JPH04502911A - 第4級アンモニウム帯電防止性化合物 - Google Patents
第4級アンモニウム帯電防止性化合物Info
- Publication number
- JPH04502911A JPH04502911A JP2500313A JP50031390A JPH04502911A JP H04502911 A JPH04502911 A JP H04502911A JP 2500313 A JP2500313 A JP 2500313A JP 50031390 A JP50031390 A JP 50031390A JP H04502911 A JPH04502911 A JP H04502911A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbon atoms
- alkyl group
- formula
- group
- methyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
- C07D295/04—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
- C07D295/08—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly bound oxygen or sulfur atoms
- C07D295/084—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly bound oxygen or sulfur atoms with the ring nitrogen atoms and the oxygen or sulfur atoms attached to the same carbon chain, which is not interrupted by carbocyclic rings
- C07D295/088—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly bound oxygen or sulfur atoms with the ring nitrogen atoms and the oxygen or sulfur atoms attached to the same carbon chain, which is not interrupted by carbocyclic rings to an acyclic saturated chain
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/24—Coatings containing organic materials
- C03C25/25—Non-macromolecular compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C215/00—Compounds containing amino and hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
- C07C215/02—Compounds containing amino and hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton
- C07C215/40—Compounds containing amino and hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton with quaternised nitrogen atoms bound to carbon atoms of the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C217/00—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
- C07C217/02—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having etherified hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton
- C07C217/50—Ethers of hydroxy amines of undetermined structure, e.g. obtained by reactions of epoxides with hydroxy amines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
- C07C309/01—Sulfonic acids
- C07C309/28—Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
- C07C309/29—Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton of non-condensed six-membered aromatic rings
- C07C309/30—Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton of non-condensed six-membered aromatic rings of six-membered aromatic rings substituted by alkyl groups
- C07C309/31—Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton of non-condensed six-membered aromatic rings of six-membered aromatic rings substituted by alkyl groups by alkyl groups containing at least three carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/17—Amines; Quaternary ammonium compounds
- C08K5/19—Quaternary ammonium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
- C08K5/41—Compounds containing sulfur bound to oxygen
- C08K5/42—Sulfonic acids; Derivatives thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/16—Anti-static materials
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- D06M—TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
- D06M13/00—Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with non-macromolecular organic compounds; Such treatment combined with mechanical treatment
- D06M13/322—Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with non-macromolecular organic compounds; Such treatment combined with mechanical treatment with compounds containing nitrogen
- D06M13/46—Compounds containing quaternary nitrogen atoms
- D06M13/463—Compounds containing quaternary nitrogen atoms derived from monoamines
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Textile Engineering (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Treatments For Attaching Organic Compounds To Fibrous Goods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
第4級アンモニウム帯電防止性化合物
発明の記載
本発明はある種の新規な第4級アンモニウムスルホネート化合物、より詳しくは
通常非導電性有機物質用の内部または外部添加の静電防止剤としての化合物の使
用に関する。さらに詳しくは、本発明は静電気を保持する傾向が通常のものより
小さい合成または天然の有機ポリマーからの成形物品に関する。
有機ポリマー、例えば合成ポリマーは本質的には電気絶縁体、すなわち非導電体
である。そのようなポリマーから得られた物品は乾燥条件で、製造、加工または
使用時における摩擦によりその表面に静電的帯電を形成する傾向がある。そのよ
うな静電気は種々の理由により望ましくない。例えば、表面静電気はほこりや他
の汚れを引き付け、表面を汚くし、しかも取り除くのが困難である。そのような
汚れまたは静電気はそれ自体加工および取り扱い上の問題を引き起こす。ある場
合には、静電気が非常に蓄積されて、物品を取り扱いするときに強い電気的なシ
ョックを受けることもある。さらに、敏感な電子装置を被覆する成形部分上の静
電気が高いとその装置にダメージを与えることもある。
非導電性ポリマーから得られた物品は帯電防止剤を含む仕上げ剤で表面処理され
るが、そのような表面処理はその処理が摩擦などにより取り除かれるために内部
に導入される静電剤よりも望ましくない。逆に、帯電防止剤と合成ポリマーとを
物品の成形前に混合する成形物品内に導入される帯電防止剤は、物品を成形また
は押し出しする時に使用される高温のために分解するおそれがある。合成および
天然ポリマー並びに他の天然の物質と共に使用し得る熱的に安定な帯電防止剤が
望まれている。
ある種の票4級アンモニウムp−1−ルエンスルホン酸塩が帯電防止剤として知
られているが、この種の塩のあるものは比較的熱的に安定、例えば200℃ぐら
いの温度で安定であるが、その静電特性はまだ不十分である。特に、この帯電防
止剤で処理された物品に付与された帯電の減衰時間(decay time)は
長すぎる。好ましくはそのような減衰時間は2秒以下、より好ましくは1秒以下
、更に好ましくは0.5秒以下である。
本発明の目的は成形された合成物質、例えばポリマー類および他の製造物品に内
部的にまたは外部的に用いて表面静電帯電の蓄積を少なくする新規な帯電防止剤
を提供することにある。
ある種の第4級アンモニウムスルホネート塩が熱的安定性と改良された帯電防止
特性、すなわち静電気蓄積および散逸特性を有することがわかった。そのような
特性は連邦標準テスト(Federal Te5tStandard) l 0
1 Cs方法4046により5000ボルトのチャージに対する減衰時間を測定
することIこより得られる。上記第4級アンモニウム塩は以下の式1;
1式中、Rは炭素数2〜22のアルキル基、好ましくは炭素数8〜18のアルキ
ル基であり、R1は炭素数1〜22のアルキル基およびアルキレンオキシ基から
なる群から選択され、「2」は−[c H1−C(A)H−01xH(式中人は
水素、メチルまたはエチルを示し、Xは1〜5の整数を示す。)を表わされ、例
えばとドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシブチル、ポリ(エチレ
ンオキシ)ヒドロキシエチル、ポリ(プロピレンオキシ)−2−ヒドロキシプロ
ピルおよびポリ(ブチレンオキシ)−2−ヒドロキシブチルを示す、、]で表わ
される。好ましくはR1は炭素数1〜3のアルキル基または炭素数8〜18のア
ルキル基、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、オクチル、デ
シル、ドデシル、ヘキサデシルおよびオクタデシル、またはアルキレンオキシ基
Z(式中Aが水素またはメチルで、Xは1〜3である。)からなる群から選択さ
れる。さらに好ましくはR3は炭素数1〜3のアルキル基またはアルキレンオキ
シ(Z)基(式中人は水素およびXは1〜2)である。Xが1より大きいと、ス
ルホネート化合物が液状となり、取り扱い易くなる。
上記式図中、R2は炭素数1〜3のアルキル基(例えば、メチル、エチル、n−
プロピルおよびイソプロピル)および2基(但し、AおよびXは前記R1で記載
したもの)からなる群から選択される。またR1およびR3は結合して6員環の
モルホリノ基を形成してもよい。
上記式図中、Rjはアルキレンオキシ基Z(但しAおよびXは前記R1で定義さ
れたとおり)によって表わされる基であり、Yはアニオン、R’SO,(式中、
R′は炭素数1〜18のアルキル基、好ましくは炭素数1〜2のアルキル基(例
えば、メチルおよびエチル)または炭素数8〜18のアルキルフェニル、好まし
くは炭素数10〜13のアルキルフェニルである。)を示す。好ましくはアルキ
ルフェニルはp−アルキルフェニルである。
上記R,R,およびR′に関して、アルキル基とは一価で、本質的に飽和の分岐
鎖または直鎖アルキル基を示す。そのようなアルキル基の典型的な例としてはメ
チル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、ココイル(CQCOY
I)、)リゾシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘゲタデシル
、オクタデシル、ツヤ(soya)、エイコシル等が挙げられる。天然物質から
誘導されたとき、式R,R,およびR′は少量の不飽和基を有してもよく、アル
キル基の混合物で構成されていてもよい。例えば、市販のドデシルベンゼンスル
ホン酸はそのベンゼン環上のアルキル基が炭素数1〜13のアルキル基の混合物
であり、炭素数のみかけの数は約12であるベンゼンスルホン酸である。
上記第4級アンモニウムスルホン酸塩はより構造的には以下の構造式IIおよび
III、(式中R,R,、R8およびR3は前記と同意義を有し、Raは炭素数
1〜18のアルキル基(例えば炭素数1〜2のアルキル基)およびRhは炭素数
8〜18のアルキル基、好ましくは炭素数10〜13のアルキル基を示す。)で
表わされてもよい。
図中、Rbはp−アルキル置換基であるが、0−またはm−置換基であってもよ
い。
構造式Iで表わされる第4級アンモニウムスルホネート化合物の非限定的な例は
アルカンスルホネート塩、例えばメタンスルホネート塩、およびアルキルベンゼ
ンスルホネート塩、例えばp−アルキルベンゼンスルホネート塩の両者を含み、
それらを表■によって示す。ここでRSR,、R2、R1およびRhは以下の表
に記載された置換基から選択される。
表 1
1 オクチル メチル メチル ヒドロキシエチル2 オクチル エチル エチ
ル ヒドロキシエチル3 ツヤ メチル メチル ヒドロキシエチル4 デシル
デシル メチル ヒドロキシエチル5 オクチル メチル メチル 2−ヒド
ロキシプロピル
6 オクチル メチル メチル 3−ヒドロキシブチル
7 オクチル (4−モルホリノ) ヒドロキシエチル8 オクチル メチル
ヒドロキシ ヒドロキシエチルエチル
9 デシル ヒドロキシ ヒドロキシ ヒドロキシエチルエチル エチル
10 オクチル ヒドロキシ ヒドロキシ ヒドロキシエチルエチル エチル
11 オクチル メチル メチル ポリ(エチレンオキシ)ヒドロキシエチル
12 ココイル ヒドロキシ ヒドロキシ ヒドロキシエチルエチル エチル
B、p−アルキルベンゼンスルホネート1 オクチル メチル メチル ヒドロ
キシエチルドデシル2 オクチル メチル メチル 2−ヒドロキシ ドデシル
プロピル
3 オクチル メチル メチル 3−ヒドロキシ ドデシルブチル
4 ツヤ メチル メチル ヒドロキシエチルドデシル5 オクチルオクチルメ
チル ヒドロキシエチルドデシル6 デシル デシル メチル ヒドロキシエチ
ルドデシル7 オクチル メチル メチル ポリ(エチレンオ ドデシル表1、
バートAにおいて化合物1はオクチルジメチル2−ヒドロキシエチルアンモニウ
ムメタンスルホネート(Yはメタンスルホネート)である。表1、パートB中に
おいて化合物1はオクチルジメチル2−ヒドロキシエチルアンモニウムp−ドデ
シルベンゼンスルホネート(Yはドデシルベンゼンスルホネート)で表わされる
。表1から化合物の他のスルホネート塩は同様に適当なIUPAC記名を用いて
名付けることができる。
構造式■の第4級アンモニウムスルホネート塩はその塩の少なくとも1つを帯電
防止に有用な量で物品中または物品表面に適用することにより、非導電性物品、
例えば合成ポリマーから得られた物品上の静電気の蓄積を減少する。一般に、構
造式Iの化合物は物品中に約0.5〜約20重量%、好ましくは約2〜約60重
量%(乾燥非処理物品の重量に基づく)の量で導入してもよい。仕上げ組成物と
して用いる時には前記構造式Iの化合物は一般に約0.1〜約2、例えば0.5
〜1重量%の量で存在してもよい。
合成ポリマーの成形物品中に配合する場合には、帯電防止性第4級アンモニウム
スルホネート塩は物品の表面に移動、すなわち「ブルーム(bloom)JL、
物品の表面上に帯電防止性被膜を提供する。そのような被膜は外部から局所的に
与えられる被膜とは異なりで、摩耗、拭き取り、洗浄、取り扱い、移動等により
剥離することが少なく、より永久的である。対照的に、内部に配合した帯電防止
剤の移動層が取り扱いまたは加工時に取り除かれたとしても、新しい帯電防止層
が表面にブルームする。
帯電防止性化合物を物品表面に局所的に塗布するために、帯電防止性化合物は水
、低級アルコール(例えば、炭素数1〜4のアルコール)、滑性オイル、ポリマ
ー被膜、他の有機溶媒等に溶解または分散゛し、得られた所望量の帯電防止化合
物を含む「フィニツシユ(finish)Jを物品の表面上に常套の塗装手段、
例えばスプレー、浸漬、拭き取り等により塗布し、それにより物品表面に帯電防
止剤の効果的な量を付着する。
一般に、構造式Iの帯電防止化合物は200℃を越える温度で熱的に安定である
。約275℃を越える温度に加熱したときには、化合物(例えばオクチルジメチ
ルヒドロキシエチルアンモニウムメタンスルホネート)では5重量%より少ない
重量損失が見られる。この化合物は式中のR,Rls RaおよびRbのアルキ
ル基の炭素数に応じて、固体状、液状または低温溶融ワックスの形態を取る。同
時に、これらの化合物は一般に使用されているスルホネート塩(例えば、p−h
ルエンスルホネート塩)よりも優れた帯電防止性、すなわち短い減衰時間を示す
。
帯電防止性化合物を物品内部に配合する場合には、化合物は合成ポリマーまたは
他の物質と常套のブレンドまたは混合装置(例えば、バンバリーミキサ−や他の
ゴムおよびプラスチック加工装置)により帯電防止に必要な量を混合し、その混
合物を物品に押し出しまたは他の成形方法により成形する。また、ポリマーと帯
電防止性化合物のマスターバッチを形成し、そのマスターバッチを物品に成形し
ようとすべき合成ポリマーに帯電防止に必要な量で加え、それにより物品中に帯
電防止化合物の所望の帯電防止量を導入する。マスターバッチは帯電防止性化合
物を約10〜約20重量%含有してもよい。
構造式Iの化合物は成形物品を形成するために用いられる通常の合成ポリマーと
共に用いてもよい。帯電防止性化合物と特定の合成ポリマーとの相容性は当業者
により容易に決定することができる。
構造式Iの帯電防止性化合物は広い範囲の基材形態、例えばファイバー(織布お
よび不織布)、シート、フィルムおよび型内成形または押し出し成形物品に用い
てもよい。そのような物品は熱可塑性または熱硬化性ポリマーまたはコポリマー
(共重合体を含む)から形成してもよい。
物品を成形するために用いられる合成ポリマーの非限定的な例としては、ポリオ
レフィン(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびポリイソブチレン入ス
チレン樹脂(例えば、ポリスチレンおよびポリ(クロロスチレン)、スチレン−
アクリロニトリル共重合体、ポリ(スチレン−アクリロニトリル−ブタジェン共
重合体(ABS樹脂)および高衝撃ポリスチレン(HIPS)、ポリエステル(
例えば、ポリ(メチルアクリレート)、ポリ(メチルメタクリレート)およびポ
リ(ビニルアセテート))、エチレングリコール/テレフタル酸ポリマー、ポリ
カーボネート、ポリアミド(例えば、ナイロンおよびケブラー(登録商標)型ポ
リアミド)、ポリアセタール(例えば、ポリ(ビニルブチラール))、フェノー
ル/ホルムアルデヒド樹脂、ビニル樹脂(例えば、ポリ(ビニルクロライド)、
ポリ(ビニリデンクロライド)、ポリフルオロクロロエチレン、塩化ビニルとビ
ニルアセテート、ビニリデンクロライド、またはアクリロニトリルとの共重合体
)、ポリウレタンおよびポリ(フェニレンエーテル)樹脂が挙げられる。前記ポ
リマーの混合物、例えばポリマー合金を用いてもよい。
また、構造式■の化合物は天然物質または天然および合成物質の混合物、例えば
レーヨン、アセテート、レーヨン−セルロース物質(セルロースアセテートプロ
ピオネート、セルロース−ブチレート、綿、リネン、ジュート、ラミー(ram
ie)、ウール、モヘアおよびガラス(例えば、グラスファイバーおよびグラス
ファイバー絶縁体(insalation))と共に用いてもよい。織物状物質
はいかなる形態、例えば個々の繊維、織布(例えば織物、布、カーペット、敷物
および室内装飾品)および不織布物質(例えば、フェルト、バット(bats)
およびマット)が挙げられる。グラスファイバー繊維またはグラスファイバー絶
縁体の場合には、構造式Iの化合物は、仕上げ剤またはサイジング組成物の一部
として局所的に塗布してもよい。
構造式■の化合物はだいたい当モル量の第3級アミンとアルカンスルホン酸また
はアルキルベンゼンスルホン酸のエステルとを溶媒(例えば、水、低級アルカノ
ール類、具体的には炭素数1〜4のアルカルノール類、またはアセトン)の存在
下に約25〜約250℃、好ましくは約65〜80℃の温度で、少しの窒素ガス
加圧下に反応することにより調製してもよい。好ましくは構造式Iの化合物は対
応する第3級アミン、対応するスルホン酸(例えば、メタンスルホン酸)および
アルキレンオキサイド(例えば、エチレンオキシド)を以下の反応式に従って反
応することにより容易に得られる。
第3級アミンのアルキレンオキシドによる4級化は好ましくは少量のアミン触媒
の存在下に、加圧下(これはアルキレンオキシドのティクアップを促進する)に
実施される。ポリ(アルキレンオキシド)(例えば、ポリエチレンオキシド)を
含有する第4級アミンは好ましくは少し過剰のアミン、過剰のアルキレンオキシ
ドおよび加圧下(約10〜約100ポンド/平方インチ(0,07〜0.7MP
a))で調製してもよい。
本発明を以下の実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、これらの実施例は単
に説明のためのものであり、種々の変形および変化は当業者には明らかである。
実施例1
n−オクチルジメチルアミン118.0g(0,75モル)をメタンスルホン酸
72. Og(0,75モル)の100@l水溶液で中和する。得られた混合物
の温度を約80〜90℃に上昇し、その後約40℃に冷却する。反応混合物をオ
ートクレーブに仕込み、系内を窒素で完全に置換した後、オートクレーブをシー
ルし、窒素で20ポンド/平方インチ(psigXo、 I MPa)にまで加
圧した。オートクレーブの内部を約70℃に加熱し、エチレンオキシド62.0
g(1,4モル)を加えた。オートクレーブの内容物を約1時間攪拌し、その間
温度を70℃に保持した。その後オートクレーブを窒素で置換し、オートクレー
ブ中の冷却溶液のpHは約10゜5であり、これをメタンスルホン酸および水酸
化ナトリウム50%水溶液を用いて約4.7に調製した。オートクレーブ中の溶
液50gを真空下にストリップし、残渣をアセトンエーテル溶液中に溶解し、溶
液を活性炭で脱色した。
脱色混合物を濾過および濃縮し透明液31.5gを得、それを放置固化した。生
成物、n−オクチルジメチルヒドロキシエチルアンモニウムメタンスルホネート
、は放電イオン化二次イオン質量スペクトロメトリー(DISIMS)によって
確認した。
実施例2
n−オクチルジェタノールアミン62.0g(0,28モル)をメタンスルホン
酸27.0g(0,28モル)の100mJ水溶液で中和した。
混合物のpHは約5.3であり、オクチルジメチルアミンで6.3に調整した。
水5Qmlを中和混合物に加え、得られた溶液をオートクレーブに仕込み、オー
トクレーブは窒素置換した後窒素で2001jSig(0、1M P a)に加
圧した。オートクレーブ内容物を65℃に加熱し、エチレンオキサイド25.0
g(0,37モル)を30分間にわたって加えた。エチレンオキサイドの添加後
、窒素圧を100ポンドpsig(0、7M P a)に上昇し、反応混合物を
2時間攪拌した。反応混合物を冷却し、オートクレーブを窒素で置換し、オート
クレーブの内容物を真空下にストリップして、粘稠液体108gを得た。得られ
た生成物がn−オクチルトリス(ヒドロキシエチル)アンモニウムメタンスルホ
ネートであることをDISIMSスペクトロメトリーにより確認した。
実施例3
ツヤジメチルアミン123.3g(0,41モル)をイソプロパツール200m
A’に入れた溶液中に、攪拌下ドデシルベンゼンスルホン酸132gを添加した
。反応混合物の温度は約50℃に上昇した。反応混合物のpHは約1,8であっ
た。混合物をオートクレーブに仕込み、オートクレーブをシールして、窒素で2
0psig(0,1MPa)に加圧した。混合物を70℃に加熱し、エチレンオ
キシド35.0g(0,80モル)を反応容器に30分かかって加えた。混合物
を一晩攪拌し、その間70℃に保持した。圧力を開放し、オートクレーブを冷却
した。イソプロパツールを反応生成物から回転エバポレータにより取り除き、淡
黄色ペースト252gを得た。生成物の構造がn−ツヤジメチルヒドロキシエチ
ルアンモニウムドデシルベンゼンスルホネートである混合物に対応する混合物で
あることを質量分光法により確認した。
実施例4
ドデシルベンゼンスルホン酸160. Og(0,5モル)をエタノール150
m1に溶解した溶液に攪拌下オクチルジメチルアミン78゜3g(0,5モル)
を加えた。混合物をオートクレーブに仕込み、オートクレーブを窒素で20ps
ig(0,1MPa)に加圧した。混合物を65℃に加熱し、エチレンオキシド
28.0g(0,64モル)を攪拌下に30分かけて添加した。次いで混合物を
2時間攪拌し、その間65℃に保持した。オートクレーブ中の圧力を開放し、内
容物を冷却し、エタノールを真空下に除去して濃厚液244.0gを得た。
重さの増加が見られなかったので、液体生成物を再びイソプロパツール200a
+1に溶解し、オートクレーブに仕込んだ。オートクレーブの内容物を80℃に
暖め、窒素で200 psig(0、IMPa)に加圧した。エチレンオキシド
(44,0g、1.0モル)をオートクレーブ中に30分かけて添加し、オート
クレーブの内容物を80℃および100psig(0,7MPa)に保持して一
晩攪拌した。圧力を開放し反応生成物を冷却した。イソプロパツール溶媒を真空
中に除去し淡黄ゲル262.0gを得た。この生成物がオクチルジメチルヒドロ
キシエチルアンモニウムドデシルベンゼンスルホネートであることを質量分光計
で測定した。
実施例5
ドデシルベンゼンスルホン酸160.0gをイソプロパツール100IIl中に
溶解した溶液中にオクチルジメチルアミン79.5gを添加した。混合物をオー
トクレーブ中に仕込んだ後、窒素で20psig(0,1MPa)に加圧した。
混合物を80℃に暖め、プロピレンオキシド35.0gを約30分かけて攪拌下
に添加した。混合物を80℃に保持して一晩攪拌した。次の朝オートクレーブの
圧力を10psig(0,07MPa)に落ちた。この事はオートクレーブシー
ルに漏れがあったことを示した。
溶媒を混合物から除去し、残渣(256,8g)をイソプロパツール150m/
中に溶解し、溶液をオートクレーブに仕込んだ。プロピレンオキシド(30,0
g)をオートクレーブに添加し、内容物を80℃に暖め、オートクレーブを30
psig(0,2MPa)に窒素で加圧した。
圧力が20psig(0,1MPa)に1時間で低下した。混合物を60℃で一
晩攪拌した。次の初圧力は約5psig(0,03MPa)になっていた。混合
物を冷却し、溶媒を回転エバポレータで除去した。残渣(270,5g)は質量
分光計によりオクチルジメチル2−ヒドロキシプロピルアンモニウムドデシルベ
ンゼンスルホネートであることを確認した。
実施例6(比較)
オクチルジメチルアミン157.3gをオートクレーブに仕込み、パラトルエン
スルホン酸189.5gを水IQQa+A’に溶解した溶液で中和した。混合物
の温度は中和の最終段階で約60℃であった。オートクレーブをシールし、窒素
で2回置換し、25 psig(0、211Pa)に窒素で加圧した。混合物を
75〜80℃に暖め、エチレンオキシド46゜Ogを約1時間かけて添加した。
混合物を70°Cで1時間保持し攪拌した。
オートクレーブ中の圧力を開放し、生成物を回収した。生成物の一部を真空中で
ストリップし、残渣をエーテルで洗浄した。白いパウダー性生成物を濾過により
得た。質量分光計はその生成物がオクチルジメチルヒドロキシエチルアンモニウ
ム−p−トルエンスルホネートであることを確認しl;。
実施例7
実施例1の化合物0.09重量%を含む水溶液を調製した。テスト7アブリツク
スインコーポレイテツド(TESTFABRIC5Inc、)から得られたアク
リル布の3−1/2インチ(8,9cm)x5インチ(12,7cm)スワッチ
(svat、ch)を上記水溶液100g中に30秒浸漬した。過剰の溶液をス
ワツチからアトラスラボラトリ−リンガ−(Atlas 1aboratory
vringer)を用いて絞り取ったOスワツチを風乾し、15%相対湿度に
維持した湿度室で24時間コンディションした。この工程を実施例2.4.5お
よび6の化合物を用いて繰り返し、および市販の帯電防止化合物ヘクセル(He
xcel :登録商標)106Gを用いて行なった。スワッチの静電特性を連邦
標準テスト101C,方法4046により、アクリル布スワッチの各々に5゜0
00ボルトの電圧をかけて測定した。2回目に電圧がOになる減衰時間をエレク
トロチックシステム静電減衰メータ、モデル406Cで測定した。結果を表2に
示す。
減衰時間(秒)0.3 0.5 0.6 0.9 10 1.7*オクチルメチ
ルジ(ヒドロキシエチル)アンモニウムp−トルエンスルホネート
表2のデータは構造式Iの化合物、例えば実施例1.2.4および5の化合物が
比較化合物(実施例6、すなわちオクチルジメチルヒドロキシ−p−トルエンス
ルホネート)と比べて非常に優れた減衰時間を示し、かつ市販の帯電防止生成物
ヘクセル(登録商標)106Gと比べても改善された減衰時間を示す。
惠暮気l
ノーリル(Noryl :登録商標)N−190変性ポリ(フェニレンオキシド
)樹脂および実施例1に対応する帯電防止性化合物2重量%をブラベンダーミキ
サー(BrabenderX 100 rpm)中で2]0℃で5分間混合した
。得られた混合物を440’F(127℃)で圧縮成形し、約55ミルの平板ブ
ラック(plaque)を形成した。帯電防止性化合物5重量%を用いる以外は
上記方法を繰り返した。
各々のブラックから5インチ(12,7cm)正方形のディスクを取り出し、1
5%相対湿度に保持された制限湿潤チャンバー中に24時間保持した。ディスク
の表面抵抗性および静電特性(減衰時間)を実施例7に記載のテスト方法を用い
て測定した。結果を表3に示す。
実施例9
実施例4の化合物を使用して実施例8の方法を繰り返した。結果を表4に示す。
実施例1O
高衝撃ポリスチレンぐHIPS−モービルポリスチレン4226)および実施例
1に対応する静電化合物2重量%をブラベンダーミキサー(100rpm)中で
210℃で3分間混合した。得られた混合物を420°F(216℃)圧縮成形
して、約55ミルの平板ブラックを形成した。同じ手続きを帯電防止性化合物5
重量%を用いる以外同様に繰り返した。各々のブラックの表面抵抗および静電特
性を実施例8に記載の方法でテストした。結果を表3に示した。
実施例11
実施例10の手続きを実施例4の化合物を用いて繰り返した。結果を表4に示す
。
実施例12
ポリ(塩化ビニル)プラスチゾル樹脂を以下の方法により調製した。
ジオン173 (Geon :登録商標)分散樹脂92重量部およびボーデン2
605s(Borden 260ss :登録商標)混合樹脂80重量部を混合
機中で混合した。ジオクチルフタレート49重量部およびシンプロン(Synp
ron) 1363熱安定化剤4重量部を混合し、混合物を攪拌下に混合気に加
えた。すべてのジオクチルフタレート/安定化側混合物を加えた後、得られた混
合物をさらに5分間攪拌した。実施例1に対応する帯電防止性化合物0.75g
をプラスチゾル樹脂14.25gに加え、混合物をよ(攪拌した。10ミルのフ
ィルムをフインチ(17,8cm)の正方形のダンボール片上に塗布し、フィル
ムを193°で2分間硬化した。フィルムの表面抵抗性および帯電防止特性を実
施例7に記載の方法を用いて測定した。結果を表3に示す。
実施何重3
実施例4の化合物を用いる以外は実施例12と同様に処理した。
結果を表4に示す。
表3
熱可塑性樹脂
帯電防止剤 ノーリル HIPS PVCプラ減衰時間(秒’) 1.2 0.
2 0.9 0.03 0.07抵抗性 3X10” 5X10’l 2X10
” 3X10’ 1.5X10”(オーム/SQ)
表3のデータは表1の化合物が優れた帯電防止特性を示すことを表示し、5%の
水準でも各々のプラスチック樹脂は1秒以下の減衰時間を有する。
表4
熱可塑性樹脂
帯電防止剤 ノーリル HIF’S PVCプラ減衰時間(秒) 1.8 0.
7 3.1 1.1 0.5抵抗性 8X10” 2X10” lXl0” 4
X10目 5x1010(オーム/sq)
表4のデータは実施例4の化合物が21量%でも優れた帯電防止特性を有し、5
重量%では非常に優れた帯電防止特性を有することを示す。すなわち、1秒また
はそれ以下の減衰時間を示す。
実施例14
98%メタンスルホン酸48.0gを水1501/に溶解した溶液中に攪拌下オ
クチルジメチルアミン79.0gを加えた。反応温度を60〜65℃に保持した
。得られた溶液のpHは1.5であり、オクチ/I/’)lfh7i>を加えて
特に調製し“・溶液をオートクレーブに仕込み、オートクレーブを窒素で30p
sig(0,2MPa)に加圧した。
オートクレーブの内容物を70℃に加熱し、エチレンオキシド48゜0gを30
分にわたって加えた。その後反応混合物を70℃で1時間半攪拌した。オートク
レーブ中の圧力を開放し、反応生成物を真空中にストリップして、174gの水
性生成物を得た。この生成物は長時間溶液状態を保った。生成物は質量分光計で
C,HI7N(CH3)2(CHzCHzO)XHCF(,503(Xは1.2
または3を示す。)であることを確認した。
実施例15
70%メタンスルホン酸68.5gを水150a+j!に溶解した溶液をドデシ
ルジメチルアミン107.0gで80〜90℃の温度で中和した。中和溶液のp
Hは1.8であり、これをドデシルジメチルアミンでpH5に調製した。得られ
た溶液をオートクレーブに仕込みオートクレーブを窒素で20psig(0,1
MPa)に加圧し、溶液を70℃に加熱した。エチレンオキシド68.0gを4
5分にわたって加えた。
エチレンオキシドを添加終了後、内容物を1時間70℃に保持して攪拌した。オ
ートクレーブ中の圧力を開放し、溶液生成物を真空中でストリップして、液状生
成物224.0gを得た。生成物の質量分光計はモノ−およびシェドキシル化第
4級アミン、すなわちC+ZH2s N (CHs ) 2 (CH2CH20
) 、 H(式中、Xは1または2)であることを示した。
本発明を上記実施例の詳細に基づいて説明したが、それらは以下に示される特許
請求の範囲を限定するものと解してはならない。
補正書の翻訳文提出書
(特許法第184条の8)
Claims (34)
- 1.構造式: ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表等があります▼[式中、 Rは炭素数2〜22のアルキル基、R1は炭素数1〜22のアルキル基および式 −[CH2−C(A)H−O]xHで表わされるアルキレンオキシ基からなる群 から選択され、R2は炭素数1〜3のアルキル基およびアルキレンオキシ基(− [CH2−C(A)H−O]xH)からなる群から選択されるか、またはR2は R1と共にモルホリノ基を形成してもよく、R3は式−[CH2−C(A)H− O]xHで表わされるアルキレンオキシ基、Rbは炭素数8〜18のアルキル基 、Aは水素、メチルおよびエチルからなる群から選択され、およびxは1〜5の 整数を示す。]で表わされる第4級アンモニウム化合物。
- 2.Rは炭素数8〜18のアルキル基、R1は炭素数1〜3のアルキル基、炭素 数8〜18のアルキル基および−〔CH2−C(A)H−O]xHのアルキレン オキシ基からなる群から選択され、R2は炭素数1〜3のアルキル基および−[ CH2−C(A)H−P]xHからなる群から選択され、R3は−[CH2−C (A)H−O]xHであり、Rbは炭素数10〜13のアルキル基であり、Aは 水素またはメチル基およびxの1〜3の整数である請求項1記載の第4級アンモ ニウム化合物。
- 3.R1が炭素数1〜3のアルキル基および−[CH2−C(A)H一O]xH からなる群から選択される請求項2記載の第4級アンモニウム化合物。
- 4.R1およびR2が各々炭素数1〜2のアルキル基および式−[CH2−C( A)H−O]xHから選択され、R3が式−[CH2−C(A)H−O]xHで あり、Aが水素である請求項2記載の第4級アンモニウム化合物。
- 5.R1およびR2が各々炭素数1〜2のアルキル基であり、R3が式−[CH 2−C(A)H−O]xHであり、Aが水素またはメチルである請求項2記載の 第4級アンモニウム化合物。
- 6.R1、R2およびR3が各々式−[CH2−C(A)H−O]xHであり、 Aが水素である請求項2記載の第4級アンモニウム化合物。
- 7.R1が炭素数1〜2のアルキル基であり、RおよびR3が各々式−[CH2 −C(A)H−O]xHであり、Aが水素である請求項2記載の第4級アンモニ ウム化合物。
- 8.Rがオクチル、R1およびR2が各々メチル、R3が式−[CH2−C(A )H−O]xH、Aが水素またはメチル、xが1〜3の整数およびRbが炭素数 10〜13アルキル基である請求項5記載の化合物。
- 9.Aが水素およびRbがドデシルである請求項8記載の化合物。
- 10.Aがメチルであり、Rbがドデシルである請求項8記載の第4級アンモニ ウム化合物。
- 11.Rがソヤであり、R1およびR2が各々メチルであり、R3が式−[CH 2−C(A)H−O]xHであり、Aが水素、xが1〜3の整数およびRbがド デシルである請求項5記載の第4級アンモニウム化合物。
- 12.Rがオクチルであり、R1がメチルであり、R2およびR3が各々式−[ CH2−C(A)H−O]xHであり(Aが水素、xが1〜3の整数)およびR bが炭素数10〜13のアルキル基である請求項5記載の第4級アンモニウム化 合物。
- 13.Rbがドデシルである請求項12記載の第4級アンモニウム化合物。
- 14.構造式: ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表等があります▼[式中、 Rがオクチル、R1およびR2が各々炭素数1〜2のアルキル基および式−[C H2−C(A)H−O]xHからなる群から選択され、R3が式−[CH2−C (A)H−O]xHであり、Raが炭素数1〜2のアルキル基、Aが水素、メチ ルまたはエチルからなる群から選択されおよびxが1〜3の整数である。]で表 わされる第4級アンモニウム化合物。
- 15.R1およびR2が各々メチルであり、Raがメチルであり、Aが水素であ る請求項14記載の第4級アンモニウム化合物。
- 16.R1がメチルであり、R2およびR3が各々式−[CH2−C(A)H− O]xHであり、Raがメチルであり、Aが水素である請求項14記載の第4級 アンモニウム化合物。
- 17.R1、R2およびR3が各々式−[CH2−C(A)H−O]xHであり 、RaがメチルおよびAが水素である請求項14記載の第4級アンモニウム化合 物。
- 18.構造式: ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表等があります▼[式中、 Rは炭素数2〜22のアルキル基、R1は炭素数1〜22のアルキル基および式 −[CH2−C(A)H−O]xHで表わされるアルキレンオキシ基からなる群 から選択され、R2は炭素数1〜3のアルキル基およびアルキレンオキシ基(− [CH2−C(A)H−O]xH)からなる群から選択されるか、またはR2は R1と共にモルホリノ基を形成してもよく、R3は式−[CH2−C(A)H− O]xHで表わされるアルキレンオキシ基、R′は炭素数1〜18のアルキル基 および炭素数8〜18のアルキルフェニル基からなる群から選択され、Aは水素 、メチルおよびエチルからなる群から選択され、およびxは1〜5の整数を示す 。]で表わされる第4級アンモニウム化合物の帯電防止に有効な量および乾燥状 態でその表面に静電気を蓄積する傾向のある有機物質からなる帯電防止特性を有 する有機物品。
- 19.Rが炭素数8〜18のアルキル基、R1が炭素数1〜3のアルキル基、炭 素数8〜18のアルキル基、または式−[CH2−C(A)H−O]xHであり 、R2が炭素数1〜3のアルキル基および式−[CH2−C(A)H−O]xH からなる群から選択され、Aが水素またはメチルおよびxが1〜3の整数である 請求項18記載の物品。
- 20.物品が合成ポリマーである請求項19記載の物品。
- 21.合成ポリマーがポリオレフィン、スチレン樹脂、ポリエステル、エチレン グリコールーテレフチタル酸ポリマー、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリア セタール、ビニル樹脂、ポリ(フェニレンエーテル)樹脂およびそれらの混合物 からなる群から選択される請求項20記載の物品。
- 22.第4級アンモニウム化合物が約0.5から約20重量%の量で物品中に含 まれる請求項21記載の物品。
- 23.Rがオクチル、R1およびR2が各々炭素数1〜3のアルキルまたは式− [CH2−C(A)H−O]xHであり、R3が式−[CH2−C(A)H−O ]xHであり、R′が炭素数1〜2のアルキル基または炭素数10〜13のアル キルフェニルであり、Aが水素またはメチルおよびxが1〜3の整数である請求 項21記載の有機物品。
- 24.R1およびR2が各々メチルであり、nが1である請求項23記載の有機 物品。
- 25.乾燥状態で表面上に静電気を蓄積する傾向にある物質からなる物品を処理 する方法であって、その表面を構造式:▲数式、化学式、表等があります▼▲数 式、化学式、表等があります▼[式中、Rは炭素数2〜22のアルキル基、R1 は炭素数1〜22のアルキル基および式−[CH2−C(A)H−O]xHで表 わされるアルキレンオキシ基からなる群から選択され、R2は炭素数1〜3のア ルキル基およびアルキレンオキシ基(−[CH2−C(A)H−O]xH)から なる群から選択されるか、またはR2はR1と共にモルホリノ基を形成してもよ く、R3は式−[CH2−C(A)H−O]xHで表わされるアルキレンオキシ 基、R′は炭素数1〜18のアルキル基および炭素数8〜18のアルキルフェニ ル基から成る群から選択され、Aは水素、メチルおよびエチルからなる群から選 択され、およびxは1〜5の整数を示す。]で表わされる第4級アンモニウム化 合物約0.1〜約2重量%を含む仕上げ組成物で処理することを特徴とする物品 の処理方法。
- 26.Rが炭素数8〜18のアルキル基であり、R1が炭素数1〜3のアルキル 基、炭素数8〜18のアルキル基または式−[CH2−C(A)H−O]xHで あり、R2が炭素数1〜3のアルキル基および式−[CH2−C(A)H−O] xHからなる群から選択され、Aが水素またはメチルであり、xが1〜3の整数 である請求項25記載の方法。
- 27.物品がポリオレフィン、スチレン樹脂、ポリエステル、エチレングリコー ルーテレフタル酸ポリマー、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリアセタール、 ビニル樹脂およびポリ(フェニレンエーテル)樹脂およびそれらの混合物からな る群から選択される合成ポリマーである請求項26記載の方法。
- 28.構造式: ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表等があります▼[式中、 Rは炭素数2〜22のアルキル基、R1は炭素数1〜22のアルキル基および式 −[CH2−C(A)H−O]xHで表わされるアルキレンオキシ基からなる群 から選択され、R2は炭素数1〜3のアルキル基およびアルキレンオキシ基(− [CH2−C(A)H−O]xH)からなる群から選択されるか、またはR2は R1と共にモルホリノ基を形成してもよく、R3は式−[CH2−C(A)H− O]xHで表わされるアルキレンオキシ基、R′は炭素数1〜18のアルキル基 および炭素数8〜18のアルキルフェニル基から成る群から選択され、nが1〜 3の数およびxは1〜5の整数を示す。]で表わされる第4級アンモニウム化合 物の帯電特性に効果的な量を内部に配合した合成ポリマーからなる静電特性を有 する合成ポリマー組成物。
- 29.合成ポリマーがポリオレフィン、スチレン樹脂、ポリエステル、エチレン グリコールーテレフタル酸ポリマー、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリアセ タール、ビニル樹脂、ポリ(フェニレンエーテル)樹脂およびそれらの混合物か らなる群から選択される請求項28記載のポリマー組成物。
- 30.第4級アンモニウム化合物が合成ポリマー中に約0.5〜約20重量%の 量で配合される請求項29記載のポリマー組成物。
- 31.Rがオクチルであり、R1およびR2が各々炭素数1〜3のアルキル基ま たは式−[CH2−C(A)H−O]xHであり、R3が式−[CH2−C(A )H−O]xHであり、R′が炭素数1〜2のアルキル基または炭素数10〜1 3のアルキルフェニル基であり、Aが水素またはメチルおよびxが1〜3の整数 である請求項30記載のポリマー組成物。
- 32.R1およびR2が各々メチルであり、Aが水素である請求項31記載のポ リマー組成物。
- 33.構造式: ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表等があります▼[式中、 Rはソヤ、ココイルおよびデシルから選択され、R1およびRは各々炭素数1〜 2のアルキル基および式−[CH2−C(A)H−O]xHで表わされるアルキ レンオキシ基からなる群から選択され、R3は式−[CH2−C(A)H−O] xH、Raは炭素数1〜2のアルキル基、Aは水素、メチルおよびエチルからな る群から選択され、およびxは1〜3の整数を示す。]で表わされる第4級アン モニウム化合物。
- 34.Rがソヤであり、R1およびR2が各々メチルであり、Raがメチルであ り、Aが水素である請求項33記載の第4級アンモニウム化合物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/268,903 US4904825A (en) | 1988-11-08 | 1988-11-08 | Quaternary ammonium antistatic compounds |
| US268,903 | 1988-11-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04502911A true JPH04502911A (ja) | 1992-05-28 |
Family
ID=23025009
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2500313A Pending JPH04502911A (ja) | 1988-11-08 | 1989-10-12 | 第4級アンモニウム帯電防止性化合物 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4904825A (ja) |
| EP (1) | EP0442948A1 (ja) |
| JP (1) | JPH04502911A (ja) |
| KR (1) | KR900701733A (ja) |
| CA (1) | CA2001561A1 (ja) |
| WO (1) | WO1990005129A2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009541539A (ja) * | 2006-06-26 | 2009-11-26 | ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト | 有機化合物 |
| JP2010236150A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Matsumoto Yushi Seiyaku Co Ltd | ポリウレタン系弾性繊維およびその製造方法 |
| JP2011153110A (ja) * | 2010-01-28 | 2011-08-11 | Koei Chem Co Ltd | (2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル)トリアルキルアンモニウム塩 |
| KR20160119705A (ko) * | 2015-04-06 | 2016-10-14 | 카오카부시키가이샤 | 대전 방지제 |
| JP2016534238A (ja) * | 2013-10-10 | 2016-11-04 | アクゾ ノーベル ケミカルズ インターナショナル ベスローテン フエンノートシャップAkzo Nobel Chemicals International B.V. | 布地柔軟剤組成物およびその使用 |
| JP2016196629A (ja) * | 2015-04-06 | 2016-11-24 | 花王株式会社 | 帯電防止剤 |
| JP2017025258A (ja) * | 2015-07-28 | 2017-02-02 | 第一工業製薬株式会社 | 粘着剤用帯電防止剤 |
| JP2022104750A (ja) * | 2020-12-29 | 2022-07-11 | 東邦化学工業株式会社 | ガラス繊維用帯電防止剤及びそれを含有するガラス繊維用集束剤 |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4104618A1 (de) * | 1991-02-15 | 1992-08-20 | Hoechst Ag | Wasserhaltiges konzentrat von mindestens einer alkyl- oder alkenylsubstituierten ammoniumverbindung |
| US5219493A (en) * | 1991-06-12 | 1993-06-15 | Henkel Corporation | Composition and method for enhancing the surface conductivity of thermoplastic surfaces |
| US5468793A (en) * | 1994-07-25 | 1995-11-21 | Wico Corporation | Plastic compositions with antistatic properties |
| US5525261A (en) * | 1994-10-18 | 1996-06-11 | Henkel Corporation | Anti-static composition and method of making the same |
| WO2000035989A2 (en) * | 1998-12-18 | 2000-06-22 | Eastman Chemical Company | Copolyesters with antistatic properties and high clarity |
| US6454983B1 (en) * | 1998-12-18 | 2002-09-24 | Eastman Chemical Company | Single screw extrusion of polymers |
| US6271291B1 (en) | 1998-12-18 | 2001-08-07 | Eastman Chemical Company | Extrudable masterbatch |
| US6521683B1 (en) | 1999-04-26 | 2003-02-18 | Witco Corporation | Antistatic agents and resin compositions incorporated therein |
| US6372829B1 (en) | 1999-10-06 | 2002-04-16 | 3M Innovative Properties Company | Antistatic composition |
| US6900257B2 (en) | 2002-08-06 | 2005-05-31 | General Electric Company | Antistatic agents and polymer compositions derived therefrom |
| US6841598B2 (en) | 2002-08-16 | 2005-01-11 | General Electric Company | Antistatic and antidust agents, compositions thereof, and methods of manufacture |
| JP4893885B2 (ja) * | 2004-04-26 | 2012-03-07 | 東邦化学工業株式会社 | 生分解性樹脂組成物 |
| WO2011002742A1 (en) * | 2009-07-01 | 2011-01-06 | The Procter & Gamble Company | Single screw extruder for dryer bar manufacture |
| MX2018014820A (es) * | 2016-06-01 | 2019-12-19 | S Kang Hack | Revestimiento de plastisol de pvc de termofusión ultra baja y tinta de impresión textil. |
| WO2017210436A1 (en) | 2016-06-01 | 2017-12-07 | Kang Hack S | Ultra low thermo fusion pvc alternative plastisol coating and textile printing ink |
| WO2019129710A1 (en) * | 2017-12-27 | 2019-07-04 | Akzo Nobel Chemicals International B.V. | Process for making a quaternary ammonium compound |
Family Cites Families (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2897170A (en) * | 1954-04-09 | 1959-07-28 | American Cyanamid Co | Antistatic treatment with a quaternary ammonium compound containing a polyetheneoxy grouping and products thereof |
| GB889022A (en) * | 1957-08-22 | 1962-02-07 | Btr Industries Ltd | Improvements in polyvinyl chloride and like compositions |
| US3113956A (en) * | 1960-03-07 | 1963-12-10 | Robinette Res Lab Inc | Low viscosity quaternary ammonium ethosulfate compositions and methods |
| GB902587A (en) * | 1960-03-16 | 1962-08-01 | British Nylon Spinners Ltd | Improvements in or relating to poly-alpha-olefines |
| GB1014539A (en) * | 1963-08-09 | 1965-12-31 | Berk F W & Co Ltd | Polymer compositions |
| US4096332A (en) * | 1966-07-26 | 1978-06-20 | L'oreal | Cationic surface-active agents |
| US3661945A (en) * | 1970-03-27 | 1972-05-09 | Hans S Mannheimer | Reaction products of certain cationic compounds with anionic compounds,compositions containing same and methods for preparing same |
| US3972855A (en) * | 1971-11-19 | 1976-08-03 | Modokemi Aktiebolag | Quaternary ammonium compounds and treatment of plastic and other materials therewith |
| JPS5235399B2 (ja) * | 1973-07-31 | 1977-09-08 | ||
| US3974076A (en) * | 1974-01-11 | 1976-08-10 | The Procter & Gamble Company | Fabric softener |
| US3933779A (en) * | 1974-02-21 | 1976-01-20 | Fine Organics Inc. | Antistatic polymer blend |
| US3914496A (en) * | 1974-03-01 | 1975-10-21 | Basf Ag | Antistatic finishing of surfaces |
| DE2504054B2 (de) * | 1975-01-31 | 1976-11-11 | Henkel & Cie GmbH, 4000 Düsseldorf; Deutsche Gold- und Silber-Scheideanstalt vormals Roessler, 6000 Frankfurt | Antistatika fuer thermoplastische kunststoffe |
| US4259373A (en) * | 1976-07-12 | 1981-03-31 | The Procter & Gamble Company | Fabric treating articles and process |
| US4118525A (en) * | 1977-03-25 | 1978-10-03 | The Procter & Gamble Company | Article and method for fabric softening and static control |
| US4144367A (en) * | 1977-05-09 | 1979-03-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Carpet-treating compositions |
| DE2849065A1 (de) * | 1978-11-11 | 1980-05-22 | Basf Ag | Verwendung von quartaeren ammoniumsalzen als leitsalze |
| US4664721A (en) * | 1981-12-07 | 1987-05-12 | Intercontinental Chemical Corporation | Printing screen cleaning and reclaiming compositions |
| DE3374305D1 (en) * | 1982-07-05 | 1987-12-10 | Basf Ag | Process for the preparation of quaternary ammonium salts |
| US4661270A (en) * | 1983-05-11 | 1987-04-28 | Colgate-Palmolive Company | Concentrated fabric softening composition and methods for making same |
| US4552687A (en) * | 1983-07-08 | 1985-11-12 | Fmc Corporation | Electrically conductive plastics and production of same |
| DE3345806A1 (de) * | 1983-12-17 | 1985-06-27 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Oxalkylierte quaternaere ammonium-verbindungen, verfahren zu deren herstellung und deren verwendung als stroemungsbeschleuniger |
| US4540521A (en) * | 1984-01-16 | 1985-09-10 | National Distillers And Chemical Corporation | Liquid quaternary ammonium antistatic compositions |
| ATE71831T1 (de) * | 1984-11-06 | 1992-02-15 | Kao Corp | Kosmetische zusammensetzung fuer das haar. |
| US4752527A (en) * | 1985-06-25 | 1988-06-21 | Ppg Industries, Inc. | Chemically treated glass fibers for reinforcing polymeric materials processes |
| JP2698573B2 (ja) * | 1985-09-13 | 1998-01-19 | 花王株式会社 | 合成樹脂用帯電防止剤組成物 |
| JPS6466101A (en) * | 1987-09-07 | 1989-03-13 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | Growth regulator for corn |
-
1988
- 1988-11-08 US US07/268,903 patent/US4904825A/en not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-10-12 EP EP89912964A patent/EP0442948A1/en not_active Withdrawn
- 1989-10-12 WO PCT/US1989/004511 patent/WO1990005129A2/en not_active Ceased
- 1989-10-12 KR KR1019900701454A patent/KR900701733A/ko not_active Ceased
- 1989-10-12 JP JP2500313A patent/JPH04502911A/ja active Pending
- 1989-10-26 CA CA002001561A patent/CA2001561A1/en not_active Abandoned
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009541539A (ja) * | 2006-06-26 | 2009-11-26 | ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト | 有機化合物 |
| JP2014058680A (ja) * | 2006-06-26 | 2014-04-03 | Novartis Ag | 有機化合物 |
| JP2010236150A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Matsumoto Yushi Seiyaku Co Ltd | ポリウレタン系弾性繊維およびその製造方法 |
| JP2011153110A (ja) * | 2010-01-28 | 2011-08-11 | Koei Chem Co Ltd | (2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル)トリアルキルアンモニウム塩 |
| JP2016534238A (ja) * | 2013-10-10 | 2016-11-04 | アクゾ ノーベル ケミカルズ インターナショナル ベスローテン フエンノートシャップAkzo Nobel Chemicals International B.V. | 布地柔軟剤組成物およびその使用 |
| KR20160119705A (ko) * | 2015-04-06 | 2016-10-14 | 카오카부시키가이샤 | 대전 방지제 |
| JP2016196629A (ja) * | 2015-04-06 | 2016-11-24 | 花王株式会社 | 帯電防止剤 |
| JP2017025258A (ja) * | 2015-07-28 | 2017-02-02 | 第一工業製薬株式会社 | 粘着剤用帯電防止剤 |
| JP2022104750A (ja) * | 2020-12-29 | 2022-07-11 | 東邦化学工業株式会社 | ガラス繊維用帯電防止剤及びそれを含有するガラス繊維用集束剤 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0442948A1 (en) | 1991-08-28 |
| CA2001561A1 (en) | 1990-05-08 |
| US4904825A (en) | 1990-02-27 |
| WO1990005129A2 (en) | 1990-05-17 |
| KR900701733A (ko) | 1990-12-04 |
| WO1990005129A3 (en) | 1990-08-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH04502911A (ja) | 第4級アンモニウム帯電防止性化合物 | |
| US5187214A (en) | Quaternary ammonium antistatic polymer compositions | |
| US3933779A (en) | Antistatic polymer blend | |
| US3337357A (en) | New ultra-violet light stabilized compositions, processes for preparing same and uses thereof | |
| US3515698A (en) | High molecular weight polymers containing the reaction product of an aliphatic amine and a mono- or dioxirane as antistatic agent | |
| US3206429A (en) | Antistatic polyethylene compositions containing n,n-diethanol oleamide | |
| US3485786A (en) | Antistatic polyolefins | |
| KR101227761B1 (ko) | 4급 암모늄염 화합물을 유효성분으로 포함하는 정전기 방지 및 항균용 표면처리제 및 이를 이용한 고분자 섬유의 정전기 방지방법 | |
| US3224889A (en) | Anti-static high molecular weight compounds | |
| US5053531A (en) | Quaternary ammonium antistatic compounds | |
| US5525261A (en) | Anti-static composition and method of making the same | |
| KR920007556B1 (ko) | 2-알킬 이미다졸린의 톨루엔 설포네이트염 | |
| JP2909735B2 (ja) | 耐熱性に優れる樹脂用帯電防止剤および帯電防止性樹脂組成物 | |
| US3658882A (en) | Novel carbamate antistatic agents | |
| JP2681517B2 (ja) | 帯電防止剤および樹脂組成物 | |
| US3351622A (en) | Polymers and textile materials treated therewith | |
| US4079042A (en) | Copolymers containing carboxy and ester groups, process for their manufacture and their use | |
| US3686368A (en) | Phosphonamide antistatic agents | |
| US3395137A (en) | Process for rendering high molecular weight compounds resistant to electrostatic charge | |
| US4973616A (en) | Toluene sulfonate salts of 2-alkyl imidazolines | |
| US3741966A (en) | Antistatic fiber containing high molecular weight tris(b - hydroxyalkyl)-isocyanurate-alkylene oxide adducts | |
| US2891029A (en) | Polymers of vinylidene monomers destaticized with partially hydroxyalkylated alkylene diamines | |
| US3525780A (en) | Method of manufacturing polymer materials having limited electrostatic chargeability | |
| US2281436A (en) | Stable rubber hydrochloride composition | |
| KR920007618B1 (ko) | 2-알킬 이미다졸린의 톨루엔 설포네이트염 |