JPH0453830A - 新規な液晶性高分子化合物およびその製造方法 - Google Patents

新規な液晶性高分子化合物およびその製造方法

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JPH0453830A
JPH0453830A JP16273890A JP16273890A JPH0453830A JP H0453830 A JPH0453830 A JP H0453830A JP 16273890 A JP16273890 A JP 16273890A JP 16273890 A JP16273890 A JP 16273890A JP H0453830 A JPH0453830 A JP H0453830A
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Japan
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general formula
crystalline polymer
polymer compound
liquid crystalline
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JP16273890A
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English (en)
Inventor
Yoshiyuki Tasaka
佳之 田坂
Kenji Yamada
山田 憲二
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は液晶性を有する新規なポリアミドイミド系高分
子化合物およびその製造方法に関するものである。
[従来の技術] 溶液中で液晶となるリオトロピック液晶の性質を示す高
分子化合物には、芳香族ポリアミド系のポリ(p−フェ
ニレンテレフタルアミド)の他にボ1J(p−フェニレ
ンベンゾビスチアゾール)、ポリ(テレフタロイルヒド
ラジド)、セルロース誘導体、ポリペプチド系等が知ら
れている。これらの液晶性ポリマーは溶液中で液晶を形
成するので、繊維やフィルムの製造に適している。すな
わち、リオトロピック液晶では、紡糸あるいはキャスト
の際に分子が流動方向に配向するので、機械的強度の優
れた繊維あるいは性質に異方性のあるフィルムなどを製
造することができる。
「発明が解決しようとする課題] ところで、芳香族ポリアミドイミド系梅脂は耐熱性、機
械的特性、電気的特性のいずれにも優れた樹脂であり、
産業的に非常に有望な材料である。
しかしながら、従来の芳香族ポリアミドイミド系樹脂で
リオトロピック液晶の性質を有するものは知られておら
ず、繊維やフィルムなどに利用しても製品の性能には限
界があった。従って、優れた特性を有する分子の配向し
た繊維やフィルムを製造するために、リオトロピック液
晶性を有する新規な芳香族ポリアミドイミド系樹脂の開
発が切望されている。
本発明はこのような現状に鑑み、リオトロピック液晶性
を有し、配向させることで機械的特性や熱的特性を向上
できる新規な芳香族ポリアミドイミド系高分子化合物お
よびその製造方法の提供を課題としてなされたものであ
る。
[課題を解決するための手段] 本発明者らは液晶性を示す新規な芳香族ポリアミドイミ
ド系高分子化合物の分子構造およびその合成方法につい
て鋭意検討の結果、下記の(1)で表される高分子化合
物が上記課題を解決できることを確かめ、本発明の目的
を達成するに至った。
すなわち、本発明の第1の発明は 下記一般式(1) [nは20〜600の整数を表す1 て表される液晶性高分子化合物を提供する。
さらに本発明の第2の発明は 下記一般式(IJ) 1mは20〜600の整数を表す7 て表される液晶性高分子化合物を提供する。
さらに、本発明は第3、第4の発明として上記(1)1
式(I])で表される液晶性高分子化合物の製造方法を
提供するものであり、本発明の第3の発明は下記一般式
(III) て表される芳香族ジアミンと、 下記一般式(IV) て表される液晶性高分子化合物の製造方法に関する。
また、本発明の第4の発明は上記一般式(1)で表され
るポリアミドアミック酸を200℃以上の温度で熱処理
するか、または該ポリアミドアミック酸に無水酢酸とピ
リジンとを反応させて、該ポリアミドアミック酸をイミ
ド化することを特徴とする下記一般式(It) で表される無水塩化トリメット酸とを反応させることを
特徴とする下記一般式(1) [nは20〜600の整数を表すa [rrlは20〜600の整数を表すでて表される液晶
性高分子化合物の製造方法に関する。
本発明の液晶性高分子化合物は芳香族ポリアミドイミド
系に属する新規な高分子化合物であり、前記のように芳
香族ポリアミドイミド系高分子重合体でリオトロピック
液晶性を示す例は従来報告されておらず、本発明は芳香
族ポリアミドイミド系高分子てもりオトロビノク液晶性
を示す可能性があることを初めて明らかにしたものであ
る。
以下、本発明の芳香族ポリアミドイミド系樹脂について
、その製造方法から詳しく説明してゆく。
本発明の芳香族ポリアミドイミド系高分子化合物は、上
記一般式(III)の化合物および無水トリメット酸ク
ロライドを原料として合成される。なお、一般式(II
I)で示される芳香族ジアミンは、特願昭63−287
609号明細書として既に出願された製法に従い、N、
N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミンとp−二ト
ロ塩化ベンゾイルを出発原料として合成することができ
る。
本発明の高分子化合物の合成方法としては直接重縮合法
、低温溶液重縮合法、高温溶液重縮合法、界面重縮合法
などが挙げられる。簡単には低温溶液重縮合法で合成で
き、このとき使用し得る溶媒は、ジメチルアセトアミド
、N−メチル−2−ピロリドンなどが挙げられるが、N
−メチル−2ピロリドンが好ましい。この重合で使用し
得る酸受容剤としては、トリエチルアミン、トリブチル
アミン、トリエチレンジチアミンなどが挙げられる。こ
の重合の初期温度はO′Cが好ましく、重合が進行して
溶液の粘度が増してからは、309C〜40°C程度で
重合を続けるのが好ましい。
この重合の原料(モノマー)の配合比は、化学量論的に
ジアミン成分と無水トリメット酸クロライド成分とが等
モルとなるのが好ましい。
この重合に適するモノマー濃度は、使用する溶媒により
異なるが、0 、1 moc/ (!程度が好ましい。
この重合の重合時間は、重合温度、使用する溶媒の種類
、モノマー濃度、撹拌の状態などにより大きく左右され
るが、重合溶液の粘度が増加しなくなるまで、数時間か
ら数十時間重合させるのが好ましい。
かくして得られる一般式(1) [nは20〜600の整数を表す] て表される芳香族ポリアミック酸は、トJ−メチル2−
ピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシドなとの有機溶媒に可溶であ
り、ある濃度以上で液晶性を示す。この液晶性を示す濃
度は、使用する溶媒によって異なるが、約10重量%程
度で液晶となる。
この液晶溶液は、紡糸用原液、フィルムのキャスト液、
ワニスなどに直接利用できる。
次に、上記(1)で示されるポリアミ・ツク酸を加熱す
るか、化学的処理することにより、下記−般式(II) [mは20〜600の整数を表す] で表される芳香族ポリアミドイミドに変えることができ
る、これにより、機械的強度、熱的特性、電気的特性が
飛躍的に向上する。この化学構造の変化は、分子内のみ
て起こるのではなく、分子間でも起こり、架橋、分岐し
て分子量は増大する。
すなわち、熱処理または化学的処理により大部分は式(
n)で表される閉環したイミド基を有する芳香族ポリア
ミドイミドに変化するが、一部は開環したイミド基によ
り架橋したもの、あるいはアミック酸構造が残っている
部分も含まれる。熱処理によるイミド化の条件は試料の
形状などにより異なるが、最終的には260°C程度の
温度まで段階的に数時間から数十時間かけて行うのか好
ましい。
なお、化学的処理によるイミド化の方法としては、重合
か終了した反応溶液に無水酢酸とピリジンを加えて加熱
する方法、ポリリン酸、モレキュラーンーブス、シリカ
ケル等の脱水剤を加えてイミド化する方法等かあるが、
工業的には前記の加熱法によるのか有利である。
[実施例〕 以下に実施例を示し本発明を具体的に説明するか、本発
明はこれに限定されるものではない。
実施例1 窒素雰囲気下で、N、N’ −ジフェニル−N。
N’−1,4−フェニレンビス(4−アミノベンズアミ
ド)  4.99 g  (10mmoff)を100
mQのN−メチル−2−ピロリドンに溶解させた。この
溶液を0℃に冷却してからトリエチルアミン1.4 m
g(] On++eof2)と無水トリメット酸クロラ
イド2.11 g (10msog)  を加えて2時
間撹拌した。さらにこの溶液を室温で6時間撹拌を続け
た。この溶液を3Qの撹拌水中に滴下して高分子化合物
を沈澱させた。この高分子化合物を乾燥後、再び100
mffのN−メチル−2−ピロリドンに溶解し、この溶
液を3Qの撹拌水中に滴下して高分子化合物を沈澱させ
た。再沈後の該高分子化合物の収量は6.13gであっ
た。
得られた高分子化合物はゲル浸透クロマトグラフ分析に
より第1図に示すように重量平均分子量(M)約7万(
ポリスチレン換算)の分子量を有することがわかった。
該高分子化合物はジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチル−2−ピ
ロリドンに可溶であった。この高分子化合物の赤外吸光
分光分析結果は第2図に示したように、アミド結合(1
653cm−’)、カルボキシル基(17] 8 cm
−’)の存在を示した。従って、この高分子化合物は上
記構造式(1)で表される芳香族ポリアミック酸である
と同定できた。
実施例1で得られた芳香族ポリアミック酸2gを12m
Cのジメチルアセトアミドに完全に溶解させた。この溶
液を室温で偏光顕微鏡観察したところ、直交差ニコル下
で光学的異方性を示し、この芳香族ポリアミック酸はり
オトロビック液晶となることが確認された。更に、ジメ
チルホルムアミド中の芳香族ポリアミック酸濃度を変え
て、粘度の測定、偏光顕微鏡による光学的異方性の観察
を実施したところ、濃度約10%までは濃度の増加と共
に粘度が上昇し、溶液は光学的等方性であったが、濃度
約10%以上で粘度か減少し、溶液か光学的異方性を示
すことが確認された。光学的異方性を示す溶液を希釈し
て濃度を10%以下にすると、再び光学的等方性を示し
た。
実施例2 実施例1て得られた芳香族ポリアミック酸を窒素雰囲気
下、100 ’Cて1時間、200℃で1時間、250
 ’Cて1時間熱処理した。この熱処理試料の赤外吸光
分光分析結果は第3図に示したように、イミド基(17
80cm−’)の存在を示し、上記構造式(II)の芳
香族ポリアミドイミドに変化したことが確認された。
この芳香族ポリアミドイミドの熱重量分析法による熱分
解温度は367°C(昇温速度10°C/ m in1
空気中)であり、高い耐熱性を有することを確認した。
[発明の効果〕 本発明はりオトロピノク液晶性を有する一般式(1)で
示される繰り返し単位を有する芳香族ポリアミック酸お
よび一般式(II)で示される繰り返し単位を有する芳
香族ポリアミドイミドという新規な構造で且つ液晶性を
有する高分子化合物とこれらの有利な製造方法を提供で
きる。
本発明の本発明ポリアミドイミド系樹脂はりオトロビノ
ク液晶性を有するゆえに、繊維、フィルムなとを製造す
る際に分子配向が容易であり、優れた機械的特性を引き
出すことができ、耐熱性も高く、工業材料として価値が
大きい。
【図面の簡単な説明】
第1図は一般式(1)で示される本発明の芳香族ポリア
ミック酸の重量平均分子量分布図、第2図は実施例1で
得られた本発明の芳香族ポリアミ7り酸の赤外分光分析
チャート図、第3図は実施例2て得られた本発明の芳香
族ポリアミドイミドの赤外分光分析チャート図を示す。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ [nは20〜600の整数を表す] で表される液晶性高分子化合物。
  2. (2)下記一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ [mは20〜600の整数を表す] で表される液晶性高分子化合物。
  3. (3)下記一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される芳香族ジアミンと、 下記一般式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される無水塩化トリメット酸とを反応させることを
    特徴とする下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ [nは20〜600の整数を表す] で表される液晶性高分子化合物の製造方法。
  4. (4)下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ [nは20〜600の整数を表す] で表されるポリアミドアミツク酸を200℃以上の温度
    で熱処理するか、または該ポリアミドアミツク酸に無水
    酢酸とピリジンとを反応させて、該ポリアミドアミツク
    酸をイミド化することを特徴とする下記一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ [mは20〜600の整数を表す] で表される液晶性高分子化合物の製造方法。
JP16273890A 1990-06-22 1990-06-22 新規な液晶性高分子化合物およびその製造方法 Pending JPH0453830A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100433809B1 (ko) * 2002-02-25 2004-06-04 삼성중공업 주식회사 횡방향 어스 앵커에 의하여 보강되는 토류벽을 이용한지반의 굴착 및 성토 시공방법
JP2015166844A (ja) * 2014-02-13 2015-09-24 Jsr株式会社 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子、位相差フィルム、位相差フィルムの製造方法、重合体及び化合物

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100433809B1 (ko) * 2002-02-25 2004-06-04 삼성중공업 주식회사 횡방향 어스 앵커에 의하여 보강되는 토류벽을 이용한지반의 굴착 및 성토 시공방법
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