JPH0460121B2 - - Google Patents

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JPH0460121B2
JPH0460121B2 JP58182978A JP18297883A JPH0460121B2 JP H0460121 B2 JPH0460121 B2 JP H0460121B2 JP 58182978 A JP58182978 A JP 58182978A JP 18297883 A JP18297883 A JP 18297883A JP H0460121 B2 JPH0460121 B2 JP H0460121B2
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phenyl
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Rutsuchu Uerunaa
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Hyuusuraa Rinarudo
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    • C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
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    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、エチレン性不飽和化合物の光重合ま
たはポリオレフレンの光化学的架橋のための開始
剤としての選択された芳香族−脂肪族ケトン型の
光重合開始剤に関するものである。 光化学重合方法は工業特に薄いフイルムを短時
間に硬化しなければならない場合例えばラツカー
塗膜の硬化または印刷インキの乾燥時において相
当な重要性を獲得している。慣用の硬化方法と比
べて、光開始剤の存在下でのUV照射は多くの利
点を有し、中でもおそらく最も重要なものは光硬
化の速い速度であろう。この速度は使用される光
開始剤に大きく依存し、そして慣用の開始剤をよ
り良いそしてより効果的な化合物によつてだんだ
ん置き換えていく試みは無数にある。 中でも最も重要な光開始剤は芳香族−脂肪族ケ
トン特に、例えばアメリカ合衆国特許明細書第
4318791号、アメリカ合衆国特許明細書第4072694
号及び西ドイツ国特許公開公報第2357866号中に
記載されているようなプロピオフエノン誘導体で
ある。 しかしながら、この型の化合物の性質は特に貯
蔵安定性、反応性および黄変傾向の点においてま
だ最適なものではない。 従つて、基剤に易溶性であり、より迅速に光重
合を開始し、暗所貯蔵時の良好な安定性を有し、
そして公知の光開始剤よりも単位時間当り更に大
きなポリマー収量を得る光開始剤に対する工業上
の要望がある。このような改良された光開始剤の
使用により、高価な工業用UV照射装置がより有
効に用いられることが可能となる。であろう。 特定の芳香族−脂肪族プロピオフエノンは光開
始剤としての優秀な性質を有し、これによりエチ
レン性不飽和化合物の光重合を改良することが判
つた。 本発明は次式Ｉ： 〔式中、 R1は水素原子を表わし、 R2は−Si（CH3）3基を表わすか、 または R1とR2は一緒になつて直鎖状または分枝鎖状
の炭素原子数２ないし６のアルキリデン基、また
はフエニル基で置換された炭素原子数１ないし６
のアルキリデン基を表わし、 R3はフエニル基を表わし、 R4は炭素原子数１ないし４のアルキル基また
はフエニル基を表わし、 R5は水素原子を表わすか、または R4とR5は一緒になつてトリメチレンまたはテ
トラメチレン基を表わし、そして R6は水素原子を表わす。〕で表わされる化合物
からなる光重合開始剤に関するものである。これ
らの化合物はエチレン性不飽和化合物の光重合の
ための、そしてポリオレフインの光化学的架橋の
ための開始剤である。 炭素原子数１ないし４のアルキル基は例えば直
鎖状または分岐鎖状アルキル基例えばメチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ
−ブチル基、第二ブチル基及び第三ブチル基、し
かし特にメチル基を表わす。 フエニル基の炭素原子数１ないし４のアルキル
基置換基R3及びR4は例えばメチル、エチル、ｎ
−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチルまたは第
三ブチル置換基を表わす。 R1とR2が一緒になることにより作られる炭素
原子数１ないし６のアルリルデン基は例えばメチ
レン基、エチリデン基、プロピリデン基または特
にイソプロピリデン基を表わし、そしてR1とR2
が一緒新なることにより作られる直鎖状または分
岐鎖状の炭素原子数２ないし６のアルカジイル基
は例えばエタンジイル基またはメチルエタンジイ
ル基を表わす。 R1とR2が一緒になることにより作られる、フ
エニル基により置換された炭素原子数２ないし６
のアルキリデン基は、特に１−フエニル−１−エ
チリデン基を表わす。 式Ｉで表わされる好ましい化合物としては、式
中R1は水素原子を表わし、R2は−Si（CH3）3基を
表わし、R3がフエニル基を表わし、R4が炭素原
子数１ないし４のアルキル基を表わし、そして
R5が水素原子を表わすが、または式中R1とR2が
一緒になつてイソプロピリデン基またはベンジリ
デン基を表わすか、またはR4とR5が一緒になつ
てトリメチレンまたはテトラメチンレン基を表わ
し、そしてR6が水素原子を表わす化合物が挙げ
られる。 特に好ましい式Ｉで表わされる化合物として
は、式中R1が−Si（CH3）3基を表わすか、または
R1とR2が一緒になつてイソプロピリデン基、ベ
ンジリデン基を表わし、R3がフエニル基を表わ
し、R4がメチル基またはフエニル基を表わし、
R5が水素原子を表わすが、またはR4とR5が一緒
になつてテトラメチレン基を表わし、そして水素
原子を表わす化合物が挙げられる。 下記の化合物は式Ｉで表わされる個々の化合物
の例である：１，２−ジフエニル−２−ヒドロキ
シ−３−トリメチルシロキシ−プロパン−１、１
−ベンゾイル−１−ヒドロキシ−２−トリメチル
シリルオキシ−シクロヘキサン、４−ベンゾイル
−４−メチル−２−フエニル−１，３−ジオキソ
ラン、４−ベンゾイル−２，２，４−トリメチル
−１，３−ジオキソラン、４−ベンゾイル−２，
２−ペンタメチレン−４−フエニル−１，８−ジ
オキソラン、４−エチル−４−ベンゾイル−２，
２−テトラメチレン−１，３−ジオキソラン、２
−ベンゾイル−５−メチル−２−フエニル−１，
４−ジオキソラン。 式Ｉで表わされる化合物は新規であり、従つて
また本発明の目的をなす。これらの調製は公知化
合物の調製例えばアメリカ合衆国特許明細書第
4318791号及び第4072694号中に記載された適する
製法に従つて同様に行われる。 下記の合成手順が特に有利である。 式で表わされるプロピオフエノン誘導体より
出発して、式で表わされる化合物は式で表わ
される塩素化された化合物を通るCl2の手段によ
るか、または式で表わされる化合物を通つて製
造され、そして式で表わされる適当なアルコー
ルまたは水と反応させた後、本発明の式で表わ
される化合物に変えられ、次いで更にアルキル
化、シリル化またはジオキソラン生成の後、本発
明の式（）で表わされる化合物に変えられる。
式で表わされる化合物はまた式で表わされる
ケトンまたはアルデヒドを使用するジオキソラン
生成により式で表わされる化合物より直接作る
ことができる。この場合、R7は水素原子、炭素
原子数１ないし５のアルキル基またはフエニル基
を表わし、R8は水素原子または炭素原子数１な
いし２のアルキル基を表わし、そしてR7とR8は
一緒になつてテトラメチレンまたはペンタメチレ
ン基を表わす。式、、、、及びにお
いて、基R1ないしR6は上記において定義された
意味を表わす。 輪の中の数字は、この型の同様の方法が記載さ
れている参考文献を示している。：J.Chem.
Soc.、79、928（1901）、J.Org.Che.、28、250、
（1963）またはOrg.Syntheses、55、52（1976）、
J.Am.Chem.Soc.、75、2042（1953）、J.
Chem.Soc.、73、3293（1958）またはHouben−
Weyl共著、Methoden der organischen Chemie
（有機化学の方法）、／３巻、40〜44、456〜457
（1965）、T.W.Greene著、有機合成における保
護基、40〜42頁（1981）またはHouben−Weyl共
著、Methoden der organishen chemie（有機化
学の方法）、／３巻、229〜232（1963）、J.
Am.Chem.Soc.92、5394（1970）、Khim.
Geterotsikl.Soedin1975、907. そのような化合物の例は不飽和モノマー、例え
ばアクリル酸又はメタクリル酸のエステル、例え
ばメチル、エチル、ｎ−ブチル、第三ブチル、イ
ソオクチル又はヒドロキシエチルアクリレート、
メチル−又はエチルメタクリレート、エチレンジ
アクリレート、ネオペンチル−ジアクリレート、
チロメチロールプロパントリスアクリレート、ペ
ンタエリトリツトテトラアクリレート又はペンタ
エリトリツトトリスクアクリレート；アクリロニ
トリル、メタクリルニトリル、アクリルアミド、
メタクリルアミド又はＮ−置換（メタ）アクリル
アミド；ビニルエステル類、例えばビニルアセテ
ート、−プロピオネート、−アクリレート又は−ス
クシネート；その他のビニル化合物、例えばビチ
ルエーテル、スチロール、アルキルスチロール、
ハロゲンノスチロール、ジビニルベンゼン、ビニ
ルナフタリン、Ｎ−ビニル−ピロリドン、ビニル
クロリド又はビニリデンクロリド；アリル化合
物、例えばジアリルフタレート、ジアリルマレエ
ート、トリアリルイソシアヌレート、トリアリル
ホスフエート又はエチレングリコールジアリルエ
ーテル、およびそのような不飽和モノマーの混合
物である。 他の光重合性化合物は不飽和オキゴマー又はポ
リマーおよびそれらと不飽和モノマーとの混合物
である。これらの化合物には不飽和基、例えばフ
マル酸エステル、アリル基又はアクリレート又は
メタクリレート基を含む熱可塑性樹脂が含まれ
る。殆んどの場合、これらの不飽和基はこれらの
線状ポリマーの主鎖に官能基を介して結合されて
いる。オリゴマーとモノ不飽和およびポリ不飽和
モノマーとの混合物は非常に重要である。そのよ
うなオリゴマーの例は不飽和ポリエステル、不飽
和アクリル樹脂およびイソシアネート変性−又は
エポキシド変性−アクリレートオリゴマーおよび
またポリエーテルアクリレートオリゴマーであ
る。ポリ不飽和化合物の例は特にジオールおよび
ポリオールのアクリレート、例えばヘキサメチレ
ンジアクリレート又はペンタエリトリツトテトラ
アクリレートである。アクリレート、例えばブチ
ルアクリレート、フエニルアクリレート、ベンジ
ルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレー
ト又は２−ヒドロキシプロピルアクリレート、も
またモノ不飽和モノマーとして好ましい。種々の
代表的モノマーから３成分を選ぶことにより、未
重合混合物のコンシステンシーおよびまた重合樹
脂の可塑性を変えることが可能である。 これらの３成分混合物の外に、特に２成分混合
物がポリエステル樹脂において重要な役割を果
す。これらの混合物は殆んどの場合不飽和ポリエ
ステルとビニル化合物とから成る。不飽和ポリエ
ステルは少なくとも一種の不飽和ジカルボン酸、
（例えばマレイン酸、フマル酸又はシトラコン酸）
および殆んどの場合、少なくとも一種の飽和ジカ
ルボン酸（例えばフタル酸、コハク酸、セバシン
酸又はイソフタル酸）とグリコール（例えばエチ
レングリコール、１，２−プロパンジオール、ジ
エチレングリコール、トチエチレングリコール又
はテトラメチレングリコール）とのオリゴマー性
エステル化生成物であるが、モノカルボン酸とモ
ノアルコールもまた多くの場合、変性用に同時に
使用される。これらの不飽和ポリエステルは通
常、ビニル又はアリル化合物中に溶解されるが、
スチロールがこの目的に使用するのに好ましい。 好ましいエチレン系不飽和光重合性化合物は一
官能性、二官能性又は多官能性アクリル酸エステ
ルおよび／又はメタクリル酸エステル又はそれら
の混合物である。 本発明の実施に使用される化合物の多くは水性
光重合性および架橋性系における開始剤として使
用するのにも適している。水性分散体の例は下記
の刊行物に記載されている：欧州特許第12339、
同第21078、同第41125、ドイツ国公開公報
2936039号および同第3005036号。 種々の目的に使用される光重合性系は殆んどの
場合、光重合性化合物および光開始剤以外に他く
の多の添加剤を含む。このように、時期尚早の重
合、特に成分を混合することにより系を調製して
いる間の重合から系を保護するように意図された
熱阻止剤を添加することがしばしば行われてい
る。この目的に使用される化合物の例はヒドロキ
ノン、ヒドロキノン誘導体、ｐ−メトキシフエノ
ール、β−ナフタチアミン又はβ−ナフトールで
ある。少量のUV吸収剤、例えばベンゾトリアゾ
ール又はベンゾフエノン型のもの、を添加するこ
とも可能である。 暗所における貯蔵安定性は、ナフテン酸銅、ス
テアリン酸銅又はオクタン酸銅のような銅化合
物；トリフエニルホスフイン、トリブチルホスフ
イン、トリエチルホスフアイト、トリフエニルホ
スフアイト又はトリベンジルホスフアイトのよう
な燐化合物；テトラメチルアンモニウムクロリド
又はトリメチルベンジルアンモニウムクロリドの
ような第四級アンモニウム化合物；又はヒドロキ
シルアミン誘導体、例えばＮ−ジエチルヒドロキ
シルアミン、を添加することにより増大させるこ
とができる。光重合性系は鎖移行剤、例えばＮ−
メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミ
ン又はシクロヘキセン、をも含むことができる。 大気の酸素の阻害作用を除去するために、パラ
フインまたは類似のワツクス様物質を光硬化性混
合物に加えることが多い。これらの物質は重合体
への溶解度が不十分なために重合の初期に上部に
浮き、空気の接触を防ぐ透明な表面層を形成す
る。大気の酸素は自動酸化基、例えばアリル基を
硬化すべき樹脂に導入することによつても失活さ
せることができる。 光重合開始剤はまた遊離基開始剤、例えばペル
オキシド、ヒドロペルオキシド、ケトンペルオキ
シド又はペンカルボン酸エステル、と組合せて使
用することもできる。 目的とする用途に依存して光重合性系はシリ
カ、タルクまたは石こうのような充填剤、顔料、
染料、繊維、チキソトロープ剤または流動調節補
助剤をも含む。 公知の光開始剤、例えばベンゾインエーテル、
ジアルコキシアセトフエノン又はベンジルイケタ
ール、を含む組合せもまた使用することができ
る。 本発明による光開始剤とアミンおよび／又は芳
香族ケトンとの組合せが、特に薄層及び印刷用イ
ンクの光重合に使用できる。アミンの例はトリエ
チルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ
−ジメチルエタノールアミ又はｐ−ジメチルアミ
ン安息香酸エステルである。ケトンの例はベンゾ
フエノン、置換ベンゾフエノン誘導体、ミヒラー
（Michler）のケトン、アントラキノン、および
アントラキノン誘導体、クマリン誘導体、および
チオキサントンおよびその誘導体である。 印刷用インクの光硬化は非常に重要である。何
故なら、結合剤の乾燥時間はグラフツク製品の生
産速度に対して決定的要素であり、そして１秒の
何分の１かのオーダーの時間でなければならない
からである。本発明による開始剤は印刷板の製造
用の光硬化性系にも非常に適している。可溶性線
状ポリアミドと光重合性モノマー（例えばアクリ
ルアミド）および光開始剤との混合物は例えばこ
の場合に使用できる。これらの系に属するフイル
ムおよび板は印刷原画のネガ（又はポジ）を通し
て露光され、そして未硬化部分は次に溶媒により
溶出される。 UV硬化についての別の使用分野は金属塗装、
例えば管、カン又はびん密閉用の金属シートのラ
ツカー塗における金属塗装、並びにプラスチツク
塗装物のUV硬化、例えばPVCを基材として床被
覆物又は壁被覆物のUV硬化である。 紙塗装物のUV硬化の例は、ラベル、グラマフ
オンレコードスリーブ又は本カバーの無色ラツカ
ー塗である。 式で表わされる化合物はまた、本発明に従つ
てポリオレフインの光化学架橋用の開始剤として
も使用できる。この目的に適したポリオレフイン
の例はポリプロピレン、ポリブチレン、ポリイソ
ブチレンおよびコポリマー、例えばエチレン／プ
ロピレンコポリマーであるが、好ましいのは低密
度、中密度又は高密度ポリエチレンである。 上述した使用分野においては、光開始剤を光重
合性又は架橋性組成物を基準にして0.1ないし20
重量％、好ましくは0.5ないし５重量％の量で使
用するのが有利である。この明細書で組成物と
は、特定の用途に使用される、光重合性又は架橋
性化合物、光開始剤および他の充填剤および添加
剤の混合物を意味する。 光重合性組成物への光開始剤の添加は一般に、
単に撹拌することにより行われる。何故なら、こ
れらの組成物の殆んどは液体であるか或いは易溶
性であるからである。殆んどの場合、本発明によ
り開始剤の溶液を使用するが、これは該開始剤の
均一な分散を確実にしそしてまたポリマーの透明
性を確保する。 光重合は、公知の光重合法に従つて、短波長輻
射線に富む光を照射することにより行う。適した
光源の例は中圧、高圧および低圧水銀蒸気灯、お
よび250〜400nｍの範囲に最大発光を有するスー
パー化学線蛍光管である。 本発明による式で表わされるプロピオフエノ
ンは改良された反応性および貯蔵安定性を有し、
そしてまた増大された耐黄変性を有する。 本発明による光開始剤の製造および使用法を以
下の実施例に更に詳しく記載する。これらの実施
例において、部およびパーセントは重量を基準と
する。 化合物の製造例 １ ３−メトキシ−２−ヒドロキシ−２−メチル−
１−フエニルプロパン−１−オンの製造 次式： で表わされる２−ベンゾイル−２−メチルオキシ
ラン出発材料〔参考文献J.Am.Chem.Soc.75巻、
2042頁（1953年）と類似の方法で、α−クロロプ
ロピオフエノンとパラホルムアルデヒドから
KCO（CH3）3／HOC（CH3）3により調製〕20部
（0.12モル）をメタノール50ml中に取り、触媒量
（約５〜10モル％）のｐ−トルエンスルホン酸の
ような酸を注意深く添加する。次に混合物を室温
で出発材料がも早存在しなくなるまで撹拌する。
このようにして得た反応溶液を次にエーテル250
mlで希釈し、水で２回洗浄し、硫酸ナトリウムで
乾燥させ、そして最後に回転蒸発器上で40℃にて
濃縮する。得られた粗製反応生成物をカラムクロ
マトグラフイー（担体：シリカゲル；溶離剤：ヘ
キサン＋酢酸エチル20容量％）により精製する。
これにより次式： で表わされる純粋な無色油状生成物12部が得られ
る。 分析データ： C11H14O3に対する燃焼分析： 計算値：Ｃ％68.03 Ｈ％7.27 測定値：Ｃ％68.04 Ｈ％7.42 NMRスペクトル〔CDCL3、δ（ppm）〕： 1.43（Ｓ、3H）；3.22（Ｓ、3H）；3.38および3.84
（AB系、Ｊ＝９Hz、2H）；4.18（Ｓ、1H）；7.1−
7.4（Ｍ、3H）；7.8−8.05（Ｍ、2H）。 Ｓは一重項、そしてＭは多重項である。 式の別の化合物を上記化合物の製造例と同様
にして製造した。それらを以下の第１表に掲示す
る。
【表】
【表】 ル化することにより製造。

化合物の製造例 ２ ４−ベンゾイル−２，２，４−トリメチル１，
３−ジオキソランの製造 ２−ベンゾイル−２−メチルオキシラン（実施
例１参照）16.2ｇ（0.1モル）をアセトン35ｇ
（0.6モル）中に溶かし、次にアセトン35ｇ（0.6
モル）中の三弗化ホウ素−エーテル錯化合物1.42
ｇ（0.01モル）の溶液を滴加し、その間混合物を
氷浴により冷却する。次に混合物を室温で２時間
撹拌し、次に５時間還流加熱する。反応溶液を冷
却し、冷却しながら飽和水酸化ナトリウムメタノ
ール溶液50mlによりアルカリ性にし、そして水
200mlで希釈する。生成物をエーテルで抽出する。
エーテル溶液を炭酸カリウムで乾燥してそし濃縮
する。残留物を減圧下にて95℃および0.5ミリバ
ールにて蒸留する。蒸留物の中圧クロマトグラフ
イーにより精製すると、無色の油状物が得られ
る。 分析データ： C13H16O3に対する燃焼分析 計算値：Ｃ％70.89 Ｈ％7.33 測定値：Ｃ％70.76 Ｈ％7.31 1H−NMRスペクトル〔CDDL8、δ（ppm）〕： 8.25−7.95（Ｍ、2H）；7.45−7.2（Ｍ、3H）；4.64
および3.70（AB系、Ｊ＝16Hz、2H）；1.57（Ｓ、
3H）；1.43（Ｓ、3H）：1.10（Ｓ、3H）。Ｓは一重
項、そしてＭは多重項である。 化合物の製造例 ３ ４−ベンゾイル−４−メチル−２−フエニル−
１，３−ジオキソランの製造 上記化合物の製造例８と同様にしてベンズアル
デヒドを使用して４−ベンゾイル−４−メチル−
２−フエニル−１，３−ジオキソランも製造した
（0.07＝ミリバールにて沸点145℃の油状物）。 分析データ： C17H16O3に対する燃焼分析 計算値：Ｃ％76.10 Ｈ％6.01 測定値：Ｃ％76.11 Ｈ％6.02 1H−NMRスペクトル〔CDCL3、δ（ppm）〕： 8.25−7.85（Ｍ、２芳香族のＨ）；7.5−6.9（Ｍ、
８芳香族のＨ）；5.95（Ｓ、0.5H、Ｈ−Ｃ(2)）；
5.62（Ｓ、0.5H、Ｈ−Ｃ(2)）；4.85および3.69
（1.0H、AB系のシグナル、Ｊ＝８Hz、2H−Ｃ
(5)）；4.55および3.85（1.0H、AB系のシグナル、
Ｊ＝８Hz、2H−Ｃ(5)）；1.63（Ｓ、CH3−Ｃ(4)）；
1.60（Ｓ、CH3−Ｃ(4)）。 ４−ベンゾイル−４−メチル−２−フエニル−
１，３−ジオキソランのシスートランス異性体
（44％および56％）の混合物の存在が、1H−NMR
スペクトルおよびガスクロマトグラフイーから推
論される。 実施例 １ Ebecryl593（商標名、UCB社、ブリユセル、製
のアクリル樹脂）80部、DQM−672（ローム ア
ンド ハース社、フイラデルフイア、U.S.A.製
のアクリル樹脂）20部、および光開始剤２部から
成る樹脂混合物を、乾燥層厚40μｍでガラス板上
にフイルム塗布機により塗布する。これらのフイ
ルムを約20秒間空気に暴露し、そして次に中圧
Hg灯（Hanovia−Gera¨t、45080型）を用いて照
射する。これはサンプルを、UV灯下をコンベア
ベルト上で、１パス当り有効露光時間が0.16秒と
なるような速度で通過させることにより行われ
る。 非粘着性フイルム（耐ふき取り性）を得るに要
するパス（Ｐ）の回数を以下の第３表の第２欄に
示す。 第３欄は、示されたパス回数後、ケーニツヒの
振子型装置を用いて測定したフイルムの硬度を示
す。変色（黄変）は、ASTMD、1925−70に規
定された黄色インデツクスを決定することにより
評価する。
【表】 化合物番号６及び７が本発明の光開始剤であ
る。 実施例 ２ Actylan AJ20（商標名、SNPE、パリスセデツ
クス、社製のアクリル樹脂）50部、DQR−672
（ローム アンド ハース社、フイラデルフイア、
U.S.A.製のアクリル樹脂）15部、トリスメチロ
ールプロパントリアクリレートおよびヘキサンジ
オールジアクリレート（デグツサ、フランクフル
ト、社製の多官能性モノマー）それぞれ15部、Ｎ
−ビニルピロリドン（GAF、ニユーヨーク、U.
S.A.社製の反応性シンナー）10部および光開始剤
２部を乾燥層厚40μｍでガラス板上にフイルム塗
布機により塗布する。これらのフイルムを約20秒
間空気に暴露し、そして次の高圧Hg灯（UV−
プロセツサー1202AN型、PPGラジエーシヨンポ
リマー社、U.S.A.製）を用いて照射する。これ
はサンプルを、UV灯下をコンベアベルト上で、
１パス当り有効露光時間が1.05秒となるようなベ
ルト速度で通過させることにより行われる。 非粘着性フイルム（耐ふき取り性）を得るに要
するパス（Ｐ）の回数を以下の第４表の第２欄に
示す。 第３欄は、示されたパス回数後、ケーニツヒの
振子型装置を用いて測定したフイルム硬度を示
す。 変色（黄変）は、ASTMD1925−70に規定さ
れた黄色インデツクスを決定することにより評価
する。
【表】 化合物番号６〜９が本発明の光開始剤である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 次式Ｉ： 〔式中、 R1は水素原子を表わし、 R2は−Si（CH3）3基を表わすか、 または、 R1とR2は一緒になつて直鎖状または分枝鎖状
    の炭素原子数２ないし６のアルキリデン基、また
    はフエニル基で置換された炭素原子数１ないし６
    のアルキリデン基を表わし、 R3はフエニル基を表わし、 R4は炭素原子数１ないし４のアルキル基また
    はフエニル基を表わし、 R5は水素原子を表わすか、または R4とR5は一緒になつてトリメチレンまたはテ
    トラメチレン基を表わし、そして R6は水素原子を表わす。〕で表わされる化合物
    からなる光重合開始剤。 ２ 式Ｉの化合物が４−ベンゾイル−２，２，４
    −トリメチル−１，３−ジオキソランである特許
    請求の範囲第１項記載の光重合開始剤。
JP58182978A 1982-10-01 1983-09-30 光重合開始剤 Granted JPS5993024A (ja)

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