JPH0449903B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はアパーチヤを利用して粒子を電子的に
計数したり、分析したりする装置、特にアパーチ
ヤ内に複数個の粒子が共存することによる粒子数
の計数及び分析時における誤差を補正する方法及
びそのための装置に関するものである。

アパーチヤを利用する粒子分析装置は周知であ
り、例えば米国特許第2656508号にも開示されて
いる。斯種分析装置のアパーチヤは、単体粒子を
毎秒当り1000個以上の非常に速い速度で通過させ
て、これらの粒子を検出し、計数し、かつ分析す
るための微小な走査アパーチヤ（孔）か、走査領
域か、又は検出領域を成すものである。走査アパ
ーチヤ及び粒子濃度の物理的パラメータにより斯
かる走査領域内に２つの粒子が共存することが実
際上屡々生ずる。そのために２個以上の粒子が検
出領域に実際上同時に位置する場合に、それらの
粒子が１個の粒子として検出され、計数されて分
析されることになる。

斯様な粒子共存によつて生ずる計数誤差に対す
る補正は種々の方法で成されている。その１つの
方法は計数装置によつて得られる極めて多数の選
択計数値に対して適当に誤差補正した計数値を表
わす共存補正チヤートをオペレータが参照する方
法である。このようにすれば正確な結果が得られ
るも、この方法は時間がかり、しかも誤差補正計
数値を完全に自動的に記録したり、処理すること
はできない。

実際の計数値を電気的に接続したり、又は実際
の計数値を得てから誤差補正計数値を提供する他
の方法も開発されている。米国特許第3626164号
（米国特許分類235／151.3）には検出した計数値
に或る計数値を加えて真の粒子計数値に非常に近
い補正計数値を発生させる回路が開示されてい
る。米国特許第3936740号（米国特許分類324／
71CP）にはクールタ（Couter）式のアパーチヤ
から受信されるパルスをデイジタル的に遅延させ
る回路が開示されている。米国特許第3949197号
（米国特許分類235／92PC）には検出粒子による
計数パルス列に対して統計的な補正をして、実際
上のランダムな共存粒子の増減が最終的に計数誤
差とならないようにする回路が開示されている。
また、米国特許第4009443号（米国特許分類328／
11）には粒子パルスを計数する時間周期を変更す
る回路が開示されている。クールター式アパーチ
ヤの範囲で共存粒子による計数誤差補正をする他
の例もあるが、これらはいずれも上述したような
米国の特許分類に属するものである。

従つて、アパーチヤ周辺にて得られる粒子計数
値の共存（同時計数）補正は、アパーチヤから得
た電気信号を何等かの統計的理論に基ずく操作に
よつて達成している。アパーチヤ内に複数の粒子
が共存することにより生ずる誤差が共存する時点
を直接決定する試みは従来成されていなかつた。

アパーチヤ内における粒子の共存は計数誤差を
まねく以外に、１個当りの粒子容積の如き他のパ
ラメータを分析するのにも誤差をまねくことにな
る。粒子の容積は、その粒子がアパーチヤを通過
する際にそのアパーチヤに流れている電流の変化
量によつて分析することができる。アパーチヤ内
に２つの粒子が共存すると、その際にアパーチヤ
に流れる電流量は、粒子が単独でアパーチヤを通
過する場合における電流量の変化とは異なる変化
を呈する。これにより粒子容積の決定に誤差をま
ねくことになるので、真の粒子容積を決定するの
には斯かる誤差を補正する必要がある。このよう
な粒子共存により生ずる誤差が存在する時点を直
接決定する試みも従来は成されていなかつた。

そこで、アパーチヤ内に粒子共存がある場合
に、そのことを直接測定する方法及び装置は非常
に有利である。この直接測定による結果は、所要
に応じ粒子共存による誤差を含むデータを補正し
たり、有効データが存在する時点を決定したりす
る種々の目的に用いることができる。

従つて、本発明は、パラメトリツクデータを発
生するタイプの粒子分析装置により得られる粒子
からのパラメトリツクデータ中に生ずる共存誤差
を補正する方法にあつて、前記パラメトリツクデ
ータの内の１個のパラメトリツクデータは少なく
とも１個の粒子分析パラメータを表わし、かつ前
記共存誤差はデータの測定時に前記１つのデータ
に導入されるもので、しかも前記粒子が測定アパ
ーチヤを通過する際に該測定アパーチヤの長さ方
向に少なくとも２個の粒子が共存することにより
生ずるものとして、前記補正を実質上前記１個の
パラメトリツクデータに共存誤差が生ずる時点に
行うようにする共存誤差補正方法において、該方
法が： Ａ 少なくとも１個の粒子が前記測定アパーチヤ
の長さ方向を通過する際に、前記アパーチヤの
長さ方向での測定に応答して前記１個のパラメ
トリツクデータを発生せしめる工程にあつて、
前記アパーチヤ内に粒子が共存かるか、否かを
区別することはできない工程と； Ｂ 前記アパーチヤの長さ方向以外で前記アパー
チヤ内の個々の粒子の存在を検出する粒子検出
工程と； Ｃ 前記アパーチヤ内の個々の粒子の存在を検出
するのに応答して検出信号を発生させる工程
と； Ｄ 前記１個のパラメトリツクデータ及び前記検
出信号の発生後に該検出信号に応答させて前記
１個のパラメトリツクデータを変調して、前記
共存誤差のない補正されたパラメトリツクデー
タを得る変調工程； とを含むことを特徴とする共存誤差補正方法にあ
る。

さらに本発明は、パラメトリツクデータを発生
する粒子分析装置により得られる粒子からのパラ
メトリツクデータ中に生ずる共存誤差を補正する
装置にあつて、前記パラメトリツクデータの内の
１個のパラメトリツクデータは少なくとも１個の
粒子分析パラメータを表わし、かつ前記共存誤差
はデータの測定時に前記１つのデータに導入され
るもので、しかも前記粒子が測定アパーチヤを通
過する際に該測定アパーチヤの長さ方向に少なく
とも２個の粒子が共存することにより生ずるもの
として、前記補正を実質上前記１個のパラメトリ
ツクデータに共存誤差が生ずる時点に行なうよう
にする共存誤差補正装置において、該補正装置
が； Ａ 少なくとも１個の粒子が前記測定アパーチヤ
の長さ方向を通過する際に、前記アパーチヤの
長さ方向での測定に応答して前記１個のパラメ
トリツクデータを発生せしめる手段にあつて、
前記アパーチヤ内に粒子が共存するか、否かを
区別することができない手段と； Ｂ 前記アパーチヤの長さ方向以外で個々の粒子
の存在を検出し、このアパーチヤ内での個々の
粒子の存在を検出するのに応答して検出信号を
発生せしめる粒子検出手段と； Ｃ 前記１個のパラメトリツクデータ及び前記検
出信号の発生後に該検出信号に応答させて前記
１個のパラメトリツクデータを変調して、前記
共存誤差のない補正されたパラメトリツクデー
タを得る補正手段； とを具えるようにしたことを特徴とする共存誤差
補正装置にある。

さらに本発明は、アパーチヤを流れる粒子の方
向に対して直角に放射エネルギーの扁平ビームが
アパーチヤを通過するようにする。扁平ビームを
通過する個々の粒子は、アパーチヤを形成してあ
るフローチヤンバを出る放射エネルギーの分布を
十分に変化させるため、この変化に応答させて電
気的な検出信号を発生させることができる。アパ
ーチヤ内における扁平ビームの寸法は、そのビー
ムがアパーチヤの断面全体を網羅して、そのビー
ムが粒子を１個づつ検出し得るような寸法とす
る。

その後上記検出信号を用いて、所要に応じ慣例
のアパーチヤ検出原理による如き放射エネルギー
ビーム以外の手段によつてアパーチヤから得られ
るデータ中の共存誤差を補正する。例えば、電気
的な容積信号の持続期間中に現われる単一の検出
信号はアパーチヤ内に共存粒子がないことを示
し、従つて斯かる容積信号は有効な信号であるこ
とを示す。容積信号の発生期間中に２つ以上の検
出信号があると言うことは、アパーチヤ内に共存
粒子が存在し、その容積信号が誤りであることを
示す。本来、本発明は光学的検出領域としてのア
パーチヤの断面を小さくし、そのアパーチヤの長
さ方向の領域は大きくして有効なデータを得るこ
とにある。

以下図面につき本発明を説明する。

第１図には粒子分析装置を符号１０にて総称し
て示してある。この装置は周知の如くフローチヤ
ンバ１２を具えており、このチヤンバは入口チヤ
ンバ１６と出口チヤンバ１８との間にアパーチヤ
１４を有している。分析すべき粒子は粒子源２０
からフローチヤンバ１２におけるアパーチヤ１４
を経て粒子シンク２２へと通過させる。シース
（sheath）流体源２４からもシース流体をアパー
チヤ１４を経てシース流体シンク２６へと通過さ
せる。シース流体は粒子源２０からの粒子をアパ
ーチヤ１４の軸心に維持させる手助けをする。

粒子及びシース流体はチユーブ又は他の導管の
如き任意の所望手段によつてそれらの各発生源か
らフローチヤンバを経て各シンクへと通すことが
できる。従つて、リード線２８は粒子源２０から
の粒子をフローチヤンバ１２に搬送する手段を示
し、リード線３２はフローチヤンバ１２からの粒
子を粒子シンク２２へと搬送する手段を示し、ま
たリード線３０はシース流体源２４からのシース
流体をフローチヤンバ１２に搬送する手段を、、
リード線３４はフローチヤンバ１２からのシース
流体をシース流体シンク２６へと搬送する手段を
示す。

粒子分析装置は一対の電極３６及び３８も具え
ており、これらの電極はフローチヤンバ１２の入
口チヤンバ及び出口チヤンバにそれぞれ設ける。
この一対の電極はリード線４２及び４４を介して
容積検出回路４０に接続する。容積検出回路４０
はリード線４２及び４４と電極３６及び３８とに
よりアパーチヤ１４の長さ方向に電流を発生させ
る。アパーチヤによる粒子分析装置では周知のよ
うに、アパーチヤ１４を通過する粒子は、そのア
パーチヤを流れる電流を変化させ、この電流変化
は容積検出回路４０にて測定することができ、こ
れからアパーチヤ１４を通過する粒子の容積又は
他のパラメータを示す電気信号を得ることができ
る。アパーチヤ１４を通過する粒子の容積を示す
信号はリード線４３に出力させる。しかし、この
リード線４３に出力される容積信号は、前記した
ように種々の手段によつて予じめ補正してある共
存誤差を含んでいる。

本発明によれば、フローチヤンバ１２の光学的
に透明な壁部、特にアパーチヤ１４に通す粒子の
流れ方向に対し直角にアパーチヤ１４を経て放射
エネルギーの扁平ビームを通すことにより上記共
存誤差を補正する。斯かる放射エネルギーの扁平
ビームの寸法は、その扁平ビームがアパーチヤの
少なくとも壁部から壁部まで延在し、かつ粒子が
流れる方向に対する斯かるビームの高さが、アパ
ーチヤを流れる粒子の直径にほぼ等しくなるよう
な寸法とする。アパーチヤ１４内の光ビームを通
過する粒子がない場合には、放射エネルギービー
ムはフローチヤンバの反対側の壁部を通り抜けて
ビームストツプに当る。フローチヤンバの壁部又
はシース流体の欠陥により偏向されたり、又は回
折されたりして分散したり、又は散乱したりする
ビームの放射エネルギーもフローチヤンバから出
て、ビームストツプの範囲を越して曲げられ、光
センサの表面に当る。従つて、光センサはその表
面に当る放射エネルギーの量を示す検出信号を発
生する。

アパーチヤ１４及び放射エネルギーの扁平ビー
ムの箇所を通過する粒子がない場合には光センサ
による検出信号は直流レベル値、即ち一定の値を
呈する。アパーチヤ１４及び扁平ビームの箇所を
粒子が通過すると、その粒子が扁平ビームからの
光を回折させたり偏向させたりすることにより、
光センサの表面に当る放射エネルギーの分布を変
化させる。ここのように放射エネルギー分布が変
化すると、光センサによる検出信号の値が変化
し、この検出信号はパルスのような交流値を呈す
るようになる。

検出信号のパルスはアパーチヤ１４内における
扁平ビームの箇所に個々のパルスが存在すること
を示すのに用いられる。アパーチヤ内における扁
平ビームは前述したような寸法とするため、検出
信号の各パルスはアパーチヤ内における単一粒子
の存在を示す。従つて、リード線４３に単一溶積
信号が出力されている期間中に発生する検出信号
の多重パルスは粒子共存による誤つた容積値を示
すことになる。その後は斯かる誤り容積信号を所
要に応じ無視するように用いて、得られた粒子容
積信号の加算時に共存誤差をなくすことができ
る。

再度第１図を着目するに、レーザの如き放射エ
ネルギー源５０は光の如きコヒーレントな放射エ
ネルギービーム５２を発生する。斯かるビーム５
２はビーム整形光学系５４を通過し、これにてビ
ーム５２は前述したような所望寸法を有する扁平
ビーム５６に整形される。その後扁平ビーム５６
はフローチヤンバ１２の光学的に透明な壁部５８
及び６０と、アパーチヤ１４を通過する。フロー
チヤンバ１２を出る放射エネルギーは第２及び３
図に示すように、扁平ビーム５６の回折又は偏光
による如き光の分散又は散乱から成る一次ビーム
と、扁平ビーム５６そのもののゼロ次ビームとの
２つのビーム態形をとる。斯かるゼロ次ビームは
扁平ビーム５６が分散又は散乱されない扁平ビー
ム５６の放射エネルギーから成ることは勿論であ
る。フローチヤンバ１２を出る放射エネルギーは
光センサ６６（第１図）に向けられ、この光セン
サ６６は第２図に示すようにゼロ次ビームストツ
プ６８及びフエース部７０を具えている。ゼロ次
ビームはビームストツプ６８に向けられ、このビ
ームはこのビームストツプにより完全に吸収され
る。一次ビームは殆ど光センサ６６のフエース部
７０に向けられ、この一次ビームの放射エネルギ
ーはリード線７２に検出信号を発生するのに用い
られる。斯かる検出信号は共存誤差補正回路７４
に供給される。その後共存誤差補正回路７４の出
力をリード線７６を介して粒子分析器７８に供給
する。

第２図はフローチヤンバ１２の部分を拡大して
示す断面図であるが、図面の明瞭化のためにフロ
ーチヤンバ１２の透明壁部５８及び６０にハツチ
ングを省いてある。粒子源チユーブ８０は８２，
８４，８６及び８８の如き粒子を矢印９２で示す
方向に入口チヤンバ１６、アパーチヤ１４及び出
口チヤンバ１８を経てチユーブ９０へと供給す
る。シース流体源２４からのシース流体も入口チ
ヤンバ１６、アパーチヤ１４及び出口チヤンバ１
８を経てシース流体シンク２６へと供給する。従
つて入口チヤンバ１６は、粒子をアパーチヤ１４
の軸心に維持する目的のシース流体でアパーチヤ
１４を経て出口チヤンバ１８と流体連通するた
め、アパーチヤからは良好な容積信号が得られ
る。

機械的及び動作的の両面からして、アパーチヤ
の大きさは測定すべき粒子の直径よりも多数倍大
きくする。従つて、いずれかの時点にアパーチヤ
１４内に多数の粒子が現われると、これは粒子の
共存現象として知らされる。このような粒子が共
存する例をアパーチヤ１４内に同時に存在する粒
子８４と８６にとによつて示してある。

第２図に示すように、矢印９２で示す粒子の流
れ方向に沿う扁平ビーム５６の厚さは粒子の直径
にほぼ等しくする。第３図に示すように、ビーム
５６の幅はアパーチヤ１４の幅にほぼ等しくする
ようにする。即ち、ビーム５６はほぼアパーチヤ
１４の壁部から壁部まで延在するようにする。こ
のようにしてアパーチヤ１４内の粒子が必ず出さ
れるようにする。

第３図の例は断面が方形状をしているアパーチ
ヤを示しているが、本発明には後述するように断
面が丸いアパーチヤを用いることもできる。

扁平ビーム５６の高さ（厚さ）は個々の粒子の
直径にほぼ等しくするため、アパーチヤ１４を通
過する個々の粒子は、たとえこれらの粒子が互い
に密に離間していてもそれぞれ１つづつ検出され
る。従つて、扁平ビーム５６及び光センサ６６
は、アパーチヤ１４をその長さ方向に通過する粒
子の容積を決定する以外にアパーチヤ１４を通過
する粒子を１個づつ検出し得る手段を成す。

第５図の上側の波形グラフ９４は容積検出回路
４０から得られる容積信号を示したものである。
第５図の下側の波形グラフは光センサ６６によつ
て出力される検出信号のパルスを示したものであ
る。波形９６にて示す第１パルスは光ビーム５６
を通過する第２図の粒子８６に対応するパルスで
あり、波形９８にて示すパルスはビーム５６をい
ずれ通過する粒子８４により発生される検出信号
のパルスを表わたものである。なお、第５図は各
波形９４，９６及び９８の相対値を正確に示した
ものではなく、この第５図では上記波形信号が発
生する相対的時間関係のみを示したに過ぎない。
従つて、容積信号の１度の発生期間中に発生する
検出信号の２つのパルスはアパーチヤ１４内での
粒子の共存を指示するのに用いることができる、
波形９６で表されるような僅か１個の検出信号だ
けが発生する場合には、それはアパーチヤ１４内
に単一粒子しか存在しないことを指示する。この
後者の場合は、第２図の粒子８４がアパーチヤ１
４内に存在しなくて、これが粒子８６と一致しな
い場合であり、従つてこの場合には容積信号波形
９４の発生期間中に波形信号９８は発生しなくな
る。第５図の破線波形９９は、粒子８４と８６が
アパーチヤ内に共存する場合の容積信号の拡張部
を示したものである。

第４図には容積検出回路４０からの未処理デー
タを含んでいる共存粒子容積信号を変調して、前
記共存誤差のない補正データを得るための電気回
路の一例を示してある。この回路には光センサか
らの検出信号のパルスを用いて、有効容積データ
の粒子分析器７８への通過をゲートさせるのが効
果的である。

電極３６及び３８からのリード線４２及び４４
は容積信号用増幅器１００に対するツイン入力と
して示してある。増幅器１００の出力は本来容積
検出回路４０からリード線４３に出力される出力
信号である。この信号は第５図に示す波形９４で
示すように実質的にはスムースな波形をしてい
る。このような容積信号をピーク検出兼保持回路
１０２と、雑音弁別器として構成した比較器１０
４の一方の入力端子との双方に供給する。比較器
１０４の他方の入力端子は雑音限界電圧レベルを
提供する可変抵抗VRIに接続する。

リード線４３に現われる信号の値が可変抵抗
VRIによつて選択される雑音限界値以上になる
と、比較器１０４はそれ相当の信号をリード線１
０６に出力し、以後“変換信号”と称するこの信
号は２個のＤ形フリツプ・フロツプ１０８及び１
１０と、アナログ／デイジタル変換器１１２とに
供給される。アナログ／デイジタル変換器１１２
の出力はリード線７６に現われ、斯かる変換器１
１２はリード線１１４と１１６とによつてピーク
検出兼保持回路１０２に接続する。リード線１１
４は“引伸しパルス”と称する信号をアナログ／
デイジタル（Ａ／Ｄ）変換器１１２に供給し、リ
ード線１１６は“クリヤ”信号をピーク検出兼保
持回路１０２に供給する。

共存誤差補正回路７４に光センサ６６からリー
ド線７２を経て供給される信号もスムースな波形
をしている。この検出信号は増幅器１１８にて増
幅されてからリード線１２０を経て雑音弁別器と
して構成した比較器１２２の一方の入力端子に供
給される。比較器１２２の他方の入力端子は雑音
限界電圧レベルを提供する可変抵抗VR２に接続
する。

リード線１２０に現われる信号値が上記雑音限
界レベル以上になると、比較器１２２はそれ相当
の信号をリード線１２４に出力する。このリード
線１２４に現われる信号は第５図の下側に示した
検出信号波形に対応する。これらの信号又はパル
スはフリツ・フロツプ１０８及び１１０のクロツ
ク入力端子に供給される。フリツプ・フロツプ１
１０のＱ出力はリード線１２６を介してＡ／Ｄ変
換器１１２と共存率測定計１２８との双方に供給
される。

作動に当り、増幅器１００及び１１８は有効レ
ベルを有する論理信号を発生させるために用い
る。増幅器１００及び１１８からの容積信号及び
検出信号はいずれも雑音限界電圧レベルと比較さ
れて雑音とは区別される。比較器１０４及び１２
２として表わされる弁別器の出力信号はいずれも
方形波形状をしており、これらの信号の持続時間
は各弁別器に供給されるパルスの長さに相当す
る。比較器１０４の出力は２個のＤ形フリツプ・
フロツプ１０８及び１１０をエネイブルさせるの
に用いられる。フリツプ・フロツプ１０８及び１
１０は比較器１０４からの出力パルスがなくなる
場合にクリヤされる。これがため、両フリツプ・
フロツプのＱ出力は論理ゼロの“０”状態にな
る。容積信号の持続期間中、増幅器１２２からの
検出パルスは２個のフリツプ・フロツプを同時に
クロツクする。このように両フリツプ・フロツプ
がクロツクされると、フリツプ・フロツプ１０８
のＱ出力は論理１の“１”状態となり、フリツ
プ・フロツプ１１０のＱ出力は論理ゼロの“０”
状態に留まる。容積信号の発生期間中に検出信号
中に第２パルスが発生する場合には、リード線１
２６に接続されるフリツプ・フロツプ１１０のＱ
出力も論理１の“１”状態となる。フリツプ・フ
ロツプ１０８及び１１０が動作すると同時に容積
信号は検出され、かつ保持されて、粒子の容積が
得られる。容積信号弁別器の出力信号である“変
換信号”の立下り縁は、Ａ／Ｄ変換器１１２がピ
ーク検出兼保持回路１０２からの引伸しパルスを
デイジタル値に変換せしめる指示をする。“変換
信号”の立下り縁が発生する際に、リード線１２
６における“変換禁止信号”が高レベル、即ち論
理１の“１”状態にある場合には、Ａ／Ｄ変換器
１１２は前記引伸しパルスをデイジタル的に変換
しなくなり、従つてＡ／Ｄ変換器１１２はリード
線１１６に“クリヤ信号”を発生して、ピーク検
出兼保持回路１０２に保持されている信号をクリ
ヤする。“変換信号”の立下り縁が発生する際に、
リード線１２６における信号が低レベル、即ち論
理ゼロの“０”状態にある場合には、Ａ／Ｄ変換
器１１２が回路１０２による検出兼保持値をデイ
ジタル値に変換し、これを出力してからリード線
１１６に“クリヤ信号”を発生する。リード線１
２６に現われる信号を共存率測定計１２８に供給
して、共存回数を総計することもできる。

従つて、共存補正回路７４は容積信号の持続期
間中に１個の検出パルスが発生する場合にだけ
Ａ／Ｄ変換器１１２への容積信号をゲートするも
のと見なすことができる。

本発明の特定例では分析すべき粒子の直径を約
１〜20マイクロメータとする。粒子が流れる方向
に沿うアパーチヤの流さは約76マイクロメータと
し、また粒子の流れる方向に沿う扁平ビームの高
さは約５マイクロメータとする。

前述したように、光センサ６６はゼロ次ビーム
ストツプ及び一次分散光用のセンサを具えてい
る。斯種のセンサは米国特許第4038556号に開示
されているようなものとすることができる。この
ようなセンサによつて、扁平ビーム５６を通過す
る粒子により生ずるゼロ次ビームのエネルギー変
化を検出し、一次ビームの分散光は無視するよう
にして検出信号を発生せしめることもできる。

第３図には断面が方形状をしているアパーチヤ
を示してあるが、アパーチヤ１４の断面は前述し
たように円形状としても同様な作用をする。その
理由は、扁平ビーム５６を通過する粒子に応答し
て発生する電気的な検出信号をフローチヤンバ１
２を出てから光センサによつて検出されるエネル
ギー分布の変化によつて得られるものであり、斯
かる検出信号は光センサに当る光の絶対量の関数
とはならないからである。実際上、検出信号のパ
ルスは光センサに当る光分布の変化によるもので
あり、従つて、シース流体の反射率、流体チヤン
パの光学的明瞭度及びアパーチヤの断面構造は本
来検出信号には無関係である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による装置を利用する粒子検出
兼分析装置の一例を示すブロツク線図；第２図は
フローチヤンバにおけるアパーチヤ部分及びその
アパーチヤを流れる粒子の方向に対して直角に該
アパーチヤを通過する放射エネルギービームをそ
れぞれ拡大して示す側面図；第３図はフローチヤ
ンバの拡大頂面図；第４図は共存誤差に対するデ
ータ補正のために本発明に使用し得る回路の一例
を示すブロツク線図；第５図はアパーチヤを通過
する２個の粒子の共存により発生する検出信号と
容積信号との時間関係を示す波形図である。 １０……粒子分析装置、１２……フローチヤン
バ、１４……アパーチヤ、１６……入口チヤン
バ、１８……出口チヤンバ、２０……粒子源、２
２……粒子シンク、２４……シース流体源、２６
……シース流体シンク、２８〜３４……導管、３
６，３８……電極、４０……容積検出回路、４
２，４３，４４……リード線、５０……放射エネ
ルギー源、５２……放射エネルギービーム、５４
……ビーム整形光学系、５６……扁平ビーム、５
８，６０……フローチヤンバ壁部、６６……光セ
ンサ、６８……ビームストツプ、７０……フエー
ス部、７２……リード線、７４……共存誤差補正
回路、７８……粒子分析器、８０……粒子源、８
２〜８８……粒子、９０……チユーブ、１００…
…容積信号用増幅器、１０２……ピーク検出兼保
持回路、１０４……容積信号用比較器（雑音弁別
器）、１０８，１１０……フリツプ・フロツプ、
１１２……Ａ／Ｄ変換器、１１８……検出信号用
増幅器、１２２……検出信号用比較器（雑音弁別
器）、VR１，VR２……可変抵抗、１２８……共
存率測定計。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ パラメトリツクデータを発生するタイプの粒
   子分析装置により得られる粒子からのパラメトリ
   ツクデータ中に生ずる共存誤差を補正する方法に
   あつて、前記パラメトリツクデータの内の１個の
   パラメトリツクデータは少なくとも１個の粒子分
   析パラメータを表わし、かつ前記共存誤差はデー
   タの測定時に前記１つのデータに導入されるもの
   で、しかも前記粒子が測定アパーチヤを通過する
   際に該測定アパーチヤの長さ方向に少なくとも２
   個の粒子が共存することにより生ずるものとし
   て、前記補正を実質上前記１個のパラメトリツク
   データに共存誤差が生ずる時点に行うようにする
   共存誤差補正方法において、該方法が： Ａ 少なくとも１個の粒子が前記測定アパーチヤ
   の長さ方向を通過する際に、前記アパーチヤの
   長さ方向での測定に応答して前記１個のパラメ
   トリツクデータを発生せしめる工程にあつて、
   前記アパーチヤ内に粒子が共存かるか、否かを
   区別することはできない工程と； Ｂ 前記アパーチヤの長さ方向以外で前記アパー
   チヤ内の個々の粒子の存在を検出する粒子検出
   工程と； Ｃ 前記アパーチヤ内の個々の粒子の存在を検出
   するのに応答して検出信号を発生させる工程
   と； Ｄ 前記１個のパラメトリツクデータ及び前記検
   出信号の発生後に該検出信号に応答させて前記
   １個のパラメトリツクデータを変調して、前記
   共存誤差のない補正されたパラメトリツクデー
   タを得る変調工程； とを含むことを特徴とする共存誤差補正方法。 ２ 前記粒子検出工程が、前記アパーチヤを粒子
   が通過する第１方向に対して直角に前記アパーチ
   ヤを経て放射エネルギービームを通過させる工程
   を含むことを特徴とする特許請求の範囲第１項に
   記載の共存誤差補正方法。 ３ 前記放射エネルギービームを扁平にして、前
   記アパーチヤを通過する前記粒子のすべてが該扁
   平ビームを通過するようにしたことを特徴とする
   特許請求の範囲第１又は２項のいずれかに記載の
   共存誤差補正方法。 ４ 前記放射ビームの前記第１方向における高さ
   を少なくとも前記粒子の直径にほぼ等しくし、か
   つ前記ビームの幅を前記アパーチヤの幅にほぼ等
   しくしたことを特徴とする特許請求の範囲第３項
   に記載の共存誤差補正方法。 ５ 前記粒子検出工程が、前記アパーチヤを通過
   した前記放射エネルギービームから受光した放射
   エネルギーを光学的に検出する工程を含み、該光
   学的検出工程が、前記放射エネルギービームを前
   記粒子が通過することにより前記受光放射エネル
   ギー分布を変化させることに応答して前記検出信
   号を発生せしめる工程を含むようにしたことを特
   徴とする特許請求の範囲第１項に記載の共存誤差
   補正方法。 ６ 前記光学的検出工程が、前記放射エネルギー
   ビームそのもののゼロ次ビームを殆どすべて受光
   するビームストツプ及び前記放射エネルギービー
   ムが分散した放射エネルギーから成る一次ビーム
   を殆どすべて受光するフエース部を設ける工程を
   含むようにしたことを特徴とする特許請求の範囲
   第５項に記載の共存誤差補正方法。 ７ 前記検出信号発生工程が、前記放射エネルギ
   ービームを粒子が通過するのに応答してパルスを
   発生せしめる工程を含むようにしたことを特徴と
   する特許請求の範囲第６項に記載の共存誤差補正
   方法。 ８ 前記パラメトリツクデータを変調する工程
   が、前記検出信号に応答して各パラメトリツクデ
   ータをゲートさせて、前記共存誤差のない正しい
   パラメトリツクデータを通過させるようにするゲ
   ート工程を含むようにしたことを特徴とする特許
   請求の範囲第１項に記載の共存誤差補正方法。 ９ 前記検出信号が個々の検出粒子を表わすパル
   スを含み、かつ前記パラメトリツクデータを変調
   する工程が、各パラメトリツクデータの値を検出
   して保持すると共に各パラメトリツクデータの発
   生期間中に生ずる検出信号パルスの個数を計数す
   る工程を含み、前記ゲート工程が、前記各パラメ
   トリツクデータの発生期間中に計数される検出信
   号パルスの個数に応答して前記検出して保持した
   各パラメトリツクデータをゲートする工程を含む
   ようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第８
   項に記載の共存誤差補正方法。 １０ 前記各パラメトリツクデータ及び検出信号
   の発生後直ちに前記検出信号に応答して各パラメ
   トリツクデータを変調するようにしたことを特徴
   とする特許請求の範囲第１項に記載の共存誤差補
   正方法。 １１ パラメトリツクデータを発生する粒子分析
   装置により得られる粒子からのパラメトリツクデ
   ータ中に生ずる共存誤差を補正する装置にあつ
   て、前記パラメトリツクデータの内の１個のパラ
   メトリツクデータは少なくとも１個の粒子分析パ
   ラメータを表わし、かつ前記共存誤差はデータの
   測定時に前記１つのデータに導入されるもので、
   しかも前記粒子が測定アパーチヤを通過する際に
   該測定アパーチヤの長さ方向に少なくとも２個の
   粒子が共存することにより生ずるものとして、前
   記補正を実質上前記１個のパラメトリツクデータ
   に共存誤差が生ずる時点に行なうようにする共存
   誤差補正装置において、該補正装置が： Ａ 少なくとも１個の粒子が前記測定アパーチヤ
   の長さ方向を通過する際に、前記アパーチヤの
   長さ方向での測定に応答して前記１個のパラメ
   トリツクデータを発生せしめる手段にあつて、
   前記アパーチヤ内に粒子が共存するか、否かを
   区別することができない手段４０，４２，４４
   と； Ｂ 前記アパーチヤの長さ方向以外で個々の粒子
   の存在を検出し、このアパーチヤ内での個々の
   粒子の存在を検出するのに応答して検出信号を
   発生せしめる粒子検出手段５６と； Ｃ 前記１個のパラメトリツクデータ４２及び前
   記検出信号７２の発生後に該検出信号７２に応
   答させて前記１個のパラメトリツクデータ４２
   を変調して、前記共存誤差のない補正されたパ
   ラメトリツクデータ７６を得る補正手段７４； とを具えるようにしたことを特徴とする共存誤差
   補正装置。 １２ 前記粒子が前記測定アパーチヤの第１軸方
   向にて該アパーチヤを通過し、前記粒子検出手段
   が前記第１方向に対し直角に前記アパーチヤを通
   過する放射エネルギービームを含むようにしたこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１１項に記載の
   共存誤差補正装置。 １３ 前記放射エネルギービームを扁平ビームと
   し、該ビームの寸法を、前記アパーチヤを通過す
   る前記粒子のすべてが前記扁平ビームを必ず通過
   するような寸法としたことを特徴とする特許請求
   の範囲第１２項に記載の共存誤差補正装置。 １４ 前記放射エネルギービームを扁平ビームと
   し、該ビームの寸法を、前記アパーチヤを通過す
   る前記粒子のすべてが前記扁平ビームを必ず通過
   するような寸法とし、前記放射ビームの前記第１
   方向における高さを少なくとも前記粒子の直径に
   ほぼ等しくし、かつ前記ビームの幅を前記アパー
   チヤの幅にほぼ等しくしたことを特徴とする特許
   請求の範囲第１２項に記載の共存誤差補正装置。 １５ 前記粒子検出手段が、前記アパーチヤを通
   過する前記放射エネルギービームから放射エネル
   ギーを受取る光学的センサ手段を含み、該センサ
   手段が、前記放射エネルギービームを前記粒子が
   通過することにより前記受光放射エネルギー分布
   を変化させるのに応答して前記検出信号を発生さ
   せるようにしたことを特徴とする特許請求の範囲
   第１２〜１４項のいずれか１つに記載の共存誤差
   補正装置。 １６ 前記放射ビームを通過する前記粒子が、該
   ビームから分散した放射エネルギーから成る一次
   ビームと、前記放射ビームの放射エネルギーその
   ものから成るゼロ次ビームとして作用し、かつ前
   記光学的センサ手段が、前記ゼロ次ビームを殆ど
   すべて受光するビームストツプと、前記一次ビー
   ムを殆どすべて受光するフエース部を含むように
   したことを特徴とする特許請求の範囲第１５項に
   記載の共存誤差補正装置。 １７ 前記検出信号が、前記放射エネルギービー
   ムを粒子が通過するのに応答して発生するパルス
   を含むようにしたことを特徴とする特許請求の範
   囲第１５項に記載の共存誤差補正装置。 １８ 前記補正手段が、前記検出信号に応答して
   各パラメトリツクデータをゲートさせて、前記共
   存誤差のない補正されたパラメトリツクデータを
   通過させるゲート手段を含むようにしたことを特
   徴とする特許請求の範囲第１１項に記載の共存誤
   差補正装置。 １９ 前記補正手段が、前記検出信号に応答して
   各パラメトリツクデータをゲートさせて、前記共
   存誤差のない補正されたパラメトリツクデータを
   通過させるゲート手段を含むようにし、前記検出
   信号が個々の検出粒子を表わすパルスを含み、前
   記補正手段が、各パラメトリツクデータの値を検
   出して保持する検出兼保持手段と、各パラメトリ
   ツクデータの発生期間中に生ずる検出信号パルス
   の個数を計数する計数手段とを含み、前記ゲート
   手段が前記パラメトリツクデータの発生期間中に
   前記計数手段によつて計数される検出信号パルス
   の個数に応答して前記検出兼保持手段からの各パ
   ラメトリツクデータをゲートするようにしたこと
   を特徴とする特許請求の範囲第１１項〜１７項の
   いずれか１つに記載の共存誤差補正装置。 ２０ 前記各パラメトリツクデータの発生期間中
   に計数される１個の検出信号パルスに応答して前
   記ゲート手段が前記検出兼保持手段から各パラメ
   トリツクデータを通過させるようにしたことを特
   徴とする特許請求の範囲第１１項に記載の共存誤
   差補正装置。 ２１ 前記各パラメトリツクデータの発生期間中
   に計数される１個の検出信号パルスを計数する前
   記計数手段に応答して前記ゲート手段が前記検出
   兼保持手段から各パラメトリツクデータを通過さ
   せるようにしたことを特徴とする特許請求の範囲
   第１１項に記載の共存誤差補正装置。 ２２ 前記各パラメトリツクデータ及び前記検出
   信号の発生後直ちに前記補正手段が前記検出信号
   に応答して前記パラメトリツクデータを変調し得
   るようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第
   １１〜２１項のいずれか１つに記載の共存誤差補
   正装置。