テーブルから読
み出された時間データに対する乗算率を変更する
ことによりトランジスタ35に加えるパルスのオ
フ時間の比率を決定すればよい。尚、DX回路7
0はDXフイルムのパトローネに記載された導電
パターンに対応してオン・オフする接点群のオン
オフパターンをコード化するものであり、周知の
エンコーダ回路により容易に構成されよう。 As already explained, in the case of a program shutter with this type of structure, the amount of exposure per unit time increases as the shutter blades 1 and 2 open, so as the count value of the counter 20 increases, the pulse Needless to say, time data such that the ratio of the off time of the pulse applied from the width conversion circuit 82 to the transistor 35 increases is prepared in a time table built in the pulse width conversion circuit 82. Furthermore, it is well known that even if the field brightness is the same, if the film sensitivity differs, the required exposure amount will change. Therefore, for example, if we assume a camera compatible with DX film (a film in which the film sensitivity, number of sheets, etc. are written in a conductive pattern at a predetermined location on the cartridge), the output of the DX circuit 70 is used to convert the pulse width into the pulse width conversion circuit 82. The off-time ratio of the pulse applied to the transistor 35 may be determined by selecting a page of the built-in time table or by changing the multiplication rate for time data read from the time table. Furthermore, DX circuit 7
0 encodes the on/off pattern of a group of contacts that turn on and off in response to the conductive pattern written on the DX film cartridge, and can be easily constructed using a well-known encoder circuit.
又、DXフイルムに対応しないカメラの場合で
あれば、フイルム感度設定ダイアルのダイアル値
を摺動抵抗の端子レベルとして入力し、これをデ
ジタルコード化すればよい。 If the camera does not support DX film, the dial value of the film sensitivity setting dial may be input as the terminal level of the sliding resistor, and this may be converted into a digital code.
尚、上記ではマイコン化を容易にするためにパ
ルス幅変換回路82が内蔵する時間テーブルによ
つてトランジスタ35に加えるパルスのオフ時間
比率を決定する様にした例を示したが、デユーテ
イー変換回路80の他の態様としては例えば、コ
ンパレータの一方の入力に鋸状波を加えるととも
に、このコンパレータの基準レベルをカウンタ2
0の計数値とDX回路70の出力に対応して決定
する様にしてもよい。 In the above example, the off-time ratio of the pulse applied to the transistor 35 is determined by the time table built into the pulse width conversion circuit 82 in order to facilitate microcomputerization, but the duty conversion circuit 80 For example, a sawtooth wave is applied to one input of the comparator, and the reference level of this comparator is set to the counter 2.
It may be determined in accordance with the count value of 0 and the output of the DX circuit 70.
次ぎに、ストロボの同調タイミングを決定する
ための回路を説明する。 Next, a circuit for determining strobe tuning timing will be explained.
ガイドナイバが一定のストロボを使用する場
合、フイルム感度と撮影距離が決定されれば、適
正露出が得られるF値は演算処理によつて算出す
ることができる。 When using a strobe with a fixed guide knife, once the film sensitivity and photographing distance are determined, the F value that provides the appropriate exposure can be calculated through arithmetic processing.
先ず、フイルム感度はDX回路の出力として得
られ、又、撮影距離は測距回路90の出力として
得られる。尚、測距回路90は、具体的には例え
ばヘイコイドの繰り出し量を摺動抵抗の端子レベ
ルとして検出しても良いし、又、オートフオーカ
ス用の測距回路を流用してもよい。 First, the film sensitivity is obtained as the output of the DX circuit, and the photographing distance is obtained as the output of the distance measuring circuit 90. Specifically, the distance measuring circuit 90 may detect, for example, the amount of heycoid delivery as the terminal level of a sliding resistor, or may be a distance measuring circuit for autofocus.
そして、DX回路70及び測距回路90から
各々フイルム感度情報及び撮影距離情報を演算回
路100に加えれば、演算処理によつて適正露出
を得られるF値を算出することができる。尚、こ
のフイルム感度と撮影距離とガイドナンバに対応
してF値を求めるための数式は従来より周知のも
のである。そして、演算回路100によつて得ら
れたF値情報はデジタルコンパレータ110に与
えられる。 Then, by applying the film sensitivity information and photographing distance information from the DX circuit 70 and the distance measuring circuit 90 to the arithmetic circuit 100, it is possible to calculate the F value that provides the appropriate exposure through arithmetic processing. The formula for determining the F value in accordance with the film sensitivity, photographing distance, and guide number is well known. The F value information obtained by the arithmetic circuit 100 is then given to the digital comparator 110.
一方、既に、説明したように撮影レンズの現実
のF値はカウンタ20の計数値として数値化され
ている。 On the other hand, as described above, the actual F value of the photographic lens has already been quantified as the count value of the counter 20.
そこで、カウンタ20の計数値をデジタルコン
パレータ110に与え、デジタルコンパレータ1
10はカウンタ20の計数値と演算回路100の
出力が一致したタイミングにおいてEFU回路1
20にトリガ信号を加えれば、現実の口径が適正
F値になつたタイミングでストロボを発光させる
ことができる。 Therefore, the count value of the counter 20 is given to the digital comparator 110, and the digital comparator 1
10 is the EFU circuit 1 at the timing when the count value of the counter 20 and the output of the arithmetic circuit 100 match.
By adding a trigger signal to 20, it is possible to cause the strobe to emit light at the timing when the actual aperture reaches the appropriate F value.
尚、EFU回路120はキセノン放電管・メイ
コンデンサ・トリガコイル等を含む公知の回路で
ある。 The EFU circuit 120 is a known circuit including a xenon discharge tube, a capacitor, a trigger coil, etc.
尚、上記においてはシヤツタ羽根1の動作を追
跡する様にした例を示したが、シヤツタ羽根の作
動と連動する平板状の部材である限り本考案を適
用することができる。 Although the above example shows an example in which the movement of the shutter blade 1 is tracked, the present invention can be applied to any flat plate-like member that is linked to the movement of the shutter blade.
以上説明した様に本考案によれば、スリツトが
形成された作動部材は一対の平行な地板間の僅か
なスペースを走行するので、カメラ姿勢が変動し
ても上記作動部材の傾斜は検出地点においては最
小限に規制されるとともに、通常は受光素子に対
する入射方向に影響を与えにくい方向に傾斜する
ので、姿勢変動に影響されず、高精度で口径検出
をすることができる。
As explained above, according to the present invention, the actuating member in which the slit is formed travels in a small space between the pair of parallel base plates, so that even if the camera posture changes, the inclination of the actuating member will not change at the detection point. is regulated to a minimum and is normally tilted in a direction that does not easily affect the direction of incidence on the light receiving element, so it is possible to detect the aperture with high accuracy without being affected by attitude changes.
又、本考案においては、作動部材の反射率が第
1の板状体の反射率よりも低くなる様に構成され
るので、何らかの原因により作動部材が傾斜して
も受光素子における検出レベルが基準レベルから
遠ざかる方向に作用するので、作動部材の傾斜は
検出精度には全く影響を与えない。又、光路中に
は光学ガラス等の異質のものが介在せず、金属面
や蒸着面等の反射面が形成されるのみであるとと
もに、実際の反射面として作用する部分は各々の
板状体よりも十分に狭小な面積であるので、検出
装置の部分の厚みが増大したり、作動部材の繰り
返し走行に伴つて、反射光路中に例えば部材の脱
落や傷その他の光学的な損傷が生じる危険性も少
ない。 Furthermore, in the present invention, the reflectance of the actuating member is configured to be lower than that of the first plate, so even if the actuating member is tilted for some reason, the detection level at the light receiving element remains the standard. Since it acts in a direction away from the level, the tilting of the actuating member has no effect on the detection accuracy. In addition, there is no foreign material such as optical glass intervening in the optical path, and only reflective surfaces such as metal surfaces or vapor-deposited surfaces are formed, and the portions that actually act as reflective surfaces are Since the area is sufficiently narrower than that of the detection device, there is a risk that the thickness of the detection device increases and that, due to repeated movement of the actuating member, for example, parts may fall off, scratches or other optical damage may occur in the reflected optical path. There is also less sex.
更に、電源の消耗により電源電圧が低下した場
合は、検出レベルも基準レベルも同時に低下する
ので、若干の電源電圧の低下は検出精度に影響を
与えない。 Furthermore, when the power supply voltage decreases due to power consumption, the detection level and the reference level decrease at the same time, so a slight decrease in the power supply voltage does not affect detection accuracy.
第1図は本考案の1実施例に係るプログラムシ
ヤツタの機構図、第2図は第1図の要部拡大図、
第3図は第1図及び第2図のA視断面図、第4図
は口径値を数値化するための回路例を示す回路
図、第5図は本考案の口径検出装置によつて検出
された口径に対応してγ補正をする回路及びスト
ロボ同調タイミングを決定する回路を含む制御回
路例を示す回路図、第6図は一般的なプログラム
シヤツタの開口特性図。
1……シヤツタ羽根、8a……スリツト、8b
……発光素子、8c……受光素子、8d……地
板、8e……地板、8f……ライトガイド、8g
……ライトガイドスリツト、R1……抵抗、10
……波形整形回路、20……カウンタ。
Fig. 1 is a mechanical diagram of a program shutter according to an embodiment of the present invention, Fig. 2 is an enlarged view of the main parts of Fig. 1,
Fig. 3 is a sectional view taken from A in Figs. 1 and 2, Fig. 4 is a circuit diagram showing an example of a circuit for quantifying the aperture value, and Fig. 5 is a detection by the aperture detection device of the present invention. FIG. 6 is a circuit diagram showing an example of a control circuit including a circuit for γ correction and a circuit for determining strobe synchronization timing according to the selected aperture, and FIG. 6 is an aperture characteristic diagram of a general program shutter. 1...Shaft blade, 8a...Slit, 8b
...Light emitting element, 8c...Light receiving element, 8d...Main plate, 8e...Main plate, 8f...Light guide, 8g
...Light guide slit, R 1 ...Resistance, 10
...Waveform shaping circuit, 20...Counter.
Claims (1)
置に、その作動方向に沿つて適宜間隔を有してス
リツトが形成されている作動部材と、 撮影用開口を有する第1の板状体と、 撮影用開口を備え、前記第1の板状体と対向し
て配置されるとともに前記第1の板状体との間に
前記作動部材の作動空間を形成していて、且つ前
記作動部材のスリツトの面積に比して小さな面積
であるライトガイドスリツトを備えている第2の
板状体と、 前記第2の板状体の前記作動部材の作動空間と
は反対の側面にあつて、且つ、前記ライトガイド
スリツトを介して、前記作動空間内へと投射光を
発する発光素子、および作動部材もしくは第1の
板状体からの反射光を受ける受光素子を有した検
知手段とを備えていて、 前記作動部材は、少なくとも前記検知手段側の
面の反射率を前記検知手段の検知レベルよりも低
い反射光のみが得られる水準にし、 前記第1の板状体は、前記作動空間側の面が前
記検知手段の検知レベルよりも高い反射光が得ら
れる反射率の反射面を有し、 前記ライトガイドスリツトは、前記検知手段の
側の面の反射率を前記検知手段の検知レベルより
も低い反射光のみが得られる水準にし、 前記検知手段の投射光及び反射光は同一のライ
トガイドスリツトを通過することを特徴とした口
径検出装置。[Claims for Utility Model Registration] Slits are formed in the drive means for driving the shutter blades and at appropriate intervals along the operating direction at positions that correspond one-to-one with the opening positions of the shutter blades. an actuating member; a first plate-like body having a photographing aperture; and a first plate-like body having a photographing aperture, the body being disposed opposite to the first plate-like body, and having a space between the first plate-like body and the first plate-like body. a second plate-like body forming an operating space of the actuating member and having a light guide slit having a smaller area than the area of the slit of the actuating member; and the second plate-like body. a light emitting element, which is located on a side surface of the actuating member opposite to the actuating space and emits projection light into the actuating space through the light guide slit; and an actuating member or a first plate-shaped body. a detection means having a light-receiving element that receives reflected light from the actuating member, and the actuating member is capable of obtaining only reflected light having a reflectance of at least a surface on the detection means side that is lower than a detection level of the detection means. the first plate-shaped body has a reflective surface having a reflectance that allows reflected light to be obtained higher than the detection level of the detection means, and the light guide slit has a reflective surface on the side of the working space, and the light guide slit has The reflectance of the surface on the side of the detection means is set to a level that allows only reflected light that is lower than the detection level of the detection means, and the projected light and the reflected light of the detection means pass through the same light guide slit. caliber detection device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985011844U JPH0447699Y2 (en) | 1985-01-30 | 1985-01-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985011844U JPH0447699Y2 (en) | 1985-01-30 | 1985-01-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61128626U JPS61128626U (en) | 1986-08-12 |
| JPH0447699Y2 true JPH0447699Y2 (en) | 1992-11-11 |
Family
ID=30494347
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985011844U Expired JPH0447699Y2 (en) | 1985-01-30 | 1985-01-30 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0447699Y2 (en) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5646403A (en) * | 1979-09-26 | 1981-04-27 | Canon Inc | Position detecting device |
| JPS5893919U (en) * | 1981-12-17 | 1983-06-25 | 旭光学工業株式会社 | Aperture value information generator for automatic aperture control cameras |
-
1985
- 1985-01-30 JP JP1985011844U patent/JPH0447699Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61128626U (en) | 1986-08-12 |
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