JPH0447903B2 - - Google Patents
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- JPH0447903B2 JPH0447903B2 JP58180399A JP18039983A JPH0447903B2 JP H0447903 B2 JPH0447903 B2 JP H0447903B2 JP 58180399 A JP58180399 A JP 58180399A JP 18039983 A JP18039983 A JP 18039983A JP H0447903 B2 JPH0447903 B2 JP H0447903B2
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- JP
- Japan
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- radiation
- information recording
- optical information
- recording carrier
- reactive
- Prior art date
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
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- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
- G11B7/245—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing a polymeric component
Landscapes
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はデジタルオーデイオデイスク、ビデオ
デイスク、デイスクメモリー等として用いられる
光情報記録担体に関し、更に詳しくは、支持体基
板との密着性に優れ、かつ、原盤又はスタンパー
等の転写用母型に刻設された信号を忠実に転写さ
れ、しかも、生産性に優れる光情報記録担体に関
する。
デイスク、デイスクメモリー等として用いられる
光情報記録担体に関し、更に詳しくは、支持体基
板との密着性に優れ、かつ、原盤又はスタンパー
等の転写用母型に刻設された信号を忠実に転写さ
れ、しかも、生産性に優れる光情報記録担体に関
する。
一般に、デジタルオーデイオデイスク又はビデ
オデイスク用の情報記録担体はデイスク表面に光
情報を多数の微細な信号ピツトとして刻設したも
のである。
オデイスク用の情報記録担体はデイスク表面に光
情報を多数の微細な信号ピツトとして刻設したも
のである。
また、光情報の記録・再生、あるいは消去可能
なデイスクメモリー用の情報記録担体は、通常、
光情報そのものをデイスク表面にピツトして刻設
されたものではないが、光学ヘツドを高精細にト
ラツキングさせるための案内溝（プレグループ）
が光デイスク表面に刻設されている。
なデイスクメモリー用の情報記録担体は、通常、
光情報そのものをデイスク表面にピツトして刻設
されたものではないが、光学ヘツドを高精細にト
ラツキングさせるための案内溝（プレグループ）
が光デイスク表面に刻設されている。
これら精細な信号ピツトや案内溝が刻設された
光情報記録担体を量産する方法としては、従来、
先ず信号ピツト又は案内溝の設けられた転写用母
型を作成し、次に、これを金型として、プラスチ
ツクスを射出成形又は圧縮成形する方法が用いら
れている。
光情報記録担体を量産する方法としては、従来、
先ず信号ピツト又は案内溝の設けられた転写用母
型を作成し、次に、これを金型として、プラスチ
ツクスを射出成形又は圧縮成形する方法が用いら
れている。
しかしながら、射出成形法又は圧縮成形法では
成形機が大型である上、転写精度が低いという欠
点を有していた。
成形機が大型である上、転写精度が低いという欠
点を有していた。
これらの点を改善するため信号ピツトを放射線
硬化性ラツカー層に形成する転写方法がポリグラ
ム株式会社やフイリツプス株式会社で研究され、
その内容は特開昭51−140601（ポリグラム）、特開
昭53−116105（フイリツプス）、特開昭54−130902
（フイリツプス）、特開昭54−138406（フイリツプ
ス）、特開昭55−4793（フイリツプス）等に開示さ
れている。
硬化性ラツカー層に形成する転写方法がポリグラ
ム株式会社やフイリツプス株式会社で研究され、
その内容は特開昭51−140601（ポリグラム）、特開
昭53−116105（フイリツプス）、特開昭54−130902
（フイリツプス）、特開昭54−138406（フイリツプ
ス）、特開昭55−4793（フイリツプス）等に開示さ
れている。
この方法は原盤またはスタンパー（電鋳法によ
り原盤から転写されてできた金属成形型）などの
転写用母型の表面に液状の放射線硬化性ラツカー
層を薄く設け、このラツカー層の上に無色透明な
プラスチツク基板を載せて、ラツカー層を挾持し
た状態で放射線を照射してラツカー層を硬化させ
る。次に信号ピツトが転写されている硬化ラツカ
ー層と、これと一体に接合したプラスチツク基板
を転写用母型から剥離して情報記録担体を製造し
ていた。
り原盤から転写されてできた金属成形型）などの
転写用母型の表面に液状の放射線硬化性ラツカー
層を薄く設け、このラツカー層の上に無色透明な
プラスチツク基板を載せて、ラツカー層を挾持し
た状態で放射線を照射してラツカー層を硬化させ
る。次に信号ピツトが転写されている硬化ラツカ
ー層と、これと一体に接合したプラスチツク基板
を転写用母型から剥離して情報記録担体を製造し
ていた。
しかしながら、従来の情報記録担体は、放射線
硬化性ラツカーとして、粘度が100CP以下で、平
均分子量は高々500の比較的低分子量の無色透明
なものが用いられているため、プラスチツク基板
（特にアクリル板）との密着性が悪い。このため
情報記録担体を長時間使用していると、特に高湿
や高温の環境中で使用していると、放射線硬化ラ
ツカー層が次第に支持体基板との界面から剥離し
てくる問題がある。また従来の放射線硬化性ラツ
カーは、硬化時にかなり収縮するため、転写用母
型からのピツト転写が１：１の関係で得られず転
写効率が十分でなく、また転写用型からの離型性
が劣るため生産性が悪い等の問題があつた。
硬化性ラツカーとして、粘度が100CP以下で、平
均分子量は高々500の比較的低分子量の無色透明
なものが用いられているため、プラスチツク基板
（特にアクリル板）との密着性が悪い。このため
情報記録担体を長時間使用していると、特に高湿
や高温の環境中で使用していると、放射線硬化ラ
ツカー層が次第に支持体基板との界面から剥離し
てくる問題がある。また従来の放射線硬化性ラツ
カーは、硬化時にかなり収縮するため、転写用母
型からのピツト転写が１：１の関係で得られず転
写効率が十分でなく、また転写用型からの離型性
が劣るため生産性が悪い等の問題があつた。
本発明は、かかる点に鑑みてなされたもので高
湿、高温環境中において長期間使用しても信号ピ
ツトが形成された放射線硬化ラツカー層と支持体
基板との密着性が維持され、長寿命化を図ること
ができると共に、信号ピツトや案内溝の転写効率
に優れ、しかも生産性が改善された情報記録担体
を提供するものである。
湿、高温環境中において長期間使用しても信号ピ
ツトが形成された放射線硬化ラツカー層と支持体
基板との密着性が維持され、長寿命化を図ること
ができると共に、信号ピツトや案内溝の転写効率
に優れ、しかも生産性が改善された情報記録担体
を提供するものである。
本発明者らは上記目的を達成すべく、種々の放
射線硬化性ラツカーを転写用型と支持体基板の間
で放射線重合することによつて光情報記録担体を
製造し、その特性を検討した結果、特定の放射線
硬化性ラツカーから得られた光情報記録担体では
支持体基板との密着性、転写効率、生産性等が極
めて良好であるという事実を見出し、本発明を完
成した。
射線硬化性ラツカーを転写用型と支持体基板の間
で放射線重合することによつて光情報記録担体を
製造し、その特性を検討した結果、特定の放射線
硬化性ラツカーから得られた光情報記録担体では
支持体基板との密着性、転写効率、生産性等が極
めて良好であるという事実を見出し、本発明を完
成した。
即ち、本発明の光情報記録担体は支持体基板上
に；放射線に対する反応性モノマーと、ポリプタ
ジエン鎖の両末端に液状エポキシドが結合した化
合物のアクリル酸もしくはメタクリル酸変性物で
ある反応性オリゴマーの放射線重合硬化物層が被
着されており；該放射線重合硬化物層の表面に光
信号ピツトが刻設されていることを特徴とする。
に；放射線に対する反応性モノマーと、ポリプタ
ジエン鎖の両末端に液状エポキシドが結合した化
合物のアクリル酸もしくはメタクリル酸変性物で
ある反応性オリゴマーの放射線重合硬化物層が被
着されており；該放射線重合硬化物層の表面に光
信号ピツトが刻設されていることを特徴とする。
用いる支持体基材は、機械的強度の低い放射線
重合硬化物層を補強すると共に保護するための必
須要素である。
重合硬化物層を補強すると共に保護するための必
須要素である。
支持体基板としては、例えば、アクリル、アセ
テート、フエノール、エポキシ樹脂等の高分子材
料、ガラス、SiO2等のセラミツクス、Al，Zn，
Cu等の金属の板、デイスク、シートもしくはフ
イルムを挙げることができる。
テート、フエノール、エポキシ樹脂等の高分子材
料、ガラス、SiO2等のセラミツクス、Al，Zn，
Cu等の金属の板、デイスク、シートもしくはフ
イルムを挙げることができる。
本発明において、前記反応性オリゴマーを用い
ることは、支持体基板との密着性、転写効率、転
写用型からの離型性を向上せしめるための必須要
素である。
ることは、支持体基板との密着性、転写効率、転
写用型からの離型性を向上せしめるための必須要
素である。
この反応性オリゴマーは、ポリブタジエン鎖の
両末端に液状エポキシドが結合した化合物のアク
リル酸もしくはメタクリル酸〔以下、「アクリル
酸もしくはメタクリル酸」を単に「（メタ）アル
リル酸」と記す。〕変成物である。
両末端に液状エポキシドが結合した化合物のアク
リル酸もしくはメタクリル酸〔以下、「アクリル
酸もしくはメタクリル酸」を単に「（メタ）アル
リル酸」と記す。〕変成物である。
反応性オリゴマーの基本構造式の一例を示すと
次の通りである。
次の通りである。
上式は、ポリブタジエン鎖の両末端にビスフエ
ノールＡ型液状エポキシドが結合した化合物のア
クリル酸変性の例である。
ノールＡ型液状エポキシドが結合した化合物のア
クリル酸変性の例である。
ポリブタジエンとしては、ブタジエン構造単位
の繰り返し数ｎが５〜70のものが好ましい。ｎが
５未満では転写効率及び離型性が低下し、一方、
ｎが60を超えると支持体基板との密着性が不足す
るからである。
の繰り返し数ｎが５〜70のものが好ましい。ｎが
５未満では転写効率及び離型性が低下し、一方、
ｎが60を超えると支持体基板との密着性が不足す
るからである。
液状エポキシドは、上式のようなビスフエノー
ルＡ型のエポキシドに限定されるものではなく、
脂肪族型のものであつてもよい。
ルＡ型のエポキシドに限定されるものではなく、
脂肪族型のものであつてもよい。
前記反応性オリゴマーの原料となる、ポリブタ
ジエン鎖の両末端に液状エポキシドが結合した化
合物であつて、液状エポキシドがビスフエノール
Ａ型エポキシドであるものとしては、例えば、日
本曹連(株)製NISSOエポキシンEPB−12B（エポキ
シ当量450〜600）、EPB13（エポキシ当量600〜
780）、EPB14（エポキシ当量400〜550）、EPB17
（エポキシ当量300〜380）等が挙げられ、液状エ
ポキシドが脂肪族型エポキシドであるものとして
は、例えば、日本曹連(株)製EPB23（エポキシ当量
750〜900）、EPB27（エポキシ当量200〜300）等
が挙げられる。
ジエン鎖の両末端に液状エポキシドが結合した化
合物であつて、液状エポキシドがビスフエノール
Ａ型エポキシドであるものとしては、例えば、日
本曹連(株)製NISSOエポキシンEPB−12B（エポキ
シ当量450〜600）、EPB13（エポキシ当量600〜
780）、EPB14（エポキシ当量400〜550）、EPB17
（エポキシ当量300〜380）等が挙げられ、液状エ
ポキシドが脂肪族型エポキシドであるものとして
は、例えば、日本曹連(株)製EPB23（エポキシ当量
750〜900）、EPB27（エポキシ当量200〜300）等
が挙げられる。
本発明の放射線硬化性ラツカー中に含有させる
反応性オリゴマーは、これらオリゴマーをさらに
（メタ）アクリル酸で変性し、ラジカル重合可能
にしたものである。
反応性オリゴマーは、これらオリゴマーをさらに
（メタ）アクリル酸で変性し、ラジカル重合可能
にしたものである。
本発明者らは、以前に、これら用途に適した反
応性オリゴマーとして放射線硬化性ポリブタジエ
ンを提唱したが、この反応性オリゴマーは無極性
の反応性モノマーにしか溶解せず、汎用性に欠け
ていた。
応性オリゴマーとして放射線硬化性ポリブタジエ
ンを提唱したが、この反応性オリゴマーは無極性
の反応性モノマーにしか溶解せず、汎用性に欠け
ていた。
しかし、本発明のように、ポリブタジエンに液
状エポキシを付加させたものを主骨格とするアク
リル変性の反応性オリゴマーは、殆どあらゆる反
応性モノマーに溶解するため、用途に合つたラツ
カーに調製し易い。また、この反応性オリゴマー
を含有するラツカーの硬化膜は、レーザー光に対
して透明である。
状エポキシを付加させたものを主骨格とするアク
リル変性の反応性オリゴマーは、殆どあらゆる反
応性モノマーに溶解するため、用途に合つたラツ
カーに調製し易い。また、この反応性オリゴマー
を含有するラツカーの硬化膜は、レーザー光に対
して透明である。
これら反応性オリゴマーは、粘度が高いため、
反応性モノマーと言われる（メタ）アクリル酸の
モノエステル、ジエステル、トリエステル、テト
ラエステル等で希釈して用いられる。反応性モノ
マーとしては、例えばエチル（メタ）アクリレー
ト、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ｎ
−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシルアクリ
レート、２−エチルヘキシルアクリレート、フエ
ニルアクリレート、ジエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロ
ペントリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート等が挙げられ、好ましくは、エステル
鎖に水素結合性の官能基を有するモノ（メタ）ア
クリレートと水素結合性の官能基を有しない多価
（メタ）アクリレートとの混合物として用いる。
反応性モノマーをこのような混合物として用いる
ことにより、支持体基板と放射線重合硬化物層と
の密着性及び離型性が向上し、しかも、放射線硬
化性ラツカーを無臭化させることが出来るからで
ある。密着性、離型性及び無臭性の改善という観
点から、この混合物の水素結合性官能基を有する
モノ（メタ）アクリレートと水素結合性官能基を
有しない多価（メタ）アクリレートの重量配合比
は５：95〜60：40とすることが好ましい。
反応性モノマーと言われる（メタ）アクリル酸の
モノエステル、ジエステル、トリエステル、テト
ラエステル等で希釈して用いられる。反応性モノ
マーとしては、例えばエチル（メタ）アクリレー
ト、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ｎ
−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシルアクリ
レート、２−エチルヘキシルアクリレート、フエ
ニルアクリレート、ジエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロ
ペントリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート等が挙げられ、好ましくは、エステル
鎖に水素結合性の官能基を有するモノ（メタ）ア
クリレートと水素結合性の官能基を有しない多価
（メタ）アクリレートとの混合物として用いる。
反応性モノマーをこのような混合物として用いる
ことにより、支持体基板と放射線重合硬化物層と
の密着性及び離型性が向上し、しかも、放射線硬
化性ラツカーを無臭化させることが出来るからで
ある。密着性、離型性及び無臭性の改善という観
点から、この混合物の水素結合性官能基を有する
モノ（メタ）アクリレートと水素結合性官能基を
有しない多価（メタ）アクリレートの重量配合比
は５：95〜60：40とすることが好ましい。
また、放射線硬化性ラツカーの反応性モノマー
と反応性オリゴマーとの重量配合比は30：70〜
95：５とするのが好ましく、更に好ましくは50：
50〜95：５とする。反応性オリゴマーの含有率が
70重量％を超えると、ラツカー液の粘度が過大と
なり、転写用型の上に薄く塗布することが困難と
なり、また塗布の際、ラツカー液に気泡が入り易
いという問題が生じ、一方、その含有率が５重量
％未満であると、転写効率、支持体基板と硬化物
層との密着性及び離型性等が低下するからであ
る。
と反応性オリゴマーとの重量配合比は30：70〜
95：５とするのが好ましく、更に好ましくは50：
50〜95：５とする。反応性オリゴマーの含有率が
70重量％を超えると、ラツカー液の粘度が過大と
なり、転写用型の上に薄く塗布することが困難と
なり、また塗布の際、ラツカー液に気泡が入り易
いという問題が生じ、一方、その含有率が５重量
％未満であると、転写効率、支持体基板と硬化物
層との密着性及び離型性等が低下するからであ
る。
次に、本発明の光情報記録担体の製造方法を添
付図面を参照しながら説明する。
付図面を参照しながら説明する。
図は本発明の光情報記録担体の製造方法の一例
を示す説明図である。
を示す説明図である。
本発明の光情報記録担体を得るには、先ず、転
写用型２を用意し、この型２の光情報記録面に前
記放射線硬化性ラツカー層３を、例えば、湿式塗
布法によつて設ける。
写用型２を用意し、この型２の光情報記録面に前
記放射線硬化性ラツカー層３を、例えば、湿式塗
布法によつて設ける。
次に、このラツカー層３の上に、例えば、透明
性支持体基板４を載置する。その際、透明性支持
体基板４としてガラス板やSiO2板を用いる場合
には、これらの表面をシランカツプリング剤、ボ
ランカツプリング剤等で表面処理を施すことが好
ましい。
性支持体基板４を載置する。その際、透明性支持
体基板４としてガラス板やSiO2板を用いる場合
には、これらの表面をシランカツプリング剤、ボ
ランカツプリング剤等で表面処理を施すことが好
ましい。
このようにして、ラツカー層３を基板４と転写
用型２の間に挾持した状態で、透明性基板４を通
して電子線、γ線、Ｘ線、紫外線等の放射線５を
照射し、ラツカー層５を硬化せしめる。用いる放
射線が紫外線である場合には、放射線硬化性ラツ
カーにはあらかじめ光開始剤を数％添加しておく
ことが好ましい。このような光開始剤としては、
例えば、１−フエニル−７，２−プロパンジオン
−２−（ｏ−エトキシカルポニル）オキシム、２，
２−ジメトキシ−２−フエニルアセトフエノン、
ベンゾインイソプチルエーテル等を挙げることが
出来る。
用型２の間に挾持した状態で、透明性基板４を通
して電子線、γ線、Ｘ線、紫外線等の放射線５を
照射し、ラツカー層５を硬化せしめる。用いる放
射線が紫外線である場合には、放射線硬化性ラツ
カーにはあらかじめ光開始剤を数％添加しておく
ことが好ましい。このような光開始剤としては、
例えば、１−フエニル−７，２−プロパンジオン
−２−（ｏ−エトキシカルポニル）オキシム、２，
２−ジメトキシ−２−フエニルアセトフエノン、
ベンゾインイソプチルエーテル等を挙げることが
出来る。
終りに、信号ピツト１が転写されている硬化ラ
ツカー層５を、基板４と共に転写用型２から離型
せしめると、本発明の光情報記録担体が得られ
る。
ツカー層５を、基板４と共に転写用型２から離型
せしめると、本発明の光情報記録担体が得られ
る。
〔発明の効果〕
以上の説明から明らかな通り、本発明の光情報
記録担体は支持体基板との密着性に優れ、かつ、
転写用型に刻設された信号が忠実に転写され、し
かも、用いる放射線効果性ラツカーが無臭性であ
り、転写用型からの離型性が良好なため生産性が
大であるという効果を奏し、その産業上の利用性
は極めて大である。
記録担体は支持体基板との密着性に優れ、かつ、
転写用型に刻設された信号が忠実に転写され、し
かも、用いる放射線効果性ラツカーが無臭性であ
り、転写用型からの離型性が良好なため生産性が
大であるという効果を奏し、その産業上の利用性
は極めて大である。
以下、本発明の光情報記録担体を実施例に沿つ
て説明する。
て説明する。
尚、実施例において記す「部」はすべて重量部
を表わすものとする。
を表わすものとする。
実施例
反応性オリゴマーとして、アクリル変性した
EPB14〔日本曹連(株)製〕を10部、トリエチレング
リコールジアクリレート70部、ヒドロキシエチル
メタクリレート20部に光開始剤として２，２−ジ
メトキシ−２−フエニルアセトフエノン２部を混
合して放射線硬化性ラツカーを調製した。
EPB14〔日本曹連(株)製〕を10部、トリエチレング
リコールジアクリレート70部、ヒドロキシエチル
メタクリレート20部に光開始剤として２，２−ジ
メトキシ−２−フエニルアセトフエノン２部を混
合して放射線硬化性ラツカーを調製した。
このラツカー液を転写用型であるニツケルスタ
ンパーとアクリル製支持体基板とのすき間に充填
後、紫外線を照射した。ラツカー液が硬化した
後、ラツカー層とニツケルスタンパーとの界面か
ら基板を剥がし、情報記録担体を作製した。この
時のラツカー硬化物層とニツケルスタンパーとの
型離れ、信号の転写性は良好であつた。
ンパーとアクリル製支持体基板とのすき間に充填
後、紫外線を照射した。ラツカー液が硬化した
後、ラツカー層とニツケルスタンパーとの界面か
ら基板を剥がし、情報記録担体を作製した。この
時のラツカー硬化物層とニツケルスタンパーとの
型離れ、信号の転写性は良好であつた。
また、ラツカー硬化物層とアクリル板との密着
性をクロスカツトテープテスト（ASTM Ｄ−
3359−76）で調べたところ、100個の試料中、剥
離を起した試料は１試料もなかつた。
性をクロスカツトテープテスト（ASTM Ｄ−
3359−76）で調べたところ、100個の試料中、剥
離を起した試料は１試料もなかつた。
応用例
本発明の情報記録担体のラツカー硬化層上に金
属の反射膜を設けると、反射率の変化で光学的に
読みとりが可能なビデオデイスクとなる。また本
発明を用いて、信号ピツトの転写だけでなくスパ
イラル状の“案内溝”を転写して光学的に書き込
みも読みとりも可能なデイスクメモリーを造るこ
ともできる。
属の反射膜を設けると、反射率の変化で光学的に
読みとりが可能なビデオデイスクとなる。また本
発明を用いて、信号ピツトの転写だけでなくスパ
イラル状の“案内溝”を転写して光学的に書き込
みも読みとりも可能なデイスクメモリーを造るこ
ともできる。
図は本発明の光情報記録担体の製造方法の一例
を示す説明図である。 １……信号ピツト、２……転写用型、３……放
射線硬化性ラツカー層、４……透明性支持体基
板、５……放射線。
を示す説明図である。 １……信号ピツト、２……転写用型、３……放
射線硬化性ラツカー層、４……透明性支持体基
板、５……放射線。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 支持体基板上に；放射線に対する反応性モノ
マーと、ポリブタジエン鎖の両末端に液状エポキ
シドが結合した化合物のアクリル酸もしくはメタ
クリル酸変性物である反応性オリゴマーの放射線
重合硬化物層が被着されており；該放射線重合硬
化物層の表面に光信号ピツトが刻設されているこ
とを特徴とする光情報記録担体。 ２ 前記反応性モノマーのエステル鎖が水素結合
性の官能基を有するモノアクリレート又はモノメ
タクリレートと水素結合性の官能基を有しない多
価アクリレート又は多価メタクリレートとの混合
物である特許請求の範囲第１項記載の光情報記録
担体。 ３ 前記反応性モノマーと反応性オリゴマーとの
重量比が30：70〜95：５である特許請求の範囲第
１項記載の光情報記録担体。 ４ 前記反応性モノマーと反応性オリゴマーとの
重量比が50：50〜95：５である特許請求の範囲第
１項記載の光情報記録担体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58180399A JPS6074133A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 光情報記録担体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58180399A JPS6074133A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 光情報記録担体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6074133A JPS6074133A (ja) | 1985-04-26 |
| JPH0447903B2 true JPH0447903B2 (ja) | 1992-08-05 |
Family
ID=16082554
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58180399A Granted JPS6074133A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 光情報記録担体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6074133A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8070968B2 (en) | 2009-03-13 | 2011-12-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Ultraviolet-curable resin material for pattern transfer and magnetic recording medium manufacturing method using the same |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4721551B2 (ja) * | 2001-05-15 | 2011-07-13 | 日本電産コパル株式会社 | カメラ用フォーカルプレンシャッタ |
| JP2010218605A (ja) | 2009-03-13 | 2010-09-30 | Toshiba Corp | パターン転写用紫外線硬化性樹脂材料、及びこれを用いた磁気記録媒体の製造方法 |
| JP4729114B2 (ja) | 2009-03-18 | 2011-07-20 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1983
- 1983-09-30 JP JP58180399A patent/JPS6074133A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8070968B2 (en) | 2009-03-13 | 2011-12-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Ultraviolet-curable resin material for pattern transfer and magnetic recording medium manufacturing method using the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6074133A (ja) | 1985-04-26 |
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