JPH0448201A - 干渉測定装置 - Google Patents
干渉測定装置Info
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- JPH0448201A JPH0448201A JP2158164A JP15816490A JPH0448201A JP H0448201 A JPH0448201 A JP H0448201A JP 2158164 A JP2158164 A JP 2158164A JP 15816490 A JP15816490 A JP 15816490A JP H0448201 A JPH0448201 A JP H0448201A
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- Japan
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- interference
- measured
- optical axis
- optical element
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は光学素子の面形状を高精度に測定する干渉測定
装置に関するものである。
装置に関するものである。
［従来の技術］
従来から、光の干渉を利用して被検光学素子の表面形状
を測定する干渉測定装置が提供されている。
を測定する干渉測定装置が提供されている。
これらの干渉測定装置は、その測定精度を向上させるた
めに、特開昭６２−２１４３０５号公報の光学的測定装
置に示されるように、研磨面の測定データをもとにし、
干渉測定装置の内部光学系の持つ収差を求め、これを補
正用データとして測定値を補正するか、または、特開昭
６２−１２９７０７号公報の表面形状測定装置に示され
るように、干渉測定装置において原器を光軸のまわりに
回転もしくは光軸方向に移動させて得られる複数の測定
データから、干渉測定装置のもつ参照面のひずみおよび
固有収差をあらかじめ求め、これを補正データとして、
被検面の測定結果から差し引くことにより、被検面の面
形状を測定するようにしている。
めに、特開昭６２−２１４３０５号公報の光学的測定装
置に示されるように、研磨面の測定データをもとにし、
干渉測定装置の内部光学系の持つ収差を求め、これを補
正用データとして測定値を補正するか、または、特開昭
６２−１２９７０７号公報の表面形状測定装置に示され
るように、干渉測定装置において原器を光軸のまわりに
回転もしくは光軸方向に移動させて得られる複数の測定
データから、干渉測定装置のもつ参照面のひずみおよび
固有収差をあらかじめ求め、これを補正データとして、
被検面の測定結果から差し引くことにより、被検面の面
形状を測定するようにしている。
［発明が解決しようとする課題］
かように、従来技術の干渉測定装置の測定データの補正
は、干渉測定装置の参照面の干渉光学系の収差を基準面
を測定することによってあらかじめ求めて行っているが
、これらの方法では干渉測定装置の光学系が持つデイス
ト−ジョンによる干渉縞のゆがみが測定されないで測定
誤差となって、被検面の測定データに重畳されてしまう
という問題があった。
は、干渉測定装置の参照面の干渉光学系の収差を基準面
を測定することによってあらかじめ求めて行っているが
、これらの方法では干渉測定装置の光学系が持つデイス
ト−ジョンによる干渉縞のゆがみが測定されないで測定
誤差となって、被検面の測定データに重畳されてしまう
という問題があった。
本発明は上記の問題点を解決するためになされたもので
、干渉測定装置の持つデイスト−ジョンを測定し、この
測定値からデイスト−ジョン補正値を求め、被検面の測
定データを補正し、より高精度の干渉測定装置を得るこ
とを目的とするもの本発明は光源から射出された光束を
２分して、一方の分割光束を参照面に、他方の分割光束
を被検面にそれぞれ入射させ、各々の反射光を干渉させ
て得られた干渉縞から被検面の形状を測定する干渉計と
、被検光学素子を保持するための保持部と、被検光学素
子のティルトを調整するための傾き角調整部と、光軸方
向に移動可能に保持する支持部を有する測定台と、この
ティ゛ルトおよび光軸方向の移動を制御するためのアラ
イメント制御装置と、干渉縞を電気信号に変換する干渉
縞検出手段と、電気信号をデジタル信号に変換するＡ／
Ｄ変換器と、得られたデジタル信号を入力し演算処理す
るための演算装置とで構成される干渉測定装置において
、干渉計自体の光学系のデイスト−ジョンを測定し、こ
の測定データにより被検光学素子の測定データを補正す
ることを特徴とする。
、干渉測定装置の持つデイスト−ジョンを測定し、この
測定値からデイスト−ジョン補正値を求め、被検面の測
定データを補正し、より高精度の干渉測定装置を得るこ
とを目的とするもの本発明は光源から射出された光束を
２分して、一方の分割光束を参照面に、他方の分割光束
を被検面にそれぞれ入射させ、各々の反射光を干渉させ
て得られた干渉縞から被検面の形状を測定する干渉計と
、被検光学素子を保持するための保持部と、被検光学素
子のティルトを調整するための傾き角調整部と、光軸方
向に移動可能に保持する支持部を有する測定台と、この
ティ゛ルトおよび光軸方向の移動を制御するためのアラ
イメント制御装置と、干渉縞を電気信号に変換する干渉
縞検出手段と、電気信号をデジタル信号に変換するＡ／
Ｄ変換器と、得られたデジタル信号を入力し演算処理す
るための演算装置とで構成される干渉測定装置において
、干渉計自体の光学系のデイスト−ジョンを測定し、こ
の測定データにより被検光学素子の測定データを補正す
ることを特徴とする。
本発明干渉測定装置の実施に当たり、上記測定データは
、基準となる曲面の曲率中心を干渉測定装置の光軸に一
致させた状態から被検光学素子または参照面を光軸に対
してティルトさせた状態で得られる干渉縞データに基づ
いた測定データとする。
、基準となる曲面の曲率中心を干渉測定装置の光軸に一
致させた状態から被検光学素子または参照面を光軸に対
してティルトさせた状態で得られる干渉縞データに基づ
いた測定データとする。
第１図は本発明干渉測定装置を概念的に表わしたもので
あって、収束光または平行光を作り、所定の位置に配置
された被検光学素子２の反射光と参照面の反射光との干
渉による干渉縞を形成する干渉計１と、被検光学素子を
保持するための保持部３と、該保持部が取り付けられ、
保持部と被検光学素子を一体として、干渉計１の光軸に
対してティルトさせる傾き角調整部４と、光軸方向に平
行移動させる光軸方向移動支持部５と、傾き角及び光軸
方向の移動を制御するアライメント制御装置６と、干渉
縞を検出する干渉縞検出手段７と、干渉縞検出手段７の
出力をデジタル信号に変換するＡ／Ｄ変換器８と、干渉
縞のデータに基づいて被検面の形状を演算する演算装置
９とを有する干渉測定装置において、被検光学素子２と
して、比較的面精度のよい被検面を用い、干渉計の光束
の集光点と、被検面の曲率中心が一致して被検面の干渉
縞かはとんと観察されないように光軸に対してアライメ
ントを調整した後、アライメント制御装置６により被検
光学素子２を面頂位置が変化しないようにして微少量だ
けティルトさせることにより平行直線状の干渉縞を発生
させる。
あって、収束光または平行光を作り、所定の位置に配置
された被検光学素子２の反射光と参照面の反射光との干
渉による干渉縞を形成する干渉計１と、被検光学素子を
保持するための保持部３と、該保持部が取り付けられ、
保持部と被検光学素子を一体として、干渉計１の光軸に
対してティルトさせる傾き角調整部４と、光軸方向に平
行移動させる光軸方向移動支持部５と、傾き角及び光軸
方向の移動を制御するアライメント制御装置６と、干渉
縞を検出する干渉縞検出手段７と、干渉縞検出手段７の
出力をデジタル信号に変換するＡ／Ｄ変換器８と、干渉
縞のデータに基づいて被検面の形状を演算する演算装置
９とを有する干渉測定装置において、被検光学素子２と
して、比較的面精度のよい被検面を用い、干渉計の光束
の集光点と、被検面の曲率中心が一致して被検面の干渉
縞かはとんと観察されないように光軸に対してアライメ
ントを調整した後、アライメント制御装置６により被検
光学素子２を面頂位置が変化しないようにして微少量だ
けティルトさせることにより平行直線状の干渉縞を発生
させる。
本来干渉計１自体及び干渉縞検出手段７の光学系にディ
ストーションがない場合には第２図（ａ）に示すように
干渉縞は平行な等間隔の直線となるか、デイスト−７ヨ
ンがあるため、第２図（ｂ）に示すようなひずんだ干渉
縞となる。この干渉縞を干渉縞検出手段７により検出し
、Ａ／Ｄ変換器８を通して演算装置９にとり込む。一方
被検光学素子の傾き量からデイスト−ジョンがない場合
の被検面の位相を求め、実際に測定された被検面の位相
との差から、この干渉計の内部光学系のデイスト−ジョ
ン量を演算し、この演算結果をもとに被検面の測定ディ
ストーションを補正するものである。
ストーションがない場合には第２図（ａ）に示すように
干渉縞は平行な等間隔の直線となるか、デイスト−７ヨ
ンがあるため、第２図（ｂ）に示すようなひずんだ干渉
縞となる。この干渉縞を干渉縞検出手段７により検出し
、Ａ／Ｄ変換器８を通して演算装置９にとり込む。一方
被検光学素子の傾き量からデイスト−ジョンがない場合
の被検面の位相を求め、実際に測定された被検面の位相
との差から、この干渉計の内部光学系のデイスト−ジョ
ン量を演算し、この演算結果をもとに被検面の測定ディ
ストーションを補正するものである。
被検面をティルトさせた時に測定される被検面の位相か
ら、干渉計内部のデイスト−ジョンを求めて測定データ
の補正量を計算する手法は、被検光学素子の被検面をＸ
、 Ｙ、 Ｚ （Ｚ：光軸）座標で表わすとき、そ
のＸ、 Ｙ座標は、干渉縞検出手段の観測面上のｘ、
ｙ座標と直線的に対応する。
ら、干渉計内部のデイスト−ジョンを求めて測定データ
の補正量を計算する手法は、被検光学素子の被検面をＸ
、 Ｙ、 Ｚ （Ｚ：光軸）座標で表わすとき、そ
のＸ、 Ｙ座標は、干渉縞検出手段の観測面上のｘ、
ｙ座標と直線的に対応する。
被検面上の干渉縞の位相をΦ（Ｘ、 Ｙ）とし、干渉縞
検出手段の像面上の対応する座標を（ｘ、 ｙ）、像面
上の位相をΦ’（ｘ、 ｙ）とする。デイスト−ジョ
ンは、光軸に対して軸対称な現象であるので、被検面の
Ｘ軸上の点は像面のＸ軸に写像される。
検出手段の像面上の対応する座標を（ｘ、 ｙ）、像面
上の位相をΦ’（ｘ、 ｙ）とする。デイスト−ジョ
ンは、光軸に対して軸対称な現象であるので、被検面の
Ｘ軸上の点は像面のＸ軸に写像される。
簡単のために、Ｘ（またはＸ）軸上のみで考えると、被
検面がＹ軸まわりに微少量だけ回転したとき、像面上の
Ｘ軸上の位相はデイスト−ジョンの影響を受けて第３図
に示すようになる。即ち、デイスト−ジョンがＯである
と仮定したときの位相ＬＯは Ｌｏ：Φ＝αＸ （α：被検面の傾き）となるのに
対し、デイスト−ジョンがある場合の実際の位相りは Ｌ Φ＝α （ｘ−Ｄ（ｘ）） となる。
検面がＹ軸まわりに微少量だけ回転したとき、像面上の
Ｘ軸上の位相はデイスト−ジョンの影響を受けて第３図
に示すようになる。即ち、デイスト−ジョンがＯである
と仮定したときの位相ＬＯは Ｌｏ：Φ＝αＸ （α：被検面の傾き）となるのに
対し、デイスト−ジョンがある場合の実際の位相りは Ｌ Φ＝α （ｘ−Ｄ（ｘ）） となる。
即ち、本来のある位相値Φがあるべき位置からのずれＤ
（ｘ）がデイスト−ジョンの量となる。このＤ（ｘ）
を測定値から求める。ここでαは、アライメント制御装
置の出力から演算して求めることができる。
（ｘ）がデイスト−ジョンの量となる。このＤ（ｘ）
を測定値から求める。ここでαは、アライメント制御装
置の出力から演算して求めることができる。
次に、被検面の形状測定で測定された像面上の位相に対
し−Ｄ（γ）半径方向に補正を行う。ここにｒは光軸か
ら補正する点までの距離である。デイスト−ジョン量は
像面上での補正する点から光軸までの距離γの関数Ｄ（
γ）であり、物体面上の任意の位置（Ｘ、 Ｙ）に対す
る像面上の位置（ｘ。
し−Ｄ（γ）半径方向に補正を行う。ここにｒは光軸か
ら補正する点までの距離である。デイスト−ジョン量は
像面上での補正する点から光軸までの距離γの関数Ｄ（
γ）であり、物体面上の任意の位置（Ｘ、 Ｙ）に対す
る像面上の位置（ｘ。
ｙ）に対しては次に示す関係が成立する（第４図参照）
。
。
Ｘ＝βＸ＋Ｄ （７） ｃｏｓθ
ｙ＝βＹ＋Ｄ （γ） ｃｏｓθ
即ち、
Ｘ＝（１／β） （ｘ−Ｄ （ｙ） ｃｏｓθ）Ｙ＝（
１／β） （ｙ−Ｄ （７） ｓｉｎθ）−（１）ただ
しβ・像倍率 γ：（ｘ２＋ ｙ２） ｌ／２ θ ｔａｎ−’（ｙ ／ ｘ ） 正確性をより一層増すためには、被検面をＹ軸まわりの
みでな（、光軸と直交する他の複数の軸まわりにティル
トさせきめ細かい補正データをとる手段もある。
１／β） （ｙ−Ｄ （７） ｓｉｎθ）−（１）ただ
しβ・像倍率 γ：（ｘ２＋ ｙ２） ｌ／２ θ ｔａｎ−’（ｙ ／ ｘ ） 正確性をより一層増すためには、被検面をＹ軸まわりの
みでな（、光軸と直交する他の複数の軸まわりにティル
トさせきめ細かい補正データをとる手段もある。
［実施例コ
以下に、本発明による干渉測定装置の具体的な実施例に
ついて説明する。
ついて説明する。
第５図は本発明干渉測定装置の第１実施例の構成を示す
説明図である。レーザー光等のコヒーレントな光源１１
からの光束は、ビームエキスパンダ１２にて所望の径に
まで拡幅されてビームスプリッタ１３に入射し、集光レ
ンズ系１４を通過して参照面１５に直角に入射し、光線
の一部は参照面で反射され、再びビームスプリッタ１３
に戻って反射され干渉縞検出手段であるスクリーン１９
に到達する。
説明図である。レーザー光等のコヒーレントな光源１１
からの光束は、ビームエキスパンダ１２にて所望の径に
まで拡幅されてビームスプリッタ１３に入射し、集光レ
ンズ系１４を通過して参照面１５に直角に入射し、光線
の一部は参照面で反射され、再びビームスプリッタ１３
に戻って反射され干渉縞検出手段であるスクリーン１９
に到達する。
一方、参照面１５を透過した光、線は、被検面の曲率中
心が、参照面の曲率中心と一致するようにアライメント
調整された、被検光学素子１６の被検面で反射され、再
び参照面１５、集光レンズ１４を経てビームスプリッタ
１３で反射され、前の光線と干渉するため、スクリーン
１９上で干渉縞が観察されるようになる。この干渉縞を
干渉縞検出手段としての撮像素子２０により電気信号に
変換し、Ａ／Ｄ変換器２１によりデジタル信号に変換し
て演算装置に取込む。
心が、参照面の曲率中心と一致するようにアライメント
調整された、被検光学素子１６の被検面で反射され、再
び参照面１５、集光レンズ１４を経てビームスプリッタ
１３で反射され、前の光線と干渉するため、スクリーン
１９上で干渉縞が観察されるようになる。この干渉縞を
干渉縞検出手段としての撮像素子２０により電気信号に
変換し、Ａ／Ｄ変換器２１によりデジタル信号に変換し
て演算装置に取込む。
次に、ピエゾ素子をアクチュエータとして構成した傾き
角及び光軸方向移動調整部１８を、アライメント制御装
置２３により被検光学素子１６の被検面の面頂位置から
変化しないよう制御しながら、保持部１７を微少量ティ
ルトさせる。このティルトは、演算装置２２からアライ
メント制御装置２３に指令を出して行うこともできる。
角及び光軸方向移動調整部１８を、アライメント制御装
置２３により被検光学素子１６の被検面の面頂位置から
変化しないよう制御しながら、保持部１７を微少量ティ
ルトさせる。このティルトは、演算装置２２からアライ
メント制御装置２３に指令を出して行うこともできる。
被検面をティルトさせることによりスクリーン１９上に
は平行な直線状の干渉縞が現われるようになる。この干
渉縞を撮像素子２Ｄで取込みＡ／Ｄ変換器２１でデジタ
ル信号に変換した後、演算装置２２に入力し、被検光学
素子の面ひずみを演算する。
は平行な直線状の干渉縞が現われるようになる。この干
渉縞を撮像素子２Ｄで取込みＡ／Ｄ変換器２１でデジタ
ル信号に変換した後、演算装置２２に入力し、被検光学
素子の面ひずみを演算する。
この測定値に対して演算プログラムに組込んだ各Ｘ、Ｙ
の位置に見合った補正量を（１）式にしたがって差引い
て被検面の真の形状データを得る。
の位置に見合った補正量を（１）式にしたがって差引い
て被検面の真の形状データを得る。
本実施例では、特に集光レンズ系１４の持つデイスト−
ジョンと、撮像装置２０の持つディストーションとを合
わせて補正することができる。
ジョンと、撮像装置２０の持つディストーションとを合
わせて補正することができる。
第５図に示した第１実施例の干渉測定装置の干渉計はフ
ィゾー型干渉計とするが、本発明はこの型の干渉計に限
定されるものではない。
ィゾー型干渉計とするが、本発明はこの型の干渉計に限
定されるものではない。
第６図は本発明干渉測定装置の第２実施例を示す。本例
実施例でも第１実施例につき説明した所と同様のフィゾ
ー型干渉計を用いて被検光学素子１６の透過波面の収差
を測定する干渉測定装置を構成する。
実施例でも第１実施例につき説明した所と同様のフィゾ
ー型干渉計を用いて被検光学素子１６の透過波面の収差
を測定する干渉測定装置を構成する。
本例では、被検光学素子１６の透過波面を測定するため
に、干渉計の集光レンズ系２４の焦光点に被検光学素子
１６の焦点位置が一致するように配置され、被検光学素
子１６を透過した光束を反射し、もとの方向に戻す面精
度のよい平面反射鏡２５を傾き角及び光軸方向移動調整
部１８に設けるようにしている。
に、干渉計の集光レンズ系２４の焦光点に被検光学素子
１６の焦点位置が一致するように配置され、被検光学素
子１６を透過した光束を反射し、もとの方向に戻す面精
度のよい平面反射鏡２５を傾き角及び光軸方向移動調整
部１８に設けるようにしている。
本実施例においては、被検光学素子１６を傾けるかわり
に平面反射鏡１８を傾けることによって平行直線状の干
渉縞を得、この干渉縞データから、干渉計の内部収差を
演算し、測定値を補正することができる。
に平面反射鏡１８を傾けることによって平行直線状の干
渉縞を得、この干渉縞データから、干渉計の内部収差を
演算し、測定値を補正することができる。
本実施例の干渉測定装置によれば、平面反射鏡２５の面
ひずみを含めた干渉計１のデイスト−ジョンが補正され
た被検光学素子１６の透過波面の収差を測定することが
できる。
ひずみを含めた干渉計１のデイスト−ジョンが補正され
た被検光学素子１６の透過波面の収差を測定することが
できる。
第７図は本発明干渉測定装置の第３実施例を示す。本例
では第１実施例の干渉計１の代わりにトワイマン・グリ
ーン型干渉計を用いて干渉測定装置を構成する。このト
ワイマン・グリーン型干渉計では、参照面１５の代わり
に、参照ミラー２６を配置し、参照ミラー２６による反
射光と、被検光学素子１６の被検面による反射光とを干
渉させて、スクリーン１９上に干渉縞を形成する。この
型の干渉計でも、第１実施例につき説明した所と同様に
、集光し／ズ系２４の焦点と、被検光学素子１６の被検
面の曲率中心とか一致するようアライメント調整した後
、被検光学素子１６をティルトさせて生しる干渉縞から
、被検面の波面収差を測定し、干渉計に内在するデイス
ト−ジョン量を演算によって求めることができる。この
演算値を、被検光学素子の測定時に（１）式によって補
正する。
では第１実施例の干渉計１の代わりにトワイマン・グリ
ーン型干渉計を用いて干渉測定装置を構成する。このト
ワイマン・グリーン型干渉計では、参照面１５の代わり
に、参照ミラー２６を配置し、参照ミラー２６による反
射光と、被検光学素子１６の被検面による反射光とを干
渉させて、スクリーン１９上に干渉縞を形成する。この
型の干渉計でも、第１実施例につき説明した所と同様に
、集光し／ズ系２４の焦点と、被検光学素子１６の被検
面の曲率中心とか一致するようアライメント調整した後
、被検光学素子１６をティルトさせて生しる干渉縞から
、被検面の波面収差を測定し、干渉計に内在するデイス
ト−ジョン量を演算によって求めることができる。この
演算値を、被検光学素子の測定時に（１）式によって補
正する。
本実施例の干渉測定装置によれば、参照ミラー２６の面
ひずみによる誤差をも含めて補正することができる。ま
た、傾き角及び光軸方向移動調整部を参照ミラー２６に
設けて被検光学素子１６を傾ける代わりに、参照ミラー
２６を傾けることによりデイスト−ジョンを測定するこ
とも可能である。この場合には可動部を干渉計本体に内
蔵することかでき、従って、被検光学素子の保持部が簡
単な構成になるというメリットがある。
ひずみによる誤差をも含めて補正することができる。ま
た、傾き角及び光軸方向移動調整部を参照ミラー２６に
設けて被検光学素子１６を傾ける代わりに、参照ミラー
２６を傾けることによりデイスト−ジョンを測定するこ
とも可能である。この場合には可動部を干渉計本体に内
蔵することかでき、従って、被検光学素子の保持部が簡
単な構成になるというメリットがある。
［発明の効果］
上述した本発明干渉測定装置によれば、干渉計の集光レ
ンズ系や干渉縞検出手段、その他の内部光学素子の持つ
デイスト−ジョンを測定し、その測定値によって測定結
果を補正することができるため、被検面の面精度を極め
て高精度で測定することができる。
ンズ系や干渉縞検出手段、その他の内部光学素子の持つ
デイスト−ジョンを測定し、その測定値によって測定結
果を補正することができるため、被検面の面精度を極め
て高精度で測定することができる。
第１図は本発明干渉測定装置の基本構成を概念的に示す
説明図、 第２図（ａ）は歪みのない場合における干渉縞を示す説
明図、 第２図（ｂ）は歪みのある場合における干渉縞を示す説
明図、 第３図は被検面上の干渉縞の位相と像面上の位相との関
係を示す説明図、 第４図は歪み量に対する物体面上の任意の位置と像面上
の位置との関係を示す説明図、第５図は本発明干渉測定
装置の第１実施例の構成を示す説明図、 第６図は本発明干渉測定装置の第２実施例の構成を示す
説明図、 第７図は本発明干渉測定装置の第３実施例の構成を示す
説明図である。 干渉計 被検光学素子 保持部 傾き角調整部 光軸方向移動支持部 アライメント制御装置 干渉縞検出装置 Ａ／Ｄ変換器 演算装置 光源 ビームエキスパンダ ビームスプリッタ 集光レンズ系 参照面 被検光学素子 保持部 傾き角及び光軸方向移動調整部 スクリーン 撮像素子 Ａ／Ｄ変換器 演算装置 アライメント制御手段 集光レンズ系 平面反射鏡 参照ミラー
説明図、 第２図（ａ）は歪みのない場合における干渉縞を示す説
明図、 第２図（ｂ）は歪みのある場合における干渉縞を示す説
明図、 第３図は被検面上の干渉縞の位相と像面上の位相との関
係を示す説明図、 第４図は歪み量に対する物体面上の任意の位置と像面上
の位置との関係を示す説明図、第５図は本発明干渉測定
装置の第１実施例の構成を示す説明図、 第６図は本発明干渉測定装置の第２実施例の構成を示す
説明図、 第７図は本発明干渉測定装置の第３実施例の構成を示す
説明図である。 干渉計 被検光学素子 保持部 傾き角調整部 光軸方向移動支持部 アライメント制御装置 干渉縞検出装置 Ａ／Ｄ変換器 演算装置 光源 ビームエキスパンダ ビームスプリッタ 集光レンズ系 参照面 被検光学素子 保持部 傾き角及び光軸方向移動調整部 スクリーン 撮像素子 Ａ／Ｄ変換器 演算装置 アライメント制御手段 集光レンズ系 平面反射鏡 参照ミラー
Claims (2)
- （１）光源から射出された光束を２分して、一方の分割
光束を参照面に、他方の分割光束を被検面にそれぞれ入
射させ、各々の反射光を干渉させて得られた干渉縞から
被検面の形状を測定する干渉計と、被検光学素子を保持
するための保持部と、被検光学素子のティルトを調整す
るための傾き角調整部と、光軸方向に移動可能に保持す
る支持部を有する測定台と、このティルトおよび光軸方
向の移動を制御するためのアライメント制御装置と、干
渉縞を電気信号に変換する干渉縞検出手段と、電気信号
をデジタル信号に変換するＡ／Ｄ変換器と、得られたデ
ジタル信号を入力し演算処理するための演算装置とで構
成される干渉測定装置において、干渉計自体の光学系の
ディストーションを測定し、この測定データにより被検
光学素子の測定データを補正することを特徴とする干渉
測定装置。 - （２）上記測定データは、基準となる曲面の曲率中心を
干渉測定装置の光軸に一致させた状態から被検光学素子
または参照面を光軸に対してティルトさせた状態で得ら
れる干渉縞データに基づいた測定データとすることを特
徴とする請求項１に記載の干渉測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2158164A JPH0448201A (ja) | 1990-06-15 | 1990-06-15 | 干渉測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2158164A JPH0448201A (ja) | 1990-06-15 | 1990-06-15 | 干渉測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0448201A true JPH0448201A (ja) | 1992-02-18 |
Family
ID=15665671
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2158164A Pending JPH0448201A (ja) | 1990-06-15 | 1990-06-15 | 干渉測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0448201A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5768150A (en) * | 1993-10-14 | 1998-06-16 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Device and method for measuring a characteristic of an optical element |
| US6008904A (en) * | 1996-09-20 | 1999-12-28 | Nikon Corporation | Apparatus and methods for detecting and correcting distortion of interference fringes |
| JP2007298528A (ja) * | 2002-01-17 | 2007-11-15 | Agilent Technol Inc | ヘテロダイン干渉計の高速タイプの非線形性を補償するためのシステム及び方法 |
| JP2007304114A (ja) * | 2001-11-13 | 2007-11-22 | Agilent Technol Inc | 干渉計非線形性補償のためのシステム及び方法 |
| JP2010145184A (ja) * | 2008-12-17 | 2010-07-01 | Canon Inc | 測定方法及び測定装置 |
| JP2010145185A (ja) * | 2008-12-17 | 2010-07-01 | Canon Inc | 測定方法及び測定装置 |
| US8314937B2 (en) | 2009-01-14 | 2012-11-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Measurement method and measurement apparatus that measure a surface figure of an aspheric surface based on an interference pattern |
| US8345263B2 (en) | 2008-12-17 | 2013-01-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Measurement method and measurement apparatus that measure a surface figure of an aspheric surface based on an interference pattern |
-
1990
- 1990-06-15 JP JP2158164A patent/JPH0448201A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5768150A (en) * | 1993-10-14 | 1998-06-16 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Device and method for measuring a characteristic of an optical element |
| US6008904A (en) * | 1996-09-20 | 1999-12-28 | Nikon Corporation | Apparatus and methods for detecting and correcting distortion of interference fringes |
| JP2007304114A (ja) * | 2001-11-13 | 2007-11-22 | Agilent Technol Inc | 干渉計非線形性補償のためのシステム及び方法 |
| JP2007298528A (ja) * | 2002-01-17 | 2007-11-15 | Agilent Technol Inc | ヘテロダイン干渉計の高速タイプの非線形性を補償するためのシステム及び方法 |
| JP2010145184A (ja) * | 2008-12-17 | 2010-07-01 | Canon Inc | 測定方法及び測定装置 |
| JP2010145185A (ja) * | 2008-12-17 | 2010-07-01 | Canon Inc | 測定方法及び測定装置 |
| US8345263B2 (en) | 2008-12-17 | 2013-01-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Measurement method and measurement apparatus that measure a surface figure of an aspheric surface based on an interference pattern |
| US8314937B2 (en) | 2009-01-14 | 2012-11-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Measurement method and measurement apparatus that measure a surface figure of an aspheric surface based on an interference pattern |
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