JPH04507009A - 反射性像平面モジュール - Google Patents
反射性像平面モジュールInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
反射性像平面モジュール
肢止公団
本発明は一般に元符号化装置に関し、特にアクティブマトリックス反射型符号化
装置に関するものである。
宜l肢歪
過去20年に亘り、通常の陰極線管(CRT)に有効に匹敵するフラットパネル
ディスプレイを開発し商品化したり、CRTを利用できない製品を開発したりす
る種々の努力が払われてきた。
これらの努力のうち、プラズマディスプレイパネル(FDP)や、エレクトロル
ミネッセントディスプレイ(EL)や、種々の型の液晶ディスプレイ(LCD)
が最も成功したものであり、最も成長し将来性のあるものであること明らかであ
る。ある特定の種類のディスプレイ、すなわちアクティブマトリックスディスプ
レイ(AMLCD)は幾つかの主要な市場区分に向けるのに充分な機能を有して
いることが証明されている。
AMLCDの価格は主として、製造した装置全体に対する使用可能な装置のパー
セントである使用可能装置の歩どまりによって決定される。AMLCDの歩どま
りはその大部分が装置の設計、製造処理の公差及びディスプレイの寸法によって
決定される。一般に、ディスプレイ寸法が大きくなればなる程歩どまりが低くな
り、従って装置の価格が高くなる。
近年の努力は現在のテレビジョン及びコンピュータモニタにとって代わるのに充
分大きな直視型のディスプレイ寸法を得るのに集中されている。1〜3インチ幅
のディスプレイスクリーンを存するポケット型のテレビジョンが採用されている
が、大きさや歩どまりが大きくなれば、より大型のディスプレイを製造する目的
が達成される。対角線が14インチ又はそれ以上のディスプレイを製造する著し
い努力が払われている。幾つかの努力の最終目的はテレビジョン市場に対する壁
掛は寸法の直視型ディスプレイを製造することにある。この目的は、この寸法の
CRT又はその他のいかなる種類の直視型ディスプレイに固有の障害によって極
めて挫折しやすい。
AMLCDに対する努力はガラス又は溶融シリカ基板上に非直線装置のマトリッ
クスを設けたものを利用することに集中されている。非直線装置は各表示画素す
なわち“ピクセル”を個々に制御し優れた最適な機能を達成させる。非直線装置
は一般に、非晶質又は多結晶シリコン薄膜トランジスタ(TPT)であるが、薄
膜ダイオード(TPO)や金属−絶縁体−金属(MIM)装置も採用されている
。
これらのディスプレイに対しては透明基板が必要であると考えられている。その
理由は、大部分の液晶(LC)材料の場合、LCD装置の前面及び後面の双方に
偏光子を必要とする為である。更に、カラーディスプレイに関する通常の状態は
、これらカラーディスプレイを反射型ではなく透過型とする必要があるというこ
とである。その理由は、カラー反射モードでは固有の光損失がある為である。
大型のディスプレイを開発するに当たっては、基板の価格が重要となる。非晶質
シリコンTFT AMLCDは廉価な圧伸成形ガラスを用いている。一方、多結
晶シリコンは耐熱性の極めて高いガラスか又は溶融シリカの基板を必要とする。
これら基板のいずれも8インチ以上の幅では極めて高価である。廉価な非晶質シ
リコンAMLCD基板は、これらのディスプレイにディスプレイ基板への数百の
相互接続を達成する別々のアドレス装置を必要とするという事実により敬遠され
ている。多結晶シリコンAMLCDではアドレス回路を基板上に集積化すること
により相互接続数を極めてわずかな個数に減少させている。
単結晶シリコンウェファを用いた最初の直視型AMLCDは1970年代初年代
型造された。この開発に関する努力は、標準のシリコン結晶ウェファ及びウェフ
ァ製造技術を用いて1980年代初期に継続された。この努力は事実上放棄され
たものと思われる。
その理由は、ディスプレイ寸法が得られるウェファ寸法よりも小さな寸法に制限
され且つウェファは透明でない為である。これらの装置は通常のねじれネマチッ
クLC材料とは異なり動的散乱ゲスト−ホスト又は染色相変化を用いており、こ
の場合必要な拡散反射性のアルミニウム背面を形成するのに高価で面倒な写真食
刻技術を必要とする。これらの装置はアドレス及び駆動回路を集積化することに
より高速で性能が良く安定なディスプレイを提供する。
ホームシアター高精細度テレビジョンや、オーディオビジュアル機器や、高解像
度大面積計算機支援設計(CAD)機構を含む新規な市場が認識された。これら
の市場の各々には極めて大型で、高解像度で、フルカラーでビデオ速度の結像を
必要とする。
これらの市場を再考するに、本出願人は、大面積には前面投写又は背面投写装置
が望ましく、高解像度には集積化した駆動装置が必要であり、投写装置には透明
な基板や又寸法のディスプレイを必要としないということを確かめた。更にこれ
らの市場はすべて実質的に光符号化装置とみなしうるちのを利用している。他の
種類の光符号化装置はウェファ又はプリント回路板マスク装置を含んでいる。
従って、高解像度を存し、集積化装置を有し、通常のウェファ製造技術で製造さ
れるアクティブマトリックス反射型光符号化装置を提供するのが望ましい。
発1廊と4丞
アクティブマトリックス反射型光符号化装置は通常のウェファを利用する。
このアクティブマトリックス反射型光符号化装置は反射性の像平面モジュールを
有する。この反射性の像平面モジュールは光指向及び投写構造と対を成す、ウエ
フ)・に設けられたアクティブマトリックスを有する。光源を反射性の像平面モ
ジュールに向け、この像平面モジュールで、ウェファに設けられたアクティブマ
トリックスがこれから反射される光ビームに情報を与えるか又は符号化する。反
射性の像平面モジュールの光投写構造は見うるように又は結像するために例えば
1つ以上のレンズを介して反射ビームを投写する。
ウェファに設けられたアクティブマトリックスは鏡面反射性の背面と、この上に
形成したLC又は同様な特性の材料とを有し、LC又はこの材料は電子的に変性
してこれから反射される光ビームに情報を与えるか又は符号化する。LC材料は
LC材料が点在されている固体光変調材料とするのが好適である。
反射性像平面モジュールの光指向及び投写構造はプリズム又はミラーを以って構
成し、このプリズム又はミラーが第1表面を通過する光又は光成分を第2表面に
結合された(ウェファに設けられた)アクティブマトリックスに通し、反射光を
第1表面から投写して見うるように又は結像する。
Σ皿辺亙単産翌里
本発明の好適実施例を添付図面を参照して説明し、これら図面において、
図1は従来の光透過型符号化投写装置の概略図、図2A、 2B及び2Cは本発
明の反射性像平面モジュールの第1の実施例の上面図、正面図及び側面図、
図3A、 3B及び3Cは本発明の反射性像平面モジュールの第2の実施例の上
面図、正面図及び側面図、
図4A、 4B及び4Cは図3A〜3Cの反射性像平面モジュールの突部表面の
種々の実施例の側面図、
図5A、 5B及び5Cは本発明の反射性像平面モジュールの他の実施例の上面
図、正面図及び側面図、
図6A、 6B及び6Cは本発明の反射性像平面モジュールの更に他の実施例の
上面図、正面図及び側面図、図7A、 7B及び7Cは本発明の反射性像平面モ
ジュールの更に他の実施例の上面図、正面図及び側面図、図8A、 8B及び8
Cは本発明の反射性像平面モジュールの更に他の実施例の上面図、正面図及び側
面図、図9は本発明の反射性像平面モジュールを用いた投写装置の第1の実施例
の側面図、
図10は本発明の反射性像平面モジュールを用いた投写装置の第2の実施例の側
面図である。
生皿皇災施旦様
光符号化装置の主な一利用例は元符号化投写装置である。しかし、本発明の光符
号化反射性像平面モジュールはこのような投写装置への利用に限定されるもので
はなく、投写装置は例示の目的で説明するものである。図1は従来の光透過型符
号化投写装置10を示す。光源12からの光がレンズ又はレンズ系14により透
過型LCD 16に投射される。ビデオ又はコンピュータ信号源(図示せず)が
ライン18を経てビデオ駆動回路20に結合される。ビデオ駆動回路20はこれ
に供給される信号を処理して所要の駆動信号を発生しライン22を経てLCD
16に供給する。代表的にはこれらの駆動信号は音声信号、赤色ビデオ信号、青
色ビデオ信号、緑色ビデオ信号、垂直同期信号、水平同期信号、リセット及び画
素クロック信号である。これらの駆動信号によりLCD16の画素の光を遮断又
は透過させて所要の情報に応じたLCDの透過光をレンズ又はレンズ系24に供
給し、これによりスクリーン26上に複合カラー画像を投写する。モノクロ投写
装置は3つの青色、緑色及び赤色ビデオ信号ではなく1つのビデオ光成分のみで
同様に動作する。
従来の一つの透過型投写装置はセイコー エプソン社により開発され、それぞれ
青色ビデオ信号用、緑色ビデオ信号用及び赤色ビデオ信号用の3つの別個のLC
Dパネルを使用する。この場合、これら信号をスクリーンへ投写する前にダイク
ロイックミラーにより合成する。これらの透過型投写装置には多数の問題がある
。1つの重要な問題はLC材料により必要とされる構造により生ずる。LCDパ
ネルはねじれネマチック材料のようなLC材料の各側に偏光子を具え、シャッタ
として用いて透過すべきでない光を吸収する。このとき偏光子もLC材料も光を
吸収し熱を発生してLCDパネルを劣化する。更に、2つの偏光子とLC材料を
使用するため、LCDパネルへの入射光の約15%以下しかスクリーンに投写さ
れない。従ってこれらの装置は吸収される光量のために低い明るさを示す。
更に、アモルファスシリコン アクティブ マトリックス装置から成る代表的な
透過型パネルの解像度は単結晶技術を用いて達成されるものほど大きくない。単
結晶装置では画素ドレインパッドを行及び列ラインの上に置くことにより画素密
度を大きくすることができる。アモルファスシリコン装置は画素間に行及び列ラ
インのための空間をあける必要があり、従って歩どまりを大きく減少することな
く画素を高密度に実装することはできない。
上述したように、アモルファスシリコン装置は著しく多数のLCDパネル相互接
続を有する。このことは信頼度を減少し、コストを増大する。これらの装置は更
に大面積装置として設計され、更に歩どまりが減少し、コストが増大する。
多結晶シリコンを用いて相互接続の数を減少させる場合、多結晶シリコントラン
ジスタはリーク電流が大きいためにに他の問題が生ずる。従って、これらのLC
D装置は代表的には各画素に直列接続の2個のトランジスタを用い、これにより
更に信親度が減少し、コストが増大する。
図2A、 2B及び2Cは本発明の反射性像平面モジュール3oの上面図、前面
図及び側面図を示す。電球及び反射器のような光源32を光の発生源とする。そ
の光はレンズ34により平行にされ、レンズ36により集光され反射性像平面モ
ジュール3oに集束される。
反射性像平面モジュール30は第1鏡面壁40を含み、この鏡面壁は光を通して
反射性像平面モジュール3oの後壁44に射突させる孔42を有している。後壁
44にはウェファに設けられたアクティブマトリックス46を取り付けるか、後
壁44をこのアクティブマトリックスで構成する。光はウェファに設けられたア
クティブマトリックス46から反射される際にこのアクティブマトリックスによ
り与えられた又は符号化された情報を有する。ウェファに設けられたアクティブ
マトリックスの一つの特定の例は米国特許出願第07/392859号、rWA
FBRBASI!D ACTIV[! MATRIXJ 。
1989年8月11日出願に記載されている。
ウェファに設けられたアクティブマトリックス46は光を反射する鏡面反射後面
を有するウェファに設けられたアクティブマトリックスである。ウェファに設け
られたアクティブマトリックスはLCD材料又は電気泳動材料のような類似の特
性の材料で覆われる。一つの好適な LCD材料は内部にLC材料を点在させた
固体光変調材料である。このようなLCD材料の例は米国特許第4435067
号及び同第4688900号に記載されている。染色相変化又はゲスト−ホスト
材料のような他の種類のLC材料を用いることもできる。
ウェファに設けられたアクティブマトリックス46からの反射光は壁40の後鏡
面48により反射される。反射光は、レンズ又はレンズ系を固定又はズーム型レ
ンズとしうる投写レンズ50に向けられる。投写装置に用いる場合には、反射光
は見うるようにするためにレンズ50により代表的にスクリーン(図示せず)に
投写される。上述した反射性像平面モジュール30はモノクロ投写装置として用
いることができ、また後述するように組み合わせてフルカラー投写装置のユニッ
トを形成することができる。
マスク又はマスクシステムの一部として用いる場合には、レンズ50は、マスク
像を基板(図示せず)上に集束させるのに用いられる。
反射性像平面モジュール30は一般に、素子40.42.44 (ウェファに設
けたアクティブマトリックス46を含む)及び48より成る光指向及び反射構造
のみを有する。鏡面壁40は後壁44に例えば支柱(図示せず)により固定位置
で装着するのが好ましく、これら2つの壁間の角度は所望通りに選択しうる。し
かし、反射型平面モジュール30は所望に応じ光源32及び他の光指向素子34
、36及び50を含むようにしうる。一般には、素子32.34.36及び50
は反射性像平面モジュール30の最終利用目的により選択される。
本発明の反射性像平面モジュールの第2の実施例を図3A〜3Cに示すと共に全
体を参照番号52で表わしである。本例及び後続の実施における同−又は等価の
素子には上述した反射性像平面モジュール30と同一の参照番号を付しである。
反射性像平面モジュール52は図30に示されているように反射性像平面モジュ
ール30とほぼ同一に機能する0反射性像平面モジュール52はミラー48をプ
リズム56と置き換えたものである。プリズム56はその第1壁面60に形成さ
れた突部58を有する。
突部58は受光表面62を有し、光はこの表面を経て集束される。
前例と同様に、光はウェファに設けられたアクティブマトリックス46に射突し
、これにより反射され、次いで壁60の内面64でレンズ50へ反射される。
突部58及び表面62は反射性像平面モジュール52の別の光学素子を構成する
0図4A〜4Cに示すように、表面62は必要に応じ平面、又は凸面62′、又
は凹面62#にすることができる。表面62の形状は光ビームを広げる、狭める
及び/又は直進させるように選択することができる。この反射性像平面モジュー
ル52は一体のユニットに射出成形するのが好ましい。一般には、プリズム56
及びウェファに設けたアクティブマトリックス46が反射性像平面モジュール5
2を構成する。
本発明の反射性像平面モジュールの第3の実施例を図5A〜5cに示すと共にそ
の全体を参照番号66で表わしである。光ビームを集光集束するレンズ34及び
36は殆どの光を集光するが、このレンズ系はかなり大きなスペースを占める。
本例反射性像平面モジュール66はレンズ34及び36を除去することにより極
めてコンパクトなユニットをもたらす。電球のような光源6日を反射性像平面モ
ジュール66の壁40の孔42内に直接取り付ける。これによりこの反射性像平
面モジュール66は反射性像平面モジュール30と同一に動作し、光はウェファ
に設けられたアクティブマトリックス46から鏡面48へ、次いでレンズ50へ
反射される。これは最もエネルギー効率の良い実施例ではないが、これをカラー
装置に用いる場合には電球68からの光を適切なフィルタに通して赤色、緑色又
は青色成分を発生するようにする。本例でも、光源68及びレンズ50は一般に
反射性像平面モジュール66の一部に含めない。
本発明の反射性像平面モジュールの他の例を図6A〜6cに参照番号70にて総
称して示しである。この反射性像平面モジュール70は前記反射性像平面モジュ
ール30及び60に多少歩み寄るものである。光源72を光学ファイバ光ガイド
又は管74に結合させ、光源の光を開口42を経て反射性像平面モジュール70
内に向け、そこにて光を反射性像平面モジュール30と同様に作用させる。
ガイド74は電球68を用いる場合よりも多量の光を集光するが、電球68を用
いる場合よりも大きなスペースを占める。光ガイド74はレンズ系34.36を
用いる場合よりも融通性に富み、しかも占積空所も少なくて済む。
電球68は図7A〜7Cに明示したように、プリズム形の反射性像平面モジュー
ル52と一緒に用いることができ、図7A〜7Cは参照番号76で総称する本発
明による反射性像平面モジュールの他の例を成すものである。この反射性像平面
モジュール76の作動は反射性像平面モジュール52とほぼ同じであり、光を一
旦反射性像平面モジュール76に通すだけである。
光ガイド74は図8A〜8Cに明示したようにプリズム形の反射性像平面モジュ
ール52と一緒に用いることもでき、図8A〜8Cは参照番号78で総称する本
発明による反射性像平面モジュールのさらに他の例を成すものである。この反射
性像平面モジュール78の作動も反射性像平面モジュール52とほぼ同じであり
、光を一旦反射性像平面モジュール78に通すだけである。
上記反射性像平面モジュールの各々はモノクロ投写装置の一部として利用するこ
とができるか、又は例えば図9に参照番号80にて総称して示す本発明の3レン
ズカラー投写装置における1個の反射性像平面モジュールを形成することができ
る。投写装置80及び他の投写装置は1989年8月11日付出願で「能動マト
リックス反射型投写装置(AN ACTIVE MATRIX REFLECT
IVE PRO−JECTION SYSTEM) Jと題する米国特許出願筒
07/392 、746号明細書に開示されている。この投写装置80は電球と
反射器の如き光源82を具えており、この光源からの光は円柱レンズ又はレンズ
系84の方へと向けられて光ビーム86を形成する。この光ビームは全部で3つ
の色成分赤色、青色及び緑色(以後単にR,B及びGと称する)を含んでいる。
ビーム86をBダイクロツクミラー88に向ける。B光成分90はミラー88か
らB反射性検子面モジュール92へと反射される。B反射性検子面モジュール9
2は上述した反射性像平面モジュール30、52.70及び78のいずれかとす
ることができる。符号化されたB光94はB反射性検子面モジュール92からレ
ンズ96へと反射され、このレンズ96によりスクリーン98へと投射され、こ
のスクリーンにて他の色成分の光と合成されてカラー像を形成する。
G及びR光成分を有する光ビーム86′はミラー88を通過する、この光ビーム
86′はGダイクロイックミラー100に向ける。G光成分102はミラー10
0からG反射性検子面モジュール104へと反射される。符号化されたG光10
6はG反射性検子面モジュール104からレンズ108に反射され、このレンズ
108によりスクリーン98に投映される。
R成分しか含まない光ビーム86″はミラー100を通過する。
このビーム86#をミラー110に向け、そこからR反射性検子面モジュール1
12へと反射させる。符号化されたR光114はR反射性検子面モジュール11
2からレンズ116へと反射され、このレンズ116によりスクリーン9日に投
射される。情報の符号化は反射性像平面モジュール92.104及び112に結
合させた電子式のインタフェース118によって行なう。
図10を参照するに、本発明の単一結像、単一レンズ投写装置120を示す。上
述した種類のいかなるものともしえる光源122は光をマルチカラー反射性像平
面モジュール124に与える。完全に符号化された光ビーム126はカラー反射
性像平面モジュール124から出力されレンズ128によりスクリーン98上に
集束される。この形態では、1つのウェファに設けたアクティブマトリックスを
有する1つのみの反射性像平面モジュールを用いるも、このウェファベースアク
ティブマトリックスはこれと一体のモザイク又は他の種類のカラーフィルタアレ
イを有する。この形態は現在量も望ましいものではない。その理由は、3つのモ
ノクロ反射性像平面モジュールの場合、スクリーン98上の解像度を3倍にし、
熱の吸収を単一の反射性像平面モジュール124よりも著しく少なくする為であ
る。
本発明は上述した例のみに限定されるものでなく、幾多の変更を加え得ること勿
論である。投写装置の光源は、例えばキセノン、金属ハロゲン又は石英−ハロゲ
ン光源の如き任意適当なタイプの光源とすることができる。投写装置を例えば前
面スクリーン投写装置として使用する目的で説明したが、本発明投写装置は背面
スクリーン構造のものとしたり、又光学ファイバ拡大器を利用し、光を光学ファ
イバ束の端部に投射させるようにすることもできる。反射性像平面モジュールは
別々に形成するか、又は一体に接続してフルカラーモジュールとして形成するこ
ともできる。
記1
図4
閉5
閉6
閉7
I!lB
ダ
図ゾ
(!lf0
補正書の写しく翻訳文)提出書(特許法第184条の8)平成4年2月lO日
Claims (29)
- 1.ウェファに設けられたアクティブマトリックスを含む反射結像手段であって 、このアクティブマトリックスに向けられた光から反射光ビームを形成し、この 反射光ビームに情報を与える当該反射結像手段と、 前記の反射光ビームを見うるように投写する投写手段とを具えたことを特徴とす る反射性像平面モジュール。
- 2.請求項1に記載の反射性像平面モジュールにおいて、前記の反射結像手段が 、光を前記のアクティブマトリックスに向けて通す孔があけられているミラーを 有し、このミラーが前記の投写手段の少なくとも一部を構成していることを特徴 とする反射性像平面モジュール。
- 3.請求項2に記載の反射性像平面モジュールにおいて、前記の投写手段が更に 投写レンズ手段を有していることを特徴とする反射性像平面モジュール。
- 4.請求項2に記載の反射性像平面モジュールにおいて、光源からの光を平行に するとともに前記の孔を通る光を集束させるレンズ系を具えていることを特徴と する反射性像平面モジュール。
- 5.請求項2に記載の反射性像平面モジュールにおいて、光を前記の反射結像手 段に向けるために光源を前記の孔内に装着したことを特徴とする反射性像平面モ ジュール。
- 6.請求項2に記載の反射性像平面モジュールにおいて、光を光源から前記の孔 に結合させる光ファイバ光案内手段がもうけられていることを特徴とする反射性 像平面モジュール。
- 7.請求項1に記載の反射性像平面モジュールにおいて、前記の反射結像手段が 、光を直進させる受光突部を有するプリズムを具え、このプリズムが前記の投写 手段の少なくとも一部を構成していることを特徴とする反射性像平面モジュール 。
- 8.請求項7に記載の反射性像平面モジュールおいて、前記のプリズムは前記の 突部がこのプリズムの1つの壁部に型成形されている一片の型成形体とし、前記 のアクティブマトリックスがこのプリズムの他の壁部に装着されていることを特 徴とする反射性像平面モジュール。
- 9.請求項7に記載の反射性像平面モジュールにおいて、前記の投写手段が更に 投写レンズ手段を具えていることを特徴とする反射性像平面モジュール。
- 10.請求項7に記載の反射性像平面モジュールにおいて、光源からの光を平行 にし、前記の突部を通る光を集束させるレンズ系が設けられていることを特徴と する反射性像平面モジュール。
- 11.請求項7に記載の反射性像平面モジュールにおいて、前記の突部上に光源 が装着されていることを特徴とする反射性像平面モジュール。
- 12.請求項7に記載の反射性像平面モジュールにおいて、光を光源から前記の 突部に結合させる光ファイバ光案内手段が設けられていることを特徴とする反射 性像平面モジュール。
- 13.請求項7に記載の反射性像平面モジュールにおいて、前記の突部が光を直 進させる形状の受光面を有していることを特徴とする反射性像平面モジュール。
- 14.請求項1に記載の反射性像平面モジュールにおいて、前記のアクティブマ トリックスが反射カラー光ビームを形成するカラーフィルタアレイを有している ことを特徴とする反射性像平面モジュール。
- 15.請求項1に記載の反射性像平面モジュールにおいて、前記の反射結像手段 が投写システムの一部を成していることを特徴とする反射性像平面モジュール。
- 16.ウェファに設けられたアクティブマトリックスを含む反射結像手段であっ て、このアクティブマトリックスに向けられた光から反射光ビームを形成し、こ の反射光ビームに情報を与える当該反射結像手段と、 前記の反射光ビームを見うるように投写する投写手段とを具え、 前記の反射結像手段が、光を前記のアクティブマトリックスに向けて通す孔があ けられているミラーを有し、このミラーが前記の投写手段の少なくとも一部を構 成していることを特徴とする反射性像平面モジュール。
- 17.請求項16に記載の反射性像平面モジュールにおいて、前記の投写手段が 更に投写レンズ手段を有していることを特徴とする反射性像平面モジュール。
- 18.請求項16に記載の反射性像平面モジュールにおいて、光源からの光を平 行にするとともに前記の孔を通る光を集束させるレンズ系を具えていることを特 徴とする反射性像平面モジュール。
- 19.請求項16に記載の反射性像平面モジュールにおいて、光を前記の反射結 像手段に向けるために光源を前記の孔内に装着したことを特徴とする反射性像平 面モジュール。
- 20.請求項16に記載の反射性像平面モジュールにおいて、光を光源から前記 の孔に結合させる光ファイバ光案内手段がもうけられていることを特徴とする反 射性像平面モジュール。
- 21.請求項16に記載の反射性像平面モジュールにおいて、前記のアクティブ マトリックスが反射カラー光ビームを形成するカラーフィルタアレイを有してい ることを特徴とする反射性像平面モジュール。
- 22.ウェファに設けられたアクティブマトリックスを含む反射結像手段であっ て、このアクティブマトリックスに向けられた光から反射光ビームを形成し、こ の反射光ビームに情報を与える当該反射結像手段と、 前記の反射光ビームを見うるように投写する投写手段とを具え、 前記の反射結像手段が、光を直進させる受光突部を有するプリズムを具え、この プリズムが前記の投写手段の少なくとも一部を構成していることを特徴とする反 射性像平面モジュール。
- 23.請求項22に記載の反射性像平面モジュールおいて、前記のプリズムは前 記の突部がこのプリズムの1つの壁部に型成形されている一片の型成形体とし、 前記のアクティブマトリックスがこのプリズムの他の壁部に装着されていること を特徴とする反射性像平面モジュール。
- 24.請求項22に記載の反射性像平面モジュールにおいて、前記の投写手段が 更に投写レンズ手段を具えていることを特徴とする反射性像平面モジュール。
- 25.請求項22に記載の反射性像平面モジュールにおいて、光源からの光を平 行にし、前記の突部を通る光を集束させるレンズ系が設けられていることを特徴 とする反射性像平面モジュール。
- 26.請求項22に記載の反射性像平面モジュールにおいて、前記の突部上に光 源が装着されていることを特徴とする反射性像平面モジュール。
- 27.請求項22に記載の反射性像平面モジュールにおいて、光を光源から前記 の突部に結合させる光ファイバ光案内手段が設けられていることを特徴とする反 射性像平面モジュール。
- 28.請求項22に記載の反射性像平面モジュールにおいて、前記の突部が光を 直進させる形状の受光面を有していることを特徴とする反射性像平面モジュール 。
- 29.請求項22に記載の反射性像平面モジュールにおいて、前記のアクティブ マトリックスが反射カラー光ビームを形成するカラーフィルタアレイを有してい ることを特徴とする反射性像平面モジュール。
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