JPH0448424A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH0448424A JPH0448424A JP15807490A JP15807490A JPH0448424A JP H0448424 A JPH0448424 A JP H0448424A JP 15807490 A JP15807490 A JP 15807490A JP 15807490 A JP15807490 A JP 15807490A JP H0448424 A JPH0448424 A JP H0448424A
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- JP
- Japan
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- recording
- magnetic
- magnetic pole
- coil
- thin film
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B2005/0002—Special dispositions or recording techniques
- G11B2005/0005—Arrangements, methods or circuits
- G11B2005/0021—Thermally assisted recording using an auxiliary energy source for heating the recording layer locally to assist the magnetization reversal
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B2005/0002—Special dispositions or recording techniques
- G11B2005/0026—Pulse recording
- G11B2005/0029—Pulse recording using magnetisation components of the recording layer disposed mainly perpendicularly to the record carrier surface
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光アシスト磁気記録される情報の記録及び/
又は再生に使用する磁気ヘッド及びその製造方法に関す
るものである。
又は再生に使用する磁気ヘッド及びその製造方法に関す
るものである。
近年、情報の記録、再生、消去の可能な記録媒体として
の光磁気ディスクの開発が進められている。光磁気ディ
スクでは、通常、垂直磁化膜を使用し、レーザ光の照射
にて昇温させて保磁力を低下させた状態で上記垂直磁化
膜に膜面と垂直な方向の外部磁場を印加することにより
、磁化の向きを外部磁場の向きと一致させ、情報の記録
を行うようになっている。一方、再生時には、上記垂直
磁化膜にレーザ光を照射した際に、いわゆる磁気光学効
果により、磁化に向きに応じて、反射光の偏光面の回転
方向が相違する現象に基づいて、情報の検出が行われる
。
の光磁気ディスクの開発が進められている。光磁気ディ
スクでは、通常、垂直磁化膜を使用し、レーザ光の照射
にて昇温させて保磁力を低下させた状態で上記垂直磁化
膜に膜面と垂直な方向の外部磁場を印加することにより
、磁化の向きを外部磁場の向きと一致させ、情報の記録
を行うようになっている。一方、再生時には、上記垂直
磁化膜にレーザ光を照射した際に、いわゆる磁気光学効
果により、磁化に向きに応じて、反射光の偏光面の回転
方向が相違する現象に基づいて、情報の検出が行われる
。
光磁気ディスクにおける記録方式には、大別して、一定
方向の外部磁場を連続的に印加しながら、記録すべき情
報に応してレーザ光の強度を変調する光変調方式と、一
定強度のレーザ光を照射しながら、記録すべき情報に応
じて外部磁場の向きを反転させる磁界変調方式とがある
。そして、記録済の情報を書き換える際に、旧情報を消
去することなく、新情報を直接記録するオーバーライド
を実現できる方式としては、上記の磁界変調方式が有力
視されている。
方向の外部磁場を連続的に印加しながら、記録すべき情
報に応してレーザ光の強度を変調する光変調方式と、一
定強度のレーザ光を照射しながら、記録すべき情報に応
じて外部磁場の向きを反転させる磁界変調方式とがある
。そして、記録済の情報を書き換える際に、旧情報を消
去することなく、新情報を直接記録するオーバーライド
を実現できる方式としては、上記の磁界変調方式が有力
視されている。
この磁界変調方式において、記録密度を向上させるため
に、ディスクの回転速度又は磁界変調の周波数を上昇さ
せると、第4図に示すように、記録磁区長を、ディスク
上のレーザ光のスポット径より小さい0.3μm程度ま
で縮小することができるが、その場合、記録ピットド1
・・・の形成する磁区が円弧状又は三日月状になること
が知られている(第13回日本応用磁気学会学術講演概
要集(1989)、198頁参照)。
に、ディスクの回転速度又は磁界変調の周波数を上昇さ
せると、第4図に示すように、記録磁区長を、ディスク
上のレーザ光のスポット径より小さい0.3μm程度ま
で縮小することができるが、その場合、記録ピットド1
・・・の形成する磁区が円弧状又は三日月状になること
が知られている(第13回日本応用磁気学会学術講演概
要集(1989)、198頁参照)。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、上記のように、記録ピットド1・・・が円弧
状になり、かつ、磁区長が短くなると、これをレーザ光
により再生する際に、レーザスボントが複数の記録ピッ
トド1・・・に跨がって照射されるので、個々の記録ビ
ット1の再生が行えなくなる問題がある。
状になり、かつ、磁区長が短くなると、これをレーザ光
により再生する際に、レーザスボントが複数の記録ピッ
トド1・・・に跨がって照射されるので、個々の記録ビ
ット1の再生が行えなくなる問題がある。
そこで、レーザ光を使用せずに、磁気ヘッドにより磁気
的に記録ピットド1・・・の情報を再生することも考え
られる。ところが、その場合、記録ピットド1・・・が
円弧状であるため、やはり再生時に隣接する記録ピット
ド1間でクロストークが生じやすく、かつ、再生信号出
力も低下するので、正確な再生は不可能である。
的に記録ピットド1・・・の情報を再生することも考え
られる。ところが、その場合、記録ピットド1・・・が
円弧状であるため、やはり再生時に隣接する記録ピット
ド1間でクロストークが生じやすく、かつ、再生信号出
力も低下するので、正確な再生は不可能である。
本発明に係る磁気ヘッドは、上記の課題を解決するため
に、光アシスト磁気記録により記録媒体上にほぼ円弧状
の磁区をなして記録される情報の記録及び再生に使用す
る磁気ヘッドであって、基材上に形成された薄膜コアか
らなり、上記記録媒体側から見て上記磁区の形状とほぼ
等しいほぼ円弧状をなす主磁極と、主磁極の周囲に設け
られる再生用コイルと、主磁極からの磁束のリターンパ
ス部に設けられる記録用コイルとを備えていることを特
徴とするものである。
に、光アシスト磁気記録により記録媒体上にほぼ円弧状
の磁区をなして記録される情報の記録及び再生に使用す
る磁気ヘッドであって、基材上に形成された薄膜コアか
らなり、上記記録媒体側から見て上記磁区の形状とほぼ
等しいほぼ円弧状をなす主磁極と、主磁極の周囲に設け
られる再生用コイルと、主磁極からの磁束のリターンパ
ス部に設けられる記録用コイルとを備えていることを特
徴とするものである。
なお、上記磁気ヘッドの製造に際しては、上記基材上に
ほぼ円弧状をなす湾曲部をエツチングにより形成した後
、基材上に薄膜コアからなる主磁極を形成し、かつ、上
記主磁極に再生用コイルを設けるとともにリターンパス
部に記録用コイルを設けるようにすることが好適である
。
ほぼ円弧状をなす湾曲部をエツチングにより形成した後
、基材上に薄膜コアからなる主磁極を形成し、かつ、上
記主磁極に再生用コイルを設けるとともにリターンパス
部に記録用コイルを設けるようにすることが好適である
。
〔作 用]
上記した本発明の磁気ヘッドにおいては、記録媒体上の
磁区からの磁束が主磁極に導かれ、この磁束の大きさの
変化に応して再生用コイルの端子間に電圧が誘起され、
それに基づいて情報の検出が行われる。その場合、主磁
極が記録媒体上の磁区の形状に対応したほぼ円弧状をな
しているため、記録媒体上の隣接する複数の磁区間でク
ロストークが生じることはなく、又、充分な再生信号出
力を得ることができるようになる。これにより、光アシ
スl−1気記録において、記録密度を高めた結果、磁区
がほぼ円弧状をなす場合にも、正確な再生が行えるよう
になる。
磁区からの磁束が主磁極に導かれ、この磁束の大きさの
変化に応して再生用コイルの端子間に電圧が誘起され、
それに基づいて情報の検出が行われる。その場合、主磁
極が記録媒体上の磁区の形状に対応したほぼ円弧状をな
しているため、記録媒体上の隣接する複数の磁区間でク
ロストークが生じることはなく、又、充分な再生信号出
力を得ることができるようになる。これにより、光アシ
スl−1気記録において、記録密度を高めた結果、磁区
がほぼ円弧状をなす場合にも、正確な再生が行えるよう
になる。
又、゛リターンバス部に記録(又は消去)用コイルを設
けているので、同一の磁気ヘッドで記録(又は消去)及
び再生が行えるようになって、構成の簡略化を図ること
ができる。
けているので、同一の磁気ヘッドで記録(又は消去)及
び再生が行えるようになって、構成の簡略化を図ること
ができる。
一方、上記した磁気ヘッドの製造方法によれば、まず、
はぼ円弧形状をなす記録媒体上の磁区に対応した形状の
湾曲部を基材上に形成した後、上記基材上に薄膜により
主磁極を形成するようにしたので、記録媒体上の磁区の
形状に対応したほぼ円弧状の主磁極を形成できるように
なる。
はぼ円弧形状をなす記録媒体上の磁区に対応した形状の
湾曲部を基材上に形成した後、上記基材上に薄膜により
主磁極を形成するようにしたので、記録媒体上の磁区の
形状に対応したほぼ円弧状の主磁極を形成できるように
なる。
〔実施例1〕
本発明の一実施例を第1図乃至第14図に基づいて説明
すれば、以下の通りである。
すれば、以下の通りである。
第2図に示すように、光アシスト磁気記録再生装置は、
基板5と、基板5上に形成された記録媒体としての記録
膜6と、記録膜6を保護する保護膜7とを含むディスク
8に記録、再生又は消去を行うものであって、対物レン
ズ9を介して記録膜6にレーザ光10を照射する光ヘッ
ドと、浮上型磁気へラド11とを備えている。浮上型磁
気ヘッド11は、板ばね等からなるサスペンション12
により支持され、ディスク8の回転に伴ってディスク8
の表面から浮上するようになっている。
基板5と、基板5上に形成された記録媒体としての記録
膜6と、記録膜6を保護する保護膜7とを含むディスク
8に記録、再生又は消去を行うものであって、対物レン
ズ9を介して記録膜6にレーザ光10を照射する光ヘッ
ドと、浮上型磁気へラド11とを備えている。浮上型磁
気ヘッド11は、板ばね等からなるサスペンション12
により支持され、ディスク8の回転に伴ってディスク8
の表面から浮上するようになっている。
第3図に示すように、基板5上には所定のピンチでグル
ープ2・2・・・とランド3・3・・・とが交互に形成
され、各ランド3に沿ってほぼ円弧状又は三日月状の磁
区をなす記録ピットド1・・・(第4図参照)が形成さ
れて情報の記録が行われるようになっている。
ープ2・2・・・とランド3・3・・・とが交互に形成
され、各ランド3に沿ってほぼ円弧状又は三日月状の磁
区をなす記録ピットド1・・・(第4図参照)が形成さ
れて情報の記録が行われるようになっている。
第5図に示すように、浮上型磁気ヘッド11は、ディス
ク8上で滑走可能なスライダ13に磁気ヘッド本体14
を取り付けてなり、磁気ヘッド本体14は再生用コイル
15が巻回された再生ヘッド部16と、記録用コイル1
7が巻回されたリターンパス部18とを備えている。
ク8上で滑走可能なスライダ13に磁気ヘッド本体14
を取り付けてなり、磁気ヘッド本体14は再生用コイル
15が巻回された再生ヘッド部16と、記録用コイル1
7が巻回されたリターンパス部18とを備えている。
第1図(a) (b)に示すように、磁気ヘッド本体1
4は、MnZnフェライト等からなり、リターンバス部
18を構成する磁気コア20を備えている。
4は、MnZnフェライト等からなり、リターンバス部
18を構成する磁気コア20を備えている。
磁気コア20には再生用コイル15及び記録用コイル1
7を巻回するためのコイル巻回用溝2121が形成され
ている。一方のコイル巻回用溝21の外側にて、磁気コ
ア20に、基材となる非磁性体22が接着され、他方の
コイル巻回用溝21の外側にて磁気コア20に非磁性体
23が接着されている。又、コイル巻回用溝21・21
間にて磁気コア20に磁性体からなる記録用磁極部24
が接着されている。
7を巻回するためのコイル巻回用溝2121が形成され
ている。一方のコイル巻回用溝21の外側にて、磁気コ
ア20に、基材となる非磁性体22が接着され、他方の
コイル巻回用溝21の外側にて磁気コア20に非磁性体
23が接着されている。又、コイル巻回用溝21・21
間にて磁気コア20に磁性体からなる記録用磁極部24
が接着されている。
上記の再生ヘッド部16において、基材としての非磁性
体22及び磁気コア20の外側面には、第1図(ト))
に示すように、円弧状に湾曲した凸部25(湾曲部)が
形成されている。この凸部25上に薄膜からなる主磁極
26が形成され、主磁極26上に保護層27が形成され
ている。第5図に示すように、再生用コイル15は保護
層27上で主磁極26を周回するように巻回される一方
、記録用コイル17は記録用磁極部24の周囲に巻回さ
れている。
体22及び磁気コア20の外側面には、第1図(ト))
に示すように、円弧状に湾曲した凸部25(湾曲部)が
形成されている。この凸部25上に薄膜からなる主磁極
26が形成され、主磁極26上に保護層27が形成され
ている。第5図に示すように、再生用コイル15は保護
層27上で主磁極26を周回するように巻回される一方
、記録用コイル17は記録用磁極部24の周囲に巻回さ
れている。
上記の構成において、記録又は再生時にはディスク8の
回転に伴って、第2図の如く、スライダ13がディスク
8の表面から浮上する。記録時であれば、この状態で、
上記光ヘッドから記録膜6にレーザ光10を照射しなが
ら記録用磁極部23に巻回した記録用コイル16で発生
される磁界を記録膜6に印加することにより、高記録密
度でほぼ円弧状の記録ビソトト1・・・が記録膜6上に
形成される。
回転に伴って、第2図の如く、スライダ13がディスク
8の表面から浮上する。記録時であれば、この状態で、
上記光ヘッドから記録膜6にレーザ光10を照射しなが
ら記録用磁極部23に巻回した記録用コイル16で発生
される磁界を記録膜6に印加することにより、高記録密
度でほぼ円弧状の記録ビソトト1・・・が記録膜6上に
形成される。
一方、再生時には、記録膜6上の各記録ビット1からの
磁束が主磁極26に導かれる。この時、主磁極26を通
過する磁束の大きさが変化すると、それに応じて再生用
コイル15に電圧が誘起されるので、この再生用コイル
15の電圧を検出することにより、記録膜6上の情報が
検出される。
磁束が主磁極26に導かれる。この時、主磁極26を通
過する磁束の大きさが変化すると、それに応じて再生用
コイル15に電圧が誘起されるので、この再生用コイル
15の電圧を検出することにより、記録膜6上の情報が
検出される。
次に、浮上型磁気−・ソト用1の製造方法を説明する。
磁気ヘッド本体14の作製に際しては、まず、第6図に
示すように、MnZnフェライト等からなる磁気コア2
0を用意し、磁気コア20の前面における両端部に非磁
性体22・23をガラス又はガラス薄膜を接着材として
、それらのガラス又はガラス薄膜を例えば700〜80
0 ’C程度の温度で溶融させることにより接着する。
示すように、MnZnフェライト等からなる磁気コア2
0を用意し、磁気コア20の前面における両端部に非磁
性体22・23をガラス又はガラス薄膜を接着材として
、それらのガラス又はガラス薄膜を例えば700〜80
0 ’C程度の温度で溶融させることにより接着する。
又、同様にして、磁気コア20の前面におけるほぼ中央
部に磁性体からなる記録用磁極部24を接着する。
部に磁性体からなる記録用磁極部24を接着する。
次に、第7図に示すように、非磁性体22と記録用磁極
部24間及び非磁性体23と記録用磁極部24間にコイ
ル巻回用溝21・21を形成する。
部24間及び非磁性体23と記録用磁極部24間にコイ
ル巻回用溝21・21を形成する。
続いて、第8図に示すように、非磁性体22及び磁気コ
ア20の外側面にほぼ円弧形状をなすようにフォトレジ
スト膜28を形成する。そして、Arガスによるイオン
ミリング等により非磁性体22及び磁気コア2(Hこエ
フ・チングを施すと、第9図の如く、非磁性体22及び
磁気コア20の外側面にほぼ円弧状の凸部25が形成さ
れる。なお、凸部25の代わりに、はぼ円弧状の凹部を
形成するようにしても良い。又、以上では凸部25を非
磁性体22及び磁気コア20の全長に渡って設けるよう
にしたが、非磁性体22におけるディスり8に対向する
前端部のみにほぼ円弧状の凸部を設けるようにしても良
い。
ア20の外側面にほぼ円弧形状をなすようにフォトレジ
スト膜28を形成する。そして、Arガスによるイオン
ミリング等により非磁性体22及び磁気コア2(Hこエ
フ・チングを施すと、第9図の如く、非磁性体22及び
磁気コア20の外側面にほぼ円弧状の凸部25が形成さ
れる。なお、凸部25の代わりに、はぼ円弧状の凹部を
形成するようにしても良い。又、以上では凸部25を非
磁性体22及び磁気コア20の全長に渡って設けるよう
にしたが、非磁性体22におけるディスり8に対向する
前端部のみにほぼ円弧状の凸部を設けるようにしても良
い。
次に、第10図(a) (b)に示すように、凸部25
上にFeSi、、CoNbZr、NiFe等をスパッタ
リング等にて0.1〜0.2μm程度の膜厚となるよう
に付着させることにより主磁極26を形成する。主磁極
26は非磁性体22上では凸部25上のみに形成し、磁
気コア20上では凸部25を含んで凸部25より広い領
域に形成する。
上にFeSi、、CoNbZr、NiFe等をスパッタ
リング等にて0.1〜0.2μm程度の膜厚となるよう
に付着させることにより主磁極26を形成する。主磁極
26は非磁性体22上では凸部25上のみに形成し、磁
気コア20上では凸部25を含んで凸部25より広い領
域に形成する。
次に、第1図(a)O))に示すように、主磁極26上
にS iO2等をP −CV D (Plasma e
nhancedChemical Vapor Dep
osition)法等により数gm程度堆積させること
等により、保護層27を形成する。
にS iO2等をP −CV D (Plasma e
nhancedChemical Vapor Dep
osition)法等により数gm程度堆積させること
等により、保護層27を形成する。
なお、以上では、説明の便宜上、主磁極26及び保護層
27の形成までの工程を個々の磁気ヘッド本体14に対
して独立して行うものとして説明したが、第6図におい
て、磁気コア20として左右方向、紙面と直交する方向
に長尺のものを使用し、かつ、非磁性体22・23及び
記録用磁極部24として紙面と直交する方向に長尺のも
のを用いて、磁気コア20の左右方向に同様の構造物を
複数個設けることで、2次元的に複数の主磁極26が配
列されるようにして、保護層27形成の工程の終了後に
個々の磁気ヘッド本体14毎に分離するようにしても良
い。
27の形成までの工程を個々の磁気ヘッド本体14に対
して独立して行うものとして説明したが、第6図におい
て、磁気コア20として左右方向、紙面と直交する方向
に長尺のものを使用し、かつ、非磁性体22・23及び
記録用磁極部24として紙面と直交する方向に長尺のも
のを用いて、磁気コア20の左右方向に同様の構造物を
複数個設けることで、2次元的に複数の主磁極26が配
列されるようにして、保護層27形成の工程の終了後に
個々の磁気ヘッド本体14毎に分離するようにしても良
い。
次に、スライダ13の製造工程につき説明する。
第11図に示すようなスライダ材料41に対し、まず、
ヘッド挿入溝42を形成する(第12図)。続いて、ヘ
ッド挿入溝42の両側にてレール形成溝43・43を形
成するとともに、スライダ材料41の裏面側にレール形
成溝43・43と直交する方向に延びるサスペンション
取付は溝44を形成する(第13図)。
ヘッド挿入溝42を形成する(第12図)。続いて、ヘ
ッド挿入溝42の両側にてレール形成溝43・43を形
成するとともに、スライダ材料41の裏面側にレール形
成溝43・43と直交する方向に延びるサスペンション
取付は溝44を形成する(第13図)。
磁気ヘッド本体14及びスライダ13が構成されると、
第14図に示すように、スライダ13のヘッド挿入溝4
2に磁気ヘッド本体14が挿入されて、例えば500°
C程度の温度で熔融されたガラス等により接着される。
第14図に示すように、スライダ13のヘッド挿入溝4
2に磁気ヘッド本体14が挿入されて、例えば500°
C程度の温度で熔融されたガラス等により接着される。
続いて、第5図の如く、スライダ13のレール面45・
45・・・並びに中央のレール面45に連続する非磁性
体22・23及び記録用磁極部24の表面が研削及びポ
リッシュされるとともに、レール面45・45・・・に
おける磁気へ、ド本体14と反対側の端部近傍に、ディ
スク8とスライダ13との間に空気を導入するための傾
斜面46・46・・・が形成される。更に、記録用磁極
部24に記録用コイル17が巻回されるとともに、再生
ヘッド部16における主磁極26の周囲に再生用コイル
15が巻回される。
45・・・並びに中央のレール面45に連続する非磁性
体22・23及び記録用磁極部24の表面が研削及びポ
リッシュされるとともに、レール面45・45・・・に
おける磁気へ、ド本体14と反対側の端部近傍に、ディ
スク8とスライダ13との間に空気を導入するための傾
斜面46・46・・・が形成される。更に、記録用磁極
部24に記録用コイル17が巻回されるとともに、再生
ヘッド部16における主磁極26の周囲に再生用コイル
15が巻回される。
なお、上記の実施例では、スライダ13と磁気ヘット本
体14を別個に構成したが、スライダ13及び磁気ヘッ
ド本体14の磁気コア20を一体に構成するようにして
も良い。
体14を別個に構成したが、スライダ13及び磁気ヘッ
ド本体14の磁気コア20を一体に構成するようにして
も良い。
〔実施例2]
次に、第2実施例を説明する。
この実施例では、第1実施例の巻線型の再生用コイル1
5に代えて、第15図(a)に示すように、薄膜からな
る再生用コイル51を使用している。
5に代えて、第15図(a)に示すように、薄膜からな
る再生用コイル51を使用している。
すなわち、非磁性体22及び磁気コア20の外側面には
、絶縁層52により主磁極53と絶縁された裏面側薄膜
コイル54・55と、w!!、縁層56により主磁極5
3と絶縁されるとともに保護層57により被覆された表
面側薄膜コイル58・60とが設けられ、裏面側薄膜コ
イル54・55と表面側薄膜コイル58・60は主磁極
53を周回するように互いに接続されて、再生用コイル
51を構成している。なお、上記の第1実施例と同様の
構成を有する部位には同一参照番号を付して重複した説
明を省略する。
、絶縁層52により主磁極53と絶縁された裏面側薄膜
コイル54・55と、w!!、縁層56により主磁極5
3と絶縁されるとともに保護層57により被覆された表
面側薄膜コイル58・60とが設けられ、裏面側薄膜コ
イル54・55と表面側薄膜コイル58・60は主磁極
53を周回するように互いに接続されて、再生用コイル
51を構成している。なお、上記の第1実施例と同様の
構成を有する部位には同一参照番号を付して重複した説
明を省略する。
以下、本実施例の磁気ヘッド本体50の製造手順につき
述べる。
述べる。
磁気コア20及び非磁性体22の外側面上に凸部25を
形成する手順は第1実施例と同様である(第6図乃至第
9図参照)。
形成する手順は第1実施例と同様である(第6図乃至第
9図参照)。
凸部25を形成した後、第16図(a) (b)に示す
ように、凸部25上を横切るように裏面側薄膜コイル5
4・55を形成する。裏面側薄膜コイル54は非磁性体
22及び磁気コア20の一例に沿って磁気コア20の後
端部近傍まで延長する。なお、裏面側薄膜コイル54・
55は、Nb (0,05um) 、Cu (1μm)
、Nb (0,1μm)及びTi (0,2μm)
の4層薄膜を順次EB(Electron Beam)
蒸着した後、イオンミリング等のエツチングにより不要
部位を除去して形成される。
ように、凸部25上を横切るように裏面側薄膜コイル5
4・55を形成する。裏面側薄膜コイル54は非磁性体
22及び磁気コア20の一例に沿って磁気コア20の後
端部近傍まで延長する。なお、裏面側薄膜コイル54・
55は、Nb (0,05um) 、Cu (1μm)
、Nb (0,1μm)及びTi (0,2μm)
の4層薄膜を順次EB(Electron Beam)
蒸着した後、イオンミリング等のエツチングにより不要
部位を除去して形成される。
続いて、第17図に示すように、裏面側薄膜コイル54
・55上にP−CVD等でSiO□を堆積させたり、或
いは適当な材料をスピンコード法等で塗布して焼成(例
えば、300°C程度)すること等により絶縁層52を
形成した後、リアクティブイオンエツチング等により不
要部位を除去する。
・55上にP−CVD等でSiO□を堆積させたり、或
いは適当な材料をスピンコード法等で塗布して焼成(例
えば、300°C程度)すること等により絶縁層52を
形成した後、リアクティブイオンエツチング等により不
要部位を除去する。
次に、第18図(a) (b)に示すように、FeSi
、CoNbZr、NiFe等を例えば0.1〜0゜2μ
m程度スパッタリングし、イオンミリング等で不要部位
を除去すること等により、はぼ凸部25上に沿って主磁
極26を形成する。
、CoNbZr、NiFe等を例えば0.1〜0゜2μ
m程度スパッタリングし、イオンミリング等で不要部位
を除去すること等により、はぼ凸部25上に沿って主磁
極26を形成する。
続いて、主磁極26上に、P−CVD法でSiO□を1
μm程度堆積させること等により、絶縁層56を形成(
第19図)した後、上記と同様にNb (0,05μm
) 、Cu (1μm) 、Nb (0,1μm)及び
Ti (0,2μm)の4層を順次EB蒸着してイオン
ミリング等で不要部位を除去すること等により表面側薄
膜コイル58・60を形成する(第20図(a)(b)
)。表面側薄膜コイル58の両端は裏面側薄膜コイル
54・55の各−端に接続するとともに、表面側薄膜コ
イル60の一端は裏面側薄膜コイル55の他端に接続し
、かつ、表面側薄膜コイル60は裏面側薄膜コイル54
とともに磁気コア20の後端部近傍まで延長する。なお
、表面側薄膜コイル58・60の形成前に、絶縁層52
・56における裏面側薄膜コイル54・55と表面側薄
膜コイル58・60の接続部位を除去しておく。
μm程度堆積させること等により、絶縁層56を形成(
第19図)した後、上記と同様にNb (0,05μm
) 、Cu (1μm) 、Nb (0,1μm)及び
Ti (0,2μm)の4層を順次EB蒸着してイオン
ミリング等で不要部位を除去すること等により表面側薄
膜コイル58・60を形成する(第20図(a)(b)
)。表面側薄膜コイル58の両端は裏面側薄膜コイル
54・55の各−端に接続するとともに、表面側薄膜コ
イル60の一端は裏面側薄膜コイル55の他端に接続し
、かつ、表面側薄膜コイル60は裏面側薄膜コイル54
とともに磁気コア20の後端部近傍まで延長する。なお
、表面側薄膜コイル58・60の形成前に、絶縁層52
・56における裏面側薄膜コイル54・55と表面側薄
膜コイル58・60の接続部位を除去しておく。
次に、表面側薄膜コイル58・60上にP−CVD法で
S+Ozを堆積させること等により、保護層57を形成
する(第15図(a) (b) )。なお、この保護層
57における第20図(a)にハツチングで示す領域6
1・62、つまり、裏面側薄膜コイル54及び表面側薄
膜コイル60の外部接続用端部に対応する領域はエツチ
ングにより除去される。
S+Ozを堆積させること等により、保護層57を形成
する(第15図(a) (b) )。なお、この保護層
57における第20図(a)にハツチングで示す領域6
1・62、つまり、裏面側薄膜コイル54及び表面側薄
膜コイル60の外部接続用端部に対応する領域はエツチ
ングにより除去される。
その後、この磁気ヘッド本体50がスライダ13乙こ接
続されて、必要な研削、ポリッシュ等が行われた後、記
録用磁極部24に記録用コイル17が巻回される。
続されて、必要な研削、ポリッシュ等が行われた後、記
録用磁極部24に記録用コイル17が巻回される。
なお、第1実施例と同様にこの実施例でも、磁気コア2
0、非磁性体22・23及び記録用磁極部24と巳て長
尺のものを使用することにより、複数の磁気へ、上本体
50を同時に製造した後、分離するようにしたり、或い
は、磁気コア20とスライダ13を一体に構成すること
ができる。
0、非磁性体22・23及び記録用磁極部24と巳て長
尺のものを使用することにより、複数の磁気へ、上本体
50を同時に製造した後、分離するようにしたり、或い
は、磁気コア20とスライダ13を一体に構成すること
ができる。
[発明の効果]
本発明に係る磁気ヘッドは、以上のように、基材上に形
成された薄膜コアからなり、上記記録媒体側から見て上
記磁区の形状とほぼ等しいほぼ円弧状をなす主磁極と、
主磁極の周囲に設けられる再生用コイルと、主磁極から
の磁束のリターンバス部に設けられる記録用コイルとを
備えている構成である。
成された薄膜コアからなり、上記記録媒体側から見て上
記磁区の形状とほぼ等しいほぼ円弧状をなす主磁極と、
主磁極の周囲に設けられる再生用コイルと、主磁極から
の磁束のリターンバス部に設けられる記録用コイルとを
備えている構成である。
このように、主磁極が記録媒体上の磁区の形状に対応し
たほぼ円弧状をなしているため、記録媒体上の隣接する
複数の磁区間でクロストークが生しることはなく、又、
充分な再生信号出力を得ることができるようになる。そ
の結果、光アシスト磁気記録において、記録密度を高め
るために記録ビットがほぼ円弧状をなす場合にも、正確
な再生が行えるようになる。
たほぼ円弧状をなしているため、記録媒体上の隣接する
複数の磁区間でクロストークが生しることはなく、又、
充分な再生信号出力を得ることができるようになる。そ
の結果、光アシスト磁気記録において、記録密度を高め
るために記録ビットがほぼ円弧状をなす場合にも、正確
な再生が行えるようになる。
一方、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、上記基材
上にほぼ円弧状をなす湾曲部(凹部又は凸部)をエツチ
ングにより形成した後、基材上に薄膜コアからなる主磁
極を形成し、かつ、上記主磁極乙こ再生用コイルを設け
るとともにリターンバス部に記録用コイルを設けるよう
にした構成である。
上にほぼ円弧状をなす湾曲部(凹部又は凸部)をエツチ
ングにより形成した後、基材上に薄膜コアからなる主磁
極を形成し、かつ、上記主磁極乙こ再生用コイルを設け
るとともにリターンバス部に記録用コイルを設けるよう
にした構成である。
これにより、まず、はぼ円弧形状をなす記録媒体上の磁
区に対応した形状の湾曲部を基材上に形成した後、上記
基材上に薄膜により主磁極を形成するようにしたので、
記録媒体上の磁区の形状に対応したほぼ円弧状の主磁極
を形成できるという効果を奏する。
区に対応した形状の湾曲部を基材上に形成した後、上記
基材上に薄膜により主磁極を形成するようにしたので、
記録媒体上の磁区の形状に対応したほぼ円弧状の主磁極
を形成できるという効果を奏する。
第1図乃至第14図は本発明の一実施例を示すものであ
る。 第1図(a)は磁気ヘッド本体の概略縦断面図である。 同図(b)は同概略底面図である。 第2図は浮上型磁気ヘッドを備えた光磁気記録再生装置
の概略構成図である。 第3図はディスクの概略縦断面図である。 第4回は記録ビットの形状を示す説明図である。 第5図は浮上型磁気ヘッドの斜視図である。 第6図は磁気コアに非磁性体及び記録用磁極部を接着す
る様子を示す概略正面図である。 第7図は磁気コアにコイル巻回用溝を形成する様子を示
す概略正面図である。 第8図はフォトレジスト膜を形成する様子を示す概略底
面図である。 第9図はフォトレジスト膜を介してエツチングを施す様
子を示す概略底面図である。 第10図(a)は主磁極を形成する様子を示す概略平面
図である。 同図(b)は同図(a)のA−A線に沿う概略断面図で
ある。 第11図乃至第13図はそれぞれスライダの加工工程を
示す概略斜視図である。 第14図はスライダに磁気ヘッド本体を接着する様子を
示す斜視図である。 第15図乃至第20図は本発明の他の実施例を示すもの
である。 第15図(a)は磁気ヘッド本体の概略縦断面図である
。 同図(b)は同概略底面図である。 第16図(a)は裏面側薄膜コイルを形成する様子を示
す概略正面図である。 同図(b)は同図(a)のB−B線に沿う概略断面図で
ある。 第17図は絶縁層を形成する様子を示す概略縦断面図で
ある。 第18図(a)は主磁極を形成する様子を示す概略平面
図である。 同図0))は同図(a)のC−C線に沿う概略断面図で
ある。 第19図は絶縁層を形成する様子を示す概略縦断面図で
ある。 第20図(a)は表面側薄膜コイルを形成する様子を示
す概略平面図である。 同図(b)は同図(a)のD−D線に沿う概略断面図で
ある。 6は記録膜(記録媒体)、15・51は再生用コイル、
17は記録用コイル、18はリターンバス部、22は非
磁性体(基材)、25は凸部(湾曲部)、26・53は
主磁極である。 第 1 図(a) 第1 図(b) 特許出願人 シャープ 株式会社第10 図(a) 第10 図(b) 図 目 第15 図(a) 第15 図(b) 第16 図(a) 第16 図(b) 第17 図 n j 第 図(a) 第18 図(b) 第19 図
る。 第1図(a)は磁気ヘッド本体の概略縦断面図である。 同図(b)は同概略底面図である。 第2図は浮上型磁気ヘッドを備えた光磁気記録再生装置
の概略構成図である。 第3図はディスクの概略縦断面図である。 第4回は記録ビットの形状を示す説明図である。 第5図は浮上型磁気ヘッドの斜視図である。 第6図は磁気コアに非磁性体及び記録用磁極部を接着す
る様子を示す概略正面図である。 第7図は磁気コアにコイル巻回用溝を形成する様子を示
す概略正面図である。 第8図はフォトレジスト膜を形成する様子を示す概略底
面図である。 第9図はフォトレジスト膜を介してエツチングを施す様
子を示す概略底面図である。 第10図(a)は主磁極を形成する様子を示す概略平面
図である。 同図(b)は同図(a)のA−A線に沿う概略断面図で
ある。 第11図乃至第13図はそれぞれスライダの加工工程を
示す概略斜視図である。 第14図はスライダに磁気ヘッド本体を接着する様子を
示す斜視図である。 第15図乃至第20図は本発明の他の実施例を示すもの
である。 第15図(a)は磁気ヘッド本体の概略縦断面図である
。 同図(b)は同概略底面図である。 第16図(a)は裏面側薄膜コイルを形成する様子を示
す概略正面図である。 同図(b)は同図(a)のB−B線に沿う概略断面図で
ある。 第17図は絶縁層を形成する様子を示す概略縦断面図で
ある。 第18図(a)は主磁極を形成する様子を示す概略平面
図である。 同図0))は同図(a)のC−C線に沿う概略断面図で
ある。 第19図は絶縁層を形成する様子を示す概略縦断面図で
ある。 第20図(a)は表面側薄膜コイルを形成する様子を示
す概略平面図である。 同図(b)は同図(a)のD−D線に沿う概略断面図で
ある。 6は記録膜(記録媒体)、15・51は再生用コイル、
17は記録用コイル、18はリターンバス部、22は非
磁性体(基材)、25は凸部(湾曲部)、26・53は
主磁極である。 第 1 図(a) 第1 図(b) 特許出願人 シャープ 株式会社第10 図(a) 第10 図(b) 図 目 第15 図(a) 第15 図(b) 第16 図(a) 第16 図(b) 第17 図 n j 第 図(a) 第18 図(b) 第19 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、光アシスト磁気記録により記録媒体上にほぼ円弧状
の磁区をなして記録される情報の記録及び再生に使用す
る磁気ヘッドであって、 基材上に形成された薄膜コアからなり、上記記録媒体側
から見て上記磁区の形状とほぼ等しいほぼ円弧状をなす
主磁極と、主磁極の周囲に設けられる再生用コイルと、
主磁極からの磁束のリターンパス部に設けられる記録用
コイルとを備えていることを特徴とする磁気ヘッド。 2、上記基材上にほぼ円弧状をなす湾曲部をエッチング
により形成する工程と、湾曲部の形成された基材上に薄
膜コアからなる上記主磁極を形成する工程と、上記主磁
極に再生用コイルを設けるとともにリターンパス部に記
録用コイルを設ける工程とを有することを特徴とする請
求項第1項に記録の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15807490A JP2644612B2 (ja) | 1990-06-13 | 1990-06-13 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15807490A JP2644612B2 (ja) | 1990-06-13 | 1990-06-13 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0448424A true JPH0448424A (ja) | 1992-02-18 |
| JP2644612B2 JP2644612B2 (ja) | 1997-08-25 |
Family
ID=15663730
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15807490A Expired - Lifetime JP2644612B2 (ja) | 1990-06-13 | 1990-06-13 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2644612B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000014733A1 (en) * | 1998-09-02 | 2000-03-16 | Hitachi, Ltd. | Information recording/reproducing device |
| US6683823B2 (en) | 2000-12-12 | 2004-01-27 | Hitachi, Ltd. | Method for reproducing information on a recording medium |
-
1990
- 1990-06-13 JP JP15807490A patent/JP2644612B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000014733A1 (en) * | 1998-09-02 | 2000-03-16 | Hitachi, Ltd. | Information recording/reproducing device |
| US6683823B2 (en) | 2000-12-12 | 2004-01-27 | Hitachi, Ltd. | Method for reproducing information on a recording medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2644612B2 (ja) | 1997-08-25 |
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