JPH0452238B2 - - Google Patents

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JPH0452238B2
JPH0452238B2 JP58168054A JP16805483A JPH0452238B2 JP H0452238 B2 JPH0452238 B2 JP H0452238B2 JP 58168054 A JP58168054 A JP 58168054A JP 16805483 A JP16805483 A JP 16805483A JP H0452238 B2 JPH0452238 B2 JP H0452238B2
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layer
resin
optical recording
recording layer
coating
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Mitsuru Takita
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 （技術分野） 本発明はIDカードや通帳などの記録媒体にレ
ーザー光等で光学的に記録するための光学記録層
を転写法により形成するのに適した光学記録層転
写用シートに関するものである。
（従来技術） キヤツシユカード、クレジツトカード、自分証
明用カードなどのIDカード、金融機関の預金通
帳、或いは情報記録カードなどの記録媒体の記録
層としては磁気層が広く使用されているが、磁気
層の記録密度は概して小さく、又、普及している
反面、偽造の発生頻度も高く、このため、他の記
録密度の高い、偽造の困難な記録層が望まれてい
る。
磁気層以外の記録層としては集積回路（IC）
を利用したものやレーザー光等で記録する光学記
録層とが代表的なものとして提案され、かつ検討
されており、中でも光学記録層は記録密度の高い
点で有望視されている。
このような光学記録層は多くは低融点の金属を
蒸着等により記録媒体の所定の箇所に薄膜として
形成することにより得られるが、記録媒体に直接
的に記録層を形成するのは効率が悪い上、所定の
形状の記録層を形成するにはマスクを使用しなけ
ればならない不便さもある。
（目的） 本発明は、上記した従来技術における欠点を解
消し、光学記録層を効率的に、しかも所望の形状
に形成するための光学記録層転写シートを高い効
率で提供することを目的とする。
（発明の構成） 本発明の光学記録層転写用シートは剥離性基材
の剥離性表面に透明合成樹脂保護層、光学記録
層、および接着剤層が順次積層されていることを
特徴とするものである。
第１図は本発明の光学記録層転写用シートの一
実施例を示す断面図であつて、表面が剥離性の基
材１に透明合成樹脂保護層２、光学記録層３、お
よび接着剤層４が順次積層された構造となつてい
る。
第２図は別の実施例を示し、基材１の表面にま
ず剥離性層５を設けており、その他は第１図のも
のと同様である。
基材１としては、ポリエチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリチン、セルロースアセテー
ト、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート等
のアクリル、ポリプロピレン、ポリエチレンテレ
フタレート、メチルペンテン樹脂、ポリアミド、
ポリカーボネート、ポリフエニレンオキシド、ポ
リサルホン、ポリフツ化エチレン、ポリフツ化エ
チレンプロピレン、ポリエーテルイミド、ポリイ
ミド等のプラスチツクフイルム、銅、アルミニウ
ム等の金属箔、紙と前記のプラスチツクフイルム
又は金属箔のラミネート品等が使用でき、耐熱
性、機械的強度、平滑性および現状の価格を考慮
するとポリエステルフイルムが好ましいが、特に
限定されるものではない。基材の厚みは１〜
500μｍ、好ましくは５〜50μｍである。
次に保護層２を形成するための材料としては、
常温、熱又は電子線、紫外線等の放射線により硬
化する硬化性化合物が使用できる。常温又は熱に
より硬化される樹脂の種類としては不飽和ポリエ
ステル樹脂、アミノアルキツド樹脂、ポリウレタ
ン樹脂、エポキシ樹脂等が使用でき、電子線、紫
外線等の放射線照射により重合し硬化する化合物
としては不飽和ポリエステル類、アクリレート
類、チオール・エン類、エポキシ・ルイス酸類が
使用できる。
保護層２の厚みは0.5μｍ〜2.0mm、好ましくは
１〜500μｍである。
なお、保護層２を形成する際には保護層２の光
学記録層３と接する面の平滑度が高くなるように
しておくと、このような光学記録層転写用シート
を用いて得られる光学記録層の表面の平滑性が向
上し、光学記録の精度が向上して読み取りの際の
エラーが低下して好ましい。平滑度を高めるため
には予め表面を鏡面とした金属、ガラスなどの面
に未硬化の塗布層を接触させつつ硬化させればよ
いが、本願発明は紫外線や電子線を硬化の手段と
して用いるときは表面を鏡面とした金属ロールに
接触させつつ反対側（基材側）より照射を行なえ
ば足り、特に電子線を用いるときは塗布と同じ速
度で硬化させ平滑度の高い塗布硬化面が得られ
る。
これらの化合物を塗布する方法としは、ロール
コート法、カーテンフローコート法、ワイヤーバ
ーコート法、グラビアロールコート法、エアナイ
フコート法等の公知の方法を用いることが出来、
放射線を照射して硬化させるときは例えば、コツ
クロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧
器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロ
ン型、高周波型等の各種電子線加速機から放出さ
れ、50〜1000KeV、好ましくは100〜300KeVの
範囲のエネルギーを持つ電子線を用い、窒素等の
不活性ガス雰囲気中で用いるか又は、超高圧水銀
灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、クセノ
ンアーク灯などによる紫外線灯を用いる。
なお、放射線として紫外線を用いるので、前記
した放射線硬化性塗料にベンゾイン、ベンゾイン
エーテル、ベンゾフエノン、ベンジル、キサント
ン等或いはこれらの誘導体を紫外線増感剤として
添加して用いる。
光学記録層３を構成する材料としてはレーザー
光などにより穿孔可能なもの、屈折率が変化する
もの、発色するもの、或いは泡が形成されるもの
であればいずれでもよく、例えば穿孔型として
は、Sb、Te、Pb、Cd、Bi、Sn、Se、In、Ga、
Cu−Snなどの金属や合金、フタロシアニンなど
の色素、Te−Ｃ、Te−CS2、Te−色素、Te−ニ
トロセルロース、Ag−ゼラチンなどのような金
属と有機物との複合体が使える。屈折率が変化す
るものとしては、TeOx、Sb−Se、AsSeTeな
ど、又、泡が形成される材料としては金属と有機
物の積層体などが使える。
光学記録層の厚みは、穿孔型の金属薄膜は、50
〜1000Å、屈折率変化型の金属薄膜は、500〜
2000Åであり、いずれも、蒸着法、スパツタリン
グ法、メツキ法などにより得られる。また金属と
有機物との複合体の有機物薄膜は、有機物を溶解
させた溶液をロールコート、グラビアコート、ス
ピンナーコートなどのコート法やスパツタリング
法やプラズマ重合法などにより膜厚0.1〜10μｍ程
度になるよう形成する。
次に接着層４を構成する材料としては、塩化ビ
ニル／酢酸ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル／プロピオン酸共重合
体、ゴム系樹脂、シアノアクリレート樹脂、セル
ロース系樹脂、アイオノマー樹脂、ポリオレエフ
イン系共重合体等を用いることが出来、又、その
塗布方法としは、ロールコート、グラビアコー
ト、リバースコートその他の通常のコーテイング
方式、或はオフセツト、グラビア、スクリーン印
刷等の通常の印刷方式等を用いることができる。
接着層の厚みは１〜50μｍが好ましい。
本発明の光学記録層転写用シートは基本的には
以上のような構成からなつているが、基材１と透
明合成樹脂保護層２の転写時の剥離を確実にする
意味で剥離性層５を介在させてもよく、剥離性層
を構成する材料としては、ポリメチルメタクリレ
ート樹脂を主体とし、さらに、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、ニトロセルロース樹脂、ポリエ
チレンワツクス、シリコーンオイル等を適宜混合
してなるもの、セルロースアセテートブチレート
樹脂やセルロースアセテート樹脂等のセルロース
系樹脂に、エポキシ樹脂、フエノール樹脂、メラ
ミン樹脂、ポリウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂或
いはポリエチレンワツクス、シリコーンオイルを
適宜混合してなるもの等を用いることができる
が、これら以外のものであつても良く、基材１と
の剥離強度が、保護層２との剥離強度よりも小さ
くなるよう選択して用いる。又、上記剥離層を支
持体に設ける方式としては、公知のコーテイング
方法である、グラビアロールコート法、ロールコ
ート法、エアーナイフコート法、ワイヤーバーコ
ート法、カーテンフローコート法等の方法を用い
ることができ、塗布量としては0.1〜0.3μｍが好
ましい。
本発明の光学記録層転写用シートの使用方法を
第３図により説明すると、例えば適宜なカード基
材６の表面に光学転写層記録用シートの接着剤層
４が接触するようにして重ね、光学記録層７の所
定の形状に合わせて作成した熱板８を用いてプレ
スし転写を行ない、その後、基材１を剥離するこ
とにより、記録層７がカード基材６上に形成され
る。
ここでカード基材６を用いればカードが、又、
通帳やその他の基材を用いればカード以外の記録
媒体が製造できる。カード基材としては剛性を有
し、かつ、熱融着や各種の印刷等の加工に適した
ものであればいずれでもよいが、通常、塩化ビニ
ル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、塩
化ビニリデン樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹
脂、ビニルブチラール樹脂、アセチルセルロース
樹脂、スチレン−ブタジエン共重合樹脂、ポリエ
チレン樹脂、フツ素樹脂等の合成樹脂が使用で
き、なかでも塩化ビニル樹脂が加工の容易さの点
で用いられる。この他、紙、金属箔等、及び以上
の各材料を複合体も使用しうる。本発明をカード
に応用するときは、更に磁気記録層や写真、彫刻
画像、ICメモリ、文字、マーク、浮出し文字等
を設けても差支えなく、他の記録媒体に応用する
際にも同様である。
なお、カード基材が紙や合成樹脂である場合は
外見上は光の反射率が高くても光学記録層の光の
反射率よりも実際には低いのが普通であるので、
情報の再生が可能である。しかし、再生の際の
Ｓ／Ｎ比を向上させたり、或いは金属の鏡面を表
面に有する基材を用いるときは予め基材の表面に
光の反射率の低い低反射層を積層するとよく、例
えばカード基材の表面に光学的反射濃度の高い
（即ち光の反射率の小さい）インキ層を設けたり、
無反射クロムを蒸着させたり、或いは着色した合
成樹脂フイルを貼り合わせることより低反射層を
形成する。勿論以上のような低反射層は本発明の
光学記録層転写用シートの光学記録層と接着層の
間に形成しておいてもよく、このとき、必要に応
じ、光学記録層と低反射層の間に接着層を介在さ
せてもよい。
（発明の効果） 本発明の光学記録層転写用シートは巻き取りで
連続的に製造できるので製造効率が高く、又、所
定の形状で熱板を用いてプレスすることにより、
記録媒体の所定の位置に所定の形状の表面平滑性
に優れた保護膜を有する。光学記録層を形成する
ことができる。
実施例 １ 厚み25μｍのポリエステルフイルムに、下記組
成からなる剥離剤をバーコートにより塗布し乾燥
させた。
アクリル樹脂（三菱レーヨン社製ダイヤナール
BR90） 20重量部 塩ビ−酢ビ共重合樹脂（ユニオンカーバイト社製
ビニライトVYHH） ５ 〃 メチルエチルケトン 50 〃 トルエン 25 〃 次に上記塗布面上に下記組成物を用い、バーコ
ートにて塗布厚み1μｍになるよう塗布し、フオ
トマスク用の表面の平滑なガラス板を塗布面に密
着させ、そのまま塗布層を硬化させ、硬化後、剥
離して保護層とした。
エポキシ樹脂（シエル化学社製、エピコート828）
100重量部 硬化剤（シエル化学社製、エポメートＢ−001）
60 〃 続いて保護層上に蒸着法によりTe薄膜を厚み
200Åになるよう形成し、その後、塩ビ−酢ビ共
重合樹脂を主成分とする組成物を用いて塗布厚み
5μｍの接着剤層をバーコートにて形成し、転写
用シートとした。
得られた光記録転写シートを厚み0.7mmの硬質
塩化ビニルシート製のカードに接着剤層が接触す
るようにして重ね、熱プレスにより加熱加工し接
着させポリエステルフイルムを剥離した。
得られた光記録カードは、He−Neレーザー光
（８ｍＷ）をNA＝0.45のレンズで集光させて
10μsecの時間で書き込み、2μｍ径のピツトを形
成し、ピツト部の反射率が周囲にくらべ80％低下
することを確認した。
実施例 ２ 実施例１と同様にして厚み25μｍのポリエステ
ルフイルム上にアクリル樹脂を主成分とする剥離
層を得た。
次に保護剤として下記の組成のものをバーコー
トにて塗布し、鏡面仕上げしたステンレス板表面
に密着した。
ポリウレタンアクリレート（ポリクローム社製、
DV−53） 50重量部 ポリエステルアクリレート（東亜合成化学社製、
アロニクスＭ−1700） 50 〃 ステンレス板に密着後、窒素雰囲気中で加速電
圧150KeV、照射電流５ｍＡ、照射線量5Mradの
カーテン状電子線をポリエステルフイルム面から
照射し、塗膜を硬化させた後、ガラス面から剥離
した。
得られた積層シート上に、スパツタリング法に
より、Sn−Cu合金ターゲツト（Cu1.5重量％）を
用い、厚み200ÅのSn−Cu薄膜を設け、次に塩ビ
−酢ビ共重合樹脂を主成分とする接着剤組成物を
厚み5μｍとなるようにバーコートにて塗布して
転写用シートを得た。
以下実施例１と同様にして得たカードは、He
−Neレーザー（５ｍＷ）を用い10μsecで書込み、
読み取れることを確認した。
【図面の簡単な説明】
第１図および第２図は本発明の光学記録層転写
用シートの断面図、第３図は転写の様子を示す断
面図、第４図は転写により得られる記録媒体の例
を示す断面図である。 １……基材、２……保護層、３……光学記録
層、４……接着剤層、５……剥離性層、６……カ
ード基材、７……記録層、８……熱板。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １ 剥離性基材の剥離性表面に電子線硬化樹脂も
    しくは紫外線硬化樹脂を硬化してなる透明合成樹
    脂保護層、光学記録層、および接着材層が順次積
    層されており、可撓性を有していることを特徴と
    する光学記録層転写用シート。
JP58168054A 1983-09-12 1983-09-12 光学記録層転写用シ−ト Granted JPS6058894A (ja)

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