JPH0448108A - 有機物除去用流動層装置 - Google Patents
有機物除去用流動層装置Info
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- JPH0448108A JPH0448108A JP15717290A JP15717290A JPH0448108A JP H0448108 A JPH0448108 A JP H0448108A JP 15717290 A JP15717290 A JP 15717290A JP 15717290 A JP15717290 A JP 15717290A JP H0448108 A JPH0448108 A JP H0448108A
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- fluidized bed
- gas
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- processing chamber
- heating furnace
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Links
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 21
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- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 abstract 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
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Landscapes
- Gasification And Melting Of Waste (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は有機物除去用流動層装置に関するものである。
[従来の技術]
ゴム、塗料、油、プラスチック等の有機高分子材が付着
している被処理物を、電気ヒータを装着した流動層炉で
加熱して熱分解除去する有機物除去用流動層装置は、例
えば、実開昭6゛1−204138号公報において開示
されているように従来公知であるが、かかる装置におい
ては、排ガス中からアルミナ等の流動媒体を分離する為
の固気分離手段及び排ガス中の有害成分を無害化する為
のガス処理手段の装着が必須とされ、一般に、固気分離
手段として、サイクロンを装着していると共にガス処理
手段として、スクラバ及びアフターバーナを装着してい
た。
している被処理物を、電気ヒータを装着した流動層炉で
加熱して熱分解除去する有機物除去用流動層装置は、例
えば、実開昭6゛1−204138号公報において開示
されているように従来公知であるが、かかる装置におい
ては、排ガス中からアルミナ等の流動媒体を分離する為
の固気分離手段及び排ガス中の有害成分を無害化する為
のガス処理手段の装着が必須とされ、一般に、固気分離
手段として、サイクロンを装着していると共にガス処理
手段として、スクラバ及びアフターバーナを装着してい
た。
2発明か解決しようとする課題]
しかし、かかる装置は、流動層炉からの排ガスを、サイ
クロン−スクラバーアフターバーナというように送って
処理し得るように構成している関係上、比較的大型の装
置になって設備投資の面において不利であると共に流動
層炉自体の加熱手段に加えてアフターバーナが必要とさ
れる為、省エネルギーの面においても不利であった。
クロン−スクラバーアフターバーナというように送って
処理し得るように構成している関係上、比較的大型の装
置になって設備投資の面において不利であると共に流動
層炉自体の加熱手段に加えてアフターバーナが必要とさ
れる為、省エネルギーの面においても不利であった。
そこで、これらの欠点を改善すべく、バーナを介して流
動層上の炉内空間部において、流動層を通過して来る上
向流排ガスを燃焼させて加熱する所謂、ガス加熱式流動
層炉に、セラミック製のフィルタを装着することにより
、サイクロンやスクラバやアフターバーナの装着を省く
ことができるようにした装置が提案されていた。
動層上の炉内空間部において、流動層を通過して来る上
向流排ガスを燃焼させて加熱する所謂、ガス加熱式流動
層炉に、セラミック製のフィルタを装着することにより
、サイクロンやスクラバやアフターバーナの装着を省く
ことができるようにした装置が提案されていた。
しかしながら、この装置も、セラミック製のフィルタを
装着するが故に、これが短期間で目詰りを起し易く、か
つ流動層炉の被処理物出し入れ目部分に装着した場合、
熱及び機械的シヨ・γりを受はクラックか発生し易く、
従って、流動層炉の被処理物出し入れ目部分に装着する
よりも更に苛酷な条件下の炉内、すなわち、流動層上の
炉内空間部に装着することなどは実際上、採用しがたく
、加えて、流動層上の炉内空間部で排ガスを燃焼させる
為、その燃焼制御が流動層における熱分解状態に左右さ
れ易く、過剰燃焼すると流動層が高温化されて有機高分
子材の熱分解が一段と促進されるので更に激しく過剰燃
焼し、これを防止する為に燃焼を停止すると有害成分が
炉外へ運ばれてしまうという解決しがたい欠点を有して
いた。
装着するが故に、これが短期間で目詰りを起し易く、か
つ流動層炉の被処理物出し入れ目部分に装着した場合、
熱及び機械的シヨ・γりを受はクラックか発生し易く、
従って、流動層炉の被処理物出し入れ目部分に装着する
よりも更に苛酷な条件下の炉内、すなわち、流動層上の
炉内空間部に装着することなどは実際上、採用しがたく
、加えて、流動層上の炉内空間部で排ガスを燃焼させる
為、その燃焼制御が流動層における熱分解状態に左右さ
れ易く、過剰燃焼すると流動層が高温化されて有機高分
子材の熱分解が一段と促進されるので更に激しく過剰燃
焼し、これを防止する為に燃焼を停止すると有害成分が
炉外へ運ばれてしまうという解決しがたい欠点を有して
いた。
本発明は、このようなことに看目し、これを解決すべく
各方面から鋭意検討の結果、流動層加熱炉の被処理物出
し入れ口が開口され、かつアフターバーナが装着された
ガス処理室内に、流動層加熱炉の被処理物出し入れ口か
らガス処理室内へ流入する上向流排ガスを水平方向へ変
流せしめてガス処理室の側壁内周面に沿って上向に流さ
せ得るように、しかも着脱自在に邪魔板を装着すること
により、スクラバの装着を省くことができると共にフィ
ルタの目詰り及び加熱制御の困難といった問題を一挙に
解決し得る実用的な有機物除去用流動層装置が得られる
ことを見出したのである6[課題を解決するための手段
] すなわち、本発明に係る有機物除去用流動層装置 に下端に流動層加熱炉の被処理物出し入れ口を開口し、
かつ側壁にアフターバーナを装着したガス処理室と、前
記ガス処理室の上端に開口されている被処理物出し入れ
口を開閉する蓋と、前記流動層加熱炉の被処理物出し入
れ口から前記ガス処理室内へ流入する上向流排ガスを水
平方向へ変流せしめて前記ガス処理室のIFl壁内周面
に沿って上向に流させ得るように前記ガス処理室内に着
脱自在に装着された邪魔板と、前記ガス処理室から排出
される燃焼ガス中から流動媒体を分離するサイクロンと
を備えていることを特徴とするものである。
各方面から鋭意検討の結果、流動層加熱炉の被処理物出
し入れ口が開口され、かつアフターバーナが装着された
ガス処理室内に、流動層加熱炉の被処理物出し入れ口か
らガス処理室内へ流入する上向流排ガスを水平方向へ変
流せしめてガス処理室の側壁内周面に沿って上向に流さ
せ得るように、しかも着脱自在に邪魔板を装着すること
により、スクラバの装着を省くことができると共にフィ
ルタの目詰り及び加熱制御の困難といった問題を一挙に
解決し得る実用的な有機物除去用流動層装置が得られる
ことを見出したのである6[課題を解決するための手段
] すなわち、本発明に係る有機物除去用流動層装置 に下端に流動層加熱炉の被処理物出し入れ口を開口し、
かつ側壁にアフターバーナを装着したガス処理室と、前
記ガス処理室の上端に開口されている被処理物出し入れ
口を開閉する蓋と、前記流動層加熱炉の被処理物出し入
れ口から前記ガス処理室内へ流入する上向流排ガスを水
平方向へ変流せしめて前記ガス処理室のIFl壁内周面
に沿って上向に流させ得るように前記ガス処理室内に着
脱自在に装着された邪魔板と、前記ガス処理室から排出
される燃焼ガス中から流動媒体を分離するサイクロンと
を備えていることを特徴とするものである。
[実施例]
以下、実施例について図面に基づいて述べると、第1図
において、1は流動層加熱炉、2はガス処理室、3は邪
魔板、4はサイクロンを夫々示し、流動層加熱炉1は、
レトルト5中に装着されているガス分散板6上にアルミ
ナ(流動媒体)を充填し、管路7から圧力室8に加圧供
給されるエアーガス(流動化ガス)を、ガス分散板6で
均一に分散させてr床へ供給することにより、アルミナ
を流動化させて流動層9を形成し得ると共に、これを電
気ヒータ10で処理温度に加熱し得るように構成されて
いる。
において、1は流動層加熱炉、2はガス処理室、3は邪
魔板、4はサイクロンを夫々示し、流動層加熱炉1は、
レトルト5中に装着されているガス分散板6上にアルミ
ナ(流動媒体)を充填し、管路7から圧力室8に加圧供
給されるエアーガス(流動化ガス)を、ガス分散板6で
均一に分散させてr床へ供給することにより、アルミナ
を流動化させて流動層9を形成し得ると共に、これを電
気ヒータ10で処理温度に加熱し得るように構成されて
いる。
方、ガス処理室2は、上端に被処理物出し入れ目11を
開口すると共に下端に流動層加熱炉1の被処理物出し入
れ目12を開口するように流動層加熱炉1の上端上に装
着された側壁13に、アフターバーナ14を装着して構
成され、かつこの室2の被処理物出し入れ口11は、l
115で開閉され、また、側壁13の下部には、アフタ
ーバーナ14より下方に位置されてサポート16が装着
されている。このサポート16は、拡大図である第2図
の平面図である第3図において示されているように、等
間隔に4個装着されており、処理中において邪魔板3を
水平状態に支持する。なお、ガス処理室2とサイクロン
4間に管路17が配設されていると共にサイクロン4と
排気ブロア18間に管F!@19が配設されている。
開口すると共に下端に流動層加熱炉1の被処理物出し入
れ目12を開口するように流動層加熱炉1の上端上に装
着された側壁13に、アフターバーナ14を装着して構
成され、かつこの室2の被処理物出し入れ口11は、l
115で開閉され、また、側壁13の下部には、アフタ
ーバーナ14より下方に位置されてサポート16が装着
されている。このサポート16は、拡大図である第2図
の平面図である第3図において示されているように、等
間隔に4個装着されており、処理中において邪魔板3を
水平状態に支持する。なお、ガス処理室2とサイクロン
4間に管路17が配設されていると共にサイクロン4と
排気ブロア18間に管F!@19が配設されている。
而して、この装置によると、1i15及び邪魔板3を取
り除いた状態において、有機高分子材が付着している被
処理物20が収容された網目状のバスゲット21を流動
層9中に浸漬し、次いで、邪魔板3をサポート16上に
載置した後、1115でガス処理室2の被処理物出し入
れ口11を閉塞して処理することができるが、その際、
流動層加熱炉1の被処理物出し入れ口12からガス処理
室2内へ流入する上向流排ガスが、邪魔板3により水平
方向へ変流され、更に第3図において示されている通路
22からガス処理室2の側壁13内周面に沿って上向に
流され、その為、アフターノく−ナ14により良好に燃
焼することができて排ガス中の有害成分を無害化するこ
とができ、従って、スクラバの装着を省くことができる
。
り除いた状態において、有機高分子材が付着している被
処理物20が収容された網目状のバスゲット21を流動
層9中に浸漬し、次いで、邪魔板3をサポート16上に
載置した後、1115でガス処理室2の被処理物出し入
れ口11を閉塞して処理することができるが、その際、
流動層加熱炉1の被処理物出し入れ口12からガス処理
室2内へ流入する上向流排ガスが、邪魔板3により水平
方向へ変流され、更に第3図において示されている通路
22からガス処理室2の側壁13内周面に沿って上向に
流され、その為、アフターノく−ナ14により良好に燃
焼することができて排ガス中の有害成分を無害化するこ
とができ、従って、スクラバの装着を省くことができる
。
また、上向流排ガスに同伴されて炉外へ運ばれようとす
るアルミナ(流動媒体)の大部分を、金属製盲平板で構
成されている邪魔板3への衝突により炉内へ戻すことが
でき、そして、残りのアルミナ(流動媒体)は、燃焼ガ
スに同伴されて管路17を経てサイクロン4へ運ばれる
が、ここで分離することができ、従って、排気ブロア1
8を経て無公害化されたガスを大気中に排気することが
できる。なお、−処理中、必要に応じて外気吸引口23
からエアーを補給することができ、また、蓋15を所定
に開けて補給することもできる。
るアルミナ(流動媒体)の大部分を、金属製盲平板で構
成されている邪魔板3への衝突により炉内へ戻すことが
でき、そして、残りのアルミナ(流動媒体)は、燃焼ガ
スに同伴されて管路17を経てサイクロン4へ運ばれる
が、ここで分離することができ、従って、排気ブロア1
8を経て無公害化されたガスを大気中に排気することが
できる。なお、−処理中、必要に応じて外気吸引口23
からエアーを補給することができ、また、蓋15を所定
に開けて補給することもできる。
そして、処理を終えると、1115及び邪魔板3を取り
除いた後、バスケット21を炉内から取り出すことがで
きるが、これは、M2S、邪魔板3及びバスケット21
に装着されているフックに、天井ホイストのフックを係
止して行う等、適当な手段により行うことができ、かつ
炉に浸漬する場合も同様の手段により行うことができる
。
除いた後、バスケット21を炉内から取り出すことがで
きるが、これは、M2S、邪魔板3及びバスケット21
に装着されているフックに、天井ホイストのフックを係
止して行う等、適当な手段により行うことができ、かつ
炉に浸漬する場合も同様の手段により行うことができる
。
以上、一実施例について述べたが、本発明において、有
機物とは、ゴム、塗料、油、プラスチックなどの有機高
分子材のことであって、これか付着されている被処理物
はいかなる形態のものであってもよく、また、流動層加
熱炉についても、電気ヒータ加熱式に限定されず、主バ
ーナを介して流動層上の炉内空間部において流動層を通
過して来る上向流排ガスを燃焼させて加熱する所謂、ガ
ス加熱式であってもよい。
機物とは、ゴム、塗料、油、プラスチックなどの有機高
分子材のことであって、これか付着されている被処理物
はいかなる形態のものであってもよく、また、流動層加
熱炉についても、電気ヒータ加熱式に限定されず、主バ
ーナを介して流動層上の炉内空間部において流動層を通
過して来る上向流排ガスを燃焼させて加熱する所謂、ガ
ス加熱式であってもよい。
この加熱式においても、邪魔板を介して、排ガスに同伴
される流動媒体を分離することができると共にアフター
バーナで排ガスを良好に燃焼することができ、かつ主バ
ーナに加えてアフターバーナを装着することにより、流
動層における熱分解状態に左右されずに主バーナの負荷
を一定にすることかできる。
される流動媒体を分離することができると共にアフター
バーナで排ガスを良好に燃焼することができ、かつ主バ
ーナに加えてアフターバーナを装着することにより、流
動層における熱分解状態に左右されずに主バーナの負荷
を一定にすることかできる。
なお、いずれの流動層加熱炉においても従来装置におけ
るフィルタの目詰りといったトラブルは皆無であり、ま
た、邪魔板の装着により、ガス処理室が高温度になって
も下方の流動層が異常高温度に加熱されるのを防止する
ことができる。
るフィルタの目詰りといったトラブルは皆無であり、ま
た、邪魔板の装着により、ガス処理室が高温度になって
も下方の流動層が異常高温度に加熱されるのを防止する
ことができる。
第4図において、邪魔板の他の装着態様を示す。
この例においては、上端に複数の清通路24を有する網
目状のバスケット21の前記上端に邪魔板3を載置して
おり、流動層9を通過して来る上向流排ガスはこの通#
124を経てガス処理室2へ流入する。邪魔板3は、網
目状のバスケ・ント21の上端にボルト等により固定し
てもよい。
目状のバスケット21の前記上端に邪魔板3を載置して
おり、流動層9を通過して来る上向流排ガスはこの通#
124を経てガス処理室2へ流入する。邪魔板3は、網
目状のバスケ・ント21の上端にボルト等により固定し
てもよい。
処理に当っての流動層の温度は400℃〜600℃に制
御される。これ以外の高温度で処理すると、最も一般的
なアルミナ(流動媒体)を使用する場合に、これか被処
理物に付着し易くなり、かつ被処理物が金属の場合、こ
れの損傷の危険性が大きくなり、反対に、これ以外の低
温度で処理すると、有機高分子材の充分な熱分解が置敷
となる。
御される。これ以外の高温度で処理すると、最も一般的
なアルミナ(流動媒体)を使用する場合に、これか被処
理物に付着し易くなり、かつ被処理物が金属の場合、こ
れの損傷の危険性が大きくなり、反対に、これ以外の低
温度で処理すると、有機高分子材の充分な熱分解が置敷
となる。
目安温度ではあるが、処理温度の具体例を挙げると、ポ
リ塩化ビニルの場合は400 ’C〜500℃に、また
、ポリプロピレンの場合は425℃〜500℃、更に、
シリコン樹脂の場合は520℃〜560°Cに夫々加熱
すればよい。
リ塩化ビニルの場合は400 ’C〜500℃に、また
、ポリプロピレンの場合は425℃〜500℃、更に、
シリコン樹脂の場合は520℃〜560°Cに夫々加熱
すればよい。
[発明の効果]
上述の如く、本発明によると、従来装置においては装着
か必須であったスクラバを必要としないで、しかも、流
動層における熱分解状態に左右されずに常に良好に排ガ
スを無害化し得ると共にフィルタの目詰りの心配が皆無
の有機物除去用流動層装置を得ることができる。
か必須であったスクラバを必要としないで、しかも、流
動層における熱分解状態に左右されずに常に良好に排ガ
スを無害化し得ると共にフィルタの目詰りの心配が皆無
の有機物除去用流動層装置を得ることができる。
第1図は有機物除去用流動層装置の正面図、第2図は邪
魔板3の装@態様を示す拡大図、第3図は第2図の平面
図、第4図は邪魔板3の他の装着態様を示す拡大図であ
る。 1・・・流動層加熱炉、2・・・ガス処理室、3・・・
邪魔板、4・・・サイクロン、9・・・流動層、11・
・・ガス処理室の被処理物出し入れ口、12・・・流動
層加熱炉の被処理物出し入れ口、13・・・側壁、14
・・・アフターバーナ、15・・・蓋、16・・・サポ
ート出願人 東レエンジニアリング株式会社jlI2図 J3rm 第1図 第4図
魔板3の装@態様を示す拡大図、第3図は第2図の平面
図、第4図は邪魔板3の他の装着態様を示す拡大図であ
る。 1・・・流動層加熱炉、2・・・ガス処理室、3・・・
邪魔板、4・・・サイクロン、9・・・流動層、11・
・・ガス処理室の被処理物出し入れ口、12・・・流動
層加熱炉の被処理物出し入れ口、13・・・側壁、14
・・・アフターバーナ、15・・・蓋、16・・・サポ
ート出願人 東レエンジニアリング株式会社jlI2図 J3rm 第1図 第4図
Claims (1)
- 1、上端に被処理物出し入れ口を開口すると共に下端に
流動層加熱炉の被処理物出し入れ口を開口し、かつ側壁
にアフターバーナを装着したガス処理室と、前記ガス処
理室の上端に開口されている被処理物出し入れ口を開閉
する蓋と、前記流動層加熱炉の被処理物出し入れ口から
前記ガス処理室内へ流入する上向流排ガスを水平方向へ
変流せしめて前記ガス処理室の側壁内周面に沿って上向
に流させ得るように前記ガス処理室内に着脱自在に装着
された邪魔板と、前記ガス処理室から排出される燃焼ガ
ス中から流動媒体を分離するサイクロンとを備えている
ことを特徴とする有機物除去用流動層装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15717290A JPH0448108A (ja) | 1990-06-14 | 1990-06-14 | 有機物除去用流動層装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15717290A JPH0448108A (ja) | 1990-06-14 | 1990-06-14 | 有機物除去用流動層装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0448108A true JPH0448108A (ja) | 1992-02-18 |
Family
ID=15643765
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15717290A Pending JPH0448108A (ja) | 1990-06-14 | 1990-06-14 | 有機物除去用流動層装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0448108A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5351676A (en) * | 1976-10-21 | 1978-05-11 | Babcock Hitachi Kk | Incinerator for heavy oil burnt ashes |
| JPS5524510A (en) * | 1978-08-09 | 1980-02-21 | Hitachi Ltd | Fluidized bed apparatus |
-
1990
- 1990-06-14 JP JP15717290A patent/JPH0448108A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5351676A (en) * | 1976-10-21 | 1978-05-11 | Babcock Hitachi Kk | Incinerator for heavy oil burnt ashes |
| JPS5524510A (en) * | 1978-08-09 | 1980-02-21 | Hitachi Ltd | Fluidized bed apparatus |
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