JPH04501166A - 真空誘導炉 - Google Patents

真空誘導炉

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JPH04501166A
JPH04501166A JP1509128A JP50912889A JPH04501166A JP H04501166 A JPH04501166 A JP H04501166A JP 1509128 A JP1509128 A JP 1509128A JP 50912889 A JP50912889 A JP 50912889A JP H04501166 A JPH04501166 A JP H04501166A
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crucible
induction furnace
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metal
vacuum induction
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Application number
JP1509128A
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English (en)
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シェッフェル セルゲイ レオニドヴィッチ
グブチェンコ アレクサンドル パヴロヴィッチ
テスリコフ ボリス フェドロヴィッチ
ティル レオン ラザレヴィッチ
Original Assignee
フセソユズニイ ナウチノ―イススレドワテルスキイ,プロエクトノ―コンストルクトルスキイ アイ テクノロギチェスキイ インスチチュート エレクトロ―テルミチェスコゴ オボルドワニア ヴィエヌアイアイイーティーオー
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 真空誘導炉 (技術分野) この発明は、金属を溶融するための炉、特に真空誘導炉に関する。
(先行技術) 底板の囲りに間隙なく受け入れられ、誘電体ガスケットにより相互に分離された 、垂直方向に配列されている冷却された金属部からなるるつぼを収容した真空室 を備えたインゴットの連続溶融のための真空誘導炉が公知である(L、L、Ti r、 N、N、Fo鳳in。
Modern methods for 1nduction melting  of metals、1 9 7 5 。
モスクワ: Energiya Publishers、pp、 50−51  ) 、るつぼは、るつぼを垂直方向に往復動させる機構と共に誘導コイル或は誘 導装置内に入れられる。
しかし、この公知の炉は、各インゴットの溶融後、内部のすき間に固化した金属 がインゴットの収縮にもかかわらず内部のすき間に固化した金属がるつぼからの スムーズな除去をさまたげるのでインゴットを外すためるつぼと誘導装置との部 分的分解が必要となるため生産性が制限される。
さらに、冷却されたるつぼ、るつぼの底部に収容された金属底板及び真空室内に 同軸に配置されるつぼを取り囲む誘導装置からなる真空誘導炉が公知である(S U、A、369362)。るつぼの側面は誘電体により相互に分離され、垂直に 配置された3群の金属部分から形成されている。この誘導装置にはるつぼの区分 の各群の外側に設けられた案内路に沿ってるつぼに対して垂直往復動のための機 構が付随している。
しかし、この公知の長い品質のインゴットを製造するための真空誘導炉において 、誘導装置の作動領域のるつぼの区分の強力な組合せにより、製造されたインゴ ットを外すためるつぼを分解する必要がある。これは誘導装置をるつぼからはず し、るつぼの区分を相互に分離することによりなされ、このため、連続溶融サイ クルを実現するため労力を消費する手動によるるつぼの再組立てが必要となる。
(発明の開示) 解決すべき技術課題は、るつぼからインゴットを外すときるつぼの区分から誘導 装置を外す必要のないるつぼの設計と誘導装置の配置の真空誘導炉の創設及びイ ンゴットの溶融を連続工程で実現するため、誘導装置とるつぼとを安全かつ都合 良く組立てるための状態の創設である。
この技術課題は、真空室内に同軸に配置された誘電体ガスケットによって相互に 分離して垂直に配置された少なくとも3群に形成された側面を有する冷却可能な るつぼ、るつぼの低部に収容された冷却可能な底板、及びるつぼを取り囲みるつ ぼの金属区分の各群の外側に位置する案内路に沿ってるつぼに対して往復動する ための機構を伴う誘導装置からなり、この発明に従って、るつぼの各金属区分の 外面がその上部に窪みを有し、この窪みの高さが誘導装置の高さを上回り、その 深さが溶融される金属の特性に応じて選択され、るつぼの金属区分の各群が径方 向の往復動のための機構を伴う真空誘導炉において解決される。
この発明は、炉の生産性を20〜30%増加すること、長いインゴットのゾーン 再溶融の工程を実行すること、及び小径のインゴットを再溶融することにより大 径のインゴットを製造することを可能にする。
(図面の簡単な説明) この発明は添付した図面を参照しながらその実施例と関連させて、さらに説明さ れる。
第1図は、この発明を実施する真空誘導炉の一般的な縦断面図である。
そして、第2図は、この発明を実施する炉の冷却可能な炉の金属区分の横断面図 を示す。
(発明の好ましい実施例) この真空誘導炉は、上部覆い2を備えた真空室1からなる。室lは同軸状に配置 された冷却可能なるつぼ3及びるつぼ3を取り囲む誘導装置4をその内部に有し ている。るっぽ3の低部は、溶融されたインゴット6のための、垂直運動の機4 17を伴った冷却可能な底板5を収容している。るつぼ3は誘電体ガスケット1 0によって分離された金属区分9を垂直に配置した3つの群8(第2図)によっ て形成されている。各区分9の外面は、その高さが誘導装置4の高さを越え、そ の深さが溶融される金属の特性、例えばインゴット6の湯の流動性に応じて選択 されている窪み11(第1図)を有している。るつぼ3(第1図)の全高さに亘 って区分9の各群8(第2図)の外側には、機構13からのるつぼ4の垂直往復 動のための案内路12が設けられている。区分9の各群8(第2図)の底部には 、その径方向の往復動のための機構、例えば室l内に真空または封止ガスの雰囲 気を提供するための装置16に付随する真空室1の側壁に回転可能に装着された 案内ねじ15(第1図)と協働するように各区分9(第2図)上に装着された取 っ手14の形態が付随している。
閉じた真空誘導炉はインゴットのゾーン溶融の例によって説明するよう以下のよ うに動作する。
室1の覆い2(第1図)を外し、予め往復機構13によって誘導装置4をるつぼ 3(第1図)の区分9(第2図)の外面に設けられた窪み11の最も上に位置せ しめ、再溶融のためのインゴット6を底板5上に載置する。区分9の群8(第2 図)もまた径往復機構の各案内ねじ15によって結合されたそれらの取っ手14 (第1図)により径方向の外側に引かれており、各窪み11の外面が誘導装置4 の内面にその最も高い位置で係合する。インゴット6が溶融されるべく位置され ると、区分9の群8(第2図)は取っ手14に結合している各案内ねじ15(第 1図)によって径方向の内側に押され、インゴット6と結合する。そして、機構 13が動作して再溶融インゴット6の要求に応じた対応する動作位置まで誘導装 置を低下せしめる。るつば3(第1図)の区分9(第2図)の適正な組立て及び 誘導装置4の適正位置をチェックした後、室1は覆い2で閉じられ、そして装置 16が必要な保護雰囲気(例えば真空封止ガス)をその中に形成する。そして電 圧が誘導装置4に加えられ、インゴット6が溶解すると、それは溶融金属領域に おいて区分9(第2図)との間の必要な間隙値を確保しながらインゴット6(第 1図)の溶融領域における区分9の群8(第2図)を近接包囲しながら必要な速 度で機構7により移動する。インゴット6(第1図)の再溶融が完了すると、機 構13が動作して誘導装置4は窪み11のレベルの最止位に移動し、各取っ手1 4 (第1図)及び案内ねじ15の補助を受けて区分9の群8(第2(!l)が 外側に開く。そして、装置I6が室1の封止を解くよう作用して覆い2が外され 機構7が動作して炉からインゴット6を取り出すのに適した位置までインゴット 6を設けた底板5を移動する。インゴット6を取り出した後、以上述べたサイク ルが繰り返される。
ここに開示された真空誘導炉はるつぼ3から最終的なインゴット6を取り外す比 較的単純な工程を提供し、再溶融のため搬入するインゴット6によるるつぼ3の 壁の損傷の危険を最小限にすることが理解される。
(産業上の利用性) この発明は、溶融化学活性が高い金属の溶融、鋳造インゴットのゾーン再溶融、 インゴットの連続溶融及びその結晶化のために使用することができる。
国際調査報告

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 誘電体ガスケツト(10)によって相互に分離され垂直方向に配置された金属区 分(9)の少なくとも3つの群(8)で形成された側面を有する冷却可能なるつ ぼ(3)、るつぼ(3)の低部に収容された冷却可能な底板(5)、及びるつぼ (3)の金属区分(9)の各群(8)の外側に位置する案内路(12)に沿って るつぼ(3)に対して往復動するための機構(13)を付随し、るつぼ(13) を取り囲む誘導装置(4)を真空室(1)内に同軸に配置してなる真空誘導炉に おいて、るつぼ(3)の各金属区分(9)の外面はその上部に形成された窪み( 11)を有し、この窪み(11)の高さは誘導装置(4)の高さを越え、その深 さは溶融される金属の特性に応じて選択され、るつぼ(3)の金属区分(9)の 各群(8)には径方向の往復動のため機構が設けられていることを特徴とする真 空誘導炉。
JP1509128A 1989-04-28 1989-04-28 真空誘導炉 Pending JPH04501166A (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/SU1989/000117 WO1990013781A1 (fr) 1989-04-28 1989-04-28 Four a induction a vide

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JPH04501166A true JPH04501166A (ja) 1992-02-27

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ID=21617460

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1509128A Pending JPH04501166A (ja) 1989-04-28 1989-04-28 真空誘導炉

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JP (1) JPH04501166A (ja)
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