JPH04500127A - 表面ならい盤の観察装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 表面ならい盤の観察装置 本発明は表面粗さならい盤に関し、より詳細には、プロファイルに関するデータ を得る前にプロファイルされる表面領域をならい盤操作者が観察できるようにす る選択作動観察装置を育するならい盤に関する。

製品を適切に作動させるために極端に滑らかな表面を有することが極めて重要と なる製品が沢山ある。例えば、コンピュータハードディスクはデスク上に適切に データを記憶できるようにするために、非常に小さな限界内の平坦度を有する必 要かある。極端に滑らかな表面を必要とする他の装置として、レンズ及び鏡シリ コンウェハ及び光ディスク等の光学部品か含まれる。これらの各デバイスは、研 磨された表面上の微小な不規則性が合格品と不合格品の違いを分けることになる 。前記デバイスに対しては、ミクロン、すなわち１ｍの百万分の１、程度の不規 則性が決定的である。適切な製品品質を保証するには、消費者へ渡す前に極限ま で滑らかな製品をテストしなければならない。

従来、さまざまな種類の表面ならい盤を使用して極端に滑らかな表面を有するよ うに設計された製品の微小な不規則性を測定することか示唆されている。このよ うな装置の一つか、ジエイ・エム・イーストマンの米国特許第４．４２２．７６ ４号“マイクロトポグラフィの干渉計装置”に記載されている。この特許には単 色光レーザ光線を表面に向けて指向し表面からの反射を検出して表面のトポロジ ーを決定する装置が記載されている。イーストマン装置は本質的には測距干渉計 である。示唆されているもう一つの装置は譲受人が製造販売しており、以前はニ ューヨーク州、ロチェスタのホトグラフィックサイエンス社か製造販売していた ＭＰ２０００非接触表面ならい盤である。この種の装置は特殊プリズムを介して 表面ヘレーザ信号を与え、特殊プリズムは入射レーザ光線の極性を修正して２つ の直交する偏光出射光線が幾分具なる点において表面に当るようにする。反射後 に、これら２つの光線は再結合され結果として得られる光線の極性を測定して表 面トポロジーの変動を決定することができる。トポロジー測定装置の結果はコン ピュータにより分析して表示位置へ送り表面上の勾配の変化を表わすことかでき る。

多くの場合、表面を予め観察して、表面ならい盤を実際に作動させる前に掻傷や ビット等の任意の主要な欠点を示すことが望ましい。ある場合には、プロファイ ルされる表面を適切に配置して製品内にデザインされるチャネルやエツジ等を避 ける必要かある。さらに別の場合には、アライメントマークを使用して照準を行 い、適切な重要表面かプロファイルされることを保証する必要がある。このよう な場合、プロファイルによる表面の光景をテレビジョンモニター等の従来の表示 装置上に表示することか望ましい。このような光景によりならい盤操作者はプロ ファイルされる表面を適切に配置してエツジや他の設計されたブレイクもしくは 主要な欠点を避けたり、表面上に予め存在するアライメントマークによりプロフ ァイルされる表面を位置決めすることができる。

現存する表面ならい盤は表面上の狭い線を横切って走査して、１ミクロンもしく はそれ以下の表面上の深さ変動を測定する。このような精密測定を行う光学系が 必要とされるため、エツジ等の任意の主要な深さの変化により焦点か失なわれな らい盤の適切な動作が停止することがある。このような主要な深さの変化の位置 を決定しこのような主要な深さ変化を避けるようにプロファイル線を位置決めす るために、装置を横切って走査する線のサイズよりもかなり大きい領域を観察し なければならない。

走査者にとって意味のある可視情報を与えるために、このような領域は数百もし くは数千倍大きくされるかも知れない。例えば、走査線幅は１ミクロン程度だが 被観察領域の所望幅はｍｍ程度であるかも知れない。

従来の表面ならい盤に光学観察装置を付加する場合、もちろんできるだけ多くの 既存の部品を利用するのが望ましい。例えば、従来の表面ならい盤では、回転鏡 等の移動光学要素を使用するのではなく移動ステージ上にプロファイルされる表 面か配置される。従って、動作観察モードは同し移動サンプル台及び可能ならば 、サンプル上にプロファイルを行うためのレーザ光線を合焦する同じ対物レンズ 系を使用しなければならない。さらに、観察装置を系に対して選択的に挿入もし くは除去できるようにして、観察装置による干渉を生じることなくプロファイル することがてきるようにしなければならない。

本発明の一側面によれば、第１の偏光光線が各種の光学要素により所定径路に沿 って向けられ被走査対象の表面上に合焦され、且つ一つの光学要素が第１の光線 を表面上に合焦される前に複数の異なる偏光光線成分へ分離するトポロジー走査 装置が提供され、光学観察装置が被走査表面を観察する点が改善されている。光 学観察装置は第２の偏光光線を供給する手段及びそこに与えられる光により表示 される可視表示を与える光表示手段を具備している。さらに、観察装置は光線を 分離する前に選択的に径路に挿入される光反射手段を含み、光反射手段はさらに 第１の光線の一部番通すことができる。最後に、観察装置は第２の光線を光反射 手段及び所定径路の一部に沿って表面に向け、且つ表面から光反射手段の方向へ 反射される第１及び第２の光線からの光を光表示手段へ指向させる手段を含んで いる。

次の図面を参照しつつ、本発明の一実施例について以下に説明する。ここに、 第１図は本発明の観察装置を取りつけようとする従来技術の表面ならい盤を示し 、 第２図は２つの直交光線をプロファイルされる表面上に位置決めする方法を示し 、 第３図は表面走査を示し、 第４図は本発明の観察装置を組み込んだ第１図の表面ならい盤を示す。

次に第１図を参照して、従来技術の表面ならい装置１１０を示す。それは本発明 の誼受入が製造販売し以前にホトグラフィックサイエンス社が製造販売していた ＭＰ２０００に類似している。表面ならい装置１０は偏光器１６中へ単色光レー ザ光線１４を通して偏光レーザ光線１４Ｐを生じるレーザ光線発生器１２を含ん でいる。偏光レーザ光線１４Ｐはビームスプリッタ１８を介してペンタプリズム ２ｏへ与えられ、それは光線を９０°曲げてノマルスキウエッジ２２へ与える。

公知のように、ノマルスキウエッジは加えられた偏光レーザ光線１４Ｐを互いに 直角に偏光された２本の光線２４に分割する。より詳細には、ノマルスキウエッ ジ２２の出力側から２本の光線２４は元の偏光光線１４Ｆに対して±４５°の角 度で偏光され、以後直角偏光光線２４と呼ばれる。直角偏光光線２４は対物レン ズ２６へ通されプロファイルされる表面２８上に合焦される。

第２図に示すように、２本の直交光線２４は表面２８に沿って幾分具なる点に合 焦される。焦点距離の差は１０分の１ないし１０分の数ミクロンのオーダーであ り、各焦点の全体径は１ミクロン程度である。

再び第１図を参照して、表面２８上に合焦された２本の直交偏光光線２４は対物 レンズ２６及びノマルスキウエッジ２２を介して反射され、そこで一対の直交偏 光光線２４は１本の反射光線＋４Ｒへ再結合される。表面２８が完全に滑らかて あれば、反射光線＋４Ｒは併合されて戻り光線１４Ｒとなる２成分間で位相偏位 がない。しかしながら、表面２８上で２本の直交偏光光線２４が合焦される点に 垂直差異があれば、反射光線１４Ｒの偏光極性は平坦な表面からの反射光線の極 性から逸脱し、逸脱の程度は２本の直交偏光光線２４が表面２８上で合焦される ２つの位置の垂直差異を示す。これは、一方の光線２４が他方の光線２４に対し て長い距離を移動するためである。

次に、反射光線１４Ｒはペンタプリズム２ｏへ通されその一部はビームスプリッ タ１８により反射されて第２のビームスプリッタ３０へ送られる。ビームスプリ ッタ３０は反射光線＋４Ｒの一部を検出器３２を送り、反射光線１４Ｒの他の一 部を検出器３４へ送る。ビームスプリッタ３θを偏光ビームスプリッタとすれば 、各検出器３２．３４へ異なる偏光信号か送られる。各検出器３２゜３４の出力 電圧はコンピュータ３６を与えられ、反射光線１４Ｒの２つの直交偏光成分間の 相対位相ずれが決定される。反射光線１４Ｒの偏光の変化を連続的に監視しその 結果得られる信号を積分することにより、表面２８のプロファイルを決定して表 示装置３８上に表示することができる。

第３図を参照して、ならい盤１０を使用する場合、表面２８は（図示せぬ）供試 サンプル台上に配置される。

ペンタプリズム２ｏ、ノマルスキプリズム２２及び対物レンズ２４からなるなら い盤１０の一部３９は（図示せぬ）モータ装置により制御されてペンタプリズム ２０゜ノマルスキプリズム２２および対物レンズ２４を縦並びに移動させ、直交 偏光レーザビーム２４が表面２８に沿って点４０Ｐから始まる線４０を走査する ようにする。

線４０はほぼ１ミクロン幅で長さは１００ｍｍ（４インチ）までである。表示装 置３８上に現われる出力波形は線４０に沿った表面２８の深さプロファイルを示 す。

多くの場合、任意の主要欠点もしくは製造された表面エツジが存在するかもしく は表面２８の適切な部分があるアライメントマークに基いてプロファイルされて いるかを決定するために、線４０周りの領域を予め観察することが望ましい。別 の場合、特に被測定対象の形状により、操作者は表面２８が直交偏光光線２４の 下方で適切、に照準されることを確めるのが困難であり、プロファイルされる領 域を予め観察することが望ましい。このような予備観察の一つの理由は、表面２ ８のエツジ等の、ある特徴を観察することである。プロファイルされる表面２８ の一部を予め観察する際、１ミクロン幅の線４０に沿って単に観察するだけでは 充分な情報は得られず主要な欠点を見つけることもできない。むしろ、プロファ イルされる領域を適切に予め観察するには、はぼｌＩＴ１ｍ程度の幅の広い領域 を遥かに小さな拡大率で観察しなければならない。例えば、予め観察される領域 ４２を第３図に破線で示す。

次に第４図を参照して、予備観察ならい盤４４を示しそれは第２図に示す全要素 を含んでおり、これらの要素には同じ番号が付されている。さらに、予備観察な らい盤４４は、予備観察ならい盤４４の操作者の指令により、実線で示す予備観 察位置から破線で示すプロファイル位置まで回転できるユーザが操作可能な回転 鏡４６を含んでいる。図示はしないが操作者の指令に応じて作動する鏡４６を育 する回転ソレノイドを含むことができる。鏡４６は予備観察（実線）位置にある 時にレーザ光線１４Ｐの小部分（はぼ１％）がそこを通過できるように設計され ている。少量のレーザ光線１４Ｐを鏡４６へ通す目的は操作者がプロファイル線 ４０周りの領域４２だけでなくレーザ光線２４によりプロファイルされる正確な 線４０をも観察できるようにすることである。

さらに、予備観察ならい盤４４は集光レンズ５ｏ及びポラライザ５２を介してビ ームスプリッタ５４へ狭帯域光線を与える発光ダイオード（ＬＥＤ）４８等の光 源を含んでいる。偏光器５２により誘起される偏光は偏光器１６により誘起され るものと同じか、もしくは９０’離れている。ノマルスキプリズム２２を使用し て得られることができる異なる垂り高さに対する強化像を得るために、予備観察 装置４４に偏光光線を使用することが望ましい。ビームスプリッタ５４は鏡４６ が予備観察（実線）位置にある時に集光レンズ５ｏがらの光を鏡４６に向けて指 向するように配置される。次に、鏡４６はビームスプリッタ５４からそこへ向け られる光をレーザ光線１４Ｐが追従する同じ径路に沿ってペンタプリズム２゜へ 反射させる。

ＬＥＤ４８の前面に集光レンズ５ｏを含めることにより、ペンタプリズム２ｏ、 ノマルスキプリズム２２及び対物レンズ２６を介してＬＥＤ４８から送られる光 は、対物レンズ２６により表面２８上に合焦されるのではなく表面２８の下へ合 焦される。従って、ＬＥＤ４８から送られる光により照射される表面２８上の領 域５６はレーザ光線２４の小さな焦点よりも実質的に大きくなる。

対物レンズ２６は平行光レーザ光線１４Ｐを直接表面２８上に合焦するように配 置されており、従って、単に集光レンズ５０を設けることにより対物レンズ２６ の合焦を修正して予備観察モードに必要な大きな観察領域４２を得ることができ ることをお判り願いたい。従って、集光レンズ５０はデフォーカス素子として作 用する。また、ＬＥＤ４８からの光の合焦は表面２８よりも上として、小さなレ ーザ点と比較して大きな観察領域と同じ効果を達成することができる。すなわち 、フォーカスレンズ５０からの光線は非平行光線である。

光線２４からの光を含む、表面２８の領域５６からの反射光は対物レンズ２６、 ノマルスキプリズム２２、ペンタプリズム２０を介して鏡４６へ戻される。次に 、光は鏡４６により反射されビームスプリッタ５４を通って鏡５８へ向って反射 される。鏡５８から、反射光は偏光器６０を通って結像レンズ６２へ送られ、そ れは領域５６の反射光をテレビジョンカメラの一部である電荷結合装置（ＣＯＤ ）アレイ６４上へ合焦する。ＣＣＤアレイ６４の出力は、従来のテレビジョンモ ニターとすることができる、表示装置６６上へ送られ、表面２８上の照光領域５ ６が表示されて操作者に見えるようにされる。ノマルスキウエッジ及び偏光器５ ２．６０を含んでいるため、観察装置はノマルスキ顕微鏡として作動し垂直寸法 の任意の変化が増強される。さらに、レーザ光線１４Ｐの一部が鏡４６を介して 漏洩するため、表面２８上に合焦されるレーザ光線１４からの付加光線により光 景の中央に輝点が生じる。情報を記憶することにより、表面２８上の走査される 全領域の完全な光景を表示装置６６上で見ることができる。

被走査領域を予め観察し、必要に応じて、表面２８の位置決めを任意に調整した 後、鏡４６を破線位置へ回転させて、第１図について前記した、正規のプロファ イリングを行う。

手続補正書 １、事件の表示 ＰＣＴ／ＵＳ　９０１０４２７７ ２発明の名称 表面ならい盤の観察装置 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 名　称　チャツプマン　インストルメンッ。

インコーホレイテッド ４、代理人 居所　〒１００東特訓千３区大利二丁目２番１号新大手町ビルヂング３３１ ５、補正により減少する請求項の数　１３６、補正の対象 ｒ　請求の範囲 １．　第１の偏光光線（２４）がさまざまな光素子（１６，１８，，２０，２２ ，２６）ｉ：：より所定径路に沿って指向され被走査表面（２８）上に合焦され 、前記光素子の１個（２２）が前記第１の光線（１４）が前記表面（２８）上に 合焦される前に複数の異なる偏光光線成分（２４）へ分離するトポロジ走査装置 （４４）であって、前記走査装置（４４）はさらに前記合焦された第１の光線（ ４０）を取り巻く領域（４２）を観察する光観察装置（４６，４８，５０，５２ ，５４，５８゜６０．６２，６４．６６）を含み、第２の偏光光線を与える手段 （４８，５２）、そこに与えられる光により示される可視表示を与える光表示手 段（６４，６６）、前記光線を分離する前に前記径路へ選択的に挿入され前記第 １の光線（１４）の一部をそこへ通すことかできる光反射手段（４６）、及び、 前記第２の光線（５６）を前記光反射手段（４６）へ向けて且つ前記所定径路の 一部に沿って前記表面（２８）へ向けて指向させさらに前記表面（２８）から前 記光反射手段（４６）へ向けて反射される前記第１及び第２の光線がらの光（２ ４，５６）を前記光表示手段（６４，６６）へ指向させ前記合焦された第１の光 線（４０）を取り巻く領域（４２）を表示する手段（５０，５４，５８，６２） により特徴づけられるトポロジ走査装置。

２、　請求項１記載の走査装置（４４）であって、前記指向手段（５０，５４， ５８，６２）は前記第２の光線（５６）の焦点を前記表面（２８）から遠隔に合 焦するデフォーカス手段（５ｏ）を含むことにおいて特徴づけられる走査装置。

３、　請求項１記載の走査装置（４４）であって、前記指向手段（５０，５４， ５８，６２）は前記第２の光線を非平行光光源として前記光反射手段（４６）へ 与える手段（５ｏ）を含むことにおいて特徴つけられる、走査装置。

Ｌ　請求項１．２もしくは３記載の走査装置（４４）であって、前記指向手段（ ５０，５４゜５８．６２）は前記第２の光線を前記光反射手段（４６）に向けて 指向させ且つ前記反射された第１及び第２の光線を前記光表示手段（６４，６６ ）へ向けて指向させるビームスプリッタ（５４）を含むことにおいて特徴つけら れる、走査装置。

Ｌ　所定の偏光で平行光光源（１４）を提供する手段（１２）、前記平行化光（ １４）をプロファイルされる表面（２８）上に合焦し前記合焦された光（２４） は一対の異なる偏光光線である手段（２２，２６）、及び前記表面（２８）がら の反射光を検出して反射光を表面の清らがさの表示として処理する手段（３４， ３６，３８）を含む表面（２８）上の不規則性を検出する表面ならい盤（４４） であって、前記提供手段（１２）と前記合焦手段（２，２，２６）間に選択的に 挿入されて前記平行化光の一部かそこを通過てきるようにし第２の光源（４８） からそこへ指向される光が前記平行化光（１４）と同じ径路に沿って指向され且 つ前記表面（２８）からそこへ反射された任意の光を反射させる挿入可能手段（ ４６）　、前記所定偏光における非平行光光源を提供する手段（４８，５０）、 前記非平行化光を前記挿入可能手段（４６）へ指向させる手段であって、前記合 焦手段（２２，２６）はさらに前記非平行化光を前記表面（２８）に向けて前記 表面（２８）から遠隔の焦点に合焦する前記指向手段（５４）、及び前記挿入可 能手段（４６）により反射される光に応答してそこへ送られる前記平行光及び非 平行化光を有する前記表面（２８）部分から反射される光を表示する手段（６４ ，６６）、により特徴づけられる表面ならい盤。

鼓　第１の偏光光線（１４）がさまざまな光素子（２０，２２，２６）により所 定径路に沿って指向されて被走査表面（２８）上に合焦され、前記光素子（２６ ）は一つは前記第１の光線を前記表面（２８）上に合焦する前に複数の異なる偏 光光線成分（２４）へ分離するトポロジ走査装置（４４）てあって、該走査装置 （４４）はさらに前記被走査合焦光線（４０）を取り巻く領域（４２）を観察す る光学観察装置を含み、第２の偏光光線を与える手段（４８，５０，５２）、そ こへ与えられる光を示す可視表示を与える光表示手段（６４，６６）、前記第１ の光線（１４）を分離する前に前記径路内へ挿入され前記第１の光線（１４）の 一部かそこを通過てきるようにする光反射手段（４６）　、及び前記第２の光線 を前記光反射手段（４６）及び前記所定径路に沿って前記表面（２８）へ向けて 指向させ且つ前記表面（２８）から前記光反射手段（４６）に向けて反射される 前記第２の光線からの光を前記光表示手段（６４，６６）へ指向させ前記合焦光 線（４０）を取り巻く領域（４２）を表示する手段（５４）、により特徴づけら れるトポロジ走査装置。」特表千４−５００１２７　（７） 国際調査報告

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．第１の偏光光線（２４）がさまざまな光素子（１６，１８，２０，２２，２ ６）により所定径路に沿って指向され被走査表面（２８）上に合焦され、前記光 素子の１個（２２）が前記第１の光線（１４）が前記表面（２８）上に合焦され る前に複数の異なる偏光光線成分（２４）へ分離するトポロジ走査装置（４４） であって、前記走査装置（４４）はさらに前記合焦された第１の光線（４０）を 取り巻く領域（４２）を観察する光観察装置（４６，４８，５０，５２，５４， ５８，６０，６２，６４，６６）を含み、第２の偏光光線を与える手段（４８， ５２）、そこに与えられる光により示される可視表示を与える光表示手段（６４ ，６６）、前記光線を分離する前に前記径路へ選択的に挿入され前記第１の光線 （１４）の一部をそこへ通すことができる光反射手段（４６）、及び、前記第２ の光線（５６）を前記光反射手段（４６）へ向けて且つ前記所定径路の一部に沿 って前記表面（２８）へ向けて指向させさらに前記表面（２８）から前記光反射 手段（４６）へ向けて反射される前記第１及び第２の光線からの光（２４，５６ ）を前記光表示手段（６４，６６）へ指向させ前記合焦された第１の光線（４０ ）を取り巻く領域（４２）を表示する手段（５０，５４，５８，６２）により特 徴づけられるトポロジ走査装置。 ２．請求項１記載の走査装置（４４）であって、前記指向手段（５０，５４，５ ８，６２）は前記第２の光線（５６）の焦点を前記表面（２８）から遠隔に合焦 するデフォーカス手段（５０）を含むことにおいて特徴づけられる走査装置。 ３．請求項１記載の走査装置（４４）であって、前記指向手段（５０，５４，５ ８，６２）は前記第２の光線を非平行光光線として前記光反射手段（４６）へ与 える手段（５０）を含むことにおいて特徴づけられる、走査装置。 ４．請求項１、２もしくは３記載の走査装置（４４）であって、前記第１の光線 （１４）は平行光化されていることにおいて特徴づけられる、走査装置。 ５．請求項４記載の走査装置であって、前記光ディスプレイ手段（６４，６６） は電荷結合装置結像アレイ（６４）を含むことにおいて特徴づけられる走査装置 。 ６．請求項１、２もしくは３記載の走査装置（４４）であって、前記指向手段（ ５０，５４，５８，６２）は前記第２の光線を前記光反射手段（４６）に向けて 指向させ且つ前記反射された第１及び第２の光線を前記光表示手段（６４，６６ ）へ向けて指向させるビームスプリッタ（５４）を含むことにおいて特徴づけら れる、走査装置。 ７．請求項６項記載の走査装置（４４）であって、前記光ディスプレイ手段（６ ４，６６）は電荷結合装置結像アレイ（６４）を含むことにおいて特徴づけられ る、走査装置（４４）。 ８．所定の偏光で平行光光源（１４）を提供する手段（１２）、前記平行化光（ １４）をプロファイルされる表面（２８）上に合焦し前記合焦された光（２４） は一対の異なる偏光光線である手段（２２，２６）、及び前記表面（２８）から の反射光を検出して反射光を表面の滑らかさの表示として処理する手段（３４， ３６，３８）を含む表面（２８）上の不規則性を検出する表面ならい盤（４４） であって、前記提供手段（１２）と前記合焦手段（２２，２６）間に選択的に挿 入されて前記平行化光の一部がそこを通過できるようにし第２の光源（４８）か らそこへ指向される光が前記平行化光（１４）と同じ径路に沿って指向され且つ 前記表面（２８）からそこへ反射された任意の光を反射させる挿入可能手段（４ ６）、前記所定偏光における非平行光光源を提供する手段（４８，５０）、前記 非平行化光を前記挿入可能手段（４６）へ指向させる手段であって、前記合焦手 段（２２，２６）はさらに前記非平行化光を前記表面（２８）に向けて前記表面 （２８）から遠隔の焦点に合焦する前記指向手段（５４）、及び前記挿入可能手 段（４６）により反射される光に応答してそこへ送られる前記平行光及び非平行 化光を有する前記表面（２８）部分から反射される光を表示する手段（６４，６ ４）、により特徴づけられる表面ならい盤。 ９．請求項８記載の表面ならい盤（４４）であって、前記挿入可能手段（４６） は僅かなパーセンテージの光を前記平行化光（１４）から漏洩させる鏡（４６） であることにおいて特徴づけられる、表面ならい盤。 １０．請求項８記載の表面ならい盤（４４）であって、前記非平行化光を前記挿 入可能手段（４６）へ向けて指向させ且つ前記挿入可能手段（４６）からの前記 反射光を表示装置（６４，６６）へ向けて指向させるビームスプリッタ（５４） により特徴づけられる、表面ならい盤。 １１．請求項８、９、もしくは１０記載の表面ならい盤（４４）であって、前記 挿入可能手段（４６）はプロファイルされる表面（２８）を観察したい場合のみ 前記提供手段（１２）と前記合焦手段（２２，２６）間に挿入され、前記表面（ ２８）をプロファイルしたい場合には前記提供手段（１２）と前記合焦手段（２ ２，２６）との間から取り除かれる回転鏡（４６）であることにおいて特徴づけ られる、表面ならい盤。 １２．請求項８、９、もしくは１０記載の表面ならい盤（４４）であって、前記 平行光光源を提供する前記手段（１２）はさらに偏光器（１６）を含むことにお いて特徴づけられる、表面ならい盤。 １３．請求項８、９、もしくは１０記載の表面ならい盤（４４）であって、前記 平行光を合焦する前記手段（２２，２６）はノマルスキプリズム（２２）及び対 物レンズ（２６）を含むことにおいて特徴づけられる、表面ならい盤。 １４．請求項８、９、もしくは１０記載の表面ならい盤（４４）であって、前記 非平行光光源提供手段（４８，５０）は発光手段（４８）及び光学手段（５０） を含み、前記発光手段（４８）は前記光学手段（５０）の焦点から遠隔に配置さ れていることにおいて特徴づけられる、表面ならい盤。 １５．請求項８、９、もしくは１０記載の表面ならい盤（４４）であって、前記 表示手段（６４，６６）は電荷結合装置アレイ（６４）結像装置を含むことによ り特徴づけられる、表面ならい盤。 １６．第１の偏光光線（１４）がさまざまな光素子（２０，２２，２６）により 所定径路に沿って指向されて被走査表面（２８）上に合焦され、前記光素子（２ ６）の一つは前記第１の光線を前記表面（２８）上に合焦する前に複数の異なる 偏光光線成分（２４）へ分離するトポロジ走査装置（４４）であって、該走査装 置（４４）はさらに前記被走査合焦光線（４０）を取り巻く領域（４２）を観察 する光学観察装置を含み、第２の偏光光線を与える手段（４８，５０，５２）、 そこへ与えられる光を示す可視表示を与える光表示手段（６４，６６），前記第 １の光線（１４）を分離する前に前記径路内へ挿入され前記第１の光線（１４） の一部がそこを通過できるようにする光反射手段（４６）、及び前記第２の光線 を前記光反射手段（４６）及び前記所定径路に沿って前記表面（２８）へ向けて 指向させ且つ前記表面（２８）から前記光反射手段（４６）に向けて反射される 前記第２の光線からの光を前記光表示手段（６４，６６）へ指向させ前記合焦光 線（４０）を取り巻く領域（４２）を表示する手段（５４）、により特徴づけら れるトポロジ走査装置。 １７．請求項１６記載の走査装置（４４）であって、前記指向手段（４８，５０ ，５２）は前記第２の光線の焦点が前記表面（２８）から遠隔となるようにする デフォーカス手段（５０）を含むことにおいて特徴づけられる、走査装置。 １８．請求項１７記載の走査装置（４４）であって、前記指向手段（４８，５０ ，５２）は前記第２の光線を非平行光光線として前記光反射手段（４６）へ与え る手段（５０）を含むことにおいて特徴づけられる、走査装置。 １９．請求項１６、１７、もしくは１８記載の走査装置（４４）であって、前記 第１の光線（１４）は平行光化されていることにおいて特徴づけられる、走査装 置。