JPH0456180A - レーザー装置 - Google Patents
レーザー装置Info
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- JPH0456180A JPH0456180A JP16361390A JP16361390A JPH0456180A JP H0456180 A JPH0456180 A JP H0456180A JP 16361390 A JP16361390 A JP 16361390A JP 16361390 A JP16361390 A JP 16361390A JP H0456180 A JPH0456180 A JP H0456180A
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- Japan
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- duct
- laser
- laser device
- mirror
- optical parts
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 25
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 4
- 238000007791 dehumidification Methods 0.000 claims 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 abstract description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 abstract description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N uranium(0) Chemical compound [U] JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザー装置に関し、特に、レーザー装置の共
振器を構成する部分反射鏡、全反射鏡、波長選択素子等
の光学部品の損傷しきい値を高くして、レーザー装置の
高出力化を容易にするレーザー装置に関する。
振器を構成する部分反射鏡、全反射鏡、波長選択素子等
の光学部品の損傷しきい値を高くして、レーザー装置の
高出力化を容易にするレーザー装置に関する。
レーザー装置を使用する遅境としては、通常の場合、特
にダストコントロールされていない場所であることが多
い。このような場合、空気中に存在する微小な粉塵及び
水分等が光学部品の表面に付着し、光学部品のレーザー
光強度に対する損傷しきい値を低下させ、発振中に破壊
を起こす原因となり、レーザー装置の出力を決定する1
つの要因となっている。この空気中の微小な粉塵や水分
による光学部品の破壊を防ぐ方法としては、レーザー装
置を設置する場所を温湿度管理可能にし、かつ、クリー
ンルーム化等をすればよいが、このようにするには膨大
な費用と労力が必要となり、実用上適切な解決方法とは
言いがたい。
にダストコントロールされていない場所であることが多
い。このような場合、空気中に存在する微小な粉塵及び
水分等が光学部品の表面に付着し、光学部品のレーザー
光強度に対する損傷しきい値を低下させ、発振中に破壊
を起こす原因となり、レーザー装置の出力を決定する1
つの要因となっている。この空気中の微小な粉塵や水分
による光学部品の破壊を防ぐ方法としては、レーザー装
置を設置する場所を温湿度管理可能にし、かつ、クリー
ンルーム化等をすればよいが、このようにするには膨大
な費用と労力が必要となり、実用上適切な解決方法とは
言いがたい。
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、
その目的は、上記のような従来技術の欠点を解決して、
温湿度管理及びクリーンルーム化を必要とせずに、安価
に、レーザー共振器等を構成する耐光強度の弱し)光学
部品を微小な粉塵及び水分等の付着から保護し、光学部
品の光に対する破壊しきい値を低下させないようにし、
その結果きしてレーザー装置の高出力化を可能にしたレ
ーザー装置を提供することである。
その目的は、上記のような従来技術の欠点を解決して、
温湿度管理及びクリーンルーム化を必要とせずに、安価
に、レーザー共振器等を構成する耐光強度の弱し)光学
部品を微小な粉塵及び水分等の付着から保護し、光学部
品の光に対する破壊しきい値を低下させないようにし、
その結果きしてレーザー装置の高出力化を可能にしたレ
ーザー装置を提供することである。
上記目的を達成する本発明のレーザー装置は、少なくと
も部分反射フロントミラー、全反射リアミラーからなる
レーザー共振器と、該共振器中に配置されたレーザー媒
質チャンバーとを備えるレーザー装置において、レーザ
ー媒質チャンバーの両端にダクトを設け、一方のダクト
中に部分反射フロントミラーを配置し、該一方のダクト
のレーザー媒質チャンバーとは反対側の端部をレーザー
光出射窓にて閉じ、他方のダクト中に全反射リアミラー
を配置することにより、レーザー装置の設置してある部
屋の雰囲気からレーザー装置を構成する光学部品を隔離
して除湿及び除塵するようにしたことを特徴とするもの
である。
も部分反射フロントミラー、全反射リアミラーからなる
レーザー共振器と、該共振器中に配置されたレーザー媒
質チャンバーとを備えるレーザー装置において、レーザ
ー媒質チャンバーの両端にダクトを設け、一方のダクト
中に部分反射フロントミラーを配置し、該一方のダクト
のレーザー媒質チャンバーとは反対側の端部をレーザー
光出射窓にて閉じ、他方のダクト中に全反射リアミラー
を配置することにより、レーザー装置の設置してある部
屋の雰囲気からレーザー装置を構成する光学部品を隔離
して除湿及び除塵するようにしたことを特徴とするもの
である。
この場合、ダクト中を略真空状態にするか、ダクト中に
クリーンエア又は不活性ガスを封入することにより除湿
及び除塵するようにすることが望ましい。
クリーンエア又は不活性ガスを封入することにより除湿
及び除塵するようにすることが望ましい。
本発明においては、レーザー媒質チャンバーの両端にダ
クトを設け、一方のダクト中に部分反射フロントミラ〜
を配置し、該一方のダクトのレーザー媒質チャンバーと
は反対側の端部をレーザー光出射窓にて閉じ、他方のダ
クト中に全反射リアミラーを配置することにより、レー
ザー装置の設置してある部屋の雰囲気からレーザー装置
を構成する光学部品を隔離するようにしたので、耐光強
度の弱い光学部品の破壊の原因となる部屋の中の微小な
粉塵及び水分が光学部品の表面に付着することが防止で
きる。したがって、光学部品を略理想状態で使用でき、
その素材の物性値によって決まる損傷しきい値近傍での
最大出力で動作させることが可能になり、また、汚れに
よる光損出がなくなるので、レーザー装置の高出力化、
高効率化が可能になる。
クトを設け、一方のダクト中に部分反射フロントミラ〜
を配置し、該一方のダクトのレーザー媒質チャンバーと
は反対側の端部をレーザー光出射窓にて閉じ、他方のダ
クト中に全反射リアミラーを配置することにより、レー
ザー装置の設置してある部屋の雰囲気からレーザー装置
を構成する光学部品を隔離するようにしたので、耐光強
度の弱い光学部品の破壊の原因となる部屋の中の微小な
粉塵及び水分が光学部品の表面に付着することが防止で
きる。したがって、光学部品を略理想状態で使用でき、
その素材の物性値によって決まる損傷しきい値近傍での
最大出力で動作させることが可能になり、また、汚れに
よる光損出がなくなるので、レーザー装置の高出力化、
高効率化が可能になる。
第1図に本発明によるレーザー装置の1実施例の斜視図
を示す。
を示す。
このレーザー装置は、レーザー光出射窓1、部分反射フ
ロントミラー2、ブリュースター窓3、レーザー媒質チ
ャンバー4、全反射リアミラー(波長選択のためのグレ
ーティングを設ける場合もある。)5、リアフランジ6
、ダクト7、フロント7ランジ8等からなっており、ダ
クト7は図示していない排気ノズルを経て真空ポンプに
より数Torr以下の圧力状態にすることが可能になっ
ている。
ロントミラー2、ブリュースター窓3、レーザー媒質チ
ャンバー4、全反射リアミラー(波長選択のためのグレ
ーティングを設ける場合もある。)5、リアフランジ6
、ダクト7、フロント7ランジ8等からなっており、ダ
クト7は図示していない排気ノズルを経て真空ポンプに
より数Torr以下の圧力状態にすることが可能になっ
ている。
ところで、通常、このようなレーザー装置を構成する光
学部品の中で耐光強度が弱いものは、部分反射フロント
ミラー、グレーティング、エタロン等である。上記のよ
うなレーザー装置のレーザー発振プロセスを第1図にお
いて考えると、まず、レーザー媒質チャンバー4中のレ
ーザー媒質が何らかの手段で励起される。チャンバー4
で発生した光は、部分反射フロントミラー2と全反射リ
アミラー5の間で周回しながら誘導放出を繰り返し起こ
し、増幅されて行き、その一部が部分反射フロントミラ
ー2を透通し、コヒーレントなレザー光放射が起こる。
学部品の中で耐光強度が弱いものは、部分反射フロント
ミラー、グレーティング、エタロン等である。上記のよ
うなレーザー装置のレーザー発振プロセスを第1図にお
いて考えると、まず、レーザー媒質チャンバー4中のレ
ーザー媒質が何らかの手段で励起される。チャンバー4
で発生した光は、部分反射フロントミラー2と全反射リ
アミラー5の間で周回しながら誘導放出を繰り返し起こ
し、増幅されて行き、その一部が部分反射フロントミラ
ー2を透通し、コヒーレントなレザー光放射が起こる。
このプロセスの中で、最も光による電界が強くなるのは
、部分反射フロントミラー2と全反射リアミラー5の間
に挟まれている領域である。ところで、通常、ブリニー
スター窓3、部分反射フロントミラー2、及び、全反射
リアミラー5は、レーザー装置が設置してある部屋の雰
囲気の中に保持されるが、上記したようにこのように保
持すると、空気中に存在する微小な粉塵及び水分等がこ
れら光学部品2.3.5の表面に付着し、これら光学部
品のレーザー光強度に対する損傷しきい値を低下させ、
発振中に破壊を起こす原因となる。そこで、本発明にお
いては、レーザー媒質チャンバー4の両端面にダクト7
を配置し、フロント側のダクト7中にブリュースター窓
3と部分反射フロントミラー2を配置し、フロント側ダ
クト7の他端をフロントフランジ8とその中心部に取り
付けたレーザー光出射窓1によって閉じ、また、リア側
のダクト7中にブリュースター窓3と全反射リアミラー
5を配置し、このリア側ダクト7の他端をリアフランジ
6によって閉じるようにし、各ダクト7内部をそれに取
り付けた排気ノズル(図示省略)を介して真空ポンプ等
で圧力数Torr以下の状態にする。このようにした結
果、レーザー装置の共振器等を構成する光学部品2.3
.5の周囲は真空状態となるため、それらの表面に付着
する微小な粉塵及び水分等は激減する。したがって、こ
れらの光学部品の光に対する破壊しきい値は低下せず、
レーザー装置の高出力化が可能になる。
、部分反射フロントミラー2と全反射リアミラー5の間
に挟まれている領域である。ところで、通常、ブリニー
スター窓3、部分反射フロントミラー2、及び、全反射
リアミラー5は、レーザー装置が設置してある部屋の雰
囲気の中に保持されるが、上記したようにこのように保
持すると、空気中に存在する微小な粉塵及び水分等がこ
れら光学部品2.3.5の表面に付着し、これら光学部
品のレーザー光強度に対する損傷しきい値を低下させ、
発振中に破壊を起こす原因となる。そこで、本発明にお
いては、レーザー媒質チャンバー4の両端面にダクト7
を配置し、フロント側のダクト7中にブリュースター窓
3と部分反射フロントミラー2を配置し、フロント側ダ
クト7の他端をフロントフランジ8とその中心部に取り
付けたレーザー光出射窓1によって閉じ、また、リア側
のダクト7中にブリュースター窓3と全反射リアミラー
5を配置し、このリア側ダクト7の他端をリアフランジ
6によって閉じるようにし、各ダクト7内部をそれに取
り付けた排気ノズル(図示省略)を介して真空ポンプ等
で圧力数Torr以下の状態にする。このようにした結
果、レーザー装置の共振器等を構成する光学部品2.3
.5の周囲は真空状態となるため、それらの表面に付着
する微小な粉塵及び水分等は激減する。したがって、こ
れらの光学部品の光に対する破壊しきい値は低下せず、
レーザー装置の高出力化が可能になる。
また、ダクト7に取り付けた吸気ノズル(図示省略)よ
り、ダクト7内にクリーンエア(クラス1000以下)
あるいはクリーン度の高い不活性ガスを封入することに
より、ブリュースター窓7、部分反射フロントミラー2
、全反射リアミラー5等の表面に付着する微小な粉塵及
び水分等を減らすことか可能となる。
り、ダクト7内にクリーンエア(クラス1000以下)
あるいはクリーン度の高い不活性ガスを封入することに
より、ブリュースター窓7、部分反射フロントミラー2
、全反射リアミラー5等の表面に付着する微小な粉塵及
び水分等を減らすことか可能となる。
ところで、レーザー光出射窓1の上での放射光の電界強
度は、共振器内部に比べて172〜l/10程度であり
、かつ、耐光強度の比較的強い無反射コーティングが使
えるので、レーザー装置が設置してある部屋の雰囲気中
にあっても破損する可能性は殆どない。
度は、共振器内部に比べて172〜l/10程度であり
、かつ、耐光強度の比較的強い無反射コーティングが使
えるので、レーザー装置が設置してある部屋の雰囲気中
にあっても破損する可能性は殆どない。
以上、本発明のレーザー装置を実施例について説明して
きたが、本発明はこの実施例に限定されず種々の変形が
可能である。
きたが、本発明はこの実施例に限定されず種々の変形が
可能である。
本発明のレーザー装置は、レーザー媒質チャンバーの両
端にダクトを設け、一方のダクト中に部分反射フロント
ミラーを配置し、該一方のダクトのレーザー媒質チャン
バーとは反対側の端部をレーザー光出射窓にて閉じ、他
方のダクト中に全反射リアミラーを配置することにより
、レーザー装置の設置してある部屋の雰囲気からレーザ
ー装置を構成する光学部品を隔離するようにしたので、
耐光強度の弱51光学部品の破壊の原因となる部屋の中
の微小な粉塵及び水分が光学部品の表面に付着すること
が防止できる。したがって、光学部品を略理想状態で使
用でき、その素材の物性値によって決まる損傷しきい値
近傍での最大出力で動作させることが可能になり、また
、汚れによる光損出がなくなるので、レーザー装置の高
出力化、高効率化が可能になる。
端にダクトを設け、一方のダクト中に部分反射フロント
ミラーを配置し、該一方のダクトのレーザー媒質チャン
バーとは反対側の端部をレーザー光出射窓にて閉じ、他
方のダクト中に全反射リアミラーを配置することにより
、レーザー装置の設置してある部屋の雰囲気からレーザ
ー装置を構成する光学部品を隔離するようにしたので、
耐光強度の弱51光学部品の破壊の原因となる部屋の中
の微小な粉塵及び水分が光学部品の表面に付着すること
が防止できる。したがって、光学部品を略理想状態で使
用でき、その素材の物性値によって決まる損傷しきい値
近傍での最大出力で動作させることが可能になり、また
、汚れによる光損出がなくなるので、レーザー装置の高
出力化、高効率化が可能になる。
なお、本発明においては、ダクト中を略真空状態にする
か、ダクト中にクリーンエア又は不活性ガスを封入する
と以上の効果はさらに著しくなる。
か、ダクト中にクリーンエア又は不活性ガスを封入する
と以上の効果はさらに著しくなる。
以上のように構成することにより、レーザー装置を設置
する部屋を温湿度管理可能にかつりU −ンルーム化す
ることなく、極めて簡単に除湿及び除塵することが可能
になり、設備投資が不必要になり、コストを低減できる
。
する部屋を温湿度管理可能にかつりU −ンルーム化す
ることなく、極めて簡単に除湿及び除塵することが可能
になり、設備投資が不必要になり、コストを低減できる
。
本発明のレーザー装置は、上記のように費用が余りかか
らずに高出力化、高効率化ができるので、分子法レーザ
ーウラン濃縮用レーザー装置、レーザー加工機等産業用
レーザーシステム、理化学研究用レーザーシステム等の
ために有用なものである。
らずに高出力化、高効率化ができるので、分子法レーザ
ーウラン濃縮用レーザー装置、レーザー加工機等産業用
レーザーシステム、理化学研究用レーザーシステム等の
ために有用なものである。
第1図は本発明によるレーザー装置の1実施例の斜視図
である。
である。
Claims (2)
- (1)少なくとも部分反射フロントミラー、全反射リア
ミラーからなるレーザー共振器と、該共振器中に配置さ
れたレーザー媒質チャンバーとを備えるレーザー装置に
おいて、レーザー媒質チャンバーの両端にダクトを設け
、一方のダクト中に部分反射フロントミラーを配置し、
該一方のダクトのレーザー媒質チャンバーとは反対側の
端部をレーザー光出射窓にて閉じ、他方のダクト中に全
反射リアミラーを配置することにより、レーザー装置の
設置してある部屋の雰囲気からレーザー装置を構成する
光学部品を隔離して除湿及び除塵するようにしたことを
特徴とするレーザー装置。 - (2)ダクト中を略真空状態にするか、ダクト中にクリ
ーンエア又は不活性ガスを封入することにより除湿及び
除塵するようにしたことを特徴とする請求項1記載のレ
ーザー装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16361390A JPH0456180A (ja) | 1990-06-21 | 1990-06-21 | レーザー装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16361390A JPH0456180A (ja) | 1990-06-21 | 1990-06-21 | レーザー装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0456180A true JPH0456180A (ja) | 1992-02-24 |
Family
ID=15777256
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16361390A Pending JPH0456180A (ja) | 1990-06-21 | 1990-06-21 | レーザー装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0456180A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6182490A (ja) * | 1984-09-29 | 1986-04-26 | Toshiba Corp | 外部反射鏡レ−ザ装置 |
| JPS62102577A (ja) * | 1985-10-29 | 1987-05-13 | Nec Corp | イオンレ−ザ装置 |
-
1990
- 1990-06-21 JP JP16361390A patent/JPH0456180A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6182490A (ja) * | 1984-09-29 | 1986-04-26 | Toshiba Corp | 外部反射鏡レ−ザ装置 |
| JPS62102577A (ja) * | 1985-10-29 | 1987-05-13 | Nec Corp | イオンレ−ザ装置 |
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