JPH0451018A - 空間光変調装置 - Google Patents
空間光変調装置Info
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- JPH0451018A JPH0451018A JP15942590A JP15942590A JPH0451018A JP H0451018 A JPH0451018 A JP H0451018A JP 15942590 A JP15942590 A JP 15942590A JP 15942590 A JP15942590 A JP 15942590A JP H0451018 A JPH0451018 A JP H0451018A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
この発明は、インコヒーレント光をコヒーレント光に変
換する電子管であって、コヒーレント並列光情報処理等
に使用される空間光変調装置に関する。
換する電子管であって、コヒーレント並列光情報処理等
に使用される空間光変調装置に関する。
従来の空間光変調器は、その入出力特性を、光学像書込
み時に、結晶表面電位が負電圧になる背面電圧の設定を
行い電気光学結晶の結晶拝命電位時下速度が閾値動作点
により選択されるハードクリップモードと、結晶表面電
圧が負電圧にならないような背面電極にかける電圧(以
下背面電圧という)の設定で且つ、結晶表面電位降下を
ステップ関数状に降下させるノーマルモードの選択によ
り変更してたいた。 従って、従来の空間光変調装置において入出力特性(γ
特性)は、ノーマルモードにおける線型(sin2特性
)及びハードクリップモードにおけるB値の2種類のγ
値しか選択できなかった。 又、前記空間光変調装置において、ハードクリップモー
ドにおける2次電子捕集電極の電圧を、求める入出力特
性に応じて選択する入出力特性可変装置では、2次電子
捕集電極に印加する電圧VCを変化させ、且つこれに従
って電気光学結晶の結晶背面電圧Vbも変化させなけれ
ばならない。 そして、同値動作を得るためにはVcの値を小さくして
いかなければならない。
み時に、結晶表面電位が負電圧になる背面電圧の設定を
行い電気光学結晶の結晶拝命電位時下速度が閾値動作点
により選択されるハードクリップモードと、結晶表面電
圧が負電圧にならないような背面電極にかける電圧(以
下背面電圧という)の設定で且つ、結晶表面電位降下を
ステップ関数状に降下させるノーマルモードの選択によ
り変更してたいた。 従って、従来の空間光変調装置において入出力特性(γ
特性)は、ノーマルモードにおける線型(sin2特性
)及びハードクリップモードにおけるB値の2種類のγ
値しか選択できなかった。 又、前記空間光変調装置において、ハードクリップモー
ドにおける2次電子捕集電極の電圧を、求める入出力特
性に応じて選択する入出力特性可変装置では、2次電子
捕集電極に印加する電圧VCを変化させ、且つこれに従
って電気光学結晶の結晶背面電圧Vbも変化させなけれ
ばならない。 そして、同値動作を得るためにはVcの値を小さくして
いかなければならない。
従来の空間光変調装置では、上記のように2種類のγ値
しか選択できないので、任意のグレースケールで画像処
理をすることができないという問題点があった。 又、ニューラルネットワークのユニットとして、空間光
変調装置を用いようとする場合に、上記のように入出力
特性の選択幅が少いために、ネットワークが安定するま
での収束時間の調整が容易でないという問題点があった
。 又、前記のように、入圧力特性可変装置を備えた場合、
閾値動作を得るためにVcを小さくすることは、空間光
変調管の感度を小さくすることに相当し、動作が不安定
になるという問題点があった。 この発明は上記従来の問題点に鑑みてなされたものであ
って、動作を不安定にすることなくハードリップモード
における入出力特性の任意の選択が可能であり、従って
任意のグレースケールで安定して画像処理ができると共
に、ニューラルネットワークにおいて、その収束時間を
短くすることができるようにした空間光変調装置を提供
することを目的とする。 〔課題を解決するための手段] この発明は、電子像発生手段と電気光学結晶板とを備え
、その間に前記電気光学結晶板への電荷像形成を妨げな
いように2次電子捕集電極がおかれた空間光変調器と、
前記電気光学結晶板の前記2次電子捕集電極に対する書
込み時の結晶背面電極にかける電圧設定に際してロック
アウト領域を用いる閾値モードで、前記電気光学結晶板
の背面電極にかける電圧を、書込み動作時に、ランプ降
下させると共に、そのランプ降下速度を前記空間光変調
器の求める入出力特性に応じて制御する制御装置と、を
有することにより上記目的を達成するものである。
しか選択できないので、任意のグレースケールで画像処
理をすることができないという問題点があった。 又、ニューラルネットワークのユニットとして、空間光
変調装置を用いようとする場合に、上記のように入出力
特性の選択幅が少いために、ネットワークが安定するま
での収束時間の調整が容易でないという問題点があった
。 又、前記のように、入圧力特性可変装置を備えた場合、
閾値動作を得るためにVcを小さくすることは、空間光
変調管の感度を小さくすることに相当し、動作が不安定
になるという問題点があった。 この発明は上記従来の問題点に鑑みてなされたものであ
って、動作を不安定にすることなくハードリップモード
における入出力特性の任意の選択が可能であり、従って
任意のグレースケールで安定して画像処理ができると共
に、ニューラルネットワークにおいて、その収束時間を
短くすることができるようにした空間光変調装置を提供
することを目的とする。 〔課題を解決するための手段] この発明は、電子像発生手段と電気光学結晶板とを備え
、その間に前記電気光学結晶板への電荷像形成を妨げな
いように2次電子捕集電極がおかれた空間光変調器と、
前記電気光学結晶板の前記2次電子捕集電極に対する書
込み時の結晶背面電極にかける電圧設定に際してロック
アウト領域を用いる閾値モードで、前記電気光学結晶板
の背面電極にかける電圧を、書込み動作時に、ランプ降
下させると共に、そのランプ降下速度を前記空間光変調
器の求める入出力特性に応じて制御する制御装置と、を
有することにより上記目的を達成するものである。
この発明においては、空間光変調器における閾値モード
で電気光学結晶板の背面電圧をランプ状に変化させると
共に、空間光変調器の求める入出力特性に応じて書込み
時間を制御するようにようにしたので、動作を不安定に
することなくハードクリップモードにおける入出力特性
を任意に選択することができ、従って、任意のグレース
ケールで画像処理をすることができると共に、ニューラ
ルネットワークに利用した場合に、その系に適した入出
力関数を設定することによって、収束時間を短縮するこ
とができるという優れた効果を有する。
で電気光学結晶板の背面電圧をランプ状に変化させると
共に、空間光変調器の求める入出力特性に応じて書込み
時間を制御するようにようにしたので、動作を不安定に
することなくハードクリップモードにおける入出力特性
を任意に選択することができ、従って、任意のグレース
ケールで画像処理をすることができると共に、ニューラ
ルネットワークに利用した場合に、その系に適した入出
力関数を設定することによって、収束時間を短縮するこ
とができるという優れた効果を有する。
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第1図は本発明による空間光変調器W110の構成と動
作を説明するための図で、1は入力像、2はレンズ、3
は光電陰極、4はマイクロチャンネルプレート、5は2
次電子捕集用メツシュ電極、6は電気光学結晶板、6A
は電荷蓄積機能及び2次電子放出機能を有する表面、7
はハーフミラ−8は偏光方向がランダムでない〈偏光方
向が直線、円、楕円偏光に調整されている)続出し光、
9は検光子、1Aは出力像、IOAは空間光変調器であ
る。 前記第1図に示される空間光変調装置10におけるレン
ズ2と光電陰極3との間には、可変NDフィルター12
が設られると共に、メツシュ電極5の電圧を変え、この
メツシュ電極5の電圧変化に応じて、電気光学結晶板6
の背面電圧Vbを変え、この背面電圧Vbをランプ状に
変化させる電圧供給手段(制御装置)14が設けられて
いる。 電圧供給手段14による背面電圧Vbのランプ時間は、
ランプ時間コントローラー16により、該ランプ時間コ
ントローラー16への所望入カフMに応じて調整される
。 前記可変NDフィルター12は、NDフィルター12A
を、モータ12Bによりギヤ12Cを介して駆動し、こ
の時のモータ12Bの回転角度をモータ回転面コントロ
ーラ12Dにより調整することによって、光N陰極3に
入射する光入力強度を第7図に示されるようにして、入
出力特性曲線を揃える。 図において、空間光変調器10Aの光電陰極3にレンズ
2を介して投影した入力像1は光電子像に変換される。 この光電子像はマイクロチャンネルプレート4で増倍さ
れた後、電気光学結晶板6の表面6Aに電荷パターンを
形成する。その電荷パターンに応じて電気光学結晶板6
を横切る電界が変化し、ポッケルス効果によって電気光
学結晶板6の屈折率が変化する。 前記2次電子捕集用メツシュ電極5には電圧VCが、電
気光学結晶板6の背面には結晶背面電圧Vbがそれぞれ
電圧供給手段14から印加される。 ここで、直線偏光の読出し光8を電気光学結晶板6に一
様に照射すると、表面6Aからの反射光は、電気光学結
晶板6の複屈折性により偏光状態が変化しているので、
検光子9を通過させれば、入力像1の光強度に対応した
光強度をもつ出力像1Aが得られる。 次にこのような空間光変調装置10について、本発明と
関連する主要な機能を説明する。 空間光変調器10Aは電気光学結晶板6の表面6八に正
又は負の電荷分布を選択的に形成することができる。第
2図は電気光学結晶板6の2次電子放出特性を示すグラ
フである。ここで、電気光学結晶板6の表面6Aと反対
側の背面には電極(導電面)が形成されていて、−様に
電圧Vbを加えることができる。 図に示すように表面6Aへ入射する1次電子エネルギー
Eが第1クロスオーバー点E1よりも小さいか、又は第
2クロスオーバー点E2より大きい場合には、1次電子
数が、結晶表面で放出される2次電子数よりも大きいの
で(δく1)、結晶表面6Aは負に帯電する。1次電子
のエネルギーがElとElの間では、2次電子数が1次
電子数よりも多くなるので(δ〉1)、結晶表面6Aは
正に帯電する。 電気光学結晶板6に電荷を蓄積する際に正の電荷で書込
むか負の電荷で書込むかは、第1図に示すメツシュ電位
Vcと結晶背面電圧Vbの電圧を制御することにより実
行される。 書込み、消去の方法は周知であるが、第2図及び第3図
により正電荷像を例にとって説明する。 なお、第1クロスオーバー点E1は電気光学結晶板6の
表面6Aの物性で決まり、2次電子捕集用メツシュ電極
5に印加する電圧Vcは、第2クロスオーバー点E2で
決まる。 結晶背面電圧Vbを第2クロスオーバー点E2に相当す
る電位より高く設定すると、表面6Aにおける結晶表面
電位Vsは、入射する1次電子のエネルギーは82以上
あるので2次電子放出比δく1となり、表面電位がEl
に達するまで負電荷が蓄積される。電位がElに達する
とδ=1となって平衝状態になり、且つ表面6Aの帯電
は零となる。 結晶背面電圧Vbを第1クロスオーバー点E。 と第2クロスオーバー点E2との間でダイナミックレン
ジが十分にとれる電圧E′に設定すると、このとき結晶
表面電位VsもほぼE′ となるから、入射する1次電
子のエネルギーはElとElの間である。従って2次電
子放出比δ〉1となるから正電荷像が形成される。電位
がElに達するとδ−1となって平衡状態になり、且つ
表面6Aの帯電は零となる。放出された2次電子はVs
よりも高い電位Vcにある2次電子捕集電極に捕集され
る。 次に、実時間閾値動作機能(ハードクリップ動作)につ
いて説明する。 空間光変調器10Aは、第2図に示すVc及び結晶背面
電圧の設定条件により、実時間閾値動作を実行させるこ
とができる。メツシュ電極5は結晶表面の近傍に設けら
れており、これを所定の電位に設定すると、結晶表面に
十分な電子が供給されている場合には結晶表面電位Vs
はメツシュ電極5の電位Vcとなり、この電位が第2ク
ロスオーバー点E2どなる。 即ち、結晶表面電位Vsがメツシュ電極5よりも高い(
第2図VbEの場合:消去)と結晶表面から放出される
2次電子が入射電子より少いため結晶表面の電位は下降
し、逆に結晶表面電位Vsがメツシュ電極電位Vcより
も低い〈第2図VbWの場合:書込)と2次電子が入射
電子よりも多くなって結晶表面電位Vsが上り、結局結
晶表面電位VSがメツシュ電極電位Vcに等しくなった
ところで電位は一定となる。つまり、入射光量が十分あ
る場合には、メツシュ電位Vcと、結晶表面電位Vbは
常に同電位となる。 Vcの電圧設定について、VcとVbの相対的電圧は電
気光学結晶板6の厚さに帰因する複屈折性によるもので
あるから(即ちVbw〜VbEの電圧とVcの電圧の相
対関係が電気光学結晶板6の厚さによる)、位相補償管
のようなものを用いて1定電圧を、例えばVc=1.1
(KV>、Vb=1.0〜2.7 (KV)(: I
I値モード) とすると、第3図のように電気光学結晶
6の表面6Aは負電位(−0,6KV)となり電子が到
達しなくなる(ロックアウト状態)。 しかし、電圧供給手段14により、V、をゆっくり下げ
ていくと、入射する光の強度が大きくて多量の電子が供
給される部分では電子が結晶表面に供給され、2次電子
放出が大きくなって負電位とならず、入射する光の強度
が小さくて、供給される電子の量が少ない部分では電位
時下に電子の供給が追いつかず、そのため結晶表面が負
電位となって電子が結晶表面に到達しなくなる。 従って、光電陰極3に入射する光の強度に対応して結晶
表面が負電位となって書込みが行われない部分と、結晶
表面に電子が到達し、表面が負電位とならずに書込みが
行われる部分とができ、その結果、入射する光の強度に
より閾値操作が実行されることになる。 例えば、第4図のように、結晶の背面電圧Vbの降下速
度(→方向)に電気光学結晶板6の表面電圧Vsの動き
く:>)が追従出来るだけの電子が供給され得るところ
だけが書込み状態となる。つまり結晶背面電圧Vbの降
下速度によって書込める入力光強度(それ以上は書ける
、それに満たないものは書けない)が決定できる。 variable7モード(可変γモード)を、ハード
クリップモードにおいてVcの値を変えることによって
得られる。 例えば、単位をKVとして、電圧供給装置14により、 ■Vc=1.I Vb−1,0〜2.7■Vc−0
,6Vb−0,5〜2.2 ■Vc=0.3 Vb=0.2〜1.9■Vc=0
.1 Vb−0〜1.7のように、Vcを変え、同
時にVbをランプ降下させ、且つ、その降下速度を一定
に設定すると第5図のようなγが異なる複数の特性曲線
(γが大きい程傾きが小さい)が得られる。 しかしながら、前述のように、Vcを変えるに従ってV
bをそれに合わせて変化させなければならず、且つ、閾
値動作を得るためにはVcを小さくしていかねばならず
、これが空間光変調器10Aの感度を小さくすることに
相当し、動作が不安定になる。 ここで、例えばVC−1,0、V=0.9〜2゜9(キ
ロボルトK V ) V bのランプ時書込み時間TH
Wを38とすると、第6図に示されるように、その入出
力特性はノーマルモードのγ=2に近い値となる。 同第6図に示されるように、書込み時間Towを長くし
ていくと、その入出力特性はたっていき、閾値動作とな
る。この時のV c 、 V bの設定電圧は固定であ
る。 即ち、上記のように入出力特性は、閾値動作になるほど
左にずれていくので、例えば7図のような入出力特性を
得ようとするときは、第1図における可変NDフィルタ
ー12を動作させて、空間光変調器10Aへの入力光強
度を調整する。又は、マイクロチャンネルプレート4に
加える電圧を調整してもよい。又、これに対応して、ラ
ンプ時間コントローラー16により、所望のγ値に応じ
て、Vbのランプ@間を調整する。 従って、この場合は、Vc及びVbを小さくすることな
く、即ち、動作を不安定にすることなく、ハードクリッ
プモードにおいて入出力特性を任意に変化させることが
できる。 更に詳細に述べると、前述の、Vcコントロールモード
における可変γと比較して、γ=2の値から閾値動作に
向う方向は、書込み時間Towを長くしていく方向であ
り、これは空間光変調器10Aの感度を上げたと同等と
なり、読出し用の光源の光強度はVCコントロールモー
ドより小さくてすむので、系の動作が安定となる。 上記のように、空間光変調装置10の入出力特性γを可
変することにより、ハーフトーンプロセッシングが可能
になる。 即ち、任意のグレースケールでの画像処理、γを変える
画像処理、線形演算における関数変換、及び線形演算、
非線形演算が可能となる。 又、ニュートラルネットワークのユニットとして、空間
光変調装置10を利用できる。 ネットワークの安定に至るまでにユニット(空間光変調
装置)の入出力特性の傾きを変えていき、その系に適し
た入出力関数を設定することによって、収束時間を短く
することができる。
作を説明するための図で、1は入力像、2はレンズ、3
は光電陰極、4はマイクロチャンネルプレート、5は2
次電子捕集用メツシュ電極、6は電気光学結晶板、6A
は電荷蓄積機能及び2次電子放出機能を有する表面、7
はハーフミラ−8は偏光方向がランダムでない〈偏光方
向が直線、円、楕円偏光に調整されている)続出し光、
9は検光子、1Aは出力像、IOAは空間光変調器であ
る。 前記第1図に示される空間光変調装置10におけるレン
ズ2と光電陰極3との間には、可変NDフィルター12
が設られると共に、メツシュ電極5の電圧を変え、この
メツシュ電極5の電圧変化に応じて、電気光学結晶板6
の背面電圧Vbを変え、この背面電圧Vbをランプ状に
変化させる電圧供給手段(制御装置)14が設けられて
いる。 電圧供給手段14による背面電圧Vbのランプ時間は、
ランプ時間コントローラー16により、該ランプ時間コ
ントローラー16への所望入カフMに応じて調整される
。 前記可変NDフィルター12は、NDフィルター12A
を、モータ12Bによりギヤ12Cを介して駆動し、こ
の時のモータ12Bの回転角度をモータ回転面コントロ
ーラ12Dにより調整することによって、光N陰極3に
入射する光入力強度を第7図に示されるようにして、入
出力特性曲線を揃える。 図において、空間光変調器10Aの光電陰極3にレンズ
2を介して投影した入力像1は光電子像に変換される。 この光電子像はマイクロチャンネルプレート4で増倍さ
れた後、電気光学結晶板6の表面6Aに電荷パターンを
形成する。その電荷パターンに応じて電気光学結晶板6
を横切る電界が変化し、ポッケルス効果によって電気光
学結晶板6の屈折率が変化する。 前記2次電子捕集用メツシュ電極5には電圧VCが、電
気光学結晶板6の背面には結晶背面電圧Vbがそれぞれ
電圧供給手段14から印加される。 ここで、直線偏光の読出し光8を電気光学結晶板6に一
様に照射すると、表面6Aからの反射光は、電気光学結
晶板6の複屈折性により偏光状態が変化しているので、
検光子9を通過させれば、入力像1の光強度に対応した
光強度をもつ出力像1Aが得られる。 次にこのような空間光変調装置10について、本発明と
関連する主要な機能を説明する。 空間光変調器10Aは電気光学結晶板6の表面6八に正
又は負の電荷分布を選択的に形成することができる。第
2図は電気光学結晶板6の2次電子放出特性を示すグラ
フである。ここで、電気光学結晶板6の表面6Aと反対
側の背面には電極(導電面)が形成されていて、−様に
電圧Vbを加えることができる。 図に示すように表面6Aへ入射する1次電子エネルギー
Eが第1クロスオーバー点E1よりも小さいか、又は第
2クロスオーバー点E2より大きい場合には、1次電子
数が、結晶表面で放出される2次電子数よりも大きいの
で(δく1)、結晶表面6Aは負に帯電する。1次電子
のエネルギーがElとElの間では、2次電子数が1次
電子数よりも多くなるので(δ〉1)、結晶表面6Aは
正に帯電する。 電気光学結晶板6に電荷を蓄積する際に正の電荷で書込
むか負の電荷で書込むかは、第1図に示すメツシュ電位
Vcと結晶背面電圧Vbの電圧を制御することにより実
行される。 書込み、消去の方法は周知であるが、第2図及び第3図
により正電荷像を例にとって説明する。 なお、第1クロスオーバー点E1は電気光学結晶板6の
表面6Aの物性で決まり、2次電子捕集用メツシュ電極
5に印加する電圧Vcは、第2クロスオーバー点E2で
決まる。 結晶背面電圧Vbを第2クロスオーバー点E2に相当す
る電位より高く設定すると、表面6Aにおける結晶表面
電位Vsは、入射する1次電子のエネルギーは82以上
あるので2次電子放出比δく1となり、表面電位がEl
に達するまで負電荷が蓄積される。電位がElに達する
とδ=1となって平衝状態になり、且つ表面6Aの帯電
は零となる。 結晶背面電圧Vbを第1クロスオーバー点E。 と第2クロスオーバー点E2との間でダイナミックレン
ジが十分にとれる電圧E′に設定すると、このとき結晶
表面電位VsもほぼE′ となるから、入射する1次電
子のエネルギーはElとElの間である。従って2次電
子放出比δ〉1となるから正電荷像が形成される。電位
がElに達するとδ−1となって平衡状態になり、且つ
表面6Aの帯電は零となる。放出された2次電子はVs
よりも高い電位Vcにある2次電子捕集電極に捕集され
る。 次に、実時間閾値動作機能(ハードクリップ動作)につ
いて説明する。 空間光変調器10Aは、第2図に示すVc及び結晶背面
電圧の設定条件により、実時間閾値動作を実行させるこ
とができる。メツシュ電極5は結晶表面の近傍に設けら
れており、これを所定の電位に設定すると、結晶表面に
十分な電子が供給されている場合には結晶表面電位Vs
はメツシュ電極5の電位Vcとなり、この電位が第2ク
ロスオーバー点E2どなる。 即ち、結晶表面電位Vsがメツシュ電極5よりも高い(
第2図VbEの場合:消去)と結晶表面から放出される
2次電子が入射電子より少いため結晶表面の電位は下降
し、逆に結晶表面電位Vsがメツシュ電極電位Vcより
も低い〈第2図VbWの場合:書込)と2次電子が入射
電子よりも多くなって結晶表面電位Vsが上り、結局結
晶表面電位VSがメツシュ電極電位Vcに等しくなった
ところで電位は一定となる。つまり、入射光量が十分あ
る場合には、メツシュ電位Vcと、結晶表面電位Vbは
常に同電位となる。 Vcの電圧設定について、VcとVbの相対的電圧は電
気光学結晶板6の厚さに帰因する複屈折性によるもので
あるから(即ちVbw〜VbEの電圧とVcの電圧の相
対関係が電気光学結晶板6の厚さによる)、位相補償管
のようなものを用いて1定電圧を、例えばVc=1.1
(KV>、Vb=1.0〜2.7 (KV)(: I
I値モード) とすると、第3図のように電気光学結晶
6の表面6Aは負電位(−0,6KV)となり電子が到
達しなくなる(ロックアウト状態)。 しかし、電圧供給手段14により、V、をゆっくり下げ
ていくと、入射する光の強度が大きくて多量の電子が供
給される部分では電子が結晶表面に供給され、2次電子
放出が大きくなって負電位とならず、入射する光の強度
が小さくて、供給される電子の量が少ない部分では電位
時下に電子の供給が追いつかず、そのため結晶表面が負
電位となって電子が結晶表面に到達しなくなる。 従って、光電陰極3に入射する光の強度に対応して結晶
表面が負電位となって書込みが行われない部分と、結晶
表面に電子が到達し、表面が負電位とならずに書込みが
行われる部分とができ、その結果、入射する光の強度に
より閾値操作が実行されることになる。 例えば、第4図のように、結晶の背面電圧Vbの降下速
度(→方向)に電気光学結晶板6の表面電圧Vsの動き
く:>)が追従出来るだけの電子が供給され得るところ
だけが書込み状態となる。つまり結晶背面電圧Vbの降
下速度によって書込める入力光強度(それ以上は書ける
、それに満たないものは書けない)が決定できる。 variable7モード(可変γモード)を、ハード
クリップモードにおいてVcの値を変えることによって
得られる。 例えば、単位をKVとして、電圧供給装置14により、 ■Vc=1.I Vb−1,0〜2.7■Vc−0
,6Vb−0,5〜2.2 ■Vc=0.3 Vb=0.2〜1.9■Vc=0
.1 Vb−0〜1.7のように、Vcを変え、同
時にVbをランプ降下させ、且つ、その降下速度を一定
に設定すると第5図のようなγが異なる複数の特性曲線
(γが大きい程傾きが小さい)が得られる。 しかしながら、前述のように、Vcを変えるに従ってV
bをそれに合わせて変化させなければならず、且つ、閾
値動作を得るためにはVcを小さくしていかねばならず
、これが空間光変調器10Aの感度を小さくすることに
相当し、動作が不安定になる。 ここで、例えばVC−1,0、V=0.9〜2゜9(キ
ロボルトK V ) V bのランプ時書込み時間TH
Wを38とすると、第6図に示されるように、その入出
力特性はノーマルモードのγ=2に近い値となる。 同第6図に示されるように、書込み時間Towを長くし
ていくと、その入出力特性はたっていき、閾値動作とな
る。この時のV c 、 V bの設定電圧は固定であ
る。 即ち、上記のように入出力特性は、閾値動作になるほど
左にずれていくので、例えば7図のような入出力特性を
得ようとするときは、第1図における可変NDフィルタ
ー12を動作させて、空間光変調器10Aへの入力光強
度を調整する。又は、マイクロチャンネルプレート4に
加える電圧を調整してもよい。又、これに対応して、ラ
ンプ時間コントローラー16により、所望のγ値に応じ
て、Vbのランプ@間を調整する。 従って、この場合は、Vc及びVbを小さくすることな
く、即ち、動作を不安定にすることなく、ハードクリッ
プモードにおいて入出力特性を任意に変化させることが
できる。 更に詳細に述べると、前述の、Vcコントロールモード
における可変γと比較して、γ=2の値から閾値動作に
向う方向は、書込み時間Towを長くしていく方向であ
り、これは空間光変調器10Aの感度を上げたと同等と
なり、読出し用の光源の光強度はVCコントロールモー
ドより小さくてすむので、系の動作が安定となる。 上記のように、空間光変調装置10の入出力特性γを可
変することにより、ハーフトーンプロセッシングが可能
になる。 即ち、任意のグレースケールでの画像処理、γを変える
画像処理、線形演算における関数変換、及び線形演算、
非線形演算が可能となる。 又、ニュートラルネットワークのユニットとして、空間
光変調装置10を利用できる。 ネットワークの安定に至るまでにユニット(空間光変調
装置)の入出力特性の傾きを変えていき、その系に適し
た入出力関数を設定することによって、収束時間を短く
することができる。
第1図は、本発明に係る空間光度Wj!装置の実施例を
示す略示断面図、第2図は、空間光変調装置における電
気光学結晶板の表面へ入射する1次電子エネルギーEと
、2次電子放出比との関係を示す線図、第3図は、空間
光変調装置における消去及び書込みの関係を示すブロッ
ク図、第4図は、同空間光変調装置の電気光学結晶板の
背面電圧のランプ時下と結晶表面電圧の動き及び書込み
関係を示す線図、第5図は、可変Tモードにおける入出
力特性を示す線図、第6図は、書込み時間コントロール
モードにおける空間光変調器の入出力特性を示す線図、
第7図は、上記実施例における入出力特性を示す線図で
ある。 3・・・充電陰極、 4・・・マイクロチャンネルプレート(MCP)、5・
・・メツシュ電極(2次電子捕集電極)、6・・・電気
光学結晶板、 6A・・・表面、 10・・・空間光度m装置、 10A・・・空間光変調器、 12・・・可変NOフィルター 14・・・電圧供給手段。 第1図
示す略示断面図、第2図は、空間光変調装置における電
気光学結晶板の表面へ入射する1次電子エネルギーEと
、2次電子放出比との関係を示す線図、第3図は、空間
光変調装置における消去及び書込みの関係を示すブロッ
ク図、第4図は、同空間光変調装置の電気光学結晶板の
背面電圧のランプ時下と結晶表面電圧の動き及び書込み
関係を示す線図、第5図は、可変Tモードにおける入出
力特性を示す線図、第6図は、書込み時間コントロール
モードにおける空間光変調器の入出力特性を示す線図、
第7図は、上記実施例における入出力特性を示す線図で
ある。 3・・・充電陰極、 4・・・マイクロチャンネルプレート(MCP)、5・
・・メツシュ電極(2次電子捕集電極)、6・・・電気
光学結晶板、 6A・・・表面、 10・・・空間光度m装置、 10A・・・空間光変調器、 12・・・可変NOフィルター 14・・・電圧供給手段。 第1図
Claims (1)
- (1)電子像発生手段と電気光学結晶板とを備え、その
間に前記電気光学結晶板への電荷像形成を妨げないよう
に2次電子捕集電極がおかれた空間光変調器と、前記電
気光学結晶板の前記2次電子捕集電極に対する書込み時
の結晶背面電極にかける電圧設定に際してロックアウト
領域を用いる閾値モードで、前記電気光学結晶板の背面
電極にかける電圧を、書込み動作時に、ランプ降下させ
ると共に、そのランプ降下速度を前記空間光変調器の求
める入出力特性に応じて制御する制御装置と、を有して
なる空間光変調装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15942590A JPH0451018A (ja) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | 空間光変調装置 |
| US07/682,260 US5170281A (en) | 1990-04-09 | 1991-04-08 | Spatial light modulation device capable of arbitrarily selecting an input/output characteristic |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15942590A JPH0451018A (ja) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | 空間光変調装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0451018A true JPH0451018A (ja) | 1992-02-19 |
Family
ID=15693465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15942590A Pending JPH0451018A (ja) | 1990-04-09 | 1990-06-18 | 空間光変調装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0451018A (ja) |
-
1990
- 1990-06-18 JP JP15942590A patent/JPH0451018A/ja active Pending
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