JPH0451811Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0451811Y2 JPH0451811Y2 JP12582188U JP12582188U JPH0451811Y2 JP H0451811 Y2 JPH0451811 Y2 JP H0451811Y2 JP 12582188 U JP12582188 U JP 12582188U JP 12582188 U JP12582188 U JP 12582188U JP H0451811 Y2 JPH0451811 Y2 JP H0451811Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- far
- infrared
- cloth
- light
- infrared radiation
- Prior art date
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- Expired
Links
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- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 14
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 9
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Landscapes
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Description
本考案は、安眠用等に用いるアイマスクに関す
るものである。
るものである。
従来から使用されているアイマスクは、単に布
体で目を覆うものであり、光を遮断するものであ
つた。 本考案は、安眠のための遮光の他に、疲れ目を
癒し、長く使用することにより視力回復にも役立
つアイマスクを提供するものである。
体で目を覆うものであり、光を遮断するものであ
つた。 本考案は、安眠のための遮光の他に、疲れ目を
癒し、長く使用することにより視力回復にも役立
つアイマスクを提供するものである。
このため本考案は、遠赤外線を放射する遠赤外
線放射セラミツク微粉を混在させて成る印刷用イ
ンクで基布に印刷して遠赤外線放射プリント布を
設け、これを遮光表部と裏当て布との間に介在止
着した構成としている。 また、目当て部に連設して後頭部まで遠赤外線
放射プリント布を配置してもよい。
線放射セラミツク微粉を混在させて成る印刷用イ
ンクで基布に印刷して遠赤外線放射プリント布を
設け、これを遮光表部と裏当て布との間に介在止
着した構成としている。 また、目当て部に連設して後頭部まで遠赤外線
放射プリント布を配置してもよい。
印刷により遠赤外線放射プリント布に遠赤外線
放射層が形成され、これが体温で暖められて遠赤
外線を放射するのであり、目に遠赤外線が浸透し
て視力や疲れ目の回復作用があるのである。 また、目当て部に連設して後頭部まで遠赤外線
放射プリント布を配置すれば「こめかみ」部のツ
ボ等頭のツボにも遠赤外線が浸透してその効果が
一層良好となるのである。
放射層が形成され、これが体温で暖められて遠赤
外線を放射するのであり、目に遠赤外線が浸透し
て視力や疲れ目の回復作用があるのである。 また、目当て部に連設して後頭部まで遠赤外線
放射プリント布を配置すれば「こめかみ」部のツ
ボ等頭のツボにも遠赤外線が浸透してその効果が
一層良好となるのである。
以下、本考案の詳細を図示実施例で説明する。
第1図及び第2図に示す本例のアイマスクS
は、目当て部Saの両側に厚巾の締め帯Sbを一体
に連設すると共に、夫々の両端に相互に止着でき
るベルベツトフアスナーScが取り付けてある。 アイマスクSは、前から遮光表布1、遠赤外線
放射プリント布2、裏当て布3を合わせて縁部を
一体に縫着して成るのである。 遠赤外線放射プリント布2は、遠赤外線を放射
する遠赤外線放射セラミツク微粉、例えば遠赤外
線放射率7〜14μmのセラミツク微粉Kを印刷用
インクに約40%混在させて、ポリエステル不織布
2aにスクリーン印刷して、遠赤外線放射層2b
を形成して成るのである。なお、その印刷は第1
図のように全面ではなく不織布2に間隔をおいて
断続的に印刷してある。 遮光表布1は、遮光色の通気性の良好な布体で
あり、また裏当て布3は通気布3a,3b間に通
気性スポンジ体3cを挟んだ構成としている。 さらに、目当て部Saと締め帯Sbの連設部にお
ける表布1と裏当て布3の間には、遠赤外線を放
射する遠赤外線放射セラミツク微粉の焼成体4が
介在している。 本例は、目当て部Saを目に当接した状態で後
頭部で締め帯SbのベルベツトフアスナーScを相
互に止着して巻き付け使用するもので、これによ
り、遠赤外線放射層2bが体温で暖められて遠赤
外線を放射するのであり、目に遠赤外線が浸透し
て疲れ目が癒され、特にかすみ目が早期に治るの
である。就寝時の長期使用により視力回復が良好
となるのである。 また、目当て部Saに連設した締め帯Sbによつ
て後頭部まで遠赤外線放射プリント布2が配置し
てあるため、頭のツボにも遠赤外線が浸透してそ
の効果が一層良好となり、さらに、遠赤外線放射
セラミツク微粉の焼成体4が「こめかみ」部のツ
ボに当接して指圧効果もあるのである。 本例は前記のように構成したが本考案において
はこれに限定されない。 例えば、アイマスクの形状は問わず、第3図の
ような形状でもよい。 また、遠赤外線を放射する遠赤外線放射セラミ
ツク微粉の素材も限定されず、印刷インクへの混
合量も任意である。 さらに、該印刷インクを印刷する基布の材質も
問わない。 なお、遮光表布及び裏当て布の材質、構成も適
宜であるが、通気性の優れるように形成すること
が最適である。第4図のように表布に変えて、遠
赤外線放射プリント布の表側に遮光層5を形成し
てもよい。 また、「こめかみ」部に遠赤外線セラミツク焼
成体を突設する場合は、第5図のように裏側に突
出配置させるものでもよい。
は、目当て部Saの両側に厚巾の締め帯Sbを一体
に連設すると共に、夫々の両端に相互に止着でき
るベルベツトフアスナーScが取り付けてある。 アイマスクSは、前から遮光表布1、遠赤外線
放射プリント布2、裏当て布3を合わせて縁部を
一体に縫着して成るのである。 遠赤外線放射プリント布2は、遠赤外線を放射
する遠赤外線放射セラミツク微粉、例えば遠赤外
線放射率7〜14μmのセラミツク微粉Kを印刷用
インクに約40%混在させて、ポリエステル不織布
2aにスクリーン印刷して、遠赤外線放射層2b
を形成して成るのである。なお、その印刷は第1
図のように全面ではなく不織布2に間隔をおいて
断続的に印刷してある。 遮光表布1は、遮光色の通気性の良好な布体で
あり、また裏当て布3は通気布3a,3b間に通
気性スポンジ体3cを挟んだ構成としている。 さらに、目当て部Saと締め帯Sbの連設部にお
ける表布1と裏当て布3の間には、遠赤外線を放
射する遠赤外線放射セラミツク微粉の焼成体4が
介在している。 本例は、目当て部Saを目に当接した状態で後
頭部で締め帯SbのベルベツトフアスナーScを相
互に止着して巻き付け使用するもので、これによ
り、遠赤外線放射層2bが体温で暖められて遠赤
外線を放射するのであり、目に遠赤外線が浸透し
て疲れ目が癒され、特にかすみ目が早期に治るの
である。就寝時の長期使用により視力回復が良好
となるのである。 また、目当て部Saに連設した締め帯Sbによつ
て後頭部まで遠赤外線放射プリント布2が配置し
てあるため、頭のツボにも遠赤外線が浸透してそ
の効果が一層良好となり、さらに、遠赤外線放射
セラミツク微粉の焼成体4が「こめかみ」部のツ
ボに当接して指圧効果もあるのである。 本例は前記のように構成したが本考案において
はこれに限定されない。 例えば、アイマスクの形状は問わず、第3図の
ような形状でもよい。 また、遠赤外線を放射する遠赤外線放射セラミ
ツク微粉の素材も限定されず、印刷インクへの混
合量も任意である。 さらに、該印刷インクを印刷する基布の材質も
問わない。 なお、遮光表布及び裏当て布の材質、構成も適
宜であるが、通気性の優れるように形成すること
が最適である。第4図のように表布に変えて、遠
赤外線放射プリント布の表側に遮光層5を形成し
てもよい。 また、「こめかみ」部に遠赤外線セラミツク焼
成体を突設する場合は、第5図のように裏側に突
出配置させるものでもよい。
本考案によると、遮光安眠の他、印刷形成され
た遠赤外線放射層が体温で暖められて遠赤外線を
放射するため、目に遠赤外線が浸透して視力や疲
れ目の回復作用があるのである。 また、目当て部に連設して後頭部まで遠赤外線
放射プリント布を配置したものでは、「こめかみ」
部のツボ等の頭のツボにも遠赤外線が浸透してそ
の効果が一層良好となるのである。
た遠赤外線放射層が体温で暖められて遠赤外線を
放射するため、目に遠赤外線が浸透して視力や疲
れ目の回復作用があるのである。 また、目当て部に連設して後頭部まで遠赤外線
放射プリント布を配置したものでは、「こめかみ」
部のツボ等の頭のツボにも遠赤外線が浸透してそ
の効果が一層良好となるのである。
第1図は本考案の一実施例を示す一部断面した
背面図、第2図はその要部の拡大断面図、第3図
は別例の正面図、第4図及び第5図は夫々さらに
別例の要部拡大断面図である。 1……遮光表布、2……遠赤外線放射プリント
布、2a……基布、2b……遠赤外線放射層、3
……裏当て布、5……遮光層、Sa……目当て部、
Sb……締め帯Sb、K……遠赤外線放射セラミツ
ク微粉。
背面図、第2図はその要部の拡大断面図、第3図
は別例の正面図、第4図及び第5図は夫々さらに
別例の要部拡大断面図である。 1……遮光表布、2……遠赤外線放射プリント
布、2a……基布、2b……遠赤外線放射層、3
……裏当て布、5……遮光層、Sa……目当て部、
Sb……締め帯Sb、K……遠赤外線放射セラミツ
ク微粉。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 遠赤外線を放射する遠赤外線放射セラミツク
微粉を混在させて成る印刷用インクで基布に印
刷して遠赤外線放射プリント布を設け、これを
遮光表部と裏当て布との間に介在止着したこと
を特徴とするアイマスク。 (2) 目当て部に連設して後頭部まで遠赤外線放射
プリント布を配置した請求項第1項記載のアイ
マスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12582188U JPH0451811Y2 (ja) | 1988-09-27 | 1988-09-27 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12582188U JPH0451811Y2 (ja) | 1988-09-27 | 1988-09-27 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0249552U JPH0249552U (ja) | 1990-04-06 |
| JPH0451811Y2 true JPH0451811Y2 (ja) | 1992-12-07 |
Family
ID=31376765
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12582188U Expired JPH0451811Y2 (ja) | 1988-09-27 | 1988-09-27 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0451811Y2 (ja) |
-
1988
- 1988-09-27 JP JP12582188U patent/JPH0451811Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0249552U (ja) | 1990-04-06 |
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