JPH0456184A - 高繰り返しラマンレーザー装置 - Google Patents
高繰り返しラマンレーザー装置Info
- Publication number
- JPH0456184A JPH0456184A JP16361490A JP16361490A JPH0456184A JP H0456184 A JPH0456184 A JP H0456184A JP 16361490 A JP16361490 A JP 16361490A JP 16361490 A JP16361490 A JP 16361490A JP H0456184 A JPH0456184 A JP H0456184A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conversion
- raman
- cell
- saturation
- laser device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 title claims abstract description 70
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 113
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 5
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 claims description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 abstract description 12
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 abstract description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N uranium(0) Chemical compound [U] JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- YXKMMRDKEKCERS-UHFFFAOYSA-N cyazofamid Chemical compound CN(C)S(=O)(=O)N1C(C#N)=NC(Cl)=C1C1=CC=C(C)C=C1 YXKMMRDKEKCERS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000005372 isotope separation Methods 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
- SANRKQGLYCLAFE-UHFFFAOYSA-H uranium hexafluoride Chemical compound F[U](F)(F)(F)(F)F SANRKQGLYCLAFE-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、入射パルスレーザ−光の波長を変換するラマ
ンレーザー装置に関し、特に、パルス繰り返し数を高め
ても安定に動作させることが可能な高繰り返しパラ水素
ラマンレーザー装置に関する。
ンレーザー装置に関し、特に、パルス繰り返し数を高め
ても安定に動作させることが可能な高繰り返しパラ水素
ラマンレーザー装置に関する。
パラ水素は偶数の回転量子数しかとり得ない。
その回転量子数0と2の間のエネルギー差を利用して、
振動数ν、の入射光をランマン変換によりν、−ν、の
振動数の光に変換することは、パラ水素ラマンレーザー
装置として公知である(ν。
振動数ν、の入射光をランマン変換によりν、−ν、の
振動数の光に変換することは、パラ水素ラマンレーザー
装置として公知である(ν。
はパラ水素のストークスシフトで、はぼ300〜400
cm”。)。入射光として炭酸ガスレーザー光を用いる
場合、このようなパラ水素ラマンレーザー装置によって
周波数変換された光の波長は16μm前後で、フッ化ウ
ランの吸収波長に一致するため、分子法レーザーウラン
濃縮用赤外レーザー装置に利用可能である。また、この
波長はその他の重金属のフッ化物の吸収波長にも一致す
るたt1重金属同位体分離用赤外レーザー装置としても
利用可能である。
cm”。)。入射光として炭酸ガスレーザー光を用いる
場合、このようなパラ水素ラマンレーザー装置によって
周波数変換された光の波長は16μm前後で、フッ化ウ
ランの吸収波長に一致するため、分子法レーザーウラン
濃縮用赤外レーザー装置に利用可能である。また、この
波長はその他の重金属のフッ化物の吸収波長にも一致す
るたt1重金属同位体分離用赤外レーザー装置としても
利用可能である。
ところで、従来のパラ水素ラマンレーザー装置は、1秒
当たり数回以下のパルス繰り返し周波数でしか発振を行
っておらず、媒質ガス(パラ水素)は変換用セル中に封
じ切りであっても、ラマン変換に伴う放熱(ストークス
線の放射を行った後、回転量子数2の状態から0の状態
に緩和する時に2つの準位のエネルギー差が熱に変換さ
れて放出される。)による媒質のゆらぎは、次のラマン
変換が起こるまでの時間が十分にあるため、完全に緩和
し、安定した発振を得ることが可能であった(例えば、
「応用物理」第57巻、第10号(1988年)第14
85〜1495頁〉。
当たり数回以下のパルス繰り返し周波数でしか発振を行
っておらず、媒質ガス(パラ水素)は変換用セル中に封
じ切りであっても、ラマン変換に伴う放熱(ストークス
線の放射を行った後、回転量子数2の状態から0の状態
に緩和する時に2つの準位のエネルギー差が熱に変換さ
れて放出される。)による媒質のゆらぎは、次のラマン
変換が起こるまでの時間が十分にあるため、完全に緩和
し、安定した発振を得ることが可能であった(例えば、
「応用物理」第57巻、第10号(1988年)第14
85〜1495頁〉。
しかしながら、1秒当たり数百回以上の高繰り返し発振
を行わせようとする場合、ラマン変換に伴う放熱により
発生したゆらぎは、パルス間隔が短いために、次の変換
が起こるまでに緩和せず、レーザー光はこのゆらぎによ
り変換用セル中で正確に伝搬しなくなり、所定の波長変
換されたレーザー光を安定して取り出すことは難しくな
る。
を行わせようとする場合、ラマン変換に伴う放熱により
発生したゆらぎは、パルス間隔が短いために、次の変換
が起こるまでに緩和せず、レーザー光はこのゆらぎによ
り変換用セル中で正確に伝搬しなくなり、所定の波長変
換されたレーザー光を安定して取り出すことは難しくな
る。
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、
その目的は、ラマン変換に伴う放熱によりラマン変換媒
質中に生じる不均一なゆらぎの除去又はその緩和を促進
し、高繰り返し発振を安定的に行わせるラマンレーザー
装置を提供することである。
その目的は、ラマン変換に伴う放熱によりラマン変換媒
質中に生じる不均一なゆらぎの除去又はその緩和を促進
し、高繰り返し発振を安定的に行わせるラマンレーザー
装置を提供することである。
また、このようなゆらぎの除去又はその緩和の促進を行
う際に、できる限り省力化を図ることを目的上する。
う際に、できる限り省力化を図ることを目的上する。
上記目的を達成する本発明の高繰り返しラマンレーザー
装置は、ラマン変換媒質で満たされ、入射繰り返しパル
ス光をその中で複数パス回数伝播させる2個の変換用マ
ルチパスセルを備え、第1の変換用マルチパスセルから
の出射光が第2の変換用マルチパスセルに入射するよう
に配置され、第1の変換用マルチパスセルのパス回数が
ラマン変換が飽和しない数に設定されており、第2の変
換用マルチパスセルのパス回数が、第1の変換用マルチ
パスセル中のパス回数と合わせて、ラマン変換が飽和す
る数以上に設定されていることを特徴とするものである
。
装置は、ラマン変換媒質で満たされ、入射繰り返しパル
ス光をその中で複数パス回数伝播させる2個の変換用マ
ルチパスセルを備え、第1の変換用マルチパスセルから
の出射光が第2の変換用マルチパスセルに入射するよう
に配置され、第1の変換用マルチパスセルのパス回数が
ラマン変換が飽和しない数に設定されており、第2の変
換用マルチパスセルのパス回数が、第1の変換用マルチ
パスセル中のパス回数と合わせて、ラマン変換が飽和す
る数以上に設定されていることを特徴とするものである
。
この場合、第2の変換用マルチパスセル中のラマン変換
媒質を、ラマン変換に伴う放熱によるゆらぎを実質的に
なくすのに必要な流速以上で流す手段を設けることが望
ましい。
媒質を、ラマン変換に伴う放熱によるゆらぎを実質的に
なくすのに必要な流速以上で流す手段を設けることが望
ましい。
以上のような構成の本発明の高繰り返しラマンレーザー
装置は、特に、ラマン変換媒質としてパラ水素を用いる
場合に有効である。
装置は、特に、ラマン変換媒質としてパラ水素を用いる
場合に有効である。
本発明においては、2個の変換用マルチパスセルを備え
、第1の変換用マルチパスセルのパス回数がラマン変換
が飽和しない数に設定されており、第2の変換用マルチ
パスセルのパス回数が、第1の変換用マルチパスセル中
のパス回数と合わせて、ラマン変換が飽和する数以上に
設定されているので、ラマン変換の大部分が第2の変換
用マルチパスセル内で行われ、ラマン変換に伴う放熱に
よるゆらぎも実質的に第2の変換用マルチパスセル内で
発生する。したがって、第2の変換用マルチパスセル内
のみのゆらぎの除去、又は、その緩和を促進する手段を
設ければよく、装置全体を小型で簡単な構成にすること
ができ、高効率変換可能な高繰り返しラマンレーザー装
置を実現することができる。
、第1の変換用マルチパスセルのパス回数がラマン変換
が飽和しない数に設定されており、第2の変換用マルチ
パスセルのパス回数が、第1の変換用マルチパスセル中
のパス回数と合わせて、ラマン変換が飽和する数以上に
設定されているので、ラマン変換の大部分が第2の変換
用マルチパスセル内で行われ、ラマン変換に伴う放熱に
よるゆらぎも実質的に第2の変換用マルチパスセル内で
発生する。したがって、第2の変換用マルチパスセル内
のみのゆらぎの除去、又は、その緩和を促進する手段を
設ければよく、装置全体を小型で簡単な構成にすること
ができ、高効率変換可能な高繰り返しラマンレーザー装
置を実現することができる。
〔実施例〕
パラ水素ラマンレーザーの変換特性をステデイ・ステイ
ト(Steady−State)近似により考えると、
第2図に示すような結果が得られる。この図から、スト
ークス光パワーは、量子ノイズレベル102Wからパス
回数が増加するに従い指数関数的に増大し、最終的には
飽和しているのが分かる。なお、ストークス光は、ラマ
ン変換される周波数νP±νにの中周波数νP−νにの
光を言い、また、■パスはマルチパス共振器の一方のミ
ラーから他方のミラーへ進む行程を意味する。第2図の
ストークス光パワーが飽和する直前の変換特性から分か
るように、ラマン変検量が大きくなっているのはこの飽
和直前の2〜3パスである。この2〜3パスで全体の約
9割のラマン変換が起こっていると考えられる。すなわ
ち、ラマン変換に伴う放熱の大部分はこの2〜3パスの
間で起こり、媒質であるパラ水素のゆらぎはこれらのパ
スが通過する位置で発生する。なお、ラマンレーザーは
、飽和変換が起こる領域で使用しないと変換効率がよく
ないので、飽和変換領域で使用する。
ト(Steady−State)近似により考えると、
第2図に示すような結果が得られる。この図から、スト
ークス光パワーは、量子ノイズレベル102Wからパス
回数が増加するに従い指数関数的に増大し、最終的には
飽和しているのが分かる。なお、ストークス光は、ラマ
ン変換される周波数νP±νにの中周波数νP−νにの
光を言い、また、■パスはマルチパス共振器の一方のミ
ラーから他方のミラーへ進む行程を意味する。第2図の
ストークス光パワーが飽和する直前の変換特性から分か
るように、ラマン変検量が大きくなっているのはこの飽
和直前の2〜3パスである。この2〜3パスで全体の約
9割のラマン変換が起こっていると考えられる。すなわ
ち、ラマン変換に伴う放熱の大部分はこの2〜3パスの
間で起こり、媒質であるパラ水素のゆらぎはこれらのパ
スが通過する位置で発生する。なお、ラマンレーザーは
、飽和変換が起こる領域で使用しないと変換効率がよく
ないので、飽和変換領域で使用する。
ラマン変換に伴う放熱によるゆらぎを除去するか、その
緩和を促進するためには、その部分の媒質に流れを作る
方法が考えられる。しかし、ラマン変換を行うマルチパ
ルセス本体内部にこのような流れを作ろうとすると、所
定の流速を得るのに必要な流量が膨大になってしまうた
め難しい。そこで、本発明においては、第1図に示すよ
うに、ラマン変換マルチパルセスを2つの部分1と3に
て構成し、一方のマルチパルセスを未飽和変換用マルチ
パスセル1とし、温度条件等は自由に設定可能にする。
緩和を促進するためには、その部分の媒質に流れを作る
方法が考えられる。しかし、ラマン変換を行うマルチパ
ルセス本体内部にこのような流れを作ろうとすると、所
定の流速を得るのに必要な流量が膨大になってしまうた
め難しい。そこで、本発明においては、第1図に示すよ
うに、ラマン変換マルチパルセスを2つの部分1と3に
て構成し、一方のマルチパルセスを未飽和変換用マルチ
パスセル1とし、温度条件等は自由に設定可能にする。
また、他方のマルチパルセスを飽和変換用マルチパスセ
ル3とし、このセル3内のみにパラ水素の流れを作るよ
うにする。そして、第2図のストークス光パワーが飽和
する前であって、飽和直前の2〜3パスを除いたパスの
ラマン変換を未飽和変換用マルチパスセル1中で行わせ
、その後、コリメータ5又はミラー系5を経て、飽和直
前の2〜3パスを飽和変換用マルチパスセル3中で行わ
せるようにする。そのためには、各マルチパスセル1.
3を構成するマルチパス共振器2.4のミラーに設けら
れる入射孔6、出射孔7の位置、ミラー曲率半径、ミラ
ー間距離を適当に設定して、入射孔6から入った光が所
定のパス回数だけ共振器2.4内を伝播し、その後出射
孔7から出て行くようにすればよい。なお、入射孔6、
出射孔7を設ける代わりに、共振器内に光ファイバーの
端部、小面積のミラー等の光学素子を挿入して、所定の
パス回数通過後の光を取り出すようにしてもよく、また
、ミラーの周辺から共振器内に光を入出射させることも
できるが、特に後者は設定が非常に微妙で、現実的では
ない。
ル3とし、このセル3内のみにパラ水素の流れを作るよ
うにする。そして、第2図のストークス光パワーが飽和
する前であって、飽和直前の2〜3パスを除いたパスの
ラマン変換を未飽和変換用マルチパスセル1中で行わせ
、その後、コリメータ5又はミラー系5を経て、飽和直
前の2〜3パスを飽和変換用マルチパスセル3中で行わ
せるようにする。そのためには、各マルチパスセル1.
3を構成するマルチパス共振器2.4のミラーに設けら
れる入射孔6、出射孔7の位置、ミラー曲率半径、ミラ
ー間距離を適当に設定して、入射孔6から入った光が所
定のパス回数だけ共振器2.4内を伝播し、その後出射
孔7から出て行くようにすればよい。なお、入射孔6、
出射孔7を設ける代わりに、共振器内に光ファイバーの
端部、小面積のミラー等の光学素子を挿入して、所定の
パス回数通過後の光を取り出すようにしてもよく、また
、ミラーの周辺から共振器内に光を入出射させることも
できるが、特に後者は設定が非常に微妙で、現実的では
ない。
このようにして、変換元となるポンプレーザー光を未飽
和変換用マルチパスセル1に入射させ、上記したように
、ラマン変換が飽和しないようにパス回数、パス回転数
等のパラメータが設定しであるマルチパス共振器2の間
を伝搬させる(この時のストークス光は104W程度が
妥当であると考えられる。)。未飽和変換用マルチパス
セル1を出射してきたレーザー光を、2枚のミラーを用
いたコリメータ5 (ミラーの代わりにレンズを用いる
ことも可能)により、ビーム径、拡がり角等を調整し、
飽和変換用マルチパス共振器3に入射させ、その中に数
バスのマルチパス共振器4を設置しておき、−気に飽和
変換を起こさせる。この時、飽和変換用マルチパスセル
3の内径は、レーザーの繰り返しに対応した媒質の流速
(通常は秒速数メートル)を得るために、できる限り細
くすることが必要である(内径の2乗と流速は反比例す
るため。)。飽和変換用マルチパスセル3の長さは、マ
ルチパス共振器4のパラメータの取り方でどのようにす
ることも可能であるが、実際には2〜4mが適当である
。第3図に飽和変換用マルチパスセル3内部での媒質ガ
スのフロ一方式の概念を示す。ガスフロ一方式としては
、マルチパス共振器4の軸方向を2軸とした場合、Z軸
に平行な流れ、垂直な流れ何れも可能である。第4図に
、各方式を採用した場合のマルチパスセル3の斜視図を
示す。図の(a)はZ軸に垂直な場合であり、ら)は平
行は場合である。また、媒質の流れを作り出す手段とし
ては、ブロワを使って循還させるか、あるいは、水素タ
ンクから吹き出させるようにすればよい。
和変換用マルチパスセル1に入射させ、上記したように
、ラマン変換が飽和しないようにパス回数、パス回転数
等のパラメータが設定しであるマルチパス共振器2の間
を伝搬させる(この時のストークス光は104W程度が
妥当であると考えられる。)。未飽和変換用マルチパス
セル1を出射してきたレーザー光を、2枚のミラーを用
いたコリメータ5 (ミラーの代わりにレンズを用いる
ことも可能)により、ビーム径、拡がり角等を調整し、
飽和変換用マルチパス共振器3に入射させ、その中に数
バスのマルチパス共振器4を設置しておき、−気に飽和
変換を起こさせる。この時、飽和変換用マルチパスセル
3の内径は、レーザーの繰り返しに対応した媒質の流速
(通常は秒速数メートル)を得るために、できる限り細
くすることが必要である(内径の2乗と流速は反比例す
るため。)。飽和変換用マルチパスセル3の長さは、マ
ルチパス共振器4のパラメータの取り方でどのようにす
ることも可能であるが、実際には2〜4mが適当である
。第3図に飽和変換用マルチパスセル3内部での媒質ガ
スのフロ一方式の概念を示す。ガスフロ一方式としては
、マルチパス共振器4の軸方向を2軸とした場合、Z軸
に平行な流れ、垂直な流れ何れも可能である。第4図に
、各方式を採用した場合のマルチパスセル3の斜視図を
示す。図の(a)はZ軸に垂直な場合であり、ら)は平
行は場合である。また、媒質の流れを作り出す手段とし
ては、ブロワを使って循還させるか、あるいは、水素タ
ンクから吹き出させるようにすればよい。
以上、本発明の高繰り返しパラ水素ラマンレーザー装置
について、実施例を参照にして説明してきたが、本発明
はこれに限定されずに種々の変形が可能である。また、
本発明は、ラマン変換媒質として、パラ水素に限らず、
他の種類のガスについても適用できることは、その原理
より明らかである。
について、実施例を参照にして説明してきたが、本発明
はこれに限定されずに種々の変形が可能である。また、
本発明は、ラマン変換媒質として、パラ水素に限らず、
他の種類のガスについても適用できることは、その原理
より明らかである。
本発明の高繰り返しラマンレーザー装置においては、2
個の変換用マルチパスセルを備え、第1の変換用マルチ
パスセルのパス回数がラマン変換が飽和しない数に設定
されており、第2の変換用マルチパスセルのパス回数が
、第1の変換用マルチパスセル中のパス回数と合わせて
、ラマン変換が飽和する数以上に設定されているので、
ラマン変換の大部分が第2の変換用マルチパスセル内で
行われ、ラマン変換に伴う放熱によるゆらぎも実質的に
第2の変換用マルチパスセル内で発生する。
個の変換用マルチパスセルを備え、第1の変換用マルチ
パスセルのパス回数がラマン変換が飽和しない数に設定
されており、第2の変換用マルチパスセルのパス回数が
、第1の変換用マルチパスセル中のパス回数と合わせて
、ラマン変換が飽和する数以上に設定されているので、
ラマン変換の大部分が第2の変換用マルチパスセル内で
行われ、ラマン変換に伴う放熱によるゆらぎも実質的に
第2の変換用マルチパスセル内で発生する。
したがって、第2の変換用マルチパスセル内のみのゆら
ぎの除去、又は、その緩和を促進する手段を設ければよ
く、装置全体を小型で簡単な構成にすることができ、高
効率変換可能な高繰り返しラマンレーザー装置を実現す
ることができる。
ぎの除去、又は、その緩和を促進する手段を設ければよ
く、装置全体を小型で簡単な構成にすることができ、高
効率変換可能な高繰り返しラマンレーザー装置を実現す
ることができる。
また、第2の変換用(飽和変換用)マルチパスセル中の
ラマン変換媒質を、ラマン変換に伴う放熱によるゆらぎ
を実質的になくすのに必要な流速以上で流す手段を設け
る場合、ラマン変換に伴う放熱により発生するゆらぎを
この手段により除去し又はその緩和を促進することによ
り、高繰り返し発振の状態においても常に均一な媒質中
をレーザー光を伝搬させ、安定した高繰り返しストーク
ス光発振が可能になる。
ラマン変換媒質を、ラマン変換に伴う放熱によるゆらぎ
を実質的になくすのに必要な流速以上で流す手段を設け
る場合、ラマン変換に伴う放熱により発生するゆらぎを
この手段により除去し又はその緩和を促進することによ
り、高繰り返し発振の状態においても常に均一な媒質中
をレーザー光を伝搬させ、安定した高繰り返しストーク
ス光発振が可能になる。
また、未飽和変換用マルチパスセルと飽和変換用マルチ
パスセルの2台のマルチバスセルラ使用することにより
、マルチパスセルのパラメータをそれぞれ独立に設定で
きるので、高効率変換を実現できる。
パスセルの2台のマルチバスセルラ使用することにより
、マルチパスセルのパラメータをそれぞれ独立に設定で
きるので、高効率変換を実現できる。
さらに、未飽和変換用マルチパスセルと飽和変換用マル
チパスセル2台のマルチパスセルラ使用することにより
、ラマン変換に伴う放熱の大部分が起こる飽和変換部分
だけのラマン変換媒質(ガス)をフローさせるので、ガ
スフロー容積を大幅に低減できるため、所定のガス流速
を得るのに必要な流量が少量でよく、ブロワ容量、水素
ガス等のラマン変換媒質の使用量を大幅に低減すること
ができる。
チパスセル2台のマルチパスセルラ使用することにより
、ラマン変換に伴う放熱の大部分が起こる飽和変換部分
だけのラマン変換媒質(ガス)をフローさせるので、ガ
スフロー容積を大幅に低減できるため、所定のガス流速
を得るのに必要な流量が少量でよく、ブロワ容量、水素
ガス等のラマン変換媒質の使用量を大幅に低減すること
ができる。
したがって、本発明の高繰り返しラマンレーザー装置、
特にパラ水素をラマン媒質とする高繰り返しラマンレー
ザー装置は、分子法レーザーウラン濃縮用高級り返し赤
外レーザー装置、その他の重金属同位体分離用高級り返
し赤外レーザー装置、中・長波長赤外領域で発振する高
繰り返し赤外レーザー装置として有効なものである。
特にパラ水素をラマン媒質とする高繰り返しラマンレー
ザー装置は、分子法レーザーウラン濃縮用高級り返し赤
外レーザー装置、その他の重金属同位体分離用高級り返
し赤外レーザー装置、中・長波長赤外領域で発振する高
繰り返し赤外レーザー装置として有効なものである。
第1図は本発明の高繰り返しラマンレーザー装置の1実
施例の構成を説明するための図、第2図はパラ水素ラマ
ンレーザーの変換特性を示す図、第3図は飽和変換用マ
ルチパスセル内部での媒質ガスのフロ一方式の概念図、
第4図は各ガスフロ一方式を採用した場合の飽和変換用
マルチパスセルの例の斜視図である。 1・・・未飽和変換用マルチパスセル、3・・・飽和変
換用マルチパスセル、5・・・コリメータ又はミラー系
、2.4・・・マルチパス共振器、6・・・入射孔、7
・・・出射孔 ノ(ス E口4う( 第2図 千イ〒逃れ
施例の構成を説明するための図、第2図はパラ水素ラマ
ンレーザーの変換特性を示す図、第3図は飽和変換用マ
ルチパスセル内部での媒質ガスのフロ一方式の概念図、
第4図は各ガスフロ一方式を採用した場合の飽和変換用
マルチパスセルの例の斜視図である。 1・・・未飽和変換用マルチパスセル、3・・・飽和変
換用マルチパスセル、5・・・コリメータ又はミラー系
、2.4・・・マルチパス共振器、6・・・入射孔、7
・・・出射孔 ノ(ス E口4う( 第2図 千イ〒逃れ
Claims (3)
- (1)ラマン変換媒質で満たされ、入射繰り返しパルス
光をその中で複数パス回数伝播させる2個の変換用マル
チパスセルを備え、第1の変換用マルチパスセルからの
出射光が第2の変換用マルチパスセルに入射するように
配置され、第1の変換用マルチパスセルのパス回数がラ
マン変換が飽和しない数に設定されており、第2の変換
用マルチパスセルのパス回数が、第1の変換用マルチパ
スセル中のパス回数と合わせて、ラマン変換が飽和する
数以上に設定されていることを特徴とする高繰り返しラ
マンレーザー装置。 - (2)第2の変換用マルチパスセル中のラマン変換媒質
を、ラマン変換に伴う放熱によるゆらぎを実質的になく
すのに必要な流速以上で流す手段を備えていることを特
徴とする請求項1記載の高繰り返しラマンレーザー装置
。 - (3)ラマン変換媒質がパラ水素であることを特徴とす
る請求項1又は2記載の高繰り返しラマンレーザー装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16361490A JP2501937B2 (ja) | 1990-06-21 | 1990-06-21 | 高繰り返しラマンレ―ザ―装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16361490A JP2501937B2 (ja) | 1990-06-21 | 1990-06-21 | 高繰り返しラマンレ―ザ―装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0456184A true JPH0456184A (ja) | 1992-02-24 |
| JP2501937B2 JP2501937B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=15777275
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16361490A Expired - Fee Related JP2501937B2 (ja) | 1990-06-21 | 1990-06-21 | 高繰り返しラマンレ―ザ―装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2501937B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5839561A (en) * | 1996-04-17 | 1998-11-24 | Unisia Jecs Corporation | Automatic clutch system |
| US6052225A (en) * | 1995-03-02 | 2000-04-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Variable magnification viewfinder |
-
1990
- 1990-06-21 JP JP16361490A patent/JP2501937B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6052225A (en) * | 1995-03-02 | 2000-04-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Variable magnification viewfinder |
| US5839561A (en) * | 1996-04-17 | 1998-11-24 | Unisia Jecs Corporation | Automatic clutch system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2501937B2 (ja) | 1996-05-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US9106055B2 (en) | Gas filled hollow fiber laser | |
| US4156852A (en) | Multipass laser amplification with near-field far-field optical separation | |
| Emmett et al. | Laser R&D at the Lawrence Livermore National Laboratory for fusion and isotope separation applications | |
| US5379315A (en) | Semiconductor laser pumped multiple molecular gas lasers | |
| Pogorelsky et al. | Subnanosecond multi-gigawatt CO/sub 2/laser | |
| US4009391A (en) | Suppression of unwanted lasing in laser isotope separation | |
| DE2940149A1 (de) | Wellenleiterverstaerker | |
| US20030179784A1 (en) | Method and a device for realizing both high extraction efficiency of laser light from electron beams and femto-second ultra-short in free-electron lasers pulses | |
| US4168474A (en) | Generation of 14 μm and 16 μm laser radiation from a CO2 gas laser | |
| JPH0456184A (ja) | 高繰り返しラマンレーザー装置 | |
| US4423511A (en) | Unstable waveguide laser resonator | |
| JP2863135B2 (ja) | 高効率プラズマ閉じ込め方法とレーザー発振方法並びにレーザー発振器 | |
| Luther-Davies et al. | Interaction of ultra-short powerful laser pulses with matter | |
| Pummer et al. | Characteristics and optimization of the two‐photon‐excited 16‐μm laser in 14NH3 | |
| US8885684B2 (en) | Gas laser device | |
| JP2005524880A (ja) | 広帯域スペクトルを発生させるための光学装置 | |
| Loy et al. | Generation of 16‐μm radiation by four‐wave mixing in para‐hydrogen | |
| JP2815412B2 (ja) | 同位体の分離方法及び分離装置 | |
| US8223815B2 (en) | Multiple discharge CO2 laser with improved repetition rate | |
| Korytin et al. | Dissipative solitons in the complex Ginzburg-Landau equation for femtosecond lasers | |
| US7508847B2 (en) | Ultra-short laser source with rare earth ions and stable pulse train and device for lengthening a laser cavity | |
| RU2239920C1 (ru) | Способ формирования распределения инверсии в активном элементе лазера | |
| JP2011155193A (ja) | Co2ガスレーザ装置 | |
| Nikolaeva et al. | Resonator systems providing self-pumping oscillations in fast-flow gas lasers | |
| Graham | Chaos in lasers |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |