JPH0458679B2 - - Google Patents

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JPH0458679B2
JPH0458679B2 JP59189105A JP18910584A JPH0458679B2 JP H0458679 B2 JPH0458679 B2 JP H0458679B2 JP 59189105 A JP59189105 A JP 59189105A JP 18910584 A JP18910584 A JP 18910584A JP H0458679 B2 JPH0458679 B2 JP H0458679B2
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Japan
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word line
transistors
voltage
circuit
current
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JP59189105A
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Japanese (ja)
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JPS6166297A (en
Inventor
Joji Nokubo
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NEC Corp
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Nippon Electric Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は半導体素子等に存在するリーク電流を
検出し、この様な半導体メモリを除去できるよう
にした半導体メモリに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a semiconductor memory capable of detecting leakage current existing in a semiconductor element or the like and removing such a semiconductor memory.

(従来の技術) 従来、半導体メモリにおいては、ウエハー段階
あるいはパツケージ組立後に低温、高温において
厳格な電気的試験を実施し不良品あるいは電気的
規格を満足しないものを除去していた。しかし最
近の微細化したIC(半導体集積回路)において
は、時々素子内にリーク電流通路が存在するにも
かかわらず、電気的規格を満足したために良品と
して出荷され、装置に実装された後このリーク電
流通路が増大し、ICを故障に致らせる場合がふ
えている。これは例えば、回路の動作電流が
1mAのところに10μAのリーク電流が存在したと
しても、ほぼ1%程度の電圧レベルを狂わせるの
みで、特性上ほとんど影響はなく初期の電気的試
験では除外できないからである。すなわち、従来
の半導体メモリには、ウエハー状態の電気的試験
により、微小なリーク電流通路を有する不良素子
を完全に取り除く事ができないという欠点があつ
た。
(Prior Art) Conventionally, semiconductor memories have been subjected to rigorous electrical tests at low and high temperatures after the wafer stage or package assembly to eliminate defective products or those that do not meet electrical standards. However, in recent miniaturized ICs (semiconductor integrated circuits), although there are sometimes leakage current paths within the elements, they are shipped as non-defective products because they meet electrical standards, and after they are mounted on equipment, this leakage The current path increases, and there are more cases of IC failure. This means, for example, that the operating current of the circuit is
This is because even if a leakage current of 10 μA exists at 1 mA, it will only disturb the voltage level by about 1%, and it will have almost no effect on the characteristics and cannot be excluded in initial electrical tests. That is, conventional semiconductor memories have a drawback in that defective elements having minute leakage current paths cannot be completely removed by electrical testing on a wafer.

(発明の目的) 本発明の目的は、上記欠点を除去することによ
り、ウエハー状態での電気的試験において、僅か
なリーク電流でも検出できる高信頼性の半導体メ
モリを提供する事にある。
(Object of the Invention) An object of the present invention is to provide a highly reliable semiconductor memory capable of detecting even a small leakage current in an electrical test in a wafer state by eliminating the above-mentioned drawbacks.

(発明の構成) 本発明の半導体メモリは、互いにベースとコレ
クタとを交差接続し第1のエミツタを共通接続す
る第1及び第2のセルトランジスタ、並びに一端
を前記第1及び第2のセルトランジスタのコレク
タとそれぞれ対応して接続する第1及び第2の負
荷素子を備えてフリツプフロツプ型に形成され
行、列マトリクス状に配列された複数のメモリセ
ルと、これら複数のメモリセルの各列ごとに設け
られ対応する列の前記各第1セルトランジスタの
第2のエミツタと接続する第1のデイジツト線及
び前記各第2のセルトランジスタの第2のエミツ
タと接続する第2のデイジツト線と、前記複数の
メモリセルの各行ごとに設けられ対応する行の前
記第1及び第2の負荷素子の他端と接続する第1
のワード線並びに前記第1及び第2のセルトラン
ジスタの第1のエミツタと接続する第2のワード
線と、ベースに供給される電圧に応じて対応する
前記第1及び第2のデイジツト線の電流をそれぞ
れ制御する複数の第1のトランジスタを備えた読
出し電流回路と、ベースに供給される電圧に応じ
て対応する前記第2のワード線の電流をそれぞれ
制御する複数の第2のトランジスタを備えた保持
電流回路と、前記各第1のワード線とそれぞれ対
応して設けられベースに供給される電圧に応じて
コレクタ電流を流す複数の第3のトランジスタと
を備えアドレス信号と対応した前記第1のワード
線を選択レベルとするワード線ドライバー回路
と、前記各第1、第2、第3のトランジスタに基
準電圧を供給する基準電圧回路と、最高電位端子
と前記各第1、第2のデイジツト線及び第2のワ
ード線との間にそれぞれ前記第1、第2のセルト
ランジスタのベース・エミツタ間に逆方向電圧が
印加されるように接続された複数の第1のダイオ
ードと、内部回路に所定のレベル範囲の信号を入
力する信号入力端子と前記各第1、第2、第3の
トランジスタのベースとの間に、前記信号入力端
子に前記レベル範囲外の電圧を印加したときは前
記各第1、第2、第3のトランジスタをオフに
し、前記レベル範囲内では非導通となるように接
続された第2のダイオードと、前記信号入力端子
に前記レベル範囲外の電圧が印加されたときに前
記各第1のワード線を所定の電圧に固定する第3
のダイオード及びワード線電圧固定回路とを有し
ている。
(Structure of the Invention) A semiconductor memory of the present invention includes first and second cell transistors whose bases and collectors are cross-connected to each other and whose first emitters are commonly connected, and one end of which is connected to the first and second cell transistors. A plurality of memory cells formed in a flip-flop type and arranged in a matrix of rows and columns, each including first and second load elements correspondingly connected to the collectors of the plurality of memory cells; a first digit line connected to the second emitter of each of the first cell transistors of the corresponding column provided and a second digit line connected to the second emitter of each of the second cell transistors; A first load element provided for each row of memory cells and connected to the other ends of the first and second load elements of the corresponding row.
and a second word line connected to the first emitters of the first and second cell transistors, and currents in the corresponding first and second digit lines depending on the voltages supplied to the bases. a read current circuit including a plurality of first transistors each controlling the current of the second word line, and a plurality of second transistors each controlling the current of the corresponding second word line according to the voltage supplied to the base. a holding current circuit; and a plurality of third transistors that are provided corresponding to each of the first word lines and flow a collector current according to a voltage supplied to the base, and the first word line corresponds to the address signal. a word line driver circuit that sets the word line to a selection level; a reference voltage circuit that supplies a reference voltage to each of the first, second, and third transistors; and a highest potential terminal and each of the first and second digit lines. and a plurality of first diodes connected to the second word line so that a reverse voltage is applied between the bases and emitters of the first and second cell transistors, respectively, and When a voltage outside the level range is applied to the signal input terminal between the signal input terminal for inputting a signal in the level range and the bases of each of the first, second, and third transistors, When a voltage outside the level range is applied to the second diode connected to turn off the first, second, and third transistors and to be non-conductive within the level range, and the signal input terminal. a third fixing each first word line to a predetermined voltage;
diodes and a word line voltage fixing circuit.

また、第2のダイオードが、信号入力端子と各
第1、第2のトランジスタのベースとの間に接続
された構成を有している。
Further, the second diode is connected between the signal input terminal and the bases of each of the first and second transistors.

(実施例) 以下、本発明の実施例について図面を参照して
説明する。
(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例の動作原理を説明す
るための要部の回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram of essential parts for explaining the operating principle of an embodiment of the present invention.

本実施例は、互いにベースとコレクタが交差接
続されフリツフフロツプを構成するセルトランジ
スタQ1〜Q4(Q1とQ2及びQ3とQ4はそれぞれ2エ
ミツタ型NPNトランジスタを形成している。)と
負荷抵抗R1,R2とからなるメモリセル11が、
負荷抵抗R1,R2の一端は共通接続されて高電位
側(第1)のワード線WTに、セルトランジスタ
Q2,Q4のエミツタは共通接続されて低電位側
(第2)のワード線WBに、セルトランジスタQ1
のエミツタは第1のデイジツト線Dに、セルトラ
ンジスタQ3のエミツタは第2のデイジツト線
にそれぞれ接続されてメモリセルアレイを構成し
ている。そして最高電位端子であるところの
VCCA端子12とデイジツト線D、ワード線WB及
びデイジツト線の間に、それぞれダイオード
D1,D2及びD3がアノード側をVCCA端子12にし
て接続される。さらにVCCA端子12はエミツタ
が出力端子Oに接続されたNPN型の出力トラン
ジスタQ5のコレクタに接続される。
In this embodiment, cell transistors Q 1 to Q 4 whose bases and collectors are cross-connected to each other constitute a flip-flop (Q 1 and Q 2 and Q 3 and Q 4 each form a two-emitter type NPN transistor). A memory cell 11 consisting of load resistances R 1 and R 2 is
One ends of the load resistors R 1 and R 2 are commonly connected to the high potential side (first) word line WT, and the cell transistor is connected to the high potential side (first) word line WT.
The emitters of Q 2 and Q 4 are commonly connected to the low potential side (second) word line WB, and the cell transistor Q 1
The emitter of the cell transistor Q3 is connected to the first digit line D, and the emitter of the cell transistor Q3 is connected to the second digit line to form a memory cell array. And the highest potential terminal
Connect a diode between the V CCA terminal 12 and the digit line D, word line WB, and digit line, respectively.
D 1 , D 2 and D 3 are connected with the anode side being the V CCA terminal 12. Furthermore, the V CCA terminal 12 is connected to the collector of an NPN type output transistor Q5 whose emitter is connected to the output terminal O.

通常のECL型論理回路は最高電位端子として、
内部回路が接続された電源VCC端子と出力トラン
ジスタQ5のコレクタが接続されたVCCA端子12
の2つを持つている。ここでVCCA端子12は、
出力トランジスタQ5のエミツタに負荷抵抗が接
続されていない場合は、出力トランジスタQ5
コレクタが接続されているのみであるので出力ト
ランジスタQ5のベースとコレクタ間にリーク電
流通路がない限り、高インピーダンス状態にあ
る。一方、メモリセルアレイの低電位側のワード
線WB及びデイジツト線D,にはセルトランジ
スタQ1〜Q4のエミツタとこれらワード線、デイ
ジツト線に定電流を供給するための定電流トラン
ジスタのコレクタしか接続されていないので、ワ
ード線WBあるいはデイジツト線D,を高電位
側に強制的に持つて行くと、ワード線WB及びデ
イジツト線D,はセルトランジスタQ1〜Q4
エミツタ−ベース間耐圧(BVEB)、あるいはエミ
ツタ−コレクタ間耐圧(BVEC)を越えるまでは
高インピーダンス状態にある。従つて第1図に示
す様にデカツプリング用のダイオードD1,D2
D3を介してVCCA端子12とワード線WB及びデイ
ジツト線D,と接続する事で、VCCA端子12
よりセルトランジスタのBVEB,BVECを観測する
事ができる。
In a normal ECL type logic circuit, the highest potential terminal is
The power supply V CC terminal to which the internal circuit is connected and the V CCA terminal 12 to which the collector of the output transistor Q 5 is connected
I have two. Here, V CCA terminal 12 is
If no load resistor is connected to the emitter of output transistor Q5 , only the collector of output transistor Q5 is connected, so unless there is a leakage current path between the base and collector of output transistor Q5 , a high It is in an impedance state. On the other hand, only the emitters of cell transistors Q 1 to Q 4 and the collectors of constant current transistors for supplying constant current to these word lines and digit lines are connected to the word line WB and digit line D on the low potential side of the memory cell array. Therefore, if the word line WB or digit line D is forced to the high potential side, the word line WB or digit line D will increase the emitter-base breakdown voltage (BV) of the cell transistors Q1 to Q4 . It remains in a high impedance state until it exceeds EB ) or emitter-collector breakdown voltage (BV EC ). Therefore, as shown in FIG. 1, the diodes D 1 , D 2 ,
By connecting the V CCA terminal 12 to the word line WB and digit line D through D3 , the V CCA terminal 12
BV EB and BV EC of the cell transistor can be observed.

第2図はワード線WTの電圧を0Vとし、VCCA
端子12に電圧を加えた場合の電流特性を示すも
のである。通常BVEB又はBVECは3.5V程度の値を
持つているので、ダイオードD1,D2,D3の順方
向電圧を0.8Vとして電圧VCCAを4.2V以上にする
と、セルトランジスタはブレークダウンして
VCCA端子12よりワード線WTにダイオードD1
D2,D3を介して電流を流し込む事ができる。と
ころで、いまセルトランジスタQ1,Q2,Q3,Q4
のどれか1つでもEB(エミツタ−ベース)間ある
いはEC(エミツタ−コレクタ)間にリークがある
と、このリーク電流通路を介してEB間又はEC間
がブレークダウンする以前にVCCA端子12より
電流をワード線WTに流すので、第2図Bに示す
様にほぼダイオードD1,D2又はD3のダイオード
特性が観測される。なお第2図においてAは正常
特性を示す。
In Figure 2, the voltage of the word line WT is 0V, and V CCA
It shows the current characteristics when a voltage is applied to the terminal 12. Normally BV EB or BV EC has a value of about 3.5V, so if the forward voltage of diodes D 1 , D 2 , D 3 is 0.8V and the voltage V CCA is 4.2V or more, the cell transistor will break down. do
Diode D 1 from V CCA terminal 12 to word line WT,
Current can be passed through D 2 and D 3 . By the way, now cell transistors Q 1 , Q 2 , Q 3 , Q 4
If there is any leakage between EB (emitter-base) or EC (emitter-collector), the voltage will be lowered from V CCA terminal 12 through this leakage current path before breakdown occurs between EB or EC. Since a current is passed through the word line WT, almost the diode characteristics of the diode D 1 , D 2 or D 3 are observed as shown in FIG. 2B. Note that in FIG. 2, A indicates normal characteristics.

この動作原理に基づいて構成された本発明の一
実施例の回路図を第3図に示す。
FIG. 3 shows a circuit diagram of an embodiment of the present invention constructed based on this operating principle.

本実施例は、メモリセルM11……Monがワード
線WT1……WTo,WB1……WBoとデイジツト線
D11……Dnn間にそれぞれ配置されメモリ
セルアレイ21を構成している。そしてデイジツ
ト線D11……Dnnはそれぞれ読出し電流回
路22の定電流(第1の)トランジスタのコレク
タに接続され、ワード線WB1……WBoはそれぞ
れ保持電流回路23の定電流(第2の)トランジ
スタのコレクタに接続され、ワード線WT1……
WToはそれぞれワードドライバ回路24のドラ
イバトランジスタのエミツタに接続される。さら
にワード線WT1……WToはそれぞれダイオード
DWT1……DWToを介してワード線電圧固定回路2
5の出力トランジスタのコレクタに接続され、ワ
ード線電圧固定回路25の入力トランジスタQ11
のベースは第3のダイオードDCを介して内部回
路26の信号入力端子INに接続され、この信号
入力端子INは、ダイオードDdを介して、メモリ
セルアレイ21の保持電流IWB1……IWBo及び読出
し電流ID1,ID1……IDn,IDnを制御する制御回
路としての、基準電圧回路27の基準電圧端子3
0に接続され、基準電圧端子30はさらに読出し
電流回路22、保持電流回路23及びワードドラ
イバ回路24の定電流(第1、第2、第3の)ト
ランジスタのベースに接続される。一方デイジツ
ト線D11……Dnn及びワード線WB1……
WBoは、それぞれ(第1の)ダイオードDD1,DD
……DDn,DDn及びダイオードDWB1……DWBo
カソードに接続されダイオードDD1,DD1……
DDn,DDn及びDWB1……DWBoのアノードは共通接
続されダイオードDaとDbの直列接続回路を介し
出力トランジスタ28のコレクタに接続された
VCCA端子29に接続される。
In this embodiment, memory cells M 11 ...M on are connected to word lines WT 1 ...WT o , WB 1 ...W o and digit lines.
The memory cell array 21 is arranged between D 1 , 1 . . . D n , n, respectively. The digit lines D 1 , 1 . . . D n , n are each connected to the collector of the constant current (first) transistor of the read current circuit 22 , and the word lines WB 1 . Connected to the collector of the current (second) transistor, the word line WT 1 ...
WT o is connected to the emitter of the driver transistor of the word driver circuit 24, respectively. Furthermore, the word lines WT 1 ...WT o are each a diode.
D WT1 ...Word line voltage fixing circuit 2 via D WTo
The input transistor Q11 of the word line voltage fixing circuit 25 is connected to the collector of the output transistor Q11 of the word line voltage fixing circuit 25 .
The base of is connected to the signal input terminal IN of the internal circuit 26 via the third diode DC , and this signal input terminal IN is connected to the holding current I WB1 ...I WBo of the memory cell array 21 via the diode Dd. The reference voltage terminal 3 of the reference voltage circuit 27 serves as a control circuit that controls the read currents I D1 , I D1 ...I Dn , I Dn
0, and the reference voltage terminal 30 is further connected to the bases of constant current (first, second, and third) transistors of the read current circuit 22, the holding current circuit 23, and the word driver circuit 24. On the other hand, digit lines D 1 , 1 ...D n , n and word lines W B1 ...
W Bo are (first) diodes D D1 and D D respectively
1 ......D Dn , D Dn and the diode D WB1 ...D WBo are connected to the cathode, and the diodes D D1 , D D1 ...
D Dn , D Dn and D WB1 ...The anodes of D WBo are commonly connected and connected to the collector of the output transistor 28 through a series connection circuit of diodes Da and Db.
Connected to V CCA terminal 29.

すなわち、出力トランジスタ28のコレクタが
接続されたVCCA端子29にはダイオードDa,Db
を介して各デイジツト線D11……Dnnにダ
イオードDD1,DD1……DDn,DDnが接続され、各
ワード線WB1……WBoにはダイオードDWB1……
DWBoが接続されれている。
That is, diodes Da and Db are connected to the V CCA terminal 29 to which the collector of the output transistor 28 is connected.
Diodes D D1 , D D1 ... D Dn , D Dn are connected to each digit line D 1 , 1 ... D n , n through the digit lines D 1 , 1 ... D n , n , and a diode D WB1 ... is connected to each word line WB 1 ... WB o .
D WBo is connected.

通常のメモリの読出し書込み動作の場合には、
デイジツト線D11……Dnn及びワード線
WB1……WBoの電位は電源VCCの電圧VCCよりダ
イオードの順方向電圧(Vf)の3倍以下の電位
には下らないので、これらダイオードDa,Db,
DD1,DD1……DDn,DDn,DWB1……DWBoの影響は
ない。
For normal memory read/write operations,
Digit lines D 1 , 1 ... D n , n and word lines
WB 1 ...WB o potential does not fall below the voltage V CC of the power supply V CC to a potential less than three times the forward voltage (Vf) of the diode, so these diodes Da, Db,
D D1 , D D1 ... D Dn , D Dn , D WB1 ... D WBo has no influence.

信号入力端子INには通常動作の場合は、−
0.9V/−1.7Vの正規の論理レベルが加えられる
が、本実施例のメモリセルのリーク電流特性を観
測する場合には、電源VEEの電圧VEEと同一レベ
ルが印加される。信号入力端子INがVEEと同一レ
ベルになると、まずダイオードDdを介して基準
電圧回路27の出力レベルが引き下げられ、保持
電流回路23、読出し電流回路22及びワードド
ライバー回路24の定電流トランジスタがすべて
オフする。
In normal operation, the signal input terminal IN has -
A normal logic level of 0.9V/−1.7V is applied, but when observing the leakage current characteristics of the memory cell of this embodiment, the same level as the voltage V EE of the power supply V EE is applied. When the signal input terminal IN becomes the same level as V EE , the output level of the reference voltage circuit 27 is first lowered through the diode Dd, and the constant current transistors of the holding current circuit 23, read current circuit 22, and word driver circuit 24 are all turned off. Turn off.

この結果メモリセルアレイ21の保持電流IWB1
……IWBo及び読出し電流ID1,ID1……IDn,IDn
オフするので、メモリセルのリーク電流特性の観
測が容易かつ正確になる。
As a result, the holding current I WB1 of the memory cell array 21
...I WBo and the read currents I D1 , I D1 ...I Dn , I Dn are turned off, making it easy and accurate to observe the leakage current characteristics of the memory cell.

一方信号入力端子INに接続されたダイオード
Dcによつて、ワード線電圧固定回路25がオン
する。すなわち、信号入力端子INに正規論理レ
ベルが入力されている場合は、ワード線電圧固定
回路25の入力トランジスタQ11がオンしてい
て、出力電流IWはゼロとなつているが、信号入力
端子INがVEEと同一レベルとなると、トランジス
タQ11はオフし、出力電流IWが発生する。出力電
流IWは、ワードドライバー回路24の定電流トラ
ンジスタがすべてオフしている結果、ダイオード
DWT1……DWToに等量に分流し、ワード線WT1
…WToをVCCよりダイオードの順方向電圧Vfだけ
低く選択レベルとほぼ等しい電位に固定する。
On the other hand, a diode connected to the signal input terminal IN
The word line voltage fixing circuit 25 is turned on by DC. That is, when a normal logic level is input to the signal input terminal IN, the input transistor Q11 of the word line voltage fixing circuit 25 is on, and the output current IW is zero, but the signal input terminal When IN becomes the same level as V EE , transistor Q 11 is turned off and an output current I W is generated. As a result of all constant current transistors in the word driver circuit 24 being off, the output current IW is
D WT1 ... D WTo is equally divided, and the word line WT 1 ...
...Fix W o to a potential that is lower than V CC by the forward voltage Vf of the diode and approximately equal to the selection level.

この状態でVCCA端子29にVCCより高い電圧
VCCAを印加すると、セルトランジスタにリーク
電流通路がなくBVEB,BVEC=3.5Vとして、電圧
VCCAは3.5V+2×Vf=3.5V+0.8V×2=5.1Vま
では、セルトランジスタがブレークダウンしない
ので電流を流さない。しかしセルトランジスタの
どれか1つでもリーク電流通路が存在する場合に
は、電圧VCCAとして2×Vf=1.6V以上の電圧で
電流を流しはじめる。すなわちVCCA端子29に
1.6Vより大なる約2V程度の電圧を印加して、こ
の時のVCCA端子29より流し込む電流の有無を
検出し、半導体メモリの良/不良を判定すれば良
い訳である。
In this state, a voltage higher than V CC is applied to the V CCA terminal 29.
When V CCA is applied, there is no leakage current path in the cell transistor and BV EB , BV EC = 3.5V, the voltage increases.
V CCA does not flow current until 3.5V + 2 x Vf = 3.5V + 0.8V x 2 = 5.1V because the cell transistor does not break down. However, if there is a leakage current path in any one of the cell transistors, current begins to flow at a voltage V CCA of 2×Vf=1.6V or higher. In other words, V CCA terminal 29
It is sufficient to apply a voltage of approximately 2V, which is greater than 1.6V, and detect the presence or absence of current flowing from the V CCA terminal 29 at this time to determine whether the semiconductor memory is good or bad.

又、本実施例において、ワードドライバー回路
24の定電流トランジスタはオフさせずに、ワー
ドアドレス入力信号を加える方法がある。こうす
るとこのワードアドレス入力信号に応じてワード
線WT1……WToの内1本のみが選択され、高レ
ベルとなり、残りはすべて低レベルとなるので、
選択的に1本のワード線上のメモリセルのみのリ
ーク電流特性もチエツクする事ができる。
Further, in this embodiment, there is a method of applying a word address input signal without turning off the constant current transistor of the word driver circuit 24. In this way, according to this word address input signal, only one of the word lines WT 1 ... WT o will be selected and set to high level, and all the others will be set to low level, so
It is also possible to selectively check the leakage current characteristics of only memory cells on one word line.

(発明の効果) 以上、詳細説明したとおり、本発明の半導体メ
モリは、最高電位端子(VCCA)とデイジツト線
及び低電位側のワード線との間に接続されたデカ
ツプル用のダイオード更には高電位側のワード線
に接続されたワード線電圧固定回路により、若し
もメモリセルを構成するトランジスタにリーク電
流通路がある場合、最高電位端子より前記ダイオ
ード及び前記リーク電流通路のあるメモリセルを
介して最低電位端子(VEE)との間に電流通路が
形成されるので、リーク電流通路のあるメモリセ
ルの有無を容易に試験できるという効果を有す
る。更に本発明の半導体メモリは外部制御信号に
より保持電流回路と読出し電流回路の定電流トラ
ンジスタをオフすることにより一層正確なリーク
電流通路のチエツクができるという効果を有す
る。
(Effects of the Invention) As described in detail above, the semiconductor memory of the present invention has a decoupling diode connected between the highest potential terminal (V CCA ) and the digit line and the word line on the low potential side. If a transistor constituting a memory cell has a leakage current path, a word line voltage fixing circuit connected to the word line on the potential side allows the voltage to be applied from the highest potential terminal through the diode and the memory cell with the leakage current path. Since a current path is formed between the current path and the lowest potential terminal (V EE ), the presence or absence of a memory cell having a leakage current path can be easily tested. Furthermore, the semiconductor memory of the present invention has the effect that leakage current paths can be checked more accurately by turning off the constant current transistors of the holding current circuit and the read current circuit using an external control signal.

従つて、本発明によれば、ウエハー状態での電
気的試験において、僅かなリーク電流でも検出で
きる高信頼性の半導体メモリが得られる。
Therefore, according to the present invention, a highly reliable semiconductor memory that can detect even a slight leakage current in an electrical test in a wafer state can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例の動作原理を説明す
るための要部の回路図、第2図は第1図における
ワード線WT−VCCA端子間の電流電圧特性図、第
3図は本発明の一実施例の回路図である。 11……メモリセル、12……VCCA端子、2
1……メモリセルアレイ、22……読出し電流回
路、23……保持電流回路、24……ワードドラ
イバー回路、25……ワード線電圧固定回路、2
6……内部回路、27……基準電圧回路、28…
…出力トランジスタ、29……VCCA端子、30
……基準電圧端子、D,,D11,Dnn
…デイジツト線、D1〜D3,Dc,Dd,DD1D1
DDnDn,DWB1,DWBo,DWT1,DWTo……ダイオ
ード、ID1D1,IDnDn……読出し電流、IWB1
IWBo……保持電流、IW……出力電流(ワード線電
圧固定回路)、IN……信号入力端子、M11,M1n
M1o,Mon……メモリセル、O……出力端子、Q1
〜Q5,Q11……NPNトランジスタ、R1,R2……
負荷抵抗、WB,WB1,WBo,WT,WT1
WTo……ワード線。
FIG. 1 is a circuit diagram of the main part for explaining the operating principle of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a current-voltage characteristic diagram between the word line WT-V CCA terminal in FIG. 1, and FIG. FIG. 1 is a circuit diagram of an embodiment of the present invention. 11...Memory cell, 12...V CCA terminal, 2
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Memory cell array, 22...Reading current circuit, 23...Holding current circuit, 24...Word driver circuit, 25...Word line voltage fixing circuit, 2
6... Internal circuit, 27... Reference voltage circuit, 28...
...Output transistor, 29...V CCA terminal, 30
...Reference voltage terminal, D,, D1 , 1 , Dn, n ...
...digit line, D 1 to D 3 , Dc, Dd, D D1 , D1 ,
D Dn , Dn , D WB1 , D WBo , D WT1 , D WTo ...Diode, I D1 , D1 , I Dn , Dn ...Reading current, I WB1 ,
I WBo ...Holding current, I W ...Output current (word line voltage fixing circuit), IN...Signal input terminal, M11 , M1n ,
M 1o , M on ... memory cell, O ... output terminal, Q 1
~Q 5 , Q 11 ... NPN transistor, R 1 , R 2 ...
Load resistance, WB, WB 1 , WB o , WT, WT 1 ,
WT o ...word line.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 互いにベースとコレクタとを交差接続し第1
のエミツタを共通接続する第1及び第2のセルト
ランジスタ、並びに一端を前記第1及び第2のセ
ルトランジスタのコレクタとそれぞれ対応して接
続する第1及び第2の負荷素子を備えてフリツプ
フロツプ型に形成され行、列マトリクス状に配列
された複数のメモリセルと、これら複数のメモリ
セルの各列ごとに設けられ対応する列の前記各第
1のセルトランジスタの第2のエミツタと接続す
る第1のデイジツト線及び前記各第2のセルトラ
ンジスタの第2のエミツタと接続する第2のデイ
ジツト線と、前記複数のメモリセルの各行ごとに
設けられ対応する行の前記第1及び第2の負荷素
子の他端と接続する第1のワード線並びに前記第
1及び第2のセルトランジスタの第1のエミツタ
と接続する第2のワード線と、ベースに供給され
る電圧に応じて対応する前記第1及び第2のデイ
ジツト線の電流をそれぞれ制御する複数の第1の
トランジスタを備えた読出し電流回路と、ベース
に供給される電圧に応じて対応する前記第2のワ
ード線の電流をそれぞれ制御する複数の第2のト
ランジスタを備えた保持電流回路と、前記各第1
のワード線とそれぞれ対応して設けられベースに
供給される電圧に応じてコレクタ電流を流す複数
の第3のトランジスタとを備えアドレス信号と対
応した前記第1のワード線を選択レベルとするワ
ード線ドライバー回路と、前記各第1、第2、第
3のトランジスタに基準電圧を供給する基準電圧
回路と、最高電位端子と前記各第1、第2のデイ
ジツト線及び第2のワード線との間にそれぞれ前
記第1、第2のセルトランジスタのベース・エミ
ツタ間に逆方向電圧が印加されるように接続され
た複数の第1のダイオードと、内部回路に所定の
レベル範囲の信号を入力する信号入力端子と前記
各第1、第2、第3のトランジスタのベースとの
間に、前記信号入力端子に前記レベル範囲外の電
圧を印加したときは前記各第1、第2、第3のト
ランジスタをオフにし、前記レベル範囲内では非
導通となるように接続された第2のダイオード
と、前記信号入力端子に前記レベル範囲外の電圧
が印加されたときに前記各第1のワード線を所定
の電圧に固定する第3のダイオード及びワード線
電圧固定回路とを有することを特徴とする半導体
メモリ。 2 第2のダイオードが、信号入力端子と各第
1、第2のトランジスタのベースとの間に接続さ
れた請求項1記載の半導体メモリ。
[Claims] 1. The base and the collector are cross-connected to each other and the first
A flip-flop type device comprising first and second cell transistors whose emitters are commonly connected, and first and second load elements whose one ends are connected to the collectors of the first and second cell transistors in correspondence with each other. A plurality of memory cells formed and arranged in a matrix of rows and columns, and a first emitter provided for each column of the plurality of memory cells and connected to the second emitter of each of the first cell transistors in the corresponding column. and a second digit line connected to the second emitter of each of the second cell transistors, and the first and second load elements provided for each row of the plurality of memory cells in the corresponding row. a first word line connected to the other end and a second word line connected to the first emitters of the first and second cell transistors; and a read current circuit comprising a plurality of first transistors each controlling the current of the second digit line, and a plurality of read current circuits each controlling the current of the corresponding second word line according to the voltage supplied to the base. a holding current circuit comprising a second transistor;
a plurality of third transistors, each of which is provided in correspondence with the first word line, and whose collector current flows in accordance with the voltage supplied to the base; the first word line corresponding to the address signal is set to a selection level A driver circuit, a reference voltage circuit that supplies a reference voltage to each of the first, second, and third transistors, and between the highest potential terminal and each of the first, second, and second digit lines and the second word line. a plurality of first diodes connected so that a reverse voltage is applied between the base and emitter of the first and second cell transistors, respectively; and a signal for inputting a signal in a predetermined level range to the internal circuit. When a voltage outside the level range is applied to the signal input terminal between the input terminal and the base of each of the first, second, and third transistors, each of the first, second, and third transistors a second diode connected to be non-conductive within the level range; and a second diode connected to be non-conductive within the level range; 1. A semiconductor memory comprising a third diode and a word line voltage fixing circuit for fixing the voltage to a voltage of . 2. The semiconductor memory according to claim 1, wherein the second diode is connected between the signal input terminal and the bases of each of the first and second transistors.
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