JPH0459017A - 除害設備 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発叫は、除害設備に係り、たとえばＣＶＤ装置のプロ
セスガス排気「１に接続される除害設備（スタライハ）
に関する。

〔従来の技術〕

ＣＶ　丁）装置面のプロセスカスＪ１気１１に１妾糸）
１ζされろ除害設備は、たとえは第２図に示したものか
知１られている。同図において、外囲器３１があり、こ
の外囲器３１−の下部には給水管３２により液体３３か
満たされている。そして、この液体３３の表面上には前
記ＣＶＤ装置からのプロセス力スガ１気１］３４が位置
つけられており、このプロセスガス排気１気１”］　３
４からは、窒素ガス（Ｎ、）　Ｌこより７６′伏された
モノシラン（ＳｉＨ，、）か供才合されるようになって
いる。このモノシランは前記液体３３と次式に示される
ような、いわゆる加水分解と称される反応がなされる。

Ｓ　ｉ　ＩＩ　、、→２＋１，０→ＳｉＯ，＋４１し生
成されたＳ］０２微粉末は、前記液体３３内［こ沈降し
、■、は−１−昇してたとえば金属網から構成されてい
る充填剤３５．３６を介して排気Ｄ３７に導かれるよう
ｌこなっている。な」Ｓ、前記排気［１３７にはファン
３８か取付け１″１れており、ｒ＋ｉｉ記■Ｉ２の上清
、を促進させるようになっている。また、前３已充填剤
３５、；３〔３の間にはシャワー４０が配置され、前記
液体３３３をポンプ；３９によりくみ−１ばている。こ
のシャワー４０は、ｉｆｆｆｆ回外囲器］１こ満たされ
ている液体３：３とＳｉＨ，の反応か充分てなことかあ
る場合を考１似し、子方か１も液体３；３を供給してい
るものである。

〔発明か解決しようとする課題〕

しかし、このような構成か１もなる除害設備は、加水分
部′により発生したＳｌ○７微粉末が前記液体３３内に
沈降してしまオ〕す、そのわすかな量がＮ２とともに前
記排気「１３７に導出されていたものであった。

このため、除′１１．設仏１ｊの長期使用にあって、前
記ＪプＨＫｒ１３７の人［１部にＳ］０．微粉末が蓄積
してしまい、頻繁な清掃をかかさす必要とするものてあ
った。ｌ＾掃を怠−）だ場合、除害設備の排気能力が著
しく低下し自己発火性を有するＳ　〕−Ｈ、、の危険性
が増大するからである。

それ故、本発明は、このような事情に基づいてなされた
ものであり、排気［１に蓄積物が存在するようなことを
なくし、これによりｇ％な清掃を必要としない除害設備
を提供することを目的とするものである。

〔課題を解決するための手段〕

二のような目的を達成するために、本発明は、基本的に
は、排カスを液体と気液接触させて該廿ガス内の有害物
質を吸収中和する除害設備において、その気体刊出口に
接続される集塵部を設け、この集塵部を介して気体を取
り出すよう１こしたことを特徴とするするものである。

〔作用〕

このように、気液接触させて該刊カス内の有害物質を吸
収中和させた後、さ１ン〕しこ集塵部を介して気体を取
り出すようにすることによって、有害物質を清掃困難で
ない所定の箇所、すなわち後で除去するに便利である場
所に蓄積させることができるようになる。

このため、従来のように利″気１」に蓄積物が存在する
ようなことをなくし、これにより頻繁な清掃を必要とし
ないようにすることができるようになる。

〔実施例〕

第１図は、本発明に係る除害、１備の一実施例を示す構
成図である。同図において、貯水槽３があ：（ す、この貯水槽３の液面には加水分解槽の外囲器２０の
１部端部か浸水されるように配置されている。

外下端部は開Ｉｍ］されており、給水管５によって給水
されるようになっている。なお、この給水管５にば、水
イ♂バ１１５か備えられて前記貯水槽３内の渋面の水位
を一定になるようにしている。

前記給水管５の１゛方には、ＣＶＤ￥！ｉ百のプロセス
カス排気１１Ｇか導入されており、このプロセスガス４
ｊｔ気［１（３力叫らは、窒素カス（Ｎ、り　１こより
希釈されたモノシラン（Ｓ　Ｊ　Ｈｊが供給されるよう
になっている。このモノシランは前記則・水１１！！Ｉ
３４内の液体と吹式にパされるような、いわゆる加水分
解と称される反応かなされる。

８］１１□＋２Ｈ２０→５ｊ−０，＋４］１゜生成され
た５−ｉ０微粉末は、前記貯水槽３の液体内しこ沈降し
、Ｔ−Ｔ２は上昇して充填剤７を介して通過するように
なっている。前記充填剤７を通過した■（２はじゃま板
９か配置ｉ’−ｅされた蛇行路を通過した後、前記加水
分解槽１こ哨接して配置された焦塵装Ｆ’？３０に導か
れるようになっている。

＝４ なお、前記じゃま板９の外囲器２０に支持されている側
と反対側の一端は全てＩｌ′Ｊ水槽３側に指向されたも
のとなっている。

また、前記加水分Ｍ槽においては、前記充填剤７とじゃ
ま板９との間にジャワ８か配置され、前記貯水槽３内の
液体をポンプ４によりくみ上げている。この場合、くみ
上げる液体にはＳ］ｏ、微粉末が含まれないように則水
槽３内にはフィルタ２がとりつけられている。

前記隼ａ装置３０は、いわゆるサイクロン分離部からな
り、その外囲器は、筒状をなしその下端部において径が
小さくなる円錐部１１を形成して前記貯水槽３に接続さ
れるようになっている。２前記外囲器の上端部には、そ
の中心軸に沿って利気管１０が挿入されている。この排
気管１０の下端部は前記円錐部１１に近接して延在され
ている。

また、この排気管１０の内部には、貯水槽３側から順次
充填剤１３、ファン１．／ｌが配置されている。

このように構成された除害設備の動作について説明する
。

従来のように加水分解されたＮ２は少量のＳ」０２微粉
末とともにじゃま板９により構成さオした蛇行路を経る
ことになる。この蛇行路を経ることにより、速度か遅く
なるとともに刊気管１０に至るまでの時間か長くなり、
５ｊ０２微粉末はその重力沈降により除かれろようｉ、
こなる。そして、このよう１こしてじゃま板９に付石し
たＳ　ｊ　Ｏ２微粉末は、ｒ＋ｉｉ記しやま板９の外囲
器２０に支持されている側と反対側の一端か全て１１′
）水上ｌν；３側に指向されたものとなっているため、
下方に落下するようになっている。この場合、落ドした
Ｓ」０２微粉末は、充填剤７によってその落下が妨げら
れるか、シャワー７による洗浄によって貯水槽３側に流
れ去る３上うに／」・っている、。

ぞして、前記じゃま板９を通過したＮ２は、集塵装置３
０に導入されるようになる。なお、この集塵装置３０へ
の導入は重囲排気管１０内のファン１４の回転によって
促進されるようになっている。１この年度装置３０内て
は、前記Ｍ１気管１０を中心として螺旋状にＮ、が旋回
し下方に導かれる。

この場合、円錐部］］の箇所にて速度が速くなりその遠
心力しこより前記Ｎ、が円錐部］−１の壁面に衝突し、
Ｓ］０２微粉末が含まれている場合には、このＳ　〕０
．．微粉末はｎｉｆ記円錐部１】の壁面に付着し貯水槽
３内に落下するようになる。

なお、５１ｎ２微粉末を充分に分離し九Ｎ２は、排気管
］Ｏ内のフィルタ１３を介してファン］４により排気さ
れる。

以り説明した実施例によれは、損気’：’ｉ’　ｌ　ｏ
　ｉこｈ′るまて、Ｓｊ○２１＃粉末は、集塵装置３０
に通過する間に完全に除去されるようになり、しかも除
去されるべく５３０２微粉末は貯水槽３側に蓄積さＡし
るようになる。このことは、Ｓ」０２微粉末を／ｉ！を
掃困ガ１でない所定の箇所、すなわち後で除去するに便
利である場所に蓄積させることかできるようになること
を意味する。したかって、従来のように排気［■１に蓄
積物が存在するようなことかなくなり、これにより頻繁
な請掃し必要としないようにすることかできるようにな
る。

−レ 上述した実施例では、加水分解槽内にじゃま板９かｊ）
なる蛇行路を設けているものであるか、必すしもこのじ
ゃま板９は設ける必要のないものである。

また、上１ｆｆｌした実施例では、集塵装置としていわ
ゆるサイクロン分離装置を用いたものであるが、このサ
イタロン分離装置に限定されるものでもない。

〔発明の効果〕

以Ｆ−説明したようしこ、本発明による除害設備によれ
ば、排気口に蓄積物か存在するようなことをなくし、こ
れにより頻繁な清掃を必要としないようにすることがで
きるようになる。。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明による除害設備の一実施例を示す全体
断面図、 第２図は、従来の除害設備の一例を示す全体断面図であ
る。 ６　プロセスカス排気口、７　充填剤、９ま板、１０　
利”気管、］−１，−ＩＴ］　ｉｉイ１部、１４ン、３
０　集塵装置。 じゃ ファ 図中、３　貯水＋ｊｌＩ、４　ポンプ、５　給水管、第
１ 第２図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、排ガスを液体と気液接触させて該排ガス内の有害物
   質を吸収中和する吸収法による除害設備において、その
   気体排出口に接続される集塵部を設け、この集塵部を介
   して気体を取り出すようにしたことを特徴とする除害設
   備。 ２、請求項第１の記載において、集塵部はサイクロン分
   離部とした除害設備。