JPH0452643Y2 - - Google Patents
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- JPH0452643Y2 JPH0452643Y2 JP12634387U JP12634387U JPH0452643Y2 JP H0452643 Y2 JPH0452643 Y2 JP H0452643Y2 JP 12634387 U JP12634387 U JP 12634387U JP 12634387 U JP12634387 U JP 12634387U JP H0452643 Y2 JPH0452643 Y2 JP H0452643Y2
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案はレーザ光により大寸法のタービンロー
タ、水車、ケーシング等の被測定物の外径寸法や
長さ等を測長するレーザ測長装置に関する。
タ、水車、ケーシング等の被測定物の外径寸法や
長さ等を測長するレーザ測長装置に関する。
従来のこの種レーザ測長装置としては、第3図
に示すような構成のものが採用されている。すな
わち、第3図において、1はレーザ光源、2は干
渉部、3は信号処理部、4は反射鏡、5は被測定
物である。
に示すような構成のものが採用されている。すな
わち、第3図において、1はレーザ光源、2は干
渉部、3は信号処理部、4は反射鏡、5は被測定
物である。
かかる構成において、被測定物5の寸法lを測
長するにはレーザ光源1から発振されたレーザ光
のビーム径を干渉部2内に設けた凹面鏡で拡大
し、被測定物5のX端面及びY端面に密着させた
反射鏡あるいは鏡面仕上げをした反射物4(本例
ではX端面は被反射物、Y端面に反射鏡)に当て
ることによつて被測定物5のX端面とY端面の反
射鏡あるいは反射物4から反射光を得る。この反
射光が干渉部2に戻ると、干渉部2に設けられた
スキヤニングミラーからの反射光と干渉させるこ
とによつて、干渉縞信号を得ることでき、これを
信号処理部3に入力して信号処理を行なうこと
で、元の波長より長い合成波長信号を発生させ、
被測定物5のX端面、Y端面からの2つの信号の
位相差を求めることで被測定物5の寸法lを測長
することができる。
長するにはレーザ光源1から発振されたレーザ光
のビーム径を干渉部2内に設けた凹面鏡で拡大
し、被測定物5のX端面及びY端面に密着させた
反射鏡あるいは鏡面仕上げをした反射物4(本例
ではX端面は被反射物、Y端面に反射鏡)に当て
ることによつて被測定物5のX端面とY端面の反
射鏡あるいは反射物4から反射光を得る。この反
射光が干渉部2に戻ると、干渉部2に設けられた
スキヤニングミラーからの反射光と干渉させるこ
とによつて、干渉縞信号を得ることでき、これを
信号処理部3に入力して信号処理を行なうこと
で、元の波長より長い合成波長信号を発生させ、
被測定物5のX端面、Y端面からの2つの信号の
位相差を求めることで被測定物5の寸法lを測長
することができる。
このような従来のレーザ測長装置においては次
のような問題点がある。
のような問題点がある。
(1) 被測定物の端面に反射物4を精度良く密に接
触させることが困難である。
触させることが困難である。
(2) 第4図に示すように被測定物5の外径寸法D
を測長する場合、両端面に反射鏡4−1,4−
2を精度良く設置することが困難である。
を測長する場合、両端面に反射鏡4−1,4−
2を精度良く設置することが困難である。
(3) 第5図に示すように被測定物5の外径を測長
するとき反射面を被測定物の一端を利用すると
きでもレーザ光のビーム径を大きくする必要が
あるために測長が困難になる。
するとき反射面を被測定物の一端を利用すると
きでもレーザ光のビーム径を大きくする必要が
あるために測長が困難になる。
そこで、かかる問題点を解決するため、本考案
に先立つて次のような構成のレーザ測長装置が考
えらた。第6図はその概略的な構成例を示すもの
で、1はレーザ光源、2は干渉部、3は信号処理
部、5は被測定物、6は測距計、7は半導体位置
検出素子(以下PSDと略称する)カメラ、8−
1,8−2,8−3は半透明鏡、9−1,9−2
は反射鏡、10−1,10−2はセツテイング
台、11−1,11−2は傾き調整台、12−
1,12−2,12−3は反射鏡である。
に先立つて次のような構成のレーザ測長装置が考
えらた。第6図はその概略的な構成例を示すもの
で、1はレーザ光源、2は干渉部、3は信号処理
部、5は被測定物、6は測距計、7は半導体位置
検出素子(以下PSDと略称する)カメラ、8−
1,8−2,8−3は半透明鏡、9−1,9−2
は反射鏡、10−1,10−2はセツテイング
台、11−1,11−2は傾き調整台、12−
1,12−2,12−3は反射鏡である。
ここで、PSDカメラとは高感度の大型PINシリ
コンフオトダイオードの両面に均一な抵抗層(P
層とN層)を生成させ、それぞれに対向した電極
を設けたもので、このPSDの受光面にレンズを
介してLEDの光スポツトを結像させると、結像
位置より光電流を生じ、この電流は両面の抵抗層
を通つてそれぞれの電極へ出力されるものであ
る。この場合、対向した電極から取出される電流
は光スポツトの結像位置からそれぞれの電極まで
の抵抗値、すなわち距離によつて分割出力され
る。
コンフオトダイオードの両面に均一な抵抗層(P
層とN層)を生成させ、それぞれに対向した電極
を設けたもので、このPSDの受光面にレンズを
介してLEDの光スポツトを結像させると、結像
位置より光電流を生じ、この電流は両面の抵抗層
を通つてそれぞれの電極へ出力されるものであ
る。この場合、対向した電極から取出される電流
は光スポツトの結像位置からそれぞれの電極まで
の抵抗値、すなわち距離によつて分割出力され
る。
したがつて、P層ではX座標電流、N層ではY
座標電流として取出され、この出力電流をアナロ
グ演算回路により演算することにより、2次元位
置を精密に計測することができる。
座標電流として取出され、この出力電流をアナロ
グ演算回路により演算することにより、2次元位
置を精密に計測することができる。
このような構成のレーザ測長装置においては、
被測定物5を1対のセツテイング台10−1,1
0−2(この場合、セツテイング台10−1は固
定、セツテイング台10−2は移動可能にしてあ
る)で挟み込むノギス型構造として被測定物5に
セツテイング台10−1,10−2を密に接触さ
せ、レーザ光源1からのレーザ光を半透明鏡8−
3により透過光と反射光の2系統に分割してその
透過光を被測定物5の一端測定点Xに、また反射
光を反射鏡12−1,12−2,12−3を介し
て被測定物5の他端測定点Yに当てる光学系を形
成することによつて、被測定物5の両測定点から
の反射光が直接に同時に得られ、被測定物5の外
径寸法Dが求められる。この場合、セツテイング
台10−1,10−2に傾きが生じていると精度
の良い測長が行なうことができないので、測距計
6からの光を反射鏡9−1,9−2に当ててその
反射光をPSDカメラ7に入射してその反射光を
2次元で光の位置として検出し、セツテイング台
10−1,10−2の傾きを傾き調整台11−
1,11−2により調整してから被測定物5の外
径寸法を測長するようにしている。
被測定物5を1対のセツテイング台10−1,1
0−2(この場合、セツテイング台10−1は固
定、セツテイング台10−2は移動可能にしてあ
る)で挟み込むノギス型構造として被測定物5に
セツテイング台10−1,10−2を密に接触さ
せ、レーザ光源1からのレーザ光を半透明鏡8−
3により透過光と反射光の2系統に分割してその
透過光を被測定物5の一端測定点Xに、また反射
光を反射鏡12−1,12−2,12−3を介し
て被測定物5の他端測定点Yに当てる光学系を形
成することによつて、被測定物5の両測定点から
の反射光が直接に同時に得られ、被測定物5の外
径寸法Dが求められる。この場合、セツテイング
台10−1,10−2に傾きが生じていると精度
の良い測長が行なうことができないので、測距計
6からの光を反射鏡9−1,9−2に当ててその
反射光をPSDカメラ7に入射してその反射光を
2次元で光の位置として検出し、セツテイング台
10−1,10−2の傾きを傾き調整台11−
1,11−2により調整してから被測定物5の外
径寸法を測長するようにしている。
したがつて、測距計6により被測定物5の概略
寸法を測長でき、その後レーザ光で少数点以下の
端数についても絶対測長することができる。
寸法を測長でき、その後レーザ光で少数点以下の
端数についても絶対測長することができる。
しかし、このようなレーザ測長装置においても
次のような問題点がある。
次のような問題点がある。
(a) 被測定物5をセツテイング台10−1,10
−2に密に接触させるため、測長する都度セツ
テイング台10−2を移動させる必要がある。
−2に密に接触させるため、測長する都度セツ
テイング台10−2を移動させる必要がある。
(b) 同様にセツテイング台10−2を移動させる
都度セツテイング台の調整が必要である。
都度セツテイング台の調整が必要である。
(c) 被測定物5にセツテイング台10−1,10
−2に密に接触させるので、セツテイング台を
鏡面加工しなければならない。
−2に密に接触させるので、セツテイング台を
鏡面加工しなければならない。
本考案は被測定物との接触部を無くし、しかも
セツテイング台の傾き調整を不要にし、また被測
定物のセツト位置を限定することなく被測定物の
長さ、外径寸法等を効率良く、高精度に絶対測長
することができるレーザ測長装置を提供すること
を目的とする。
セツテイング台の傾き調整を不要にし、また被測
定物のセツト位置を限定することなく被測定物の
長さ、外径寸法等を効率良く、高精度に絶対測長
することができるレーザ測長装置を提供すること
を目的とする。
本考案は上記のような目的を達成するため、レ
ーザ光源と、被測定物体を間に非接触状態にして
設けられた1対の固定台と、前記レーザ光源から
発振されるレーザ光を反透明鏡を介して反射光と
透過光との2系統に分割しその透過光を被測定物
の一端測定点に当て、また反射光を半透明鏡およ
び反射鏡を介して前記被測定物の他端測定点に当
てると共に前記半透明鏡を透過する前記とは別の
系統の分割光を反射鏡を介して前記一方の固定台
から他方の固定台に当てるように形成された光学
系と、光源を有しこの光源からの光を前記光学系
を通して前記被測定物に当てその反射光から前記
被測定物の概略長さ、概略外径寸法を測長する測
距計と、前記被測定物からの反射光および前記固
定台からの反射光を干渉部を介して入力し前記両
固定台間の距離の測長および前記被測定物の長
さ、外径寸法等を測長するに必要な信号に処理す
る信号処理部とを備えたことを特徴としている。
ーザ光源と、被測定物体を間に非接触状態にして
設けられた1対の固定台と、前記レーザ光源から
発振されるレーザ光を反透明鏡を介して反射光と
透過光との2系統に分割しその透過光を被測定物
の一端測定点に当て、また反射光を半透明鏡およ
び反射鏡を介して前記被測定物の他端測定点に当
てると共に前記半透明鏡を透過する前記とは別の
系統の分割光を反射鏡を介して前記一方の固定台
から他方の固定台に当てるように形成された光学
系と、光源を有しこの光源からの光を前記光学系
を通して前記被測定物に当てその反射光から前記
被測定物の概略長さ、概略外径寸法を測長する測
距計と、前記被測定物からの反射光および前記固
定台からの反射光を干渉部を介して入力し前記両
固定台間の距離の測長および前記被測定物の長
さ、外径寸法等を測長するに必要な信号に処理す
る信号処理部とを備えたことを特徴としている。
このような構成のレーザ測長装置にあつては、
被測定物を1対の固定台の間にセツトしてレーザ
光源からレーザ光が発振されると、このレーザ光
は半透明鏡により透過光と反射光の2系統に分割
され、その透過光を被測定物の一端測定点に当
て、反射光を半透明鏡および反射鏡を介して前記
被測定物の他端測定点に当てることによつて被測
定物の両端測定点から反射光が得られ、これらの
反射光を干渉部を介して信号処理部に入力するこ
とにより、被測定物の長さ、外径寸法等が測長で
きる。また、この時前記半透明鏡を透過する前記
とは別の系統の分割光を反射鏡を介して前記一方
の固定台から他方の固定台に当て、その反射光を
干渉部を介して信号処理部に入力し、1対の固定
台間を測長することで被測定物が固定台間のどの
位置に設置されても被測定物の長さ、外径寸法等
を高精度に絶対測長することが可能となり、さら
に測距計によつて被測定物の概略寸法も測長でき
る。
被測定物を1対の固定台の間にセツトしてレーザ
光源からレーザ光が発振されると、このレーザ光
は半透明鏡により透過光と反射光の2系統に分割
され、その透過光を被測定物の一端測定点に当
て、反射光を半透明鏡および反射鏡を介して前記
被測定物の他端測定点に当てることによつて被測
定物の両端測定点から反射光が得られ、これらの
反射光を干渉部を介して信号処理部に入力するこ
とにより、被測定物の長さ、外径寸法等が測長で
きる。また、この時前記半透明鏡を透過する前記
とは別の系統の分割光を反射鏡を介して前記一方
の固定台から他方の固定台に当て、その反射光を
干渉部を介して信号処理部に入力し、1対の固定
台間を測長することで被測定物が固定台間のどの
位置に設置されても被測定物の長さ、外径寸法等
を高精度に絶対測長することが可能となり、さら
に測距計によつて被測定物の概略寸法も測長でき
る。
以下本考案の一実施例を図面を参照して説明す
る。
る。
第1図は本考案によるレーザ測長装置の構成例
を示すものであり、第6図と同一部品には同一記
号を付して示し、ここではその説明を省略する。
第1図に示すように1対の固定台13−1,13
−2は適宜離間させて傾きのないように固定さ
れ、これら固定台13−1,13−2間に例えば
タービンロータからなる被測定物5がセツトされ
ている。また、レーザ光源1から干渉部2を介し
て被測定物5の一端測定点に至るレーザ光路の途
中に半透明鏡8−2が設けられている。一方の固
定台13−1には半透明鏡8−2の透過光を2系
統に分割してその透過光を被測定物5の一端測定
点Xに当てる半透明鏡14が設けられると共に半
透明鏡14の反射光を他方のセツテイング台13
−2方向に照射するため反射光と透過光の2系統
に分割する半透明鏡15が設けられ、またこの半
透明鏡15の透過光を他方の固定台13−2のZ
点に当てる反射鏡18が設けられている。さら
に、他方の固定台13−2には半透明鏡15から
の反射光を被測定物5の他端測定点Yに当てる反
射鏡17,16がそれぞれ設けられている。一
方、レーザ光源1とは別光源を有する測距計6か
らの光は半透明鏡8−2に入射されるようになつ
ている。
を示すものであり、第6図と同一部品には同一記
号を付して示し、ここではその説明を省略する。
第1図に示すように1対の固定台13−1,13
−2は適宜離間させて傾きのないように固定さ
れ、これら固定台13−1,13−2間に例えば
タービンロータからなる被測定物5がセツトされ
ている。また、レーザ光源1から干渉部2を介し
て被測定物5の一端測定点に至るレーザ光路の途
中に半透明鏡8−2が設けられている。一方の固
定台13−1には半透明鏡8−2の透過光を2系
統に分割してその透過光を被測定物5の一端測定
点Xに当てる半透明鏡14が設けられると共に半
透明鏡14の反射光を他方のセツテイング台13
−2方向に照射するため反射光と透過光の2系統
に分割する半透明鏡15が設けられ、またこの半
透明鏡15の透過光を他方の固定台13−2のZ
点に当てる反射鏡18が設けられている。さら
に、他方の固定台13−2には半透明鏡15から
の反射光を被測定物5の他端測定点Yに当てる反
射鏡17,16がそれぞれ設けられている。一
方、レーザ光源1とは別光源を有する測距計6か
らの光は半透明鏡8−2に入射されるようになつ
ている。
次に上記のように構成されたレーザ測長装置の
作用について述べる。
作用について述べる。
今、第1図に示すように固定台13−1,13
−2が予め傾きがないように固定され、その間に
被測定物5がセツトされているものとする。
−2が予め傾きがないように固定され、その間に
被測定物5がセツトされているものとする。
このような状態でレーザ光源1からレーザ光を
発振させると、このレーザ光は干渉部2内でその
ビーム径が拡大され、半透明鏡8−2を介して半
透明鏡14に当り、その透過光が被測定物5の一
端測定点Xに当る。また、半透明鏡14の反射光
が半透明鏡15、反射鏡17,16を介して被測
定物5の他端測定点Yに当り、それぞれの反射光
が同時に元の光路を通して干渉部2に戻る。干渉
部2ではその反射光をスキヤニングミラーからの
反射光と干渉させることで干渉縞信号を得、これ
を信号処理部3に入力する。
発振させると、このレーザ光は干渉部2内でその
ビーム径が拡大され、半透明鏡8−2を介して半
透明鏡14に当り、その透過光が被測定物5の一
端測定点Xに当る。また、半透明鏡14の反射光
が半透明鏡15、反射鏡17,16を介して被測
定物5の他端測定点Yに当り、それぞれの反射光
が同時に元の光路を通して干渉部2に戻る。干渉
部2ではその反射光をスキヤニングミラーからの
反射光と干渉させることで干渉縞信号を得、これ
を信号処理部3に入力する。
この時、半透明鏡15を透過した前記とは別の
系統の透過光は反射鏡18を介して他方の固定台
13−2のZ点に当たり、その反射光が干渉部2
を介して信号処理部2に入力される。したがつ
て、信号処理部3でこれらの信号を処理すること
によりZ点までの距離を測長することができるの
で、被測定物5の外径寸法Dを測長できる。
系統の透過光は反射鏡18を介して他方の固定台
13−2のZ点に当たり、その反射光が干渉部2
を介して信号処理部2に入力される。したがつ
て、信号処理部3でこれらの信号を処理すること
によりZ点までの距離を測長することができるの
で、被測定物5の外径寸法Dを測長できる。
以下にその測長手順について述べる。
今、固定台13−1の内面を基準とすると
(イ) X点までの距離は、X=a1となる。
(ロ) Y点までの距離は、
Y=a1+D+Δx+T+A+T+Δx
=a1+D+A+2Δx+2Tとなる。
(ハ) Z点までの距離は Z=a1+D+Δzとなる。
(ニ) 固定台13−2からY点までは、
Y−Z=2T+A+Δxとなり、T,Aは既知
であるから、Δxを求めることができる。
であるから、Δxを求めることができる。
(ホ) 従つて、被測定物5の寸法DはY点までの測
長値−X点までの測長値で求まる。
長値−X点までの測長値で求まる。
Y−X=a1+D+A+2Δx+2T−a1
=D+A+2Δx+2T
ここで、Δx=(Y−Z)−(A+2T)であるか
ら、 Y−X=D+A+2Y−2Z−2A−4T+2T =D+2(Y−Z)−(A+2T) Y−Zは(ニ)で求まり、A+2Tは既知であるか
ら被測定物5の外径寸法Dを求めることができ
る。
ら、 Y−X=D+A+2Y−2Z−2A−4T+2T =D+2(Y−Z)−(A+2T) Y−Zは(ニ)で求まり、A+2Tは既知であるか
ら被測定物5の外径寸法Dを求めることができ
る。
ここで、具体的な数値を用いた例を第2図を参
照して説明すると、次の通りである。
照して説明すると、次の通りである。
第2図において、T=0.5m,T=3mとし、
またX=a1……測長値が2mとする。
またX=a1……測長値が2mとする。
Y=a1+D+Δx+4+Δx
=a1+D+2Δx+4
Z=a1+D+Δx=10
従つて、Y=14+Δx
Y−Z=4+Δx
今、Yの測長値が16mとすると、Δx=2mと
なる。
なる。
Y−X=a1+D+2Δx+4−a1
=D+2Δx+4=D+8
D=(Y−X)−8=(16−2)−8=6
よつて、被測定物の外径寸法D=6mとなる。
このように本実施例では被測定物5を1対の固
定台13−1,13−2を適宜離間させて垂直に
固定し、その間に被測定物5をセツトしてレーザ
光源1からのレーザ光を半透明鏡8−2を介して
半透明鏡14により透過光と反射光の2系統に分
割し、その透過光を被測定物5の一端測定点X
に、また反射光を半透明鏡15、反射鏡17,1
6を介して被測定物5の他端測定点Yに当てる光
学系を形成し、さらに半透明鏡15の透過光を反
射鏡18を介して固定台13−2のZ点に当てる
光学系を形成するようにしたので、被測定物5の
両測定点から反射光とZ点からの反射光を信号処
理部2に入力することにより、固定台13−1,
13−2間の距離を測長することで、被測定物5
を固定13−1,13−2に密に接触させること
なく、また被測定物5のセツト位置を限定させる
ことなく、被測定物5の外径寸法を高精度に絶対
測長することができる。また被測定物5の測長に
先立ち測距計6からの光を半透明鏡8−2を介し
て前述した光学系に出力することにより、その反
射光をもとに被測定物5の概略外径寸法を測長す
ることができる。
定台13−1,13−2を適宜離間させて垂直に
固定し、その間に被測定物5をセツトしてレーザ
光源1からのレーザ光を半透明鏡8−2を介して
半透明鏡14により透過光と反射光の2系統に分
割し、その透過光を被測定物5の一端測定点X
に、また反射光を半透明鏡15、反射鏡17,1
6を介して被測定物5の他端測定点Yに当てる光
学系を形成し、さらに半透明鏡15の透過光を反
射鏡18を介して固定台13−2のZ点に当てる
光学系を形成するようにしたので、被測定物5の
両測定点から反射光とZ点からの反射光を信号処
理部2に入力することにより、固定台13−1,
13−2間の距離を測長することで、被測定物5
を固定13−1,13−2に密に接触させること
なく、また被測定物5のセツト位置を限定させる
ことなく、被測定物5の外径寸法を高精度に絶対
測長することができる。また被測定物5の測長に
先立ち測距計6からの光を半透明鏡8−2を介し
て前述した光学系に出力することにより、その反
射光をもとに被測定物5の概略外径寸法を測長す
ることができる。
なお、上記実施例では被測定物5としてタービ
ンロータについて述べたが、水車、ケーシング等
の寸法測長の場合にも同様に適用実施できるもの
である。また、本装置では製品加工時に適用でき
ることは勿論、発電プラント等の現地据付工事を
行なうような場合にも適用することができる。
ンロータについて述べたが、水車、ケーシング等
の寸法測長の場合にも同様に適用実施できるもの
である。また、本装置では製品加工時に適用でき
ることは勿論、発電プラント等の現地据付工事を
行なうような場合にも適用することができる。
以上述べたように本考案によれば、1対の固定
台を適宜離間させて固定し、その間に被測定物を
セツトして半透明鏡によりレーザ光源から発振さ
れるレーザ光を反射光と透過光との2系統に分割
しその透過光を被測定物の一端測定点に当て、ま
た反射光を半透明鏡および反射鏡を介して被測定
物の他端測定点に当てる光学系を形成すると共に
半透明鏡から得られる前記とは別の系統の透過光
を一方の固定台から他方の固定台に当てる光学系
を形成してそれぞれその反射光を得、これらを干
渉部を通して信号処理部に入力することにより、
固定台間の距離を測定することで被測定物と固定
台との接触部を無くし、被測定物のセツト位置も
限定することなく、またセツト台の傾きを調整不
要にして効率良く、高精度に被測定物の長さ、外
径寸法を絶対測長することができるレーザ測長装
置を提供することができる。
台を適宜離間させて固定し、その間に被測定物を
セツトして半透明鏡によりレーザ光源から発振さ
れるレーザ光を反射光と透過光との2系統に分割
しその透過光を被測定物の一端測定点に当て、ま
た反射光を半透明鏡および反射鏡を介して被測定
物の他端測定点に当てる光学系を形成すると共に
半透明鏡から得られる前記とは別の系統の透過光
を一方の固定台から他方の固定台に当てる光学系
を形成してそれぞれその反射光を得、これらを干
渉部を通して信号処理部に入力することにより、
固定台間の距離を測定することで被測定物と固定
台との接触部を無くし、被測定物のセツト位置も
限定することなく、またセツト台の傾きを調整不
要にして効率良く、高精度に被測定物の長さ、外
径寸法を絶対測長することができるレーザ測長装
置を提供することができる。
第1図は本考案によるレーザ測長装置の一実施
例を示す構成説明図、第2図は同実施例において
具体的数値による測長手順を説明するための図、
第3図乃至第5図は従来のレーザ測長装置の構成
例を説明するための図、第6図は本考案に先立つ
て考えられたレーザ測長装置の構成例を説明する
ための図である。 1……レーザ光源、2……干渉部、3……信号
処理部、6……測距計、8−2,14,15……
半透明鏡、13−1,13−2……固定台、1
6,17,18……反射鏡。
例を示す構成説明図、第2図は同実施例において
具体的数値による測長手順を説明するための図、
第3図乃至第5図は従来のレーザ測長装置の構成
例を説明するための図、第6図は本考案に先立つ
て考えられたレーザ測長装置の構成例を説明する
ための図である。 1……レーザ光源、2……干渉部、3……信号
処理部、6……測距計、8−2,14,15……
半透明鏡、13−1,13−2……固定台、1
6,17,18……反射鏡。
Claims (1)
- レーザ光源と、被測定物体を間に非接触状態に
して設けられた1対の固定台と、前記レーザ光源
から発振されるレーザ光を半透明鏡を介して反射
光と透過光との2系統に分割しその透過光を被測
定物の一端測定点に当て、また反射光を半透明鏡
および反射鏡を介して前記被測定物の他端測定点
に当てると共に前記半透明鏡を透過する前記とは
別の系統の分割光を反射鏡を介して前記一方の固
定台から他方の固定台に当てるように形成された
光学系と、光源を有しこの光源からの光を前記光
学系を通して前記被測定物に当てその反射光から
前記被測定物の概略長さ、概略外径寸法を測長す
る測距計と、前記被測定物からの反射光および前
記固定台からの反射光を干渉部を介して入力し両
固定台間の距離の測長および前記被測定物の長
さ、外径寸法等を測長するに必要な信号に処理す
る信号処理部とを備えたことを特徴とするレーザ
測長装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12634387U JPH0452643Y2 (ja) | 1987-08-21 | 1987-08-21 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12634387U JPH0452643Y2 (ja) | 1987-08-21 | 1987-08-21 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6433013U JPS6433013U (ja) | 1989-03-01 |
| JPH0452643Y2 true JPH0452643Y2 (ja) | 1992-12-10 |
Family
ID=31377783
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12634387U Expired JPH0452643Y2 (ja) | 1987-08-21 | 1987-08-21 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0452643Y2 (ja) |
-
1987
- 1987-08-21 JP JP12634387U patent/JPH0452643Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6433013U (ja) | 1989-03-01 |
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