JPH0450908B2 - - Google Patents
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- JPH0450908B2 JPH0450908B2 JP58206070A JP20607083A JPH0450908B2 JP H0450908 B2 JPH0450908 B2 JP H0450908B2 JP 58206070 A JP58206070 A JP 58206070A JP 20607083 A JP20607083 A JP 20607083A JP H0450908 B2 JPH0450908 B2 JP H0450908B2
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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- B41C1/02—Engraving; Heads therefor
- B41C1/04—Engraving; Heads therefor using heads controlled by an electric information signal
- B41C1/05—Heat-generating engraving heads, e.g. laser beam, electron beam
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B44B—MACHINES, APPARATUS OR TOOLS FOR ARTISTIC WORK, e.g. FOR SCULPTURING, GUILLOCHING, CARVING, BRANDING, INLAYING
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は特許請求の範囲第１項の謂ゆる上位概
念に記載の版胴の位置正確な事後彫刻方法に関す
る。
念に記載の版胴の位置正確な事後彫刻方法に関す
る。
西独特許第2361903号明細書および西独特許願
公開公報第2513042号明細書には、既に部分的に
彫刻がなされた版胴に、版型の周辺の明確に特定
された個所に事後的に原稿部分を正しく位置整合
するように事後彫刻することが既に記述されてい
る。この種の問題は、例えば雑誌の１ページが公
告部分と記事部分とを有するような雑誌の印刷に
おいて起る。雑誌を出版する相当前に公告部分を
彫刻し印刷して、試し刷を掲載者に掲示して品質
についての諾否を求めることが行なわれている。
この場合、雑誌の仕切りの直前に記事部分が事後
彫刻される。ここで決定的ひ重要なことは、１つ
の色組に属する全べての版胴上に既に行なわれて
いる彫刻に対し正確に位置合せされるように事後
彫刻部を位置決めすることである。
公開公報第2513042号明細書には、既に部分的に
彫刻がなされた版胴に、版型の周辺の明確に特定
された個所に事後的に原稿部分を正しく位置整合
するように事後彫刻することが既に記述されてい
る。この種の問題は、例えば雑誌の１ページが公
告部分と記事部分とを有するような雑誌の印刷に
おいて起る。雑誌を出版する相当前に公告部分を
彫刻し印刷して、試し刷を掲載者に掲示して品質
についての諾否を求めることが行なわれている。
この場合、雑誌の仕切りの直前に記事部分が事後
彫刻される。ここで決定的ひ重要なことは、１つ
の色組に属する全べての版胴上に既に行なわれて
いる彫刻に対し正確に位置合せされるように事後
彫刻部を位置決めすることである。
上に述べた２つの特許明細書には、電気機械的
な彫刻において、走査円筒および彫刻版胴に設け
られた位置固定の基準マーク（このマークは版胴
の円周に１回だけ現われるのでノースパルスある
いは位置合せパルスと称されることが多い）によ
つて、走査円筒と彫刻版胴との間の角度変位を測
定して、彫刻版胴のための駆動モータの電圧によ
り上記角度変位が零になるまで駆動パルスを脱落
したりあるいは付加する。この目的で、版胴に連
結されているラスタ円板が光電的に走査され、該
版胴の各回転毎に１つの円周パルス（位置合せパ
ルスとも称される）が発生される。さらに、ラス
タ円板は複数のパルスを発生し、これらパルス
で、PLL回路により彫刻クロツクが発生され同
期がとられる。
な彫刻において、走査円筒および彫刻版胴に設け
られた位置固定の基準マーク（このマークは版胴
の円周に１回だけ現われるのでノースパルスある
いは位置合せパルスと称されることが多い）によ
つて、走査円筒と彫刻版胴との間の角度変位を測
定して、彫刻版胴のための駆動モータの電圧によ
り上記角度変位が零になるまで駆動パルスを脱落
したりあるいは付加する。この目的で、版胴に連
結されているラスタ円板が光電的に走査され、該
版胴の各回転毎に１つの円周パルス（位置合せパ
ルスとも称される）が発生される。さらに、ラス
タ円板は複数のパルスを発生し、これらパルス
で、PLL回路により彫刻クロツクが発生され同
期がとられる。
しかしながら、版胴もしくは印刷円筒の電子ビ
ーム彫刻では、上記のような操作は不可能であ
る。と言うのは版胴と同期回転する走査円筒が設
けられておらず、彫刻は走査に対してオフライ
ン、言い換えるならばメモリから出発して行なわ
れるからである。したがつて、再整相（一致の再
設定）のための基準として評価することができる
走査円筒に対する角度変位情報を得ることはでき
ない。
ーム彫刻では、上記のような操作は不可能であ
る。と言うのは版胴と同期回転する走査円筒が設
けられておらず、彫刻は走査に対してオフライ
ン、言い換えるならばメモリから出発して行なわ
れるからである。したがつて、再整相（一致の再
設定）のための基準として評価することができる
走査円筒に対する角度変位情報を得ることはでき
ない。
よつて本発明の課題は、走査過程に関係なく、
事後彫刻に際して彫刻過程を彫刻版胴の表面の予
め定められた個所に位置正確に開始することを可
能にする方法を提供することにある。
事後彫刻に際して彫刻過程を彫刻版胴の表面の予
め定められた個所に位置正確に開始することを可
能にする方法を提供することにある。
本発明のこの課題は特許請求の範囲第１項の謂
ゆる特徴部分に記載の構成によつて達成される。
ゆる特徴部分に記載の構成によつて達成される。
特許請求の範囲第２項には本発明による第２の
方法が記載されており、さらに特許請求の範囲第
３項、４項にはそれらの方法を実施するための本
発明による装置が示されている。
方法が記載されており、さらに特許請求の範囲第
３項、４項にはそれらの方法を実施するための本
発明による装置が示されている。
以下、第１図ないし第１６図を参照して本発明
を詳細に説明する。
を詳細に説明する。
第１図は断面図で、版胴（印刷円筒）の電子ビ
ーム彫刻装置を示す。この装置は、駆動装置（図
示せず）により角速度ｗで矢印３で回転せしめら
れる版胴２が収容されている真空容器１から構成
されている。版胴２に指向される電子ビーム束５
が発生される電子ビーム発生装置４（略示するに
留めた）が、気密の容器もしくはハウジング１に
連結されている。
ーム彫刻装置を示す。この装置は、駆動装置（図
示せず）により角速度ｗで矢印３で回転せしめら
れる版胴２が収容されている真空容器１から構成
されている。版胴２に指向される電子ビーム束５
が発生される電子ビーム発生装置４（略示するに
留めた）が、気密の容器もしくはハウジング１に
連結されている。
版胴と彫刻系との間の軸方向の相対運動が、版
胴または彫刻系の軸方向変位によつて実現される
彫刻機械もしくは彫刻盤は実際に知られている。
本発明はこれら２つの駆動形式に有利に適用でき
る。
胴または彫刻系の軸方向変位によつて実現される
彫刻機械もしくは彫刻盤は実際に知られている。
本発明はこれら２つの駆動形式に有利に適用でき
る。
電子ビーム発生装置４の電子光学的構造は図示
を省略し、単に、印刷版表面に電子ビームの集束
する集束コイル６を示すに留めた。
を省略し、単に、印刷版表面に電子ビームの集束
する集束コイル６を示すに留めた。
集束および発散により凹みが形成される。集束
コイル６の制御は、（米国特許第4393295号明細細
書に対応する）ドイツ国特許第2947444号明細書
に記載の仕方で行なわれる。したがつて彫刻制御
に関してはここでは詳細に説明しない。と言うの
は、本発明は、軸方向および円周方向において彫
刻を開始させるパルスの発生に関するものである
からである。このパルスを得るために、電子ビー
ム発生装置は、本来の彫刻動作前に測定駆動に切
換えられる。このことに関しては追つて詳述す
る。印刷版表面から出る２次電子SEおよび反射
電子REは、測定抵抗器RMを介して接地されてい
るリング形状の絞り７に達する。絞り７によつて
発生されるセンサ信号は最大値検出器８に供給さ
れ、該検出器８の出力信号はアナログ−デイジタ
ル変換器もしくはＡ／Ｄ変換器９内でＡ／Ｄ変換
後にステツプモータ制御回路１０に供給される。
さらに整相電子回路１１が設けられており、この
回路１１はマーク検出器１２を介して絞り７に接
続されると共に、他方または版胴２と同期回転す
るラスタ円板２１から位置固定のマーク２２によ
る謂ゆる位置合せパルスもしくはノースパルス
Njpを受ける。さらに整相電子回路１１は、彫刻
制御装置２４のための周波数を発生するタイミン
グ発生段２３に接続されている。整相電子回路
は、ステツプモータ制御回路１０と同様に、中央
制御コンピユータ１３に接続されておつて、その
出力端に整相に要求されるパルスを発生する。
コイル６の制御は、（米国特許第4393295号明細細
書に対応する）ドイツ国特許第2947444号明細書
に記載の仕方で行なわれる。したがつて彫刻制御
に関してはここでは詳細に説明しない。と言うの
は、本発明は、軸方向および円周方向において彫
刻を開始させるパルスの発生に関するものである
からである。このパルスを得るために、電子ビー
ム発生装置は、本来の彫刻動作前に測定駆動に切
換えられる。このことに関しては追つて詳述す
る。印刷版表面から出る２次電子SEおよび反射
電子REは、測定抵抗器RMを介して接地されてい
るリング形状の絞り７に達する。絞り７によつて
発生されるセンサ信号は最大値検出器８に供給さ
れ、該検出器８の出力信号はアナログ−デイジタ
ル変換器もしくはＡ／Ｄ変換器９内でＡ／Ｄ変換
後にステツプモータ制御回路１０に供給される。
さらに整相電子回路１１が設けられており、この
回路１１はマーク検出器１２を介して絞り７に接
続されると共に、他方または版胴２と同期回転す
るラスタ円板２１から位置固定のマーク２２によ
る謂ゆる位置合せパルスもしくはノースパルス
Njpを受ける。さらに整相電子回路１１は、彫刻
制御装置２４のための周波数を発生するタイミン
グ発生段２３に接続されている。整相電子回路
は、ステツプモータ制御回路１０と同様に、中央
制御コンピユータ１３に接続されておつて、その
出力端に整相に要求されるパルスを発生する。
第１ａ図は、原理的には第１図と同じ構成であ
るが個々の回路要素をより詳細に示す図である。
第１図のステツプモータ制御回路１０は、例え
ば、80のプログラム可能な入力／出力導体を有す
るIntel社のｉ SBC 80／24型のコンピユータと
することができるステツプモータ制御コンピユー
タ１０ａとドイツ国ミユンヘン所在のPhytron社
のCD30型とすることができるステツプモータ電
力供給終段１０ｂからなる。ステツプモータ１０
ｃとしては例えばPhytron社のZSH125−200−15
型のステツプモータとすることができる。
るが個々の回路要素をより詳細に示す図である。
第１図のステツプモータ制御回路１０は、例え
ば、80のプログラム可能な入力／出力導体を有す
るIntel社のｉ SBC 80／24型のコンピユータと
することができるステツプモータ制御コンピユー
タ１０ａとドイツ国ミユンヘン所在のPhytron社
のCD30型とすることができるステツプモータ電
力供給終段１０ｂからなる。ステツプモータ１０
ｃとしては例えばPhytron社のZSH125−200−15
型のステツプモータとすることができる。
ステツプモータ電力供給段１０ｂはクロツク導
体φ、順／逆制御導体および状態導体を介してス
テツプモータ制御コンピユータ１０ａに接続され
ている。ステツプモータ制御コンピユータ１０ａ
は、例えば12本の導線から形成することができる
データ導体もしくはケーブル９１および制御導体
９２を介してＡ／Ｄ変換器９に接続されている。
第１図の測定抵抗RMは第１ａ図では電流／電圧
変換器１４として構成されている。なお、この変
換器１４に関しては第１図を参照し追つて詳述す
る。例えばIntel社のｉ SBC 86／12A型の要素
１３ａと例えばIntel社のｉ SBC 519型のプロ
グラマブルな素子１３ｂとから構成される中央制
御コンピユータ１３は、「Intel−Multi−Bus
IEEE796」型のデータ母線１５を介してステツプ
モータ制御コンピユータ１０ａに接続されてい
る。なおこれら個々の要素の回路技術上の詳細に
関しては追つて第８図ないし第１１図を参照し詳
述する。
体φ、順／逆制御導体および状態導体を介してス
テツプモータ制御コンピユータ１０ａに接続され
ている。ステツプモータ制御コンピユータ１０ａ
は、例えば12本の導線から形成することができる
データ導体もしくはケーブル９１および制御導体
９２を介してＡ／Ｄ変換器９に接続されている。
第１図の測定抵抗RMは第１ａ図では電流／電圧
変換器１４として構成されている。なお、この変
換器１４に関しては第１図を参照し追つて詳述す
る。例えばIntel社のｉ SBC 86／12A型の要素
１３ａと例えばIntel社のｉ SBC 519型のプロ
グラマブルな素子１３ｂとから構成される中央制
御コンピユータ１３は、「Intel−Multi−Bus
IEEE796」型のデータ母線１５を介してステツプ
モータ制御コンピユータ１０ａに接続されてい
る。なおこれら個々の要素の回路技術上の詳細に
関しては追つて第８図ないし第１１図を参照し詳
述する。
第２図は例えば彫刻の開始時に版胴上に設けら
れる凹みの軌跡を示す。この凹みの軌跡は、印刷
版もしくは版型の縁部ではなく該版型に並置し
て、または像内容もしくは印刷に支障を来たさな
い版型上の個所に彫刻されている周線上に位置す
ることもできる。彫刻を行なう前に、彫刻されて
いない円筒に、位置合せパルスの前で２、３の凹
みが欠落しているこのような凹みパターンが設け
られる。このようにして、円筒の送り方向および
周辺方向における彫刻開始個所もしくは位置が画
定される。
れる凹みの軌跡を示す。この凹みの軌跡は、印刷
版もしくは版型の縁部ではなく該版型に並置し
て、または像内容もしくは印刷に支障を来たさな
い版型上の個所に彫刻されている周線上に位置す
ることもできる。彫刻を行なう前に、彫刻されて
いない円筒に、位置合せパルスの前で２、３の凹
みが欠落しているこのような凹みパターンが設け
られる。このようにして、円筒の送り方向および
周辺方向における彫刻開始個所もしくは位置が画
定される。
例えば、値段が事後的に印刷される百貨店のカ
タログの製作の場合のように事後彫刻もしくは後
彫刻においては、彫刻機械に版胴を取付けた後
に、ラスタ円板の位置合せパルスNjpおよび彫刻
開始点GSが第３図に略示するように互いに変位
し得る。この場合Njpはラスタ円板の位置合せパ
ルスを表わし、そしてGSは円筒上における彫刻
開始点を表わす。
タログの製作の場合のように事後彫刻もしくは後
彫刻においては、彫刻機械に版胴を取付けた後
に、ラスタ円板の位置合せパルスNjpおよび彫刻
開始点GSが第３図に略示するように互いに変位
し得る。この場合Njpはラスタ円板の位置合せパ
ルスを表わし、そしてGSは円筒上における彫刻
開始点を表わす。
整相に当つては、既に述べたように電子ビーム
を測定ゾンデ（探子）として駆動する。即ち、材
料処理時の強度より減少した強度で電子ビームを
駆動する。この場合のビーム径は凹みの直径と比
較して、整相に際して要求される位置精度（電子
ビームによる凹みの分解能）に必要とされる程度
に減少される。この目的で、例えば、ビームスポ
ツトは5μｍの直径に設定され、エネルギ密度は
104ワット／cm2に設定される。
を測定ゾンデ（探子）として駆動する。即ち、材
料処理時の強度より減少した強度で電子ビームを
駆動する。この場合のビーム径は凹みの直径と比
較して、整相に際して要求される位置精度（電子
ビームによる凹みの分解能）に必要とされる程度
に減少される。この目的で、例えば、ビームスポ
ツトは5μｍの直径に設定され、エネルギ密度は
104ワット／cm2に設定される。
第４図の上部には、電流／電圧変換器１４の出
力信号の変化が示されている。図から明らかなよ
うに、各凹み毎に２つのほぼ同じ最大値を有する
対称性の信号が発生される。この信号の対称性
は、凹みが対称であることならびに測定絞り７が
電子ビーム５を対称的に取り囲んでいると言う事
実から生ずる。したがつて、電子ビームゾンデ
は、凹みがビーム内に入る際およびビームから出
る際に該凹みの壁で同様の信号を発生することに
なる。
力信号の変化が示されている。図から明らかなよ
うに、各凹み毎に２つのほぼ同じ最大値を有する
対称性の信号が発生される。この信号の対称性
は、凹みが対称であることならびに測定絞り７が
電子ビーム５を対称的に取り囲んでいると言う事
実から生ずる。したがつて、電子ビームゾンデ
は、凹みがビーム内に入る際およびビームから出
る際に該凹みの壁で同様の信号を発生することに
なる。
追つて第１２図を参照して述べる比較器を用い
てこの複信号が評価され、それにより第４図に矩
形信号として示してある信号が得られ、この矩形
信号が、後述するように円周方向における整相過
程で評価処理されるのである。
てこの複信号が評価され、それにより第４図に矩
形信号として示してある信号が得られ、この矩形
信号が、後述するように円周方向における整相過
程で評価処理されるのである。
第５ａ図には、１つの凹みを通る３つの走査軌
跡が示されており、第５ｂ図には円筒の軸方向零
位置を求めようとする場合についての３つの走査
軌跡に対応する信号波形が示されている。３つの
軌跡に対して第５ｂ図に示す信号波形１′，２′お
よび３′が得られ、これら信号波形は第１図の最
大値検出器８で評価される。最大信号は曲線２′
から明らかなように、第２番目の軌跡即ち凹みの
中心領域に対応して現れる。軸方向における整相
過程においては、電流−電圧変換器１４の出力の
測定値の最大となる計数器状態が求められる。
跡が示されており、第５ｂ図には円筒の軸方向零
位置を求めようとする場合についての３つの走査
軌跡に対応する信号波形が示されている。３つの
軌跡に対して第５ｂ図に示す信号波形１′，２′お
よび３′が得られ、これら信号波形は第１図の最
大値検出器８で評価される。最大信号は曲線２′
から明らかなように、第２番目の軌跡即ち凹みの
中心領域に対応して現れる。軸方向における整相
過程においては、電流−電圧変換器１４の出力の
測定値の最大となる計数器状態が求められる。
事後彫刻における彫刻位置決めは、この計数器
状態に対して行なわれる。
状態に対して行なわれる。
この過程に関しては、第１２図ないし第１６図
を参照し追つて説明する。
を参照し追つて説明する。
既に第４図と関連して述べたように、絞り７
は、グラビア印刷用の凹みの縁に対応する立上り
縁および立下り縁を有する信号を発生する。第６
図は、位置合せパルスNjp前に間隙もしくはギヤ
ツプを有している凹みの軌跡を示す。整相に際し
ては、第７図に詳細に示すように、ラスタ円板の
基準パルスNjpから上記ギヤツプ後に現われる最
初の凹みによるパルス立上り縁までならびにラス
タ円板の位置合せ（ノース）パルスNjpから測定
信号の立下り縁まで、クロツク発生器によつて発
生されるPLLクロツクの数が計数される。ここ
で立上り縁までのパルス計数をz1とし、立下り縁
までのパルス計数をz2とする。この場合z2はz1よ
りも大きい。整相した（位相が一致した）位置合
せパルスは第７図に示すように、該位置合せパル
スから数ｚ−１／２（z1＋z2）のPLLクロツクを
計数することによつて得られ、しかる後に本来の
整相もしくは位相一致基準パルスNj1が電子回路
によつて発生される。このパルス、したがつてま
た対応の計数状態は記憶されて、円周方向におけ
る事後彫刻のための新しい基準として用いられ
る。個々の回路要素を用いてこのパルスの発生に
関しては第１０ａ図に詳細に示されており、そし
てこの第１０ａ図については第８図ないし第１１
図と関連して後述する。
は、グラビア印刷用の凹みの縁に対応する立上り
縁および立下り縁を有する信号を発生する。第６
図は、位置合せパルスNjp前に間隙もしくはギヤ
ツプを有している凹みの軌跡を示す。整相に際し
ては、第７図に詳細に示すように、ラスタ円板の
基準パルスNjpから上記ギヤツプ後に現われる最
初の凹みによるパルス立上り縁までならびにラス
タ円板の位置合せ（ノース）パルスNjpから測定
信号の立下り縁まで、クロツク発生器によつて発
生されるPLLクロツクの数が計数される。ここ
で立上り縁までのパルス計数をz1とし、立下り縁
までのパルス計数をz2とする。この場合z2はz1よ
りも大きい。整相した（位相が一致した）位置合
せパルスは第７図に示すように、該位置合せパル
スから数ｚ−１／２（z1＋z2）のPLLクロツクを
計数することによつて得られ、しかる後に本来の
整相もしくは位相一致基準パルスNj1が電子回路
によつて発生される。このパルス、したがつてま
た対応の計数状態は記憶されて、円周方向におけ
る事後彫刻のための新しい基準として用いられ
る。個々の回路要素を用いてこのパルスの発生に
関しては第１０ａ図に詳細に示されており、そし
てこの第１０ａ図については第８図ないし第１１
図と関連して後述する。
第８図は第１ａ図に示した電流／電圧変換器１
４を詳細に示す。第１図ならびに第１ａ図に示さ
れている絞り７の測定電流は、第８図に示すよう
に接続されている２つの直列に接続された集積回
路IC1およびIC2に入力される。回路IC1としては、
Analog Devices社の「Type ADLH 32」を用
いるのが好ましくは、そして回路IC2としては同
上社の「Type ADLH 33」とするのが有利であ
る。以下この回路の動作について詳述する。
４を詳細に示す。第１図ならびに第１ａ図に示さ
れている絞り７の測定電流は、第８図に示すよう
に接続されている２つの直列に接続された集積回
路IC1およびIC2に入力される。回路IC1としては、
Analog Devices社の「Type ADLH 32」を用
いるのが好ましくは、そして回路IC2としては同
上社の「Type ADLH 33」とするのが有利であ
る。以下この回路の動作について詳述する。
本来の測定抵抗RMは、IC1およびIC2からなる
直列回路の出力端と入力端と間の帰還結合路に設
けられる。IC1およびIC2は公知の仕方で、非常に
小さい入力インピーダンスを有する電流／電圧変
換器として動作する。これにより、第１図に示し
た測定回路と比較して小さい時定数が得られる。
直列回路の出力端と入力端と間の帰還結合路に設
けられる。IC1およびIC2は公知の仕方で、非常に
小さい入力インピーダンスを有する電流／電圧変
換器として動作する。これにより、第１図に示し
た測定回路と比較して小さい時定数が得られる。
段IC2の出力端には第１図ならびに第１ａ図に
示したマーク検出器１２および最大値検出器８が
接続されており、そして該IC2の出力端には第１
０ａ図に示すような出力電圧U1が発生される。
示したマーク検出器１２および最大値検出器８が
接続されており、そして該IC2の出力端には第１
０ａ図に示すような出力電圧U1が発生される。
第９図には最大値検出器１２の回路が詳細に示
されている。電圧U1は第１の増幅器IC3で増幅さ
れ整流される。この目的で、IC3の帰還結合路に
はダイオードD1およびD2が設けられており、ダ
イオードD1は帰還結合抵抗RK3と直列にそしてダ
イオードD2には帰還抵抗RK3とD1との直列接続を
介して阻止方向に設けられている。整流された電
圧は、市販されている電子回路素子IC4およびIC5
からなる積分保持段の入力端に印加される。積分
結果はＡ／Ｄ変換器IC6に供給される。該変換器
IC6も積分回路として実現することができる。第
９図の回路は、既述のように市販されている素子
から構成することができ、例えば素子IC3として
はAnalog Devices社の「Type ADLH 32」と
し、素子IC4としてはSilonix社の「Type DG
300」とし、素子IC5としてはPMI社の「Type
OP 16」とし、そして素子IC6とし、そして素子
IC6としてはAnalog Devices社の「Type AD
574」を用いることができる。
されている。電圧U1は第１の増幅器IC3で増幅さ
れ整流される。この目的で、IC3の帰還結合路に
はダイオードD1およびD2が設けられており、ダ
イオードD1は帰還結合抵抗RK3と直列にそしてダ
イオードD2には帰還抵抗RK3とD1との直列接続を
介して阻止方向に設けられている。整流された電
圧は、市販されている電子回路素子IC4およびIC5
からなる積分保持段の入力端に印加される。積分
結果はＡ／Ｄ変換器IC6に供給される。該変換器
IC6も積分回路として実現することができる。第
９図の回路は、既述のように市販されている素子
から構成することができ、例えば素子IC3として
はAnalog Devices社の「Type ADLH 32」と
し、素子IC4としてはSilonix社の「Type DG
300」とし、素子IC5としてはPMI社の「Type
OP 16」とし、そして素子IC6とし、そして素子
IC6としてはAnalog Devices社の「Type AD
574」を用いることができる。
積分段IC4に制御出力SL1およびSL2を有してお
り、これらを介して、積分、保持（ホールド）お
よび零リセツト（リセツト）の機能を選択するこ
とができる。これら制御導体は、ステツプモータ
ならびにステツプモータのための制御コンピユー
タ１０ａに接続されている。
り、これらを介して、積分、保持（ホールド）お
よび零リセツト（リセツト）の機能を選択するこ
とができる。これら制御導体は、ステツプモータ
ならびにステツプモータのための制御コンピユー
タ１０ａに接続されている。
積分、保持およびリセツト機能はMOSスイツ
チIC4を用いて選択される。この選択は、下記の
真理値表に対応して行なろれる。
チIC4を用いて選択される。この選択は、下記の
真理値表に対応して行なろれる。
SL1 SL2
積 分 Ｌ Ｈ
保 持 Ｈ Ｌ
リセツト Ｈ Ｈ
第１０図は第１図および第１ａ図に示したマー
ク検出器１２の詳細を示す。第８図に詳細に示さ
れている電流／電圧変換器１４の出力信号は入力
信号U1として整流器段IC7に印加される。この整
流器は第９図の整流器段IC3と同様に構成されて
いる。この段の整流された出力信号U2は比較器
IC8で基準電圧URefと比較されて、デイジタル出
力信号U3が得られる。信号U1，U2，URefおよび
U3は第１０ａ図に示してある。
ク検出器１２の詳細を示す。第８図に詳細に示さ
れている電流／電圧変換器１４の出力信号は入力
信号U1として整流器段IC7に印加される。この整
流器は第９図の整流器段IC3と同様に構成されて
いる。この段の整流された出力信号U2は比較器
IC8で基準電圧URefと比較されて、デイジタル出
力信号U3が得られる。信号U1，U2，URefおよび
U3は第１０ａ図に示してある。
基準軌跡（第２図ならびに第６図）における間
隙もしくはギヤツプ後の第１番目の凹みを検出す
るために、デイジタル出力信号U3は遅延段IC11
に印加される。この遅延段の出力信号は第１０ａ
図にU4で示してある。さらに信号U3はモノフロ
ツプIC9に供給され、該モノフロツプの出力信号
U5（第１０ａ図）は上記ギヤツプに対応する。こ
の信号U5はさらに他のモノフロツプIC10に供給
される。このIC10の時定数は１つの凹み期間に対
応する。この出力信号U6（第１０ａ図）は遅延段
の出力信号U4と共にアンドゲートT1に供給され
る。該ゲートT1の出力端には、基準軌跡におけ
るギヤツプ後の第１番目の凹みに対応する信号
U7（第７図および第１０ａ図の電圧U7参照）が現
われる。この信号U7は時間補償素子T2を介して
モノフロツプIC12に印加されると共にインバータ
T3を介して別のモノフロツプIC13に供給される。
２つのモノフロツプIC12およびIC13は、第７図の
縁Z1およびZ2に属する２つの針様パルスを発生す
る。これらパルスはマーカ１およびマーカ２で表
わされており、そして第１０ａ図にU9およびU11
で示されている。第１０図に示した回路は例えば
市販品として入力可能な要素を用いて構成するこ
とができる。
隙もしくはギヤツプ後の第１番目の凹みを検出す
るために、デイジタル出力信号U3は遅延段IC11
に印加される。この遅延段の出力信号は第１０ａ
図にU4で示してある。さらに信号U3はモノフロ
ツプIC9に供給され、該モノフロツプの出力信号
U5（第１０ａ図）は上記ギヤツプに対応する。こ
の信号U5はさらに他のモノフロツプIC10に供給
される。このIC10の時定数は１つの凹み期間に対
応する。この出力信号U6（第１０ａ図）は遅延段
の出力信号U4と共にアンドゲートT1に供給され
る。該ゲートT1の出力端には、基準軌跡におけ
るギヤツプ後の第１番目の凹みに対応する信号
U7（第７図および第１０ａ図の電圧U7参照）が現
われる。この信号U7は時間補償素子T2を介して
モノフロツプIC12に印加されると共にインバータ
T3を介して別のモノフロツプIC13に供給される。
２つのモノフロツプIC12およびIC13は、第７図の
縁Z1およびZ2に属する２つの針様パルスを発生す
る。これらパルスはマーカ１およびマーカ２で表
わされており、そして第１０ａ図にU9およびU11
で示されている。第１０図に示した回路は例えば
市販品として入力可能な要素を用いて構成するこ
とができる。
IC7 OP 16 PMI社
IC8 LM 311 National Semiconductor社
IC9 74LS 122 Texas Insruments社
IC10 74LS 121 Texas Insruments社
IC11 74LS 31 Texas Insruments社
IC12 74LS 121 Texas Insruments社
IC13 74LS 121 Texas Insruments社
第１１図は、ラスタ円板（第２図または第３
図）の位置合せパルスNjpに対し変位された位置
基準パルスNj1を発生する回路装置を示す。この
目的で、最初に計数器状態Z1およびZ2が求められ
る。この場合、計数器状態Z1はラスタ円板の位置
合せパルスNjpとマーカ１との間のPLLクロツク
数に対応し、他方Z2は位置合せパルスNjpとマー
カ２との間のPLLクロツク数に対応する。
図）の位置合せパルスNjpに対し変位された位置
基準パルスNj1を発生する回路装置を示す。この
目的で、最初に計数器状態Z1およびZ2が求められ
る。この場合、計数器状態Z1はラスタ円板の位置
合せパルスNjpとマーカ１との間のPLLクロツク
数に対応し、他方Z2は位置合せパルスNjpとマー
カ２との間のPLLクロツク数に対応する。
上の目的でロード可能な24ビツト計数器IC18が
設けられ、この計数器は３つの８ビツト−Ｄ−レ
ジスタIC15ないしIC17ならびに３つの８ビツト−
Ｄ−ラツチに接続されている。２ビツトの２進デ
コーダIC22を介して、レジスタIC15ないしIC17は
逐次制御コンピユータ１３ａにより制御導体C1
およびC2を介して選択され、そしてデータ出力
を介してレジスタIC19ないしIC21のデータのロー
ドおよび読出しが行われる。
設けられ、この計数器は３つの８ビツト−Ｄ−レ
ジスタIC15ないしIC17ならびに３つの８ビツト−
Ｄ−ラツチに接続されている。２ビツトの２進デ
コーダIC22を介して、レジスタIC15ないしIC17は
逐次制御コンピユータ１３ａにより制御導体C1
およびC2を介して選択され、そしてデータ出力
を介してレジスタIC19ないしIC21のデータのロー
ドおよび読出しが行われる。
計数器状態Z1およびZ2は、マーカ１および２な
らびに計数器IC18ならびに２つの計数器群IC15な
いしIC19ないしIC21を用いて得られる。計数器状
態Z1は、中央コンピユータ１３ならびにゲート
T7，T8およびT12と接続している制御導体C3を
「Ｌ」にセツトすることにより得られる。
らびに計数器IC18ならびに２つの計数器群IC15な
いしIC19ないしIC21を用いて得られる。計数器状
態Z1は、中央コンピユータ１３ならびにゲート
T7，T8およびT12と接続している制御導体C3を
「Ｌ」にセツトすることにより得られる。
コンピユータ１３ならびにゲートT4およびT5
に接続されている２つの別の制御導体C4および
C5は、マーカ１および２のうちの何れがゲート
T4およびT5を通過すべきかを決定する。
に接続されている２つの別の制御導体C4および
C5は、マーカ１および２のうちの何れがゲート
T4およびT5を通過すべきかを決定する。
マーカ１を選択するためには、制御導体C4は
「Ｌ」にセツトされ、制御導体C5「Ｈ」にセツト
される。各位置合せパルス毎に、レジスタIC15な
いしIC17はゲートT7を介して零にセツトされ、
そして遅延素子T6により決定される遅延時間後
にレジスタIC15ないしIC17の内容は計数器IC18に
転送される。即ちIC18は各位置合せパルス毎に零
にセツトされるのである。
「Ｌ」にセツトされ、制御導体C5「Ｈ」にセツト
される。各位置合せパルス毎に、レジスタIC15な
いしIC17はゲートT7を介して零にセツトされ、
そして遅延素子T6により決定される遅延時間後
にレジスタIC15ないしIC17の内容は計数器IC18に
転送される。即ちIC18は各位置合せパルス毎に零
にセツトされるのである。
ゲートT8を介して計数器IC18は順方向計数
（アプカウウント）に接続され、そしてPLLクロ
ツクにより加算計数を行う。
（アプカウウント）に接続され、そしてPLLクロ
ツクにより加算計数を行う。
マーカ１が現れると、計数器IC18の内容はIC19
ないしIC21に転送され、そしてモノフロツプIC21
によつて決定される遅延時間後に計数器状態Z1と
して中央コンピユータ１３に読込まれる。
ないしIC21に転送され、そしてモノフロツプIC21
によつて決定される遅延時間後に計数器状態Z1と
して中央コンピユータ１３に読込まれる。
同様にして、制御導体C4を「Ｈ」に、そして
制御導体C5を「Ｌ」にセツトすることによりマ
ーカ２で計数器状態Z2が得られる。
制御導体C5を「Ｌ」にセツトすることによりマ
ーカ２で計数器状態Z2が得られる。
計数器状態Z1およびZ2を中央コンピユータ１３
に転送した後に、該コンピユータにおいて平均値
Ｚが算出される。次いで、制御導体C3はコンピ
ユータ１３により「Ｈ」に設定される。この結果
レジスタIC15ないしIC17は最早や各位置合せパル
ス毎に零にセツトされることはなく、書込まれた
値を保持し、各位置合せパルス毎にこの値を計数
器IC18に転送する。さらに、計数器IC18はインバ
ータT8を介して逆方向計数（ダウンカウント）
に接続され、計数器IC18の出力信号（溢れ＝リプ
ルキヤリー出力）がゲートT12を通される。同時
に、平均値Ｚもコンピユータ１３からレジスタ
IC15ないしIC17にロードされる。続く各位置合せ
パルスNjp毎にレジスタIC15ないしIC17の内容は
計数器IC18にロードされ、各PLLクロツクで減算
計数される。計数状態「零」で、１つのPLLク
ロツク長に対し信号「溢れ」が既述の如く出力さ
れる。この過程は各円筒回転毎に繰返される。
に転送した後に、該コンピユータにおいて平均値
Ｚが算出される。次いで、制御導体C3はコンピ
ユータ１３により「Ｈ」に設定される。この結果
レジスタIC15ないしIC17は最早や各位置合せパル
ス毎に零にセツトされることはなく、書込まれた
値を保持し、各位置合せパルス毎にこの値を計数
器IC18に転送する。さらに、計数器IC18はインバ
ータT8を介して逆方向計数（ダウンカウント）
に接続され、計数器IC18の出力信号（溢れ＝リプ
ルキヤリー出力）がゲートT12を通される。同時
に、平均値Ｚもコンピユータ１３からレジスタ
IC15ないしIC17にロードされる。続く各位置合せ
パルスNjp毎にレジスタIC15ないしIC17の内容は
計数器IC18にロードされ、各PLLクロツクで減算
計数される。計数状態「零」で、１つのPLLク
ロツク長に対し信号「溢れ」が既述の如く出力さ
れる。この過程は各円筒回転毎に繰返される。
第１１図に示した回路には、例えば次のような
市販品として入手可能な素子を用いることができ
る。
市販品として入手可能な素子を用いることができ
る。
IC15 74LS273 Texas Insruments社
IC16 74LS273 〃
IC17 74LS273 〃
IC18 6×74669 〃
IC19 74LS373 〃
IC20 74LS373 〃
IC21 74LS373 〃
IC22 74LS155 〃
IC23 74LS121 〃
次に、装置のコンピユータプロセスを説明す
る。既に述べたように、中央制御コンピユータ１
３は「Intel−Multi−Bus IEEE 796」を介して
ステツプモータ制御コンピユータ１０ａに接続さ
れている。この母線の仕様はIntel社の「OE−
Systemsハンドブツク1983」または「No.210941−
001」、頁３−１ないし３−10に記述されており、
この母線は変更無く用いることができるので、こ
こでの説明は省略する。
る。既に述べたように、中央制御コンピユータ１
３は「Intel−Multi−Bus IEEE 796」を介して
ステツプモータ制御コンピユータ１０ａに接続さ
れている。この母線の仕様はIntel社の「OE−
Systemsハンドブツク1983」または「No.210941−
001」、頁３−１ないし３−10に記述されており、
この母線は変更無く用いることができるので、こ
こでの説明は省略する。
中央制御コンピユータ１３は、コンピユータ制
御においてマスターコンピユータとしての働きを
なし、そしてステツプモータコンピユータ１０ａ
はスレイブコンピユータとしての働きをなす。デ
ータは公知のハンドシエイク方式でマスターおよ
びスレイブコンピユレータ間で転送される。モー
タ制御コンピユータ１０ａは中央制御コンピユー
タ１３から命令コードおよびパラメータ例えば
「ステツプモータを目標位置に走転」を伝送され、
この場合「ステツプモータ走転」が命令で、「目
標位置」が関連のパラメータである。
御においてマスターコンピユータとしての働きを
なし、そしてステツプモータコンピユータ１０ａ
はスレイブコンピユータとしての働きをなす。デ
ータは公知のハンドシエイク方式でマスターおよ
びスレイブコンピユレータ間で転送される。モー
タ制御コンピユータ１０ａは中央制御コンピユー
タ１３から命令コードおよびパラメータ例えば
「ステツプモータを目標位置に走転」を伝送され、
この場合「ステツプモータ走転」が命令で、「目
標位置」が関連のパラメータである。
ステツプモータコンピユータ１０ａは命令の実
行後、中央制御コンピユータ１３に「状態メツセ
ージ」例えば「目標位置達成」を送る。
行後、中央制御コンピユータ１３に「状態メツセ
ージ」例えば「目標位置達成」を送る。
第１２図にはフローチヤートの形態で制御コン
ピユータ１３のプログラムルーチンが詳細に示し
てある。このようなコンピユータは、本発明によ
る整相電子系の制御にのみ用いられるばかりでは
なく、他の制御機能、例えば電子ビーム銃あるい
は装置全体の制御にも用いられるものであるの
で、ここで単に、本発明の実施にとつて重要であ
るプログラム部分即ちプログラム部分「ステツプ
モータ制御装置１０ａへの命令」、整相のための
出発位置への起動、「制御モータコンピユータ１
０ａへの命令」、送り方向における整相およびサ
ブプログラム「円周方向における整相」に関して
のみ図解してある。
ピユータ１３のプログラムルーチンが詳細に示し
てある。このようなコンピユータは、本発明によ
る整相電子系の制御にのみ用いられるばかりでは
なく、他の制御機能、例えば電子ビーム銃あるい
は装置全体の制御にも用いられるものであるの
で、ここで単に、本発明の実施にとつて重要であ
るプログラム部分即ちプログラム部分「ステツプ
モータ制御装置１０ａへの命令」、整相のための
出発位置への起動、「制御モータコンピユータ１
０ａへの命令」、送り方向における整相およびサ
ブプログラム「円周方向における整相」に関して
のみ図解してある。
第１３図は別のフローチヤートで、本質的に次
のプログラム部分からなるステツプモータ制御コ
ンピユータ１０ａにおけるプログラム経過を図解
する図である。即ち、 制御コンピユータ１３の指令待ち、 指令の解読、 第１４図ないし第１５図と関連しておつて詳述
する命令実行プログラムへの分岐、 状態報告もしくはメツセージ。
のプログラム部分からなるステツプモータ制御コ
ンピユータ１０ａにおけるプログラム経過を図解
する図である。即ち、 制御コンピユータ１３の指令待ち、 指令の解読、 第１４図ないし第１５図と関連しておつて詳述
する命令実行プログラムへの分岐、 状態報告もしくはメツセージ。
第１４図には、「整相のための出発位置への起
動」プログラムがフローチヤートで示されてお
り、このプログラムにおいては次のようなプロセ
スが含まれる。
動」プログラムがフローチヤートで示されてお
り、このプログラムにおいては次のようなプロセ
スが含まれる。
モータ位置が整相のための出発位置より大きい
かまたは小さいかに関する質問、 モータの順／逆回転命令（第１ａ図の１０ａと
１０ｂ間における順／逆回転導体）、 目標位置に達するまで、ステップモータに導体
φ（第１ａ図）を介してステツプモータクロツク
の供給、および 状態報告。
かまたは小さいかに関する質問、 モータの順／逆回転命令（第１ａ図の１０ａと
１０ｂ間における順／逆回転導体）、 目標位置に達するまで、ステップモータに導体
φ（第１ａ図）を介してステツプモータクロツク
の供給、および 状態報告。
第１５図にはサブプログラム「送り方向におけ
る整相」がフローチヤートとして示されている。
このプログラムの経過に関しては第９図と関連し
てアナログ／デイジタル変換器IC6の読出しまで
既に説明した。なお第１５図の上半分を参照され
たい。
る整相」がフローチヤートとして示されている。
このプログラムの経過に関しては第９図と関連し
てアナログ／デイジタル変換器IC6の読出しまで
既に説明した。なお第１５図の上半分を参照され
たい。
別のプログラム部分は第１５図の下側の部分に
示されており、このプログラム部分に関しては第
５ａ図および第５ｂ図と関連し以下に説明する。
示されており、このプログラム部分に関しては第
５ａ図および第５ｂ図と関連し以下に説明する。
第５ａ図の軌跡、例えば第１番の軌跡が掃引さ
れると、この凹みの軌跡の測定信号が積分的に求
められて、第９図のアナログ／デイジタル交換器
IC6でデイジタル化され、そして、以降「OATA
−Ｎ−１」レジスタと称する計算レジスタに書込
まれる。
れると、この凹みの軌跡の測定信号が積分的に求
められて、第９図のアナログ／デイジタル交換器
IC6でデイジタル化され、そして、以降「OATA
−Ｎ−１」レジスタと称する計算レジスタに書込
まれる。
ステツプモータはモータ制御コンピユータ１０
ａから個別ステツプ、例えば第５ａ図の第２番目
の軌跡を掃引するためのパルスを受ける。この軌
跡の場合には、第１番目の軌跡に対して行われた
のと同じ命令ステツプシーケンスが実行され、対
応の測定値がDATA−Ｎ」と称する別の計算レ
ジスタに格納される。これら２つの格納された測
定値は互いに比較される。「DATA−Ｎ」レジス
タの内容が「DATA−Ｎ−１」レジスタの内容
よりも小さい場合には、データ−Ｎレジスタの内
容がデータ−Ｎ−１レジスタの内容より小さくな
るまで前述の過程が繰返される。この条件が満さ
れると、状態報知即ち送り方向において整相ない
し位置整合がなされたというメツセージが制御コ
ンピユータ１３に送られ、データ−Ｎ−１の内容
は別のレジスタ「彫刻開始位置」に転送される。
ステツプモータのこの計数器状態は次に行われる
彫刻のための軸方向変位のための基準値のスキヤ
ナから得られる信号の最大値の位置に対応する。
ａから個別ステツプ、例えば第５ａ図の第２番目
の軌跡を掃引するためのパルスを受ける。この軌
跡の場合には、第１番目の軌跡に対して行われた
のと同じ命令ステツプシーケンスが実行され、対
応の測定値がDATA−Ｎ」と称する別の計算レ
ジスタに格納される。これら２つの格納された測
定値は互いに比較される。「DATA−Ｎ」レジス
タの内容が「DATA−Ｎ−１」レジスタの内容
よりも小さい場合には、データ−Ｎレジスタの内
容がデータ−Ｎ−１レジスタの内容より小さくな
るまで前述の過程が繰返される。この条件が満さ
れると、状態報知即ち送り方向において整相ない
し位置整合がなされたというメツセージが制御コ
ンピユータ１３に送られ、データ−Ｎ−１の内容
は別のレジスタ「彫刻開始位置」に転送される。
ステツプモータのこの計数器状態は次に行われる
彫刻のための軸方向変位のための基準値のスキヤ
ナから得られる信号の最大値の位置に対応する。
第１６図には、制御コンピユータ１３のサブプ
ログラム「円周方向整相」が示されている。この
プログラム部分については既に第１１図と関連し
て説明した。したがつて第１６図にはさらに明確
を記するために逐次実行される個々のステツプを
示した。
ログラム「円周方向整相」が示されている。この
プログラム部分については既に第１１図と関連し
て説明した。したがつて第１６図にはさらに明確
を記するために逐次実行される個々のステツプを
示した。
本発明は電子ビームを用いての印刷版もしくは
版型の彫刻に限定されるものではない。他の公知
の彫刻方式例えば電気機械的またはレーザ彫刻な
ど彫刻される凹みの形状が本質的に同じである彫
刻にも適用可能である。また測定装置として、第
１図もしくは第１ａ図の実施例と関連して述べた
電子ビームならびにリング状の絞りおよび測定抵
抗を使用することは必ずしも必須要件ではなく、
他の測定装置例えば本質的に第５図に示したよう
な信号変化を有する対応の測定信号が彫刻された
凹みから得られる光学的測定装置を用いることも
可能である。重要なのは、測定軌跡内に最大値を
検出できることまたは１つの凹みの軌跡内のギヤ
ツプ後に第１番目の凹みを検出できることであ
る。このことは、凹みの縁、凹みの中心または両
者を測定することにより実現できる。この目的に
は、例えば、対応の分解能を有する光学的、容量
性または誘導性の無接触センサも同様に適してい
る。
版型の彫刻に限定されるものではない。他の公知
の彫刻方式例えば電気機械的またはレーザ彫刻な
ど彫刻される凹みの形状が本質的に同じである彫
刻にも適用可能である。また測定装置として、第
１図もしくは第１ａ図の実施例と関連して述べた
電子ビームならびにリング状の絞りおよび測定抵
抗を使用することは必ずしも必須要件ではなく、
他の測定装置例えば本質的に第５図に示したよう
な信号変化を有する対応の測定信号が彫刻された
凹みから得られる光学的測定装置を用いることも
可能である。重要なのは、測定軌跡内に最大値を
検出できることまたは１つの凹みの軌跡内のギヤ
ツプ後に第１番目の凹みを検出できることであ
る。このことは、凹みの縁、凹みの中心または両
者を測定することにより実現できる。この目的に
は、例えば、対応の分解能を有する光学的、容量
性または誘導性の無接触センサも同様に適してい
る。
第１図は本発明の方法を実施するための装置の
構成を略示する図、第１ａ図は第１図に示した装
置の構成を詳細に示すブロツクダイアグラム、第
２図は彫刻された凹みの軌跡を示す図、第３図は
整相されていない状態における凹みの軌跡の位置
関係を示す図、第４図はセンサ信号の処理を図解
する図、第５ａ図および第５ｂ図は軸方向におけ
る整相のためのセンサ信号の例を示す図、第６図
は円周方向における整相のためのギヤツプを有す
る凹みの軌跡を示す図、第７図は整相のための
個々のパルスの評価処理を図解するパルス波形
図、第８図は「測定インピーダンス」を実現する
ための回路の１実施例を示す回路図、第９図は最
大値検出器の回路例を示す回路略図、第１０図は
マーカ検出器の回路構成を示す回路図、第１０ａ
図は第１０図の回路の動作を説明するための詳細
なパルス波形図、第１１図は整相された位置合せ
パルスを得るための回路図、第１２図は制御コン
ピユータのプログラム経過を説明するためのフロ
ーチヤートを示す図、第１３図はステツプモータ
用コンピユータのプログラム経過を図解するフロ
ーチヤートを示す図、第１４図は整相に際して出
発位置に起動するためのプログラム経過を図解す
るフローチヤートを示す図、第１５図は「送り方
向における整相」用サブプログラムを図解するフ
ローチヤートを示す図、そして第１６図は「円周
方向整相」用のプログラムを図解するフローチヤ
ートを示す図である。 １……真空容器、２……版胴、４……電子ビー
ム発生装置、５……電子ビーム束、６……集束コ
イル、７……測定絞り、８……最大値検出器、９
……Ａ／Ｄ変換器、１０……ステツプモータ制御
回路、１１……整相電子回路、１２……マーク検
出器、１３……中央制御コンピユータ、１４……
電流／電圧変換器、１５……データ母線、２１…
…ラスタ円板、２２……位置固定マーク、２３…
…タイミング発生段。
構成を略示する図、第１ａ図は第１図に示した装
置の構成を詳細に示すブロツクダイアグラム、第
２図は彫刻された凹みの軌跡を示す図、第３図は
整相されていない状態における凹みの軌跡の位置
関係を示す図、第４図はセンサ信号の処理を図解
する図、第５ａ図および第５ｂ図は軸方向におけ
る整相のためのセンサ信号の例を示す図、第６図
は円周方向における整相のためのギヤツプを有す
る凹みの軌跡を示す図、第７図は整相のための
個々のパルスの評価処理を図解するパルス波形
図、第８図は「測定インピーダンス」を実現する
ための回路の１実施例を示す回路図、第９図は最
大値検出器の回路例を示す回路略図、第１０図は
マーカ検出器の回路構成を示す回路図、第１０ａ
図は第１０図の回路の動作を説明するための詳細
なパルス波形図、第１１図は整相された位置合せ
パルスを得るための回路図、第１２図は制御コン
ピユータのプログラム経過を説明するためのフロ
ーチヤートを示す図、第１３図はステツプモータ
用コンピユータのプログラム経過を図解するフロ
ーチヤートを示す図、第１４図は整相に際して出
発位置に起動するためのプログラム経過を図解す
るフローチヤートを示す図、第１５図は「送り方
向における整相」用サブプログラムを図解するフ
ローチヤートを示す図、そして第１６図は「円周
方向整相」用のプログラムを図解するフローチヤ
ートを示す図である。 １……真空容器、２……版胴、４……電子ビー
ム発生装置、５……電子ビーム束、６……集束コ
イル、７……測定絞り、８……最大値検出器、９
……Ａ／Ｄ変換器、１０……ステツプモータ制御
回路、１１……整相電子回路、１２……マーク検
出器、１３……中央制御コンピユータ、１４……
電流／電圧変換器、１５……データ母線、２１…
…ラスタ円板、２２……位置固定マーク、２３…
…タイミング発生段。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 走査されるマークを用いて版胴を位置正確に
事後彫刻するための方法において、 (a) 彫刻されていない版型の本来の彫刻前に、円
周線上に、直列に配列された凹みの列を彫刻し
て、軸方向送りならびに円周方向における事後
彫刻の出発点のための基準マークとして用い、 (b) 事後彫刻のために版胴を彫刻機械に張架した
後に、該版胴を回転して走査手段を該版胴に対
し軸方向に前記予め彫刻された凹みの軌跡上を
移動して、該走査手段から得られる信号の最大
値を求め、凹み軌跡における最大値の発生場所
を続いて行なわれる彫刻に際し軸方向送りのた
めの基準値として固定保持し、 (c) 円周線上に前もつて彫刻される凹みの列に、
凹みが存在しない少なくとも１つの画定された
間〓を設け、そして (d) 間〓に続く第１番目の凹みを走査手段で認識
して、続いて行なわれる事後彫刻に際し円周方
向における彫刻の開始のための基準位置として
評価することを特徴とする版胴を位置正確に事
後彫刻する方法。 ２ 走査されるマークを用いて版胴を位置正確に
事後彫刻するための方法において、 (a) 彫刻されていない版型の本来の彫刻前に、円
周線上に、直列に配列された凹みの列を彫刻し
て、軸方向送りならびに円周方向における事後
彫刻の出発点のための基準マークとして用い、 (b) 事後彫刻のために版胴を彫刻機械に張架した
後に、該版胴を回転して走査手段を該版胴に対
し軸方向に前記予め彫刻された凹みの軌跡上を
移動して、該走査手段から得られる信号の最大
値を求め、凹み軌跡における最大値の発生場所
を続いて行なわれる彫刻に際し軸方向送りのた
めの基準値として固定保持し、 (c) 円周線上に前もつて彫刻される凹みの列に、
凹みが存在しない少なくとも１つの画定された
間〓を設け、そして (d) 間〓に続く第１番目の凹みを走査手段で認識
して、続いて行なわれる事後彫刻に際し円周方
向における彫刻の開始のための基準位置として
評価し、又、電子ビームを用いて版胴の彫刻を
行なうための装置において、円周線上に設けら
れた凹みの列を走査するために電子ビームを測
定探子として用い、該凹みにより反射される電
子を捕えるために、該電子ビームを取囲み絶縁
して配設された絞りを電子捕捉点の領域に設け
たことを特徴とする版胴を位置正確に事後彫刻
する方法。 ３ 位置固定の基準マークを発生するための装置
を備えた版型彫刻機械を用い版胴を位置正確に事
後彫刻するための装置において、 (1) 版型彫刻機械により発生され１つの間〓を有
するようにして円周線上に凹み軌跡として直列
に配列され凹みを検出するための測定装置と、 (2) 前記測定装置に接続されて、版胴の軸方向に
おける前記凹み軌跡内の凹みの中心位置を求
め、事後彫刻のために軸方向における彫刻装置
の起動を決定するための第１の評価回路と、前
記測定装置および位置固定の基準マークを発生
するための装置に接続されて、該位置固定のマ
ークに対し、前記間〓後に最初に現われる凹み
の円周方向変位を測定し、以て、円周方向にお
ける彫刻の開始点を決定するための第２の評価
回路とを有することを特徴とする版胴を位置正
確に事後彫刻するための装置。 ４ 位置固定の基準マークを発生するための装置
を備えた電子ビーム彫刻機械を用いて版胴を位置
正確に事後彫刻するための装置において、 (1) 版型彫刻機械により発生され１つの間〓を有
するようにして円周線上に凹み軌跡として直列
に配列され凹みを検出するための測定装置と、 (2) 前記測定装置に接続されて、版胴の軸方向に
おける前記凹み軌跡内の凹みの中心位置を求
め、事後彫刻のために軸方向における彫刻装置
の起動を決定するための第１の評価回路と、前
記測定装置および位置固定の基準マークを発生
するための装置に接続されて、該位置固定のマ
ークに対し、前記間〓後に最初に現われる凹み
の円周方向変位を測定し、以て、円周方向にお
ける彫刻の開始点を決定するための第２の評価
回路とを有しており、 (3) 電子ビーム発生器を凹みの軌跡を検出するた
めの測定装置として構成し、該電子ビームを取
囲んで絶縁して配設される絞りを、ビーム衝突
点近傍に設けて測定回路に接続したことを特徴
とする、電子ビーム彫刻機械を用いて版胴を位
置正確に事後彫刻するための装置。 ４ 電子ビーム発生器を凹みの軌跡を検出するた
めの測定装置として構成し、該電子ビームを取囲
んで絶縁して配設される絞りを、ビーム衝突点近
傍に設けて測定回路に接続した特許請求の範囲第
３項記載の電子ビーム彫刻機械を用いて版胴を位
置正確に事後彫刻するための装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19823240654 DE3240654A1 (de) | 1982-11-04 | 1982-11-04 | Verfahren zum ortsgeneuen nachgravieren von druckzylindern |
| DE3240654.1 | 1982-11-04 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5998847A JPS5998847A (ja) | 1984-06-07 |
| JPH0450908B2 true JPH0450908B2 (ja) | 1992-08-17 |
Family
ID=6177237
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58206070A Granted JPS5998847A (ja) | 1982-11-04 | 1983-11-04 | 版胴を位置正確に事後彫刻する方法および装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4546232A (ja) |
| EP (1) | EP0108376B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5998847A (ja) |
| AT (1) | ATE54272T1 (ja) |
| DE (2) | DE3240654A1 (ja) |
| SU (1) | SU1313337A3 (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS616701A (ja) * | 1984-06-21 | 1986-01-13 | Iwatsu Electric Co Ltd | 製版機の瀬御誤差調整方法 |
| DE3718177A1 (de) * | 1987-05-29 | 1988-12-15 | Leybold Ag | Einrichtung fuer elektronenstrahlfokussierung, insbesondere beim elektronenstrahlschweissen |
| DE4102983A1 (de) * | 1990-09-28 | 1992-04-02 | Linotype Ag | Oberflaechenstruktur einer walze sowie verfahren und vorrichtung zur erzeugung der oberflaechenstruktur |
| DE4102984A1 (de) * | 1990-09-28 | 1992-04-02 | Linotype Ag | Oberflaechenstruktur einer walze sowie verfahren und vorrichtung zur erzeugung der oberflaechenstruktur |
| DE4031546A1 (de) * | 1990-10-05 | 1992-04-09 | Hell Rudolf Dr Ing Gmbh | Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer texturwalze |
| DE4031547A1 (de) * | 1990-10-05 | 1992-04-09 | Hell Rudolf Dr Ing Gmbh | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von texturwalzen |
| DE4032918C2 (de) * | 1990-10-17 | 2000-06-29 | Heidelberger Druckmasch Ag | Vorrichtung zur Beaufschlagung eines Materials mit einem Elektronenstrahl |
| DE4038183C2 (de) * | 1990-11-30 | 1994-10-20 | Hell Ag Linotype | Verfahren und Vorrichtung zur Ausrichtung eines Elektronenstrahls relativ zu einem Bezugsobjekt |
| US5459296A (en) * | 1990-12-15 | 1995-10-17 | Sidmar N.V. | Method for the low-maintenance operation of an apparatus for producing a surface structure, and apparatus |
| DE19710005A1 (de) * | 1997-03-12 | 1998-09-17 | Heidelberger Druckmasch Ag | Verfahren und Einrichtung zur Gravur von Druckzylindern |
| DE10012520A1 (de) * | 2000-03-15 | 2001-09-20 | Heidelberger Druckmasch Ag | Verfahren zur Herstellung von Druckzylindern |
| JP5121744B2 (ja) * | 2008-03-07 | 2013-01-16 | 富士フイルム株式会社 | 製版装置及び製版方法 |
| DE102012000650A1 (de) | 2012-01-16 | 2013-07-18 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Verfahren und vorrichtung zum abrastern einer oberfläche eines objekts mit einem teilchenstrahl |
| DE102012010707A1 (de) | 2012-05-30 | 2013-12-05 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Verfahren und vorrichtung zum abrastern einer oberfläche einesobjekts mit einem teilchenstrahl |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3404254A (en) * | 1965-02-26 | 1968-10-01 | Minnesota Mining & Mfg | Method and apparatus for engraving a generally cross-sectionally circular shaped body by a corpuscular beam |
| GB1410344A (en) * | 1972-11-01 | 1975-10-15 | Crosfield Electronics Ltd | Preparation of printing surfaces |
| DE2513042C3 (de) * | 1975-03-25 | 1981-07-30 | Dr.-Ing. Rudolf Hell Gmbh, 2300 Kiel | Verfahren zum ortsgenauen Einstellen des Beginns und Endes der Reproduktion |
| DE2705993C2 (de) * | 1977-02-12 | 1982-11-25 | Dr.-Ing. Rudolf Hell Gmbh, 2300 Kiel | Verfahren zum ortsgenauen Einstellen des Beginns der Abtastung bzw. Aufzeichnung einer Vorlage bei der elektronischen Druckformherstellung |
| US4216378A (en) * | 1978-10-10 | 1980-08-05 | The Mead Corporation | Optical scanner |
| DE2947444C2 (de) * | 1979-11-24 | 1983-12-08 | Dr.-Ing. Rudolf Hell Gmbh, 2300 Kiel | Elektronenstrahl-Gravierverfahren |
| US4621285A (en) * | 1980-12-10 | 1986-11-04 | Jerrold Division, General Instrument Corporation | Protected television signal distribution system |
-
1982
- 1982-11-04 DE DE19823240654 patent/DE3240654A1/de not_active Withdrawn
-
1983
- 1983-11-02 DE DE8383110892T patent/DE3381707D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1983-11-02 AT AT83110892T patent/ATE54272T1/de not_active IP Right Cessation
- 1983-11-02 EP EP83110892A patent/EP0108376B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1983-11-03 US US06/548,519 patent/US4546232A/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-11-03 SU SU833665279A patent/SU1313337A3/ru active
- 1983-11-04 JP JP58206070A patent/JPS5998847A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0108376B1 (de) | 1990-07-04 |
| SU1313337A3 (ru) | 1987-05-23 |
| EP0108376A3 (en) | 1987-04-01 |
| EP0108376A2 (de) | 1984-05-16 |
| US4546232A (en) | 1985-10-08 |
| DE3381707D1 (de) | 1990-08-09 |
| ATE54272T1 (de) | 1990-07-15 |
| JPS5998847A (ja) | 1984-06-07 |
| DE3240654A1 (de) | 1984-05-10 |
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