JPH0447984Y2 - - Google Patents
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- JPH0447984Y2 JPH0447984Y2 JP1986173557U JP17355786U JPH0447984Y2 JP H0447984 Y2 JPH0447984 Y2 JP H0447984Y2 JP 1986173557 U JP1986173557 U JP 1986173557U JP 17355786 U JP17355786 U JP 17355786U JP H0447984 Y2 JPH0447984 Y2 JP H0447984Y2
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- laser
- photodiode
- light
- semiconductor
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Description
【考案の詳細な説明】 以下の順序に従つて本考案を説明する。[Detailed explanation of the idea] The present invention will be explained in the following order.
A 産業上の利用分野
B 考案の概要
C 従来技術[第6図]
D 考案が解決しようとする問題点
E 問題点を解決するための手段
F 作用
G 実施例[第1図乃至第5図]
H 考案の効果
(A 産業上の利用分野)
本考案は半導体レーザ、特に互いに独立して制
御される複数本のレーザビームを発生する半導体
レーザに関する。A. Field of industrial application B. Outline of the invention C. Prior art [Figure 6] D. Problem that the invention attempts to solve E. Means for solving the problem F. Effect G. Example [Figures 1 to 5] H. Effects of the invention (A. Field of industrial application) The present invention relates to a semiconductor laser, and particularly to a semiconductor laser that generates a plurality of laser beams that are controlled independently of each other.
(B 考案の概要)
本考案は、互いに独立して制御される複数本の
レーザビームを発生する半導体レーザにおいて、
クロストークをなくし、性能の安全性を高めるた
め、
半導体基板の表面部に複数のフオトダイオード
を並べて形成し、該フオトダイオード形成部の一
方の側に複数の光発生部を有する一つのレーザダ
イオード若しくは1つの光発生部を有する複数の
レーザダイオードを固定し、上記フオトダイオー
ド形成部上に、各光発生部からのレーザビームを
その光発生部と対応するフオトダイオードに導光
する複数の導光溝を備えた遮光性材料からなるビ
ームセパレータを固定したものである。(B. Summary of the invention) The invention provides a semiconductor laser that generates multiple laser beams that are controlled independently of each other.
In order to eliminate crosstalk and improve performance safety, a plurality of photodiodes are formed side by side on the surface of a semiconductor substrate, and a single laser diode or a laser diode having a plurality of light generating sections on one side of the photodiode forming section is formed. A plurality of laser diodes having one light generation section are fixed, and a plurality of light guide grooves are provided on the photodiode forming section for guiding the laser beam from each light generation section to the photodiode corresponding to the light generation section. A beam separator made of a light-shielding material is fixed.
(C 従来技術)[第6図]
近年、半導体レーザとして別々に制御すること
のできる複数本、例えば3本のレーザビームを発
生することができるものの必要性が高まつてい
る。というのは、光デイスク等の記録媒体に対す
る記録システムにおいてリードアフターライトを
する技術の開発が進んでおり、そのリードアフタ
ーライト技術においてはリード、消去、ライトそ
れぞれに1本ずつレーザビームを用いる必要があ
り、そして、各レーザビームは互いに独立して制
御することができなければならないからである。
また、光デイスク等に対する記録システムにおい
ての記録AND/OR読み取りのマルチトラツク化
の技術においても独立して制御できる複数のレー
ザビームが必要である。また、光ピツクアツプに
3ビーム光学系化が進んでいる等、複数のレーザ
ビームを発生する半導体レーザの必要性が徐々に
高まりつつあるのである。(C. Prior Art) [Fig. 6] In recent years, there has been an increasing need for semiconductor lasers that can generate a plurality of laser beams, for example, three laser beams, which can be controlled separately. This is because read-after-write technology is being developed in recording systems for recording media such as optical disks, and read-after-write technology requires the use of one laser beam each for reading, erasing, and writing. , and each laser beam must be able to be controlled independently of each other.
In addition, a plurality of laser beams that can be independently controlled are also required in multi-track technology for recording AND/OR reading in recording systems for optical disks and the like. Furthermore, as the use of three-beam optical systems in optical pickups is progressing, the need for semiconductor lasers that generate multiple laser beams is gradually increasing.
第6図はその必要性に応えるべく開発された半
導体レーザの一例を示すものである。該半導体レ
ーザはGaAsからなる1つのn型半導体基板aに
半導体層を成長させてダブルヘテロ構造のダイオ
ードを形成し、その表面部に活性層bよりも深い
分離溝cをエツチングにより形成してその分離溝
cによつて半導体基板aの表面部をレーザダイオ
ード形成領域dとフオトダイオード形成領域eと
に二分し、レーザダイオード形成領域d内に3つ
のレーザダイオードLD1,LD2,LD3を形成
し、フオトダイオード形成領域e内に3つのフオ
トダイオードPD1,PD2,PD3を形成したも
のであり、各レーザダイオードLD1,LD2,
LD3の光発生部と、各フオトダイオードPD1,
PD2,PD3の光発生部とは分離溝cを挟んで対
向している。f,f,……がストライプであり、
各レーザダイオードLD1,LD2,LD3は互い
に独立した駆動電圧を受け、各フオトダイオード
PD1,PD2,PD3はそれぞれ独立して光検出
信号を出力する。 FIG. 6 shows an example of a semiconductor laser developed to meet this need. The semiconductor laser is constructed by growing a semiconductor layer on one n-type semiconductor substrate a made of GaAs to form a double heterostructure diode, and etching a separation groove c deeper than the active layer b on the surface of the diode. The surface of the semiconductor substrate a is divided into a laser diode formation region d and a photodiode formation region e by a separation groove c, and three laser diodes LD1, LD2, and LD3 are formed in the laser diode formation region d, and a photodiode formation region d is formed. Three photodiodes PD1, PD2, PD3 are formed in the diode formation region e, and each laser diode LD1, LD2,
The light generating section of LD3 and each photodiode PD1,
The light generating portions of PD2 and PD3 face each other with a separation groove c in between. f, f, ... are stripes,
Each laser diode LD1, LD2, LD3 receives an independent drive voltage, and each photodiode
PD1, PD2, and PD3 each independently output a photodetection signal.
各フオトダイオード間の間隔は約100μm程度で
あり、レーザダイオードLD1,LD2,LD3の
反フオトダイオード側の端面から出射される3本
のレーザビームは1個の集束レンズで光学的に処
理できる。 The distance between each photodiode is about 100 μm, and the three laser beams emitted from the end faces of the laser diodes LD1, LD2, and LD3 on the side opposite to the photodiodes can be optically processed by one focusing lens.
(D 考案が解決しようとする問題点)
ところで、第6図に示した半導体レーザにはク
ロストークが生じるという問題があつた。即ち、
レーザダイオード例えばLD1から出射されたレ
ーザビームはそのレーザダイオードレーザLD1
と対応するフオトダイオードPD1によつてモニ
ターされなければならないが、その一部はフオト
ダイオードPD1の隣りのPD2に入射されてしま
うし、また、そのフオトダイオードPD1にはレ
ーザダイオードLD2から出力されたレーザビー
ムの一部が入射されてしまうので、各レーザダイ
オードLD1,LD2,LD3を完全に独立して高
精度に出力制御を行うことができなかつた。(D. Problems to be Solved by the Invention) By the way, the semiconductor laser shown in FIG. 6 has a problem in that crosstalk occurs. That is,
The laser beam emitted from a laser diode, for example LD1, is the laser diode laser LD1.
must be monitored by the photodiode PD1 corresponding to the photodiode PD1, but part of it is incident on the PD2 adjacent to the photodiode PD1, and the laser output from the laser diode LD2 Since a portion of the beam is incident, it is not possible to control the output of each laser diode LD1, LD2, and LD3 completely independently and with high precision.
また、本来のレーザビームは劈開面から出射さ
れるけれども分離溝cがエツチングによらなけれ
ば形成できないものであるのでそのエツチング面
がモニター用レーザビームの出射端面となる。し
かし、エツチング面は元来劈開面とは異なりレー
ザビームの出射端面としては信頼性が乏しく、半
導体レーザの使用による端面への出力集中により
変質し、特性が変動し易いという欠点があり、問
題となつていた。 Further, although the original laser beam is emitted from the cleavage plane, the separation groove c can only be formed by etching, so the etched plane becomes the emission end face of the monitoring laser beam. However, unlike a cleavage plane, an etched surface is inherently unreliable as a laser beam emission end face, and has the disadvantage that its properties tend to fluctuate due to the concentration of output on the end face when using a semiconductor laser, resulting in problems. I was getting used to it.
本考案はこのような問題点を解決すべく為され
たものであり、互いに独立して制御できる半導体
レーザのクロストークをなくし、性能の安定化を
図ることを目的とするものである。 The present invention has been devised to solve these problems, and aims to stabilize the performance by eliminating crosstalk between semiconductor lasers that can be controlled independently of each other.
(E 問題点を解決するための手段)
本考案半導体レーザは上記問題点を解決するた
め、半導体基板の表面部に複数のフオトダイオー
ドを並べて形成し、該フオトダイオード形成部の
一方の側に複数の光発生部を有する一つのレーザ
ダイオード若しくは1つの光発生部を有する複数
のレーザダイオードを固定し、上記フオトダイオ
ード形成部上に、各光発生部からのレーザビーム
をその光発生部と対応するフオトダイオードに導
光する複数の導光溝を備えた遮光性材料からなる
ビームセパレータを、固定したことを特徴とする
ものである。(E. Means for Solving Problems) In order to solve the above problems, the semiconductor laser of the present invention has a plurality of photodiodes arranged side by side on the surface of a semiconductor substrate, and a plurality of photodiodes are formed on one side of the photodiode forming part. A laser diode having a light generating section or a plurality of laser diodes having one light generating section is fixed, and a laser beam from each light generating section is directed onto the photodiode forming section so as to correspond to the light generating section. The device is characterized in that a beam separator made of a light-shielding material and provided with a plurality of light guide grooves that guide light to the photodiode is fixed.
(F 作用)
本考案半導体レーザによれば、1つの表面部に
複数のモニター用フオトダイオードを形成し、該
フオトダイオード形成部の一方の側にレーザダイ
オードを固着してなるので、レーザダイオードと
して劈開面からモニター用レーザビームを出射す
る普通のタイプのものを用いることができる。従
つて、エツチング面からレーザビームを出射する
第6図に示す従来の半導体レーザよりも劣化を少
なくして性能の安定化を図ることができる。(F Effect) According to the semiconductor laser of the present invention, a plurality of monitoring photodiodes are formed on one surface portion, and a laser diode is fixed to one side of the photodiode formation portion, so that it can be cleaved as a laser diode. An ordinary type that emits a monitoring laser beam from a surface can be used. Therefore, it is possible to stabilize the performance with less deterioration than the conventional semiconductor laser shown in FIG. 6 which emits a laser beam from the etched surface.
また、ビームセパレータによりフオトダイオー
ド間を遮光し、各光発生部からのレーザビームを
それぞれ導光溝によつてその光発生部と対応する
フオトダイオードに導光するので、クロストーク
を有効且つ確実に防止することができる。 In addition, a beam separator blocks light between the photodiodes, and each laser beam from each light generating section is guided to the photodiode corresponding to that light generating section through a light guiding groove, effectively and reliably reducing crosstalk. It can be prevented.
(G 実施例)[第1図乃至第5図]
以下、本考案半導体レーザを図示実施例に従つ
て詳細に説明する。(G Embodiment) [FIGS. 1 to 5] The semiconductor laser of the present invention will be described in detail below according to the illustrated embodiment.
第1図乃至第3図は本考案半導体レーザの一つ
の実施例を示すものであり、第1図は分解斜視
図、第2図は半導体基板のフオトダイオード形成
部の断面図(第1図の2−2線に沿う断面図)、
第3図は半導体基板のレーザダイオード固着部の
断面図(第1図の3−3線に沿う断面図)であ
る。 1 to 3 show one embodiment of the semiconductor laser of the present invention, FIG. 1 is an exploded perspective view, and FIG. 2 is a cross-sectional view of the photodiode forming portion of the semiconductor substrate (see FIG. 2-2 line),
FIG. 3 is a cross-sectional view (a cross-sectional view taken along line 3--3 in FIG. 1) of the laser diode fixing portion of the semiconductor substrate.
図面において、1はシリコンSiからなる半導体
基板、2はフオトダイオード形成部で、該部分2
内に3個のフオトダイオードPD1,PD2,PD
3が形成されている。3は半導体基板1の正面側
(本来のレーザビームを出射する側)の端面であ
る。 In the drawing, 1 is a semiconductor substrate made of silicon Si, 2 is a photodiode forming part, and this part 2
3 photodiodes PD1, PD2, PD inside
3 is formed. Reference numeral 3 denotes an end face of the semiconductor substrate 1 on the front side (the side from which the original laser beam is emitted).
4はマルチレーザダイオードで、フオトダイオ
ード形成部2の第1図における斜め右上側にて半
導体基板1表面上に半田付けされている。該マル
チレーザダイオード4はGaAsからなるn型半導
体基板5の表面に適宜半導体層を成長させること
によりダブルヘテロ構造のダイオードを形成し、
表面に半導体基板5の幅方向に延びる3本のスト
ライプ6,6,6が等間隔に設けられている。7
は活性層である。そして、ストライプ6,6,6
下に上記フオトダイオードPD1,PD2,PD3
に対応するレーザダイオードLD1,LD2,LD
3が形成される。そして、マルチレーザダイオー
ド4はストライプ6,6,6が形成された面を下
向きにしてその面にてフオトダイオード形成部2
上に半田付けされている。 A multi-laser diode 4 is soldered onto the surface of the semiconductor substrate 1 at the diagonally upper right side of the photodiode forming portion 2 in FIG. The multi-laser diode 4 is formed by growing an appropriate semiconductor layer on the surface of an n-type semiconductor substrate 5 made of GaAs to form a diode with a double heterostructure.
Three stripes 6, 6, 6 extending in the width direction of the semiconductor substrate 5 are provided on the surface at equal intervals. 7
is the active layer. And stripes 6, 6, 6
Above photodiodes PD1, PD2, PD3 below
Compatible laser diodes LD1, LD2, LD
3 is formed. Then, the multi-laser diode 4 has the surface on which the stripes 6, 6, 6 are formed facing downward, and the photodiode forming portion 2 is connected to the multi-laser diode 4 on that surface.
It is soldered on top.
8は例えばシリコンSiからなるビームセパレー
タで、その下面にそれの幅方向に延びる導光溝
9,9,9が形成されており、各導光溝9,9,
9が上記マルチレーザダイオード4のストライプ
6,6,6の延長線上に位置するように位置決め
されたうえでフオトダイオード形成部2上に半田
付けされている。10,10,……は半田付けを
するためビームセパレータ8の下面に形成された
金属膜で、該金属膜10,10,……が半導体基
板1上に半田層11,11,……により半田付け
されるのである。 8 is a beam separator made of silicon Si, for example, and light guiding grooves 9, 9, 9 extending in the width direction thereof are formed on the lower surface of the beam separator.
9 is positioned on the extension line of the stripes 6, 6, 6 of the multi-laser diode 4, and is soldered onto the photodiode forming portion 2. 10, 10, . . . are metal films formed on the lower surface of the beam separator 8 for soldering, and the metal films 10, 10, . It is attached.
次に、第2図、第3図に従つて、半導体基板1
の内部構造を説明する。先ず、第2図に示すフオ
トダイオード形成部2の断面構造を説明する。 Next, according to FIGS. 2 and 3, the semiconductor substrate 1
Explain the internal structure of. First, the cross-sectional structure of the photodiode forming portion 2 shown in FIG. 2 will be explained.
12はn+型の半導体基板1の表面に形成され
たn-型半導体層、13,13,……は各フオト
ダイオード間を分離するn+型アイソレーシヨン
層で、半導体基板1の表面に上記n-型半導体層
12よりも深く形成されている。14,14,1
4はn-型半導体層12のn+型アイソレーシヨン
層13,13,……によつて囲繞された領域にお
いて表面部に選択的に形成されたp+型半導体領
域であり、該領域14,14,14と、n-型半
導体層12と、基板1とによりPIN型のフオトダ
イオードが構成される。11,11,……は前述
の半田層であり、15,15,……その下地膜で
ある。 12 is an n - type semiconductor layer formed on the surface of the n + type semiconductor substrate 1, and 13, 13, . . . are n + type isolation layers formed on the surface of the semiconductor substrate 1 to separate each photodiode. It is formed deeper than the n - type semiconductor layer 12 described above. 14,14,1
Reference numeral 4 denotes a p + -type semiconductor region selectively formed on the surface of the n - -type semiconductor layer 12 in a region surrounded by the n + -type isolation layers 13, 13, . . . , 14, 14, the n - type semiconductor layer 12, and the substrate 1 constitute a PIN type photodiode. 11, 11, . . . are the aforementioned solder layers, and 15, 15, . . . are their base films.
次に、第3図に示すレーザダイオード固着部に
ついて説明する。16,16はn-型半導体層1
2の表面部に選択的形成されたp+型半導体領域
で、上記p+型半導体領域14,14,……と同
時に形成することができる。17,17は半導体
領域16,16の表面部に選択的に形成されたn
型半導体領域であり、該半導体領域17,17は
半導体基板1から接合分離された領域となる。
尚、13aはレーザダイオードLD2のストライ
プを半導体基板1に電気的に接続するためのn+
型半導体層で、上記アイソレーシヨン層13と同
時に形成される。18,18,18aは半導体領
域17,17、半導体層13a表面に下地膜19
を介して形成された半田層であり、該半田層1
8,18,18aにより上記マルチレーザダイオ
ード4の各ストライプ6,6,6が半導体領域1
7,17、半導体層13a上に接続される。 Next, the laser diode fixing portion shown in FIG. 3 will be explained. 16, 16 is n - type semiconductor layer 1
The p + -type semiconductor region is selectively formed on the surface portion of the p + -type semiconductor region 2 and can be formed simultaneously with the p + -type semiconductor regions 14, 14, . . . . 17, 17 are n which are selectively formed on the surface portions of the semiconductor regions 16, 16.
The semiconductor regions 17, 17 are junction-separated regions from the semiconductor substrate 1.
Note that 13a is an n + point for electrically connecting the stripe of the laser diode LD2 to the semiconductor substrate 1.
This is a type semiconductor layer and is formed simultaneously with the isolation layer 13. 18, 18, 18a are semiconductor regions 17, 17, and a base film 19 is provided on the surface of the semiconductor layer 13a.
This is a solder layer formed through the solder layer 1.
8, 18, 18a, each stripe 6, 6, 6 of the multi-laser diode 4 is connected to the semiconductor region 1.
7, 17, and are connected on the semiconductor layer 13a.
上記半田層18,18の下地となる膜19はボ
ンデイングパツド部20,20まで延設されてい
る。そして、レーザダイオードLD1,LD3はボ
ンデイングパツド部20,20と、マルチレーザ
ダイオード4の反ストライプ側の面(裏面)との
間に駆動電圧を印加することにより駆動する。ま
た、レーザダイオードLD2は半導体基板1と、
マルチレーザダイオード4の反ストライプ側の面
(裏面)との間に駆動電圧を印加することにより
駆動する。マルチレーザダイオード4の反ストラ
イプ側の面にはコネクト線がボンデイングされる
ようになつている。 The film 19 underlying the solder layers 18, 18 extends to the bonding pad portions 20, 20. The laser diodes LD1 and LD3 are driven by applying a driving voltage between the bonding pad parts 20 and 20 and the surface (back surface) of the multi-laser diode 4 on the side opposite to the stripe. Further, the laser diode LD2 is connected to the semiconductor substrate 1,
It is driven by applying a driving voltage between the multi-laser diode 4 and the surface (back surface) on the side opposite to the stripe. A connect line is bonded to the surface of the multi-laser diode 4 on the side opposite to the stripe.
尚、21,21,21は各フオトダイオード
PD1,PD2,PD3のP側の電極に接続するコ
ネクト線をボンデイングするボンデイングパツド
である。 In addition, 21, 21, 21 are each photodiodes.
This is a bonding pad for bonding the connect wires connected to the P-side electrodes of PD1, PD2, and PD3.
この図示した半導体レーザは、普通のレーザダ
イオードと同じようにマルチダイオード4の劈開
面22からモニター用レーザビームを発生させる
ことができ、第6図に示した従来の半導体レーザ
のようにエツチング面からモニター用レーザビー
ムを出射させなければならないという制約は受け
ない。従つて、レーザビーム出射端面への出力集
中による劣化の虞れが少なくなり、性能の安定性
が高くなる。 The illustrated semiconductor laser can generate a monitoring laser beam from the cleavage plane 22 of the multi-diode 4 like a normal laser diode, and can generate a monitoring laser beam from the etched plane like the conventional semiconductor laser shown in FIG. There is no restriction that a monitoring laser beam must be emitted. Therefore, there is less risk of deterioration due to power concentration on the laser beam emitting end face, and performance stability is increased.
また、ビームセパレータ8により各フオトダイ
オードPD1,PD2,PD3間を分離し、各レー
ザダイオードLD1,LD2,LD3から出力され
たレーザビームをそれぞれ導光溝9,9,9によ
つてそのレーザダイオードと対応するフオトダイ
オードPD1,PD2,PD3へ導光することがで
きる。従つて、クロストークをビームセパレータ
8により有効且つ確実に防止することができる。 The photodiodes PD1, PD2, and PD3 are separated by a beam separator 8, and the laser beams output from the laser diodes LD1, LD2, and LD3 are connected to the respective laser diodes by light guide grooves 9, 9, and 9, respectively. Light can be guided to corresponding photodiodes PD1, PD2, and PD3. Therefore, crosstalk can be effectively and reliably prevented by the beam separator 8.
そして、ビームセパレータ8は光吸収性を有す
るシリコンSiにより形成されているので、レーザ
ダイオードLD1,LD2,LD3から出射された
モニター用レーザビームがビームセパレータ8に
反射されてレーザダイオードLD1,LD2,LD
3側に戻る戻り光の光量を徒らに多くならないよ
うにすることができる。 Since the beam separator 8 is made of silicon Si having light absorption properties, the monitoring laser beams emitted from the laser diodes LD1, LD2, and LD3 are reflected by the beam separator 8, and the laser beams emitted from the laser diodes LD1, LD2, and LD3 are
It is possible to prevent the amount of return light returning to the third side from increasing unnecessarily.
尚、上記実施例におけるビームセパレータ8は
各導光溝9,9,9が等方性エツチングにより形
成されているが、導光溝を異方性エツチングによ
り形成するようにしても良い。そして、導光溝の
反レーザダイオード側の端部を閉塞するようにし
ても良い。第4図A,Bはビームセパレータをそ
のように変形した一つの例8aを示すもので、同
図Aが断面図、同図Bが正面図であり、同図にお
いて22は導光溝9aの閉塞面である。そのよう
にすれば、導光溝を通過してフオトダイオード
PDに受光されなくなる無駄なモニター用レーザ
ビームをなくすことができる。 In the beam separator 8 in the above embodiment, the light guide grooves 9, 9, 9 are formed by isotropic etching, but the light guide grooves may be formed by anisotropic etching. Then, the end of the light guide groove on the side opposite to the laser diode may be closed. FIGS. 4A and 4B show an example 8a in which the beam separator is modified in this way. FIG. 4A is a cross-sectional view, and FIG. 4B is a front view. It is a closed surface. In this way, the light can pass through the light guide groove and be connected to the photodiode.
It is possible to eliminate unnecessary monitoring laser beams that are not received by the PD.
尚、エツチングによることなくソーを用いて第
5図に示すように断面矩形状の導光溝9bをハー
フカツトにより形成するようにしても良い。この
ようにすれば、比較的簡単にビームセパレータ8
bを得ることができる。 Incidentally, the light guide groove 9b having a rectangular cross section may be formed by half-cutting using a saw instead of etching as shown in FIG. In this way, the beam separator 8 can be relatively easily
b can be obtained.
また、上記実施例においては複数のレーザダイ
オードを一体化したマルチレーザダイオードを半
導体基板1上に固着していたが、各フオトダイオ
ードPD1,PD2,PD3に対応して互いに別体
のレーザダイオードLD1,LD2,LD3を半導
体基板1上に固着するようにしても良い。 Further, in the above embodiment, a multi-laser diode in which a plurality of laser diodes were integrated was fixed on the semiconductor substrate 1, but separate laser diodes LD1, The LD2 and LD3 may be fixed onto the semiconductor substrate 1.
(H 考案の効果)
以上に述べたように、本考案半導体レーザは、
半導体基板の表面部に複数のフオトダイオードが
並んで形成され、上記表面部のフオトダイオード
形成部の一方の側に互いに別個に駆動される複数
の光発生部を有する一つのレーザダイオード若し
くは1つの光発光部を有する複数のレーザダイオ
ードが、各光発生部が各フオトダイオードを向く
ように上記半導体基板上に固定され、上記表面部
のフオトダイオード形成部上に、遮光性材料から
なり一方の主面に複数の導光溝を有するビームセ
パレータが、各光発生部からのレーザビームを上
記導光溝にてその光発生部と対応するフオトダイ
オードに導光し得るように導光溝形成面にて固定
されてなることを特徴とするものである。(H Effect of the invention) As stated above, the semiconductor laser of the invention has the following effects:
One laser diode or one light beam, in which a plurality of photodiodes are formed side by side on a surface portion of a semiconductor substrate, and a plurality of light generating portions are driven separately from each other on one side of the photodiode forming portion on the surface portion. A plurality of laser diodes each having a light-emitting part are fixed on the semiconductor substrate so that each light-generating part faces each photodiode, and one main surface made of a light-shielding material is placed on the photodiode forming part of the surface part. A beam separator has a plurality of light guide grooves on the light guide groove forming surface so that the laser beam from each light generating part can be guided by the light guide groove to a photodiode corresponding to the light generating part. It is characterized by being fixed.
従つて、本考案半導体レーザによれば、1つの
表面部に複数のモニター用フオトダイオードを形
成し、該フオトダイオード形成部の一方の側にレ
ーザダイオードを固着してなるので、レーザダイ
オードとして劈開面からモニター用レーザビーム
を出射する普通のタイプのものを用いることがで
きる。従つて、エツチング面からレーザビームを
出射する第6図に示す従来の半導体レーザよりも
劣化を少なくして性能の安定化を図ることができ
る。 Therefore, according to the semiconductor laser of the present invention, a plurality of monitoring photodiodes are formed on one surface portion, and a laser diode is fixed to one side of the photodiode formation portion, so that the cleavage plane can be used as a laser diode. An ordinary type of device that emits a monitoring laser beam can be used. Therefore, it is possible to stabilize the performance with less deterioration than the conventional semiconductor laser shown in FIG. 6 which emits a laser beam from the etched surface.
また、ビームセパレータによりフオトダイオー
ド間を遮光し、各光発生部からのレーザビームを
それぞれ導光溝によつてその光発生部と対応する
フオトダイオードに導光するので、クロストーク
を有効且つ確実に防止することができる。 In addition, a beam separator blocks light between the photodiodes, and each laser beam from each light generating section is guided to the photodiode corresponding to that light generating section through a light guiding groove, effectively and reliably reducing crosstalk. It can be prevented.
第1図乃至第3図は本考案半導体レーザの一つ
の実施例を説明するためのもので、第1図は分解
斜視図、第2図は半導体基板のフオトダイオード
形成部の断面構造を示すところの第1図の2−2
線に沿う断面図、第3図は半導体基板のレーザダ
イオード固着部の断面構造を示すところの第1図
の3−3線に沿う断面図、第4図A,Bはビーム
セパレータの変形例を示すもので、同図Aは断面
図、同図Bは正面図、第5図はビームセパレータ
の別の変形例を示す正面図、第6図は従来例の斜
視図である。
符号の説明、1……半導体基板、2……フオト
ダイオード形成部、4……(マルチ)レーザダイ
オード、6……光発生部、8……ビームセパレー
タ、9……導光溝、PD……フオトダイオード、
LD……レーザダイオード。
Figures 1 to 3 are for explaining one embodiment of the semiconductor laser of the present invention, with Figure 1 being an exploded perspective view and Figure 2 showing a cross-sectional structure of a photodiode forming portion of a semiconductor substrate. 2-2 in Figure 1 of
3 is a sectional view taken along line 3-3 of FIG. 1 showing the cross-sectional structure of the laser diode fixing portion of the semiconductor substrate, and FIGS. 4A and 4B show modified examples of the beam separator. Figure A is a sectional view, Figure B is a front view, Figure 5 is a front view showing another modification of the beam separator, and Figure 6 is a perspective view of a conventional example. Explanation of symbols, 1... Semiconductor substrate, 2... Photodiode forming section, 4... (multi) laser diode, 6... Light generating section, 8... Beam separator, 9... Light guide groove, PD... photodiode,
LD...Laser diode.
Claims (1)
が並んで形成され、 上記表面部のフオトダイオード形成部の一方の
側に互いに別個に駆動される複数の光発生部を有
する一つのレーザダイオード若しくは1つの光発
生部を有する複数のレーザダイオードが、各光発
生部が各フオトダイオードを向くように上記半導
体基板上に固定され、 上記表面部のフオトダイオード形成部上に、遮
光性材料からなり一方の主面に複数の導光溝を有
するビームセパレータが、各光発生部からのレー
ザビームを上記導光溝にてその光発生部と対応す
るフオトダイオードに導光し得るように導光溝形
成面にて固定されてなる。 ことを特徴とする半導体レーザ。[Claims for Utility Model Registration] A plurality of photodiodes are formed side by side on a surface portion of a semiconductor substrate, and a plurality of light generating portions that are driven separately from each other are provided on one side of the photodiode forming portion on the surface portion. One laser diode or a plurality of laser diodes each having one light generating part are fixed on the semiconductor substrate so that each light generating part faces each photodiode, and a light shielding plate is placed on the photodiode forming part of the surface part. The beam separator is made of a transparent material and has a plurality of light guiding grooves on one main surface, so that the laser beam from each light generating part can be guided by the light guiding grooves to a photodiode corresponding to the light generating part. is fixed to the light guide groove forming surface. A semiconductor laser characterized by:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986173557U JPH0447984Y2 (en) | 1986-11-12 | 1986-11-12 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986173557U JPH0447984Y2 (en) | 1986-11-12 | 1986-11-12 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6379666U JPS6379666U (en) | 1988-05-26 |
| JPH0447984Y2 true JPH0447984Y2 (en) | 1992-11-12 |
Family
ID=31111128
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986173557U Expired JPH0447984Y2 (en) | 1986-11-12 | 1986-11-12 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0447984Y2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2681980B2 (en) * | 1988-03-14 | 1997-11-26 | 日本電気株式会社 | Semiconductor laser device |
-
1986
- 1986-11-12 JP JP1986173557U patent/JPH0447984Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6379666U (en) | 1988-05-26 |
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