JPH0460205A - 流体噴出ノズル - Google Patents
流体噴出ノズルInfo
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- JPH0460205A JPH0460205A JP16829190A JP16829190A JPH0460205A JP H0460205 A JPH0460205 A JP H0460205A JP 16829190 A JP16829190 A JP 16829190A JP 16829190 A JP16829190 A JP 16829190A JP H0460205 A JPH0460205 A JP H0460205A
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Landscapes
- Gas Burners (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野１
本発明は流体噴出ノズルに関し、さらに詳しくはガス状
、気液混相（例えば噴霧状）または液体などの噴出ノズ
ルの構造に関し、燃料ガスの燃焼バーナ、ジェットの噴
流ノズル、レジスト滴下ノズル等に利用可能なものであ
る。
、気液混相（例えば噴霧状）または液体などの噴出ノズ
ルの構造に関し、燃料ガスの燃焼バーナ、ジェットの噴
流ノズル、レジスト滴下ノズル等に利用可能なものであ
る。
［従来の技術１
流体を噴出するノズルは、用途によって種々のものがあ
るが、高速流を乱流、脈流なとのない安定した状態で噴
出するノズルは知られでいない。
るが、高速流を乱流、脈流なとのない安定した状態で噴
出するノズルは知られでいない。
しかし、このような要請は、例えば半導体のドーパント
塗布、半導体の）オドリソグラフィの前工程であるフォ
トレタス１〜塗布技術、バーナ燃焼反応の安定化、被加
熱領域のばらつきの削減、印刷用インクジェット技術、
研削用ジェット技術、ジェットエンジンの効率向上など
、技術の各分野にわたって広く存在する。
塗布、半導体の）オドリソグラフィの前工程であるフォ
トレタス１〜塗布技術、バーナ燃焼反応の安定化、被加
熱領域のばらつきの削減、印刷用インクジェット技術、
研削用ジェット技術、ジェットエンジンの効率向上など
、技術の各分野にわたって広く存在する。
〔発明が解決しようとする課題１
本発明はこのような要請に対応する新規な流体噴出ノズ
ルを提供することを目的とする。
ルを提供することを目的とする。
本発明は、小径端を噴出口とするレデューサと、その大
径側に接続した半球殻体と、この半球殻体内面に沿って
流体を供給する供給口とからなることを特徴とする流体
噴出ノズルである。
径側に接続した半球殻体と、この半球殻体内面に沿って
流体を供給する供給口とからなることを特徴とする流体
噴出ノズルである。
レデューサと半球殻体との間に直管を介装してもよい。
また、導入流体を燃料及び支燃ガスとすればバーナとな
る。軸心に半球体膜側からレデューサ（す１［に突出す
る棒体を設けると流れの安定化に寄与する。
る。軸心に半球体膜側からレデューサ（す１［に突出す
る棒体を設けると流れの安定化に寄与する。
また、導入流体は気液混相体でも液体でもよし＼。
（作用］
軸対象の拡大または縮小流路に、この流路と同心の環状
の流速極小部を有する軸流方向の流体流を形成すると、
流体流中に旋回速度成分を自生する。この現象は、流れ
の乱れエネルギーをうま（旋回速度エネルギーに置換す
れば、乱流を抑制することができることを示唆している
。
の流速極小部を有する軸流方向の流体流を形成すると、
流体流中に旋回速度成分を自生する。この現象は、流れ
の乱れエネルギーをうま（旋回速度エネルギーに置換す
れば、乱流を抑制することができることを示唆している
。
このような流れは次の■〜■の条件を満足すれば生成す
ることができる。すなわち、 ■ 軸対象の拡大または縮小流れ場 ■ 旋回方向速度成分がゼロに近い軸方向流■ 円環状
の極小点をもつ主流速分布 自生旋回流動では、旋回が自生することによ−って従来
乱流の乱れのエネルギーとしてあられれていた流体エネ
ルギーが旋回速度エネルギーに置換される。したがって
従来の同じレイノルズ数の流れと比較すると流れの乱れ
度が小さくなる。このようにして、自生旋回流動により
乱流を抑制することができる。
ることができる。すなわち、 ■ 軸対象の拡大または縮小流れ場 ■ 旋回方向速度成分がゼロに近い軸方向流■ 円環状
の極小点をもつ主流速分布 自生旋回流動では、旋回が自生することによ−って従来
乱流の乱れのエネルギーとしてあられれていた流体エネ
ルギーが旋回速度エネルギーに置換される。したがって
従来の同じレイノルズ数の流れと比較すると流れの乱れ
度が小さくなる。このようにして、自生旋回流動により
乱流を抑制することができる。
本発明は以上の基本原理に基づいており、上記構成の流
体噴出ノズルは−様な流動状態のガスを噴出し、スポッ
ト加熱可能なバーナとか一様塗布するレジスト塗布ノズ
ル等に用いることができる。
体噴出ノズルは−様な流動状態のガスを噴出し、スポッ
ト加熱可能なバーナとか一様塗布するレジスト塗布ノズ
ル等に用いることができる。
［実施例１
第１図は本発明の流体噴出ノズルの実施例の縦断面図を
示すものである。この流体噴出ノズルは、小径端が噴出
口となっているレデューサ１と、このレデューサ１０大
径側に接続した半球殻体２と、この半球殻体２の内面に
沿って流体を供給する供給口４から構成されている。こ
の例ではレゾユーザ１と半球殻体２との間に直管３を介
装している。流体５は半球殻体２の内面に沿って供給さ
れる。この流体５を燃料と空気とし、イグナイタ６を棒
７の先端に設けるとバーナとなる。
示すものである。この流体噴出ノズルは、小径端が噴出
口となっているレデューサ１と、このレデューサ１０大
径側に接続した半球殻体２と、この半球殻体２の内面に
沿って流体を供給する供給口４から構成されている。こ
の例ではレゾユーザ１と半球殻体２との間に直管３を介
装している。流体５は半球殻体２の内面に沿って供給さ
れる。この流体５を燃料と空気とし、イグナイタ６を棒
７の先端に設けるとバーナとなる。
第２図は第１図と同じ構成のもので半球体側からレデュ
ーサ側に向かって、装置の軸心に細長い棒体８を突出し
たもので、この棒体によって、速やかに安定した旋回を
伴う乱流抑制流れを生成する。
ーサ側に向かって、装置の軸心に細長い棒体８を突出し
たもので、この棒体によって、速やかに安定した旋回を
伴う乱流抑制流れを生成する。
この棒体８の先端にイグナイタ６を設けると。
非常に安定性の高いバーナを構成することができる。
次に第３図に、本発明のバーナの性能試験を行った実験
装置を示した。
装置を示した。
バーナ出口孔の径が１０ｍｍφの本発明の実施例のバー
ナ１０と通常のブンゼンバーナにで都市ガスを燃焼させ
、距離ｄがｌ Ｏｃｍの位置に置いたＭ熱ガラス１１を
直接直火で加熱し、この耐熱ガラス１１の裏面熱分布を
サーモグラフカメラ（サーモピュア）１２にて観察した
。１３は制御装置、１４はモニタである。
ナ１０と通常のブンゼンバーナにで都市ガスを燃焼させ
、距離ｄがｌ Ｏｃｍの位置に置いたＭ熱ガラス１１を
直接直火で加熱し、この耐熱ガラス１１の裏面熱分布を
サーモグラフカメラ（サーモピュア）１２にて観察した
。１３は制御装置、１４はモニタである。
通常のブンゼンバーナでは第５図に示すように、サーモ
グラフ（サーモピュア）１３のモニタ画面１４の５００
℃の領域の直径Ｄ２は約２０ｃｍの円形であり、時間的
に変動があり、この変動分を入れるとＤ２＝２０ｃｍ±
５ｃｍであった。これに対して実施例のバーナでは第４
図に示すように５００°Ｃの領域の直径Ｄ１は約１０ｃ
ｍの円形で、時間変動も小さく、ＤＩ＝ｌＯｃｍ±２ｃ
ｍであった。
グラフ（サーモピュア）１３のモニタ画面１４の５００
℃の領域の直径Ｄ２は約２０ｃｍの円形であり、時間的
に変動があり、この変動分を入れるとＤ２＝２０ｃｍ±
５ｃｍであった。これに対して実施例のバーナでは第４
図に示すように５００°Ｃの領域の直径Ｄ１は約１０ｃ
ｍの円形で、時間変動も小さく、ＤＩ＝ｌＯｃｍ±２ｃ
ｍであった。
本発明の流体噴出ノズルをバーナとして用いるとスポッ
ト加熱が可能で加熱の安定性が得られることがわかった
。
ト加熱が可能で加熱の安定性が得られることがわかった
。
［発明の効果］
本発明によれば、高速流を乱流、脈流なとのない状態で
噴出することができ、燃焼反応の安定したバーナ、−様
塗布のできるレジスト噴出ノズルその地名分野の流体噴
出ノズルとして寄与するところが大である。
噴出することができ、燃焼反応の安定したバーナ、−様
塗布のできるレジスト噴出ノズルその地名分野の流体噴
出ノズルとして寄与するところが大である。
第１図、第２図は本発明の実施例の縦断面図、第３図は
本発明装置の効果を説明する実験装置の模式図、第４図
、第５図はその結果を示すサーモピュアの見取り図であ
る。
本発明装置の効果を説明する実験装置の模式図、第４図
、第５図はその結果を示すサーモピュアの見取り図であ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 小径端を噴出口とするレデューサと、その大径側に
接続した半球殻体と、該半球殻体内面に沿って流体を供
給する供給口とからなることを特徴とする流体噴出ノズ
ル。 ２ レデューサと半球殻体との間に直管を介装した請求
項１記載の流体噴出ノズル。 ３ 導入流体が燃料及び支燃ガスである請求項１または
２記載の流体噴出ノズル。 ４ 軸心にガス半球殻体側からレデューサ側に棒体を突
設した請求項３記載の流体噴出ノズル。 ５ 導入流体が気液混相体である請求項１または２記載
の流体噴出ノズル。 ６ 導入流体が液体である請求項１または。 ２記載の流体噴出ノズル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16829190A JP2794327B2 (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | 流体噴出ノズル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16829190A JP2794327B2 (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | 流体噴出ノズル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0460205A true JPH0460205A (ja) | 1992-02-26 |
| JP2794327B2 JP2794327B2 (ja) | 1998-09-03 |
Family
ID=15865294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16829190A Expired - Fee Related JP2794327B2 (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | 流体噴出ノズル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2794327B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007159720A (ja) * | 2005-12-12 | 2007-06-28 | Hitachi Ltd | 磁気共鳴イメージング装置及び電磁石装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4632112B2 (ja) | 2001-07-09 | 2011-02-16 | 独立行政法人 宇宙航空研究開発機構 | 衛星の打ち上げ方法 |
-
1990
- 1990-06-28 JP JP16829190A patent/JP2794327B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007159720A (ja) * | 2005-12-12 | 2007-06-28 | Hitachi Ltd | 磁気共鳴イメージング装置及び電磁石装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2794327B2 (ja) | 1998-09-03 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |