JPH0450522B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0450522B2 JPH0450522B2 JP57072848A JP7284882A JPH0450522B2 JP H0450522 B2 JPH0450522 B2 JP H0450522B2 JP 57072848 A JP57072848 A JP 57072848A JP 7284882 A JP7284882 A JP 7284882A JP H0450522 B2 JPH0450522 B2 JP H0450522B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- counter
- count value
- circuit
- trigger signal
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は平板上に形成された線巾の測定方法に
関するものであり、特に、半導体製造プロセスで
使用される目合せ用マスク及び半導体基板（以
下、ウエハースという）上に形成された微小線巾
を測定する方法に関するものである。
関するものであり、特に、半導体製造プロセスで
使用される目合せ用マスク及び半導体基板（以
下、ウエハースという）上に形成された微小線巾
を測定する方法に関するものである。
目合せ用マスクや、ウエハース上に形成された
回路パターンの線巾を測定する場合、回路パター
ンの断面形状に関係なく最初のエツヂから最後の
エツヂ迄の距離を再現性良く測定可能とすること
は必要不可欠の条件である。従来、回路パターン
の線巾を測定するには、第１図に示すように光ス
ポツト１を走査させ、回路パターン２での反射光
１ａの強度変化を検出器３で捕えて微分回路４で
パルス信号を出力し、２つのパルス信号間の距離
を全体の線巾の測定値として測定していた。この
方法は第１図に示すように回路パターン２の板厚
が均一である単純断面形状のものについては十分
に、機能を発揮するが、第２図に示すように回路
パターン２の板厚が不均一である断面形状のもの
では回路パターン２のエツヂ部分でのパルス信号
と、回路パターン途中の板厚が変化する部分での
パルス信号との間の距離ａを回路パターン２の全
体線巾として測定してしまうため、測定したい全
体の線巾（ａ＋ｂ＋ｃ）を測定できないという欠
点があつた。
回路パターンの線巾を測定する場合、回路パター
ンの断面形状に関係なく最初のエツヂから最後の
エツヂ迄の距離を再現性良く測定可能とすること
は必要不可欠の条件である。従来、回路パターン
の線巾を測定するには、第１図に示すように光ス
ポツト１を走査させ、回路パターン２での反射光
１ａの強度変化を検出器３で捕えて微分回路４で
パルス信号を出力し、２つのパルス信号間の距離
を全体の線巾の測定値として測定していた。この
方法は第１図に示すように回路パターン２の板厚
が均一である単純断面形状のものについては十分
に、機能を発揮するが、第２図に示すように回路
パターン２の板厚が不均一である断面形状のもの
では回路パターン２のエツヂ部分でのパルス信号
と、回路パターン途中の板厚が変化する部分での
パルス信号との間の距離ａを回路パターン２の全
体線巾として測定してしまうため、測定したい全
体の線巾（ａ＋ｂ＋ｃ）を測定できないという欠
点があつた。
本発明は前記問題点を解決するもので、本発明
によれば、基体上に被着された被膜をその巾方向
に収束性の高い光スポツトで走査し、基体の表面
や被膜の表面からの光スポツトの反射光の強度の
変化を検出器で検出し、検出器の出力を微分回路
で微分して反射光の強度が変化するたびにパルス
信号を発信し、のパルス信号をトリガー回路に入
力してトリガー信号を出力し、トリガー信号の内
最初のトリガー信号によりカウンターが計数動作
を開始し、その後トリガー信号毎にカウンターの
計数値をサンプリング回路によりサンプリングし
て直前のトリガー信号からの計数値の変化量をメ
モリーに記憶し、一方、被膜の巾よりも長い予め
定められた長さに相当するカウンターの計数値を
走査距離指定手段に設定し、カウンタが出力する
計数値と走査距離指定手段が出力する計数値とを
コンパレータで比較し、カウンターが出力する計
数値と走査距離指定手段が出力する計数値とが一
致したらメモリーに記憶した複数の計数値の変化
量を演算回路で加算して和を求め、この和を被膜
の線巾とする線巾の測定方法を得る。
によれば、基体上に被着された被膜をその巾方向
に収束性の高い光スポツトで走査し、基体の表面
や被膜の表面からの光スポツトの反射光の強度の
変化を検出器で検出し、検出器の出力を微分回路
で微分して反射光の強度が変化するたびにパルス
信号を発信し、のパルス信号をトリガー回路に入
力してトリガー信号を出力し、トリガー信号の内
最初のトリガー信号によりカウンターが計数動作
を開始し、その後トリガー信号毎にカウンターの
計数値をサンプリング回路によりサンプリングし
て直前のトリガー信号からの計数値の変化量をメ
モリーに記憶し、一方、被膜の巾よりも長い予め
定められた長さに相当するカウンターの計数値を
走査距離指定手段に設定し、カウンタが出力する
計数値と走査距離指定手段が出力する計数値とを
コンパレータで比較し、カウンターが出力する計
数値と走査距離指定手段が出力する計数値とが一
致したらメモリーに記憶した複数の計数値の変化
量を演算回路で加算して和を求め、この和を被膜
の線巾とする線巾の測定方法を得る。
以下、本発明の実施例を図面によつて説明す
る。
る。
第２図は本発明の一実施例を示すものであり、
第１図と同一構成については同一符号を付して説
明する。
第１図と同一構成については同一符号を付して説
明する。
第２図において、ミラー１３及びレンズ１２を
介して照射される光スポツト１を矢視Ａ方向に走
査開始する。スポツト１が回路パターン２の最初
のエツヂ２ａに達した時その反射光１ａの強度が
変化し、検出器３の出力が２a′で示すような電流
（又は電圧）特性を示す。検出器３の出力を微分
回路４に入力させて微分して反射光１ａの強度が
変化する部分で２a″で示すようなパルス信号を発
信する。この最初のパルス信号２a″をトリガーと
してトリガー回路５よりカウンター６に入力して
これを駆動させ、以後光スポツト１の最初のエツ
ヂ２ａからの走査距離（移動量）およびパルス信
号間の走査距離ａ，ｂ，ｃ……をカウントさせ
る。一方、デジタルスイツチ８で被測定物として
の測定しようとする回路パターン２の線巾（基本
寸法）＋αを入力させて光スポツト１の走査距離
Ｘ（この実施例の場合、Ｘ≧ａ＋ｂ＋ｃ）を回路
パターン２の線巾寸法に対応させて設定し、コン
パレータ７でデジタルスイツチ８により入力した
値Ｘとカウンター６の値を比較監視し続け、両者
の値が一致したときにスポツト走査を制御させる
ドライバー９にスポツト走査停止信号を送信す
る。また、コンパレータ７が一致信号を発信する
迄の間、検出器３及び微分回路４から得られたパ
ルス信号２a″からパルス信号２d″までの間の距離
ａ，ｂ，ｃをサンプリング回路１０を介してメモ
リーしておき、コンパレータ７の一致信号と同時
に演算回路１１で線巾Σ＝ａ＋ｂ＋ｃの値を演算
して回路パターン２の測定値として表示又はプリ
ントアウトする。尚、本発明に係る測定方法にお
いて、デジタルスイツチ８で予め定められた走査
距離Ｘと、パルス信号間の走査距離ａ，ｂ，ｃと
はＸ≧ａ＋ｂ＋ｃの条件（つまり走査距離Ｘは、
線巾の測定値の最大線巾以上に設定）にあること
が必要不可欠であり、比較測定するのであるから
測定しようとする回路パターンの線巾（基本寸
法）は予じめ判つている必要があり、又、デジタ
ルスイツチ８からの入力寸法値は線巾（基本寸
法）＋αを設定する必要がある。
介して照射される光スポツト１を矢視Ａ方向に走
査開始する。スポツト１が回路パターン２の最初
のエツヂ２ａに達した時その反射光１ａの強度が
変化し、検出器３の出力が２a′で示すような電流
（又は電圧）特性を示す。検出器３の出力を微分
回路４に入力させて微分して反射光１ａの強度が
変化する部分で２a″で示すようなパルス信号を発
信する。この最初のパルス信号２a″をトリガーと
してトリガー回路５よりカウンター６に入力して
これを駆動させ、以後光スポツト１の最初のエツ
ヂ２ａからの走査距離（移動量）およびパルス信
号間の走査距離ａ，ｂ，ｃ……をカウントさせ
る。一方、デジタルスイツチ８で被測定物として
の測定しようとする回路パターン２の線巾（基本
寸法）＋αを入力させて光スポツト１の走査距離
Ｘ（この実施例の場合、Ｘ≧ａ＋ｂ＋ｃ）を回路
パターン２の線巾寸法に対応させて設定し、コン
パレータ７でデジタルスイツチ８により入力した
値Ｘとカウンター６の値を比較監視し続け、両者
の値が一致したときにスポツト走査を制御させる
ドライバー９にスポツト走査停止信号を送信す
る。また、コンパレータ７が一致信号を発信する
迄の間、検出器３及び微分回路４から得られたパ
ルス信号２a″からパルス信号２d″までの間の距離
ａ，ｂ，ｃをサンプリング回路１０を介してメモ
リーしておき、コンパレータ７の一致信号と同時
に演算回路１１で線巾Σ＝ａ＋ｂ＋ｃの値を演算
して回路パターン２の測定値として表示又はプリ
ントアウトする。尚、本発明に係る測定方法にお
いて、デジタルスイツチ８で予め定められた走査
距離Ｘと、パルス信号間の走査距離ａ，ｂ，ｃと
はＸ≧ａ＋ｂ＋ｃの条件（つまり走査距離Ｘは、
線巾の測定値の最大線巾以上に設定）にあること
が必要不可欠であり、比較測定するのであるから
測定しようとする回路パターンの線巾（基本寸
法）は予じめ判つている必要があり、又、デジタ
ルスイツチ８からの入力寸法値は線巾（基本寸
法）＋αを設定する必要がある。
以上の説明から明らかなように本発明による測
定方法によれば被測定物から得られるエツヂ信号
の数に関係なく、最初のエツヂから最後のエツヂ
迄の測定が可能となるので、断面形状が必ずしも
一定でないウエハース上のパターン測定に適用す
れば非常に効果を発揮することが想定できる。
定方法によれば被測定物から得られるエツヂ信号
の数に関係なく、最初のエツヂから最後のエツヂ
迄の測定が可能となるので、断面形状が必ずしも
一定でないウエハース上のパターン測定に適用す
れば非常に効果を発揮することが想定できる。
又、上記説明に於ては、スポツトの走査距離Ｘ
を測定する走査距離指定手段としてデジタルスイ
ツチを用いて説明したが、コンピユータ制御で考
えられるキーボード入力又はカードベースによる
入力手段で行つてもよいことはいうまでもない。
を測定する走査距離指定手段としてデジタルスイ
ツチを用いて説明したが、コンピユータ制御で考
えられるキーボード入力又はカードベースによる
入力手段で行つてもよいことはいうまでもない。
第１図は従来の測定方法の一実施例、第２図は
本発明による測定方法の一実施例である。 １……光スポツト、２……被測定物、（パター
ン）、３……検出器、４……微分回路、５……ト
リガー回路、６……カウンター、７……コンパレ
ータ、８……デジタルスイツチ、９……ドライバ
ー、１０……サンプリング回路、１１……演算回
路、１２……レンズ、１３……ミラー。
本発明による測定方法の一実施例である。 １……光スポツト、２……被測定物、（パター
ン）、３……検出器、４……微分回路、５……ト
リガー回路、６……カウンター、７……コンパレ
ータ、８……デジタルスイツチ、９……ドライバ
ー、１０……サンプリング回路、１１……演算回
路、１２……レンズ、１３……ミラー。
Claims (1)
- １ 基体上に被着された被膜をその巾方向に収束
性の高い光スポツトで走査し、前記基体の表面や
前記被膜の表面からの前記光スポツトの反射光の
強度の変化を検出器で検出し、前記検出器の出力
を微分回路で微分して前記反射光の強度が変化す
るたびにパルス信号を発信し、前記のパルス信号
をトリガー回路に入力してトリガー信号を出力
し、前記トリガー信号の内最初のトリガー信号に
よりカウンターが計数動作を開始し、その後前記
トリガー信号毎に前記カウンターの計数値をサン
プリング回路によりサンプリングして直前のトリ
ガー信号からの計数値の変化量をメモリーに記憶
し、一方、前記被膜の巾よりも長い予め定められ
た長さに相当する前記カウンターの計数値を走査
距離指定手段に設定し、前記カウンタが出力する
計数値と前記走査距離指定手段が出力する計数値
とをコンパレータで比較し、前記カウンターが出
力する計数値と前記走査距離指定手段が出力する
計数値とが一致したら前記光スポツトの走査を停
止すると共に前記メモリーに記憶した複数の前記
計数値の変化量を演算回路で加算して和を求め、
この和を前記被膜の線巾とすることを特徴とする
線巾の測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7284882A JPS58190704A (ja) | 1982-04-30 | 1982-04-30 | 線巾の測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7284882A JPS58190704A (ja) | 1982-04-30 | 1982-04-30 | 線巾の測定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58190704A JPS58190704A (ja) | 1983-11-07 |
| JPH0450522B2 true JPH0450522B2 (ja) | 1992-08-14 |
Family
ID=13501206
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7284882A Granted JPS58190704A (ja) | 1982-04-30 | 1982-04-30 | 線巾の測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58190704A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6061603A (ja) * | 1983-09-16 | 1985-04-09 | Citizen Watch Co Ltd | 微小寸法測定装置 |
| JPS62137504A (ja) * | 1985-12-10 | 1987-06-20 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 部分クラッド材の幅測定装置 |
| JP2746511B2 (ja) * | 1993-03-04 | 1998-05-06 | 信越半導体株式会社 | 単結晶インゴットのオリエンテーションフラット幅測定方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5335569A (en) * | 1976-09-14 | 1978-04-03 | Asahi Glass Co Ltd | Method of measuring outer diameter of transparent substance |
-
1982
- 1982-04-30 JP JP7284882A patent/JPS58190704A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58190704A (ja) | 1983-11-07 |
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