JPH0461214A - 積層型セラミックコンデンサ - Google Patents
積層型セラミックコンデンサInfo
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- JPH0461214A JPH0461214A JP17396890A JP17396890A JPH0461214A JP H0461214 A JPH0461214 A JP H0461214A JP 17396890 A JP17396890 A JP 17396890A JP 17396890 A JP17396890 A JP 17396890A JP H0461214 A JPH0461214 A JP H0461214A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
本発明は、導電性ベースト1.特に1.積層型コンデン
サの端子電極形成用導電性ペーストaご関する。
サの端子電極形成用導電性ペーストaご関する。
1従来の技術〕
電子機器の小型化に伴い、電子機器に使用される電子部
品も小型化U7ている。例えばセラミ、り二に・デン勺
では、小形で軽−な積層セフミノクニJ:・デンザが開
発されでいる。この積層セラミック:Iンデニ′勺は、
例λば、厚さ数μmの内部電極層とIνさ数lμITI
のセラミ5.り誘電体層とが交rノに積層されて一体焼
成さイ′才、た−Jンデン()素fと、外部電極とをf
1シ、でいる。ごごで、夕(部電極は導電14ベース(
を用いて形成されでいる。なお、前記積層セラミノクニ
ノンデj/シでは、はんだ耐熱性を向1ニさせ、また〕
゛リシリン択−5の実装を容易にするために、電気メツ
キ法により表面e、’、、”、、 N 1膜ヌはS n
膜が形成されでいる。
品も小型化U7ている。例えばセラミ、り二に・デン勺
では、小形で軽−な積層セフミノクニJ:・デンザが開
発されでいる。この積層セラミック:Iンデニ′勺は、
例λば、厚さ数μmの内部電極層とIνさ数lμITI
のセラミ5.り誘電体層とが交rノに積層されて一体焼
成さイ′才、た−Jンデン()素fと、外部電極とをf
1シ、でいる。ごごで、夕(部電極は導電14ベース(
を用いて形成されでいる。なお、前記積層セラミノクニ
ノンデj/シでは、はんだ耐熱性を向1ニさせ、また〕
゛リシリン択−5の実装を容易にするために、電気メツ
キ法により表面e、’、、”、、 N 1膜ヌはS n
膜が形成されでいる。
従来、l述のような積層セラミ、2クニJンデ゛、・・
すの外部型棒形成用の導電性ベース1とり、−’r、銀
糸の導電性粉末と硼硅酸曲鉛系ガラスソリ・2・1と有
機ヒビクルとを主成分とするものが知ら才1ている(特
公昭f32−16625 ”;”4公報参照)。なお、
硼硅酸亜鉛系ガラスフリ/1・とは、Z r+ (’)
と[3□03と5in2とを+、成分とするガラスノリ
ノドである。係る導電性ベー ストによるA部電極の形
成は、コンデンザ素了の端面に上述の導電性ベース1を
塗布j1、ベースト中の導電性粉末とガラスフリ、lと
を焼成jてコニ/ダニ/す素子と一体化する、二とによ
り行われている。(−述の導電性ベース1による外部電
極は、−ノン5’ 5/り素f内部の内部電極との接続
性及びコンデンサ素子との結合強度かともに良好であり
、また表面にメソ−(皮Hりが容易に形成できる。
すの外部型棒形成用の導電性ベース1とり、−’r、銀
糸の導電性粉末と硼硅酸曲鉛系ガラスソリ・2・1と有
機ヒビクルとを主成分とするものが知ら才1ている(特
公昭f32−16625 ”;”4公報参照)。なお、
硼硅酸亜鉛系ガラスフリ/1・とは、Z r+ (’)
と[3□03と5in2とを+、成分とするガラスノリ
ノドである。係る導電性ベー ストによるA部電極の形
成は、コンデンザ素了の端面に上述の導電性ベース1を
塗布j1、ベースト中の導電性粉末とガラスフリ、lと
を焼成jてコニ/ダニ/す素子と一体化する、二とによ
り行われている。(−述の導電性ベース1による外部電
極は、−ノン5’ 5/り素f内部の内部電極との接続
性及びコンデンサ素子との結合強度かともに良好であり
、また表面にメソ−(皮Hりが容易に形成できる。
〔考案か解決し2ようと引る課題]
前記従来の導電性ベーストは、焼成I程でガフスフリフ
1中のZnOがコンデン′4) 611器素体中に進入
j521.−’ 0) /n Oと:1ンデンサ磁器素
体との反応により=lンデンザ磁器素体に、クラックを
牛し7さ・廿る場合がある。特に、(タン酸ハリウJ、
やニオゾ酸鉛製の−777ンシ磁器素体で(11、クラ
ックが〕44、し5や4−い。
1中のZnOがコンデン′4) 611器素体中に進入
j521.−’ 0) /n Oと:1ンデンサ磁器素
体との反応により=lンデンザ磁器素体に、クラックを
牛し7さ・廿る場合がある。特に、(タン酸ハリウJ、
やニオゾ酸鉛製の−777ンシ磁器素体で(11、クラ
ックが〕44、し5や4−い。
本発明の目的は、コンデ゛/ザ侑器累′体にクランクを
生t7させにくく、し、かも内部電極との接続性及びコ
ンデンサ′4ii器素体との結合強度が良好であり、ま
たメツキ皮膜の形成が容易な、積層型:ズンデンザの端
子電極形成用導電性ベースト苓提供づるごとにあ乙。
生t7させにくく、し、かも内部電極との接続性及びコ
ンデンサ′4ii器素体との結合強度が良好であり、ま
たメツキ皮膜の形成が容易な、積層型:ズンデンザの端
子電極形成用導電性ベースト苓提供づるごとにあ乙。
〔課題迭解決するための手段]
オー発明の積層型コンデンサの端子電極形成用導電17
1く〜スミは、銀系の導′市性粉末と、Z n O4含
む硼硅酸亜釦系ガラスフリノ1−と、有機、ビヒクルと
4名むものである (7の導電性ベーストは、硼硅酸亜
鉛系ガラスフリソl中のZ n (’、)含料が13.
5〜22.5重蓋%であるごどを特徴とし、−(いる。
1く〜スミは、銀系の導′市性粉末と、Z n O4含
む硼硅酸亜釦系ガラスフリノ1−と、有機、ビヒクルと
4名むものである (7の導電性ベーストは、硼硅酸亜
鉛系ガラスフリソl中のZ n (’、)含料が13.
5〜22.5重蓋%であるごどを特徴とし、−(いる。
**** ′4 罎 *
本発明に用いられる4電性粉末は、導電性ベス1−の焼
成後に”iJMiを形成するだめの成分である。
成後に”iJMiを形成するだめの成分である。
導電性粉末は、銀、叱H2成分とする合金の粉末、また
・は銀の粉末に他の種類の導電性金属の粉1、を混合j
2.たものが用いられる。このような導電性粉末2しで
は、2銀〜バラジウ14合金に1)l)、Ni、C1,
J等の金属粉末を若)“混合したものを例示できる。導
電性粉末の平均粒径は、1〜21tniV度が望ま(、
、い。平均粒径が?2tImを越える場合には、導電性
粉末の焼結速度が遅くなりやすい。なお、導電性粉末は
、導電性ベースト中に通常65〜75車1%程度混自さ
れる。
・は銀の粉末に他の種類の導電性金属の粉1、を混合j
2.たものが用いられる。このような導電性粉末2しで
は、2銀〜バラジウ14合金に1)l)、Ni、C1,
J等の金属粉末を若)“混合したものを例示できる。導
電性粉末の平均粒径は、1〜21tniV度が望ま(、
、い。平均粒径が?2tImを越える場合には、導電性
粉末の焼結速度が遅くなりやすい。なお、導電性粉末は
、導電性ベースト中に通常65〜75車1%程度混自さ
れる。
本発明乙こ用いらiるガラスフリットは、導電性ベース
トの焼成時に導電性粉末を積層型−コンデンサの本体に
接着するだめの無機バインダー成分である。本発明では
、ガラスソリノI・とシ1.で、硼硅酸曲鉛系ガラスノ
リソトが用いられる。硼硅酸Ij鉛系ガラスフリットと
は、ZnO1B、O,及び5iOzを1−成分とし1、
これにアルカリ金属酸化物及びアルカリ土類金属酸化物
を混合したものである。
トの焼成時に導電性粉末を積層型−コンデンサの本体に
接着するだめの無機バインダー成分である。本発明では
、ガラスソリノI・とシ1.で、硼硅酸曲鉛系ガラスノ
リソトが用いられる。硼硅酸Ij鉛系ガラスフリットと
は、ZnO1B、O,及び5iOzを1−成分とし1、
これにアルカリ金属酸化物及びアルカリ土類金属酸化物
を混合したものである。
本発明で用いられる1、述の硼硅酸!lT+鉛ガンスフ
リン]・では、ZnOは、13.5−22.5重蓋%、
好ましくは15〜18重鼠%混合さtc−(いる。
リン]・では、ZnOは、13.5−22.5重蓋%、
好ましくは15〜18重鼠%混合さtc−(いる。
これにより、クランクの発生がなく、且つ実用的に充分
な接合強度(2,Okg−1以上)が達成できる。ずな
わち、ZnOの混合蓋が13.5111%未満では、導
電性ベーストの軟化点が上vシフ、:Jンデンサ本体と
端子−電極との接合強度が低ト″4る。また、導電性ベ
ーストの市1還元性が悪化し2、端Y電極のメツキ処理
が困難になる。逆に、2245市量ン6を越える場合は
、ベーストの焼成中!、−11ンデン4Jの本体内にZ
Nlが多1乙ご侵入し、コンゲ′ン′IJ本体にクー
ノックが生しや゛ス−くなる。また、」二・′うンリ°
本体と端子電極との結合強度が低下−4る。
な接合強度(2,Okg−1以上)が達成できる。ずな
わち、ZnOの混合蓋が13.5111%未満では、導
電性ベーストの軟化点が上vシフ、:Jンデンサ本体と
端子−電極との接合強度が低ト″4る。また、導電性ベ
ーストの市1還元性が悪化し2、端Y電極のメツキ処理
が困難になる。逆に、2245市量ン6を越える場合は
、ベーストの焼成中!、−11ンデン4Jの本体内にZ
Nlが多1乙ご侵入し、コンゲ′ン′IJ本体にクー
ノックが生しや゛ス−くなる。また、」二・′うンリ°
本体と端子電極との結合強度が低下−4る。
5in2は、ガ;クスフリ、ノド中に29.0〜36・
0市−%1.好まし5くは30.0〜35,0重蓋%混
音される。5in2の混合蓋が29.0重1%末?1’
1i−(”’は、ガラスフリ、・1中のZnOの相幻足
が増加り7、その結果二1ンデンリー本体にクラックが
勺−じや4−くなる。逆に、3(i、0重蓋%を超λる
と、ガラスフリットの軟化点がト昇し7、二1ンデンザ
本体と端f−電極上の接着強度が低下する。13□f:
) 3 o’> yJQ合鼠は、上述のZnO及びSi
n、のf′fM合足との関係ご決定されるが、通常ガラ
スフリ5ノ]−中に38゜、0重蓋%未満混合される。
0市−%1.好まし5くは30.0〜35,0重蓋%混
音される。5in2の混合蓋が29.0重1%末?1’
1i−(”’は、ガラスフリ、・1中のZnOの相幻足
が増加り7、その結果二1ンデンリー本体にクラックが
勺−じや4−くなる。逆に、3(i、0重蓋%を超λる
と、ガラスフリットの軟化点がト昇し7、二1ンデンザ
本体と端f−電極上の接着強度が低下する。13□f:
) 3 o’> yJQ合鼠は、上述のZnO及びSi
n、のf′fM合足との関係ご決定されるが、通常ガラ
スフリ5ノ]−中に38゜、0重蓋%未満混合される。
B、O。
の混合聞が38.0重蓋%以上の場合は、ベーストの焼
結過程でベーストとコンデンサ本体とが激り、 <反応
L7、コンテン9本体と端子電極との接合強度が低下す
る。
結過程でベーストとコンデンサ本体とが激り、 <反応
L7、コンテン9本体と端子電極との接合強度が低下す
る。
硼硅酸(lid鉛系ガフスノリノ)に含まれるi′九り
り金属系酸化物とは、カリウム、リナウJ2及び−Jト
リウム等のフルカリ金属の酸化物(例スばN、120.
1. i□0及びに20等)である。アルカリ金属系酸
化物の混合¥は、2.()〜8□ 0重足%に設定され
る。2.0重蓋%未満の場合は、ガフスフリントの軟化
点が1シXL5、−Jンデン」ノ゛本体と端子電極との
接着強度が低ドする。逆に、iLO惠量%を越える場合
は、ベーストの焼結過程(、こbいてベーストと、:1
ンデン勺本体とか激しく反圧、j21、:1ンデンザ本
体にクー)ツクが・1し2やすくなイ)4.また、アル
カリ土類金属系酸化物とは、B a、Ca、Sr等のア
ルカリ土類金属の酸化物(例λば[3,10、Ca 0
8SrO等)である。アルカリ土類金属系酸化物の混合
量は、4.0−16.5重蓋%に設定されている。混合
量が4重蓋%未満では、熱膨張係数が70X10’/’
C以−トとな−11,“ζ−・般のニ7ンデンサ磁器誘
電体の熱膨張係数と違いすぎるため、クラックが14;
LS昂くなる。逆に1.16゜5重蓋%を超えると、
軟化点が高くなりAぎ、固着強度か低トする。
り金属系酸化物とは、カリウム、リナウJ2及び−Jト
リウム等のフルカリ金属の酸化物(例スばN、120.
1. i□0及びに20等)である。アルカリ金属系酸
化物の混合¥は、2.()〜8□ 0重足%に設定され
る。2.0重蓋%未満の場合は、ガフスフリントの軟化
点が1シXL5、−Jンデン」ノ゛本体と端子電極との
接着強度が低ドする。逆に、iLO惠量%を越える場合
は、ベーストの焼結過程(、こbいてベーストと、:1
ンデン勺本体とか激しく反圧、j21、:1ンデンザ本
体にクー)ツクが・1し2やすくなイ)4.また、アル
カリ土類金属系酸化物とは、B a、Ca、Sr等のア
ルカリ土類金属の酸化物(例λば[3,10、Ca 0
8SrO等)である。アルカリ土類金属系酸化物の混合
量は、4.0−16.5重蓋%に設定されている。混合
量が4重蓋%未満では、熱膨張係数が70X10’/’
C以−トとな−11,“ζ−・般のニ7ンデンサ磁器誘
電体の熱膨張係数と違いすぎるため、クラックが14;
LS昂くなる。逆に1.16゜5重蓋%を超えると、
軟化点が高くなりAぎ、固着強度か低トする。
4、発明(、r用いられ4硼硅酸曲釦系力)ズブリ、2
日7は、所望によりΔn20.が〆1昌iさ才z ’?
い”C8もよい。A1..03’t’d1合し、た場合
は、罠・□デニザ本体と端子電極中のガラスフリy1’
J−の結合強度を史に高めるこ、l、゛ができる1、世
15、所、含量が・1゜0重量%苓−越λると、ガラス
フリ・2(の軟化点が1::::: M−Ll、かえ1
.て−Jンデン勺本体J端」′1「極1」′の接合強度
が低下°4る。
日7は、所望によりΔn20.が〆1昌iさ才z ’?
い”C8もよい。A1..03’t’d1合し、た場合
は、罠・□デニザ本体と端子電極中のガラスフリy1’
J−の結合強度を史に高めるこ、l、゛ができる1、世
15、所、含量が・1゜0重量%苓−越λると、ガラス
フリ・2(の軟化点が1::::: M−Ll、かえ1
.て−Jンデン勺本体J端」′1「極1」′の接合強度
が低下°4る。
本発明に用いられる硼6↑酸曲鉛系ガ−[〉スソリ・7
[のわ〕未の゛(パ均粉打は、2〜・川0 )t rl
+程度が好まし、い。平均粒径カ月Qpmよりも大きい
場合ば、焼成11.!lに焼成ブクレが発拝し、E2ン
デン号本体と端子電極古の接漬性が低下と、やすくなる
。逆と、′、2Bm未満の場合は、べ・−ストのL第1
、Jジ・がベーストを浸漬法により用いる場僑に不適1
″−ラなものとなる。
[のわ〕未の゛(パ均粉打は、2〜・川0 )t rl
+程度が好まし、い。平均粒径カ月Qpmよりも大きい
場合ば、焼成11.!lに焼成ブクレが発拝し、E2ン
デン号本体と端子電極古の接漬性が低下と、やすくなる
。逆と、′、2Bm未満の場合は、べ・−ストのL第1
、Jジ・がベーストを浸漬法により用いる場僑に不適1
″−ラなものとなる。
なお、)−1述の硼硅酸曲鉛系ガラスノリ7・(は、導
電性ベース1−中6.“通常2.O・〜・8.ojjI
口%程度’<14合される。
電性ベース1−中6.“通常2.O・〜・8.ojjI
口%程度’<14合される。
本発明に用いられる有機Lヒクルは、14機樹脂と有機
溶剤とを含んごいる。有機樹脂は、導電性ベース1に塗
布iiT能な粘弾性を(、Jりするための成分であり、
例えばエチルセルロースやロジン樹脂等が用いられる。
溶剤とを含んごいる。有機樹脂は、導電性ベース1に塗
布iiT能な粘弾性を(、Jりするための成分であり、
例えばエチルセルロースやロジン樹脂等が用いられる。
導電性ベース1中のイ(機樹脂の混合足ム、!、導電性
ベーストの塗4j条件等により適宜設定されるが、通常
340〜8.0重置%程陣−に設定される。 一方、有
機ン容剤は、ト述のイj機樹脂成分を溶解し2、導電性
ベーストに所望の粘性蚤付与するための成分である。有
機溶剤とし一ζは、例えばα−デルビネオール、2,2
.4−1リメナル−13−ベンタンジ〕−ルモノfツブ
Jレート、ジチルカルしトールアセア−[・ 口3CA
)等が用いられる。導電性ベース1〜中の有機溶剤の混
合1は、導電性ベーストの塗4−1条件等により適宜設
定されるが、通常16.0〜32゜0重蓋%程度に設定
される。
ベーストの塗4j条件等により適宜設定されるが、通常
340〜8.0重置%程陣−に設定される。 一方、有
機ン容剤は、ト述のイj機樹脂成分を溶解し2、導電性
ベーストに所望の粘性蚤付与するための成分である。有
機溶剤とし一ζは、例えばα−デルビネオール、2,2
.4−1リメナル−13−ベンタンジ〕−ルモノfツブ
Jレート、ジチルカルしトールアセア−[・ 口3CA
)等が用いられる。導電性ベース1〜中の有機溶剤の混
合1は、導電性ベーストの塗4−1条件等により適宜設
定されるが、通常16.0〜32゜0重蓋%程度に設定
される。
本発明の導電性ペーストには、有機白金、有機ロジウJ
4、有機金、有機銀等の有゛機肖金属の=H゛スイドを
若干添加し7てもよい。この場合、導電性ベーストの焼
結を促進ざセ−る、二とができる。
4、有機金、有機銀等の有゛機肖金属の=H゛スイドを
若干添加し7てもよい。この場合、導電性ベーストの焼
結を促進ざセ−る、二とができる。
次に、本発明に係る導電性ベー ストが採用された積層
しむ→ミノクー1:′デ:、′−Ilの一例を第1図及
び第2図ζこ示ず。第1図は積層セラミ、り:I′/・
j′アンサ斜視図であり、第2図は第1図の1l−II
断面図である。
しむ→ミノクー1:′デ:、′−Ilの一例を第1図及
び第2図ζこ示ず。第1図は積層セラミ、り:I′/・
j′アンサ斜視図であり、第2図は第1図の1l−II
断面図である。
図ζ、′おい−ζ、積層セラミ7・り−J 二′デン4
ノ1ば、直方体扶の本体部2と、本体部2の両・瑞乙5
′対向するようC,′配置された1対の外部電極3a、
3bとを備λでいる。
ノ1ば、直方体扶の本体部2と、本体部2の両・瑞乙5
′対向するようC,′配置された1対の外部電極3a、
3bとを備λでいる。
本体部2は、例えばナタン酸ハリウ1、や、、:l−、
Jフ酸鉛のよ−)な磁器材Elのグリーン、/]−が多
数枚積層されたものを焼成ξノ(一体化−4ること乙、
−より構成され−でいる。本体部2の内部C,−は、内
部電極4a、4bか交t1.に多数配置されている。内
部電極4a1.J、本体部20図右側端而面、コ配置さ
れた外部電極3aに接続さねており1、左側端面ζ、″
、配置された外部電極3bとは絶縁されている。−・方
、内部電極4bは列部電極31)に接続されており、2
十部電極3aとは絶縁されている。また、内部電極4a
4bは、ぞれぞれ平1jに配置さ才している。
Jフ酸鉛のよ−)な磁器材Elのグリーン、/]−が多
数枚積層されたものを焼成ξノ(一体化−4ること乙、
−より構成され−でいる。本体部2の内部C,−は、内
部電極4a、4bか交t1.に多数配置されている。内
部電極4a1.J、本体部20図右側端而面、コ配置さ
れた外部電極3aに接続さねており1、左側端面ζ、″
、配置された外部電極3bとは絶縁されている。−・方
、内部電極4bは列部電極31)に接続されており、2
十部電極3aとは絶縁されている。また、内部電極4a
4bは、ぞれぞれ平1jに配置さ才している。
ijl記積層セラミノクコンデンザ1では、夕(部電極
3a、3bは、本発明に係る導電性ぺ〜ストを用いて構
成されている。し7たがって、列部電極3a、3bは、
銀糸の導電性+A料と硼硅酸並鉛系ガラスフリットとか
ら構成されている。
3a、3bは、本発明に係る導電性ぺ〜ストを用いて構
成されている。し7たがって、列部電極3a、3bは、
銀糸の導電性+A料と硼硅酸並鉛系ガラスフリットとか
ら構成されている。
この積層セラミックコンデン+J−iでは、焼成された
磁器材料を介18、て対向Jる内部電極4a、4b間に
電荷が蓄積される。ぞし−(、外部電極3 a31)は
、それぞれ本体部2内コ、で構成された“X2ンデンザ
の人出力用端f−となる。
磁器材料を介18、て対向Jる内部電極4a、4b間に
電荷が蓄積される。ぞし−(、外部電極3 a31)は
、それぞれ本体部2内コ、で構成された“X2ンデンザ
の人出力用端f−となる。
次に、本発明に係る導電性ペーストの使用方法に触れつ
゛つ、前記積層セラミックニJンデン1ノ1の製造方法
について説明Jる。
゛つ、前記積層セラミックニJンデン1ノ1の製造方法
について説明Jる。
まず、チタン酸パリ・″ツノ、やニオブ酸鉛等の誘電磁
器材料と有機バインダーと有機溶媒9−・の混合物をミ
ルでγ11練し7、スラリーを作成−4る。そし7て、
このスラリーを用いて厚さ20〜・25μn”1程度の
グリー弓/シートを作成する。グリーンシートの作成ば
、スラリーの状態や作成するグリ−ンシーlのjνみに
応1.7て、例えばブド−にl−ターやト」−ル1−タ
ー等を用いて行われる。
器材料と有機バインダーと有機溶媒9−・の混合物をミ
ルでγ11練し7、スラリーを作成−4る。そし7て、
このスラリーを用いて厚さ20〜・25μn”1程度の
グリー弓/シートを作成する。グリーンシートの作成ば
、スラリーの状態や作成するグリ−ンシーlのjνみに
応1.7て、例えばブド−にl−ターやト」−ル1−タ
ー等を用いて行われる。
次に1、得られたグリーンシ・−1・土に内部電極・1
a、4bを形成するための導電性ベース(・を塗布する
。導電性ベース)の塗布は、膜1v7が数μIli程度
となるように、所定の内部電極バターく/に従4)(’
iiわれる。t1″お、導電性ベーストは、A g 、
/ Pd tZ合粉と6機樹脂と有機溶剤とから構成さ
れている。
a、4bを形成するための導電性ベース(・を塗布する
。導電性ベース)の塗布は、膜1v7が数μIli程度
となるように、所定の内部電極バターく/に従4)(’
iiわれる。t1″お、導電性ベーストは、A g 、
/ Pd tZ合粉と6機樹脂と有機溶剤とから構成さ
れている。
次に1、内部電極用の印刷が施されたグリ・〜ぺ、′ソ
ー1の積層を行う。そり、、 ”’ir 、グリーンシ
ートの積層体’E l 2 f) O“0程度で焼成U
7、本体部2を作成′する。なJり、焼成時の温度は、
誘電磁器材料及び導電性ベース[双方の収縮状態が−・
致づ”るよ)な温度C,゛′設定するのが好まし7い。
ー1の積層を行う。そり、、 ”’ir 、グリーンシ
ートの積層体’E l 2 f) O“0程度で焼成U
7、本体部2を作成′する。なJり、焼成時の温度は、
誘電磁器材料及び導電性ベース[双方の収縮状態が−・
致づ”るよ)な温度C,゛′設定するのが好まし7い。
焼成により得らイまた本体部2 q)両端部には、それ
ぞれ内部電極433まノζば41)の端部が露出してい
る。
ぞれ内部電極433まノζば41)の端部が露出してい
る。
次に、得られた本体部2の両端面、ずなわち内部電極4
dまたは4bが露出jる面に外部電極3a、3hを形成
−する。外部電極3a、3bの形成ごは、まず当該両端
面に本発明Qご係る導電性べ・ストを120〜170μ
m稈境0lソめに塗布Jる。
dまたは4bが露出jる面に外部電極3a、3hを形成
−する。外部電極3a、3bの形成ごは、まず当該両端
面に本発明Qご係る導電性べ・ストを120〜170μ
m稈境0lソめに塗布Jる。
導電性ベース1の塗布は、例えば浸漬法、転ち法等によ
り行われる。導電性ベーストの塗布後、導電性ベース1
〜を乾燥さυ−る。ごごでは1、導電性ベースト中の溶
剤が揮発する。
り行われる。導電性ベーストの塗布後、導電性ベース1
〜を乾燥さυ−る。ごごでは1、導電性ベースト中の溶
剤が揮発する。
次に、導電性ベーストの焼成を行う。焼成温邊は、通常
700〜750°0程度6ご設定される。焼成工程では
1.尿ず300°c (=j近でペースト中の樹脂成分
が揮敗し2、さらCご焼成を続けると導電14粉末の焼
結反応とガラスフリソ(・の焼成反応とがおこる。ガラ
スフリットの焼成反応では、ガラスノリ・7]・中の7
口0の含量が従来例乙、コ比べて少ないため、本体部2
内に侵入するZnOの骨董が少ない。したがって、本発
明に係る導電性ベー・ストを用いた場合4こは、ガラス
フリソ[・の焼成反応においてガラスフリソIと本体部
2とが反応し2にくい。
700〜750°0程度6ご設定される。焼成工程では
1.尿ず300°c (=j近でペースト中の樹脂成分
が揮敗し2、さらCご焼成を続けると導電14粉末の焼
結反応とガラスフリソ(・の焼成反応とがおこる。ガラ
スフリットの焼成反応では、ガラスノリ・7]・中の7
口0の含量が従来例乙、コ比べて少ないため、本体部2
内に侵入するZnOの骨董が少ない。したがって、本発
明に係る導電性ベー・ストを用いた場合4こは、ガラス
フリソ[・の焼成反応においてガラスフリソIと本体部
2とが反応し2にくい。
この結果、導電性ベーストの焼成後の本体部2には、ク
ランクが生しにくくなる。なお、本発明に用いられるガ
ラスノリy I−は、従来例と同しく硼硅酸亜鉛系ガラ
スフリットであるため、本体部2と夕(部電極3a、3
bば強固に接合される。また、外部′!i極3,3bは
、内部電極4a、4Lz!:の接続1斗か良好である。
ランクが生しにくくなる。なお、本発明に用いられるガ
ラスノリy I−は、従来例と同しく硼硅酸亜鉛系ガラ
スフリットであるため、本体部2と夕(部電極3a、3
bば強固に接合される。また、外部′!i極3,3bは
、内部電極4a、4Lz!:の接続1斗か良好である。
得られた積層セラミノクコンデンザlの外部電極3a、
3bには、Niメツ4−が施される。そし2て、さらに
ぞのLにS n−P bのはんだメンキが施される。こ
れにより、良好なはんだ濡れ性とはんだ耐熱性とを備え
た積層セラミンクτJンデンサ1が得られる。なお、外
部電極3a、3bは、硼硅酸曲釦系ガラスフリン[・を
含しため、メツキ処理が容易ζ・ある。
3bには、Niメツ4−が施される。そし2て、さらに
ぞのLにS n−P bのはんだメンキが施される。こ
れにより、良好なはんだ濡れ性とはんだ耐熱性とを備え
た積層セラミンクτJンデンサ1が得られる。なお、外
部電極3a、3bは、硼硅酸曲釦系ガラスフリン[・を
含しため、メツキ処理が容易ζ・ある。
A、 g粉末1()0重M部と、表に示す組成の硼硅酸
亜鉛系ガラスフリット5重量部と、有機ビし′〜クル3
4車四部とを混合し2、導電性ベース1を作成した。な
お、有機ビヒクルには、エチルセルロスと天然ロジンと
をαテルピネオールに溶解(−だものを用いた。
亜鉛系ガラスフリット5重量部と、有機ビし′〜クル3
4車四部とを混合し2、導電性ベース1を作成した。な
お、有機ビヒクルには、エチルセルロスと天然ロジンと
をαテルピネオールに溶解(−だものを用いた。
次に、−[タン酸バリウ1、(誘電6イ1器+t $’
J )からするn−さ0.85mnチタ7酸ハIJ l
ニア ノ、 25型Cn器〜フンデン勺素体(京セラ■
製)を準備し7、浸漬法6ご3表り導電性ベースストを
塗41L7た。イ12で、ごの導電性ヘ−ス)をy温乾
燥し/、さらに770°に゛e8分間焼成するごとによ
り、外部電極が形成された積層セラミンク−コンデンサ
を製造りまた。得られた積層セうミンク:1ンデン勺に
つい°(、試験を行った。試験項目及び試験方法は次の
通りである。
J )からするn−さ0.85mnチタ7酸ハIJ l
ニア ノ、 25型Cn器〜フンデン勺素体(京セラ■
製)を準備し7、浸漬法6ご3表り導電性ベースストを
塗41L7た。イ12で、ごの導電性ヘ−ス)をy温乾
燥し/、さらに770°に゛e8分間焼成するごとによ
り、外部電極が形成された積層セラミンク−コンデンサ
を製造りまた。得られた積層セうミンク:1ンデン勺に
つい°(、試験を行った。試験項目及び試験方法は次の
通りである。
■引っ張り強度
外部電極Cコすす引き銅線(0,6φ)をハンダ(=J
UL7だ20個の試料を用意し2.各試料に−)い4′
引っ張り試験機により測定し2だ(l^の尼小値で表1
゜た。実現−1、特に問題のない2.0kg・[以1か
合格ごある。
UL7だ20個の試料を用意し2.各試料に−)い4′
引っ張り試験機により測定し2だ(l^の尼小値で表1
゜た。実現−1、特に問題のない2.0kg・[以1か
合格ごある。
■コンデンザ本体のクシツクの発生。
積層セラミンクコンラ仁・・ザの外部電極をI!i磨L
”H=rンデンサ本体を露出さ一υ、顕微鏡によりクラ
ックの発q、を調べた。評価は次の通りである。
”H=rンデンサ本体を露出さ一υ、顕微鏡によりクラ
ックの発q、を調べた。評価は次の通りである。
(1):クランクの発生前。
Δ:クラノクの発生が少しのられた。
× :
クラ、・りの発41が顕著ごあった。
iを用いた実hh例ごある。
〔発明の効宋]
本発明に係る導電性く一スIでは、ガラスフリ7.1・
に硼硅酸曲釦糸ガラスノリノ]を用い、しかも当該ガラ
ス゛ノリノ(・中のZrム0の金印を1=述の範囲4.
二設定I、でいる。t2だが、2(、本発明によれば
コン′y−゛ンザ本体にクラ、りを1↑゛j7さ・l!
61′−< <、(,5かも一47’j’ンづ本体の
内部電極との接続P1及びL−J :、ハ2〜χ2・→
]本体との接合、1用とが良好了゛あり、また焼成後の
メツキ処理が容易な積層型:Iンテ゛′ンザの端了電極
形成用導電牲べ・−ス1が実現できる。
に硼硅酸曲釦糸ガラスノリノ]を用い、しかも当該ガラ
ス゛ノリノ(・中のZrム0の金印を1=述の範囲4.
二設定I、でいる。t2だが、2(、本発明によれば
コン′y−゛ンザ本体にクラ、りを1↑゛j7さ・l!
61′−< <、(,5かも一47’j’ンづ本体の
内部電極との接続P1及びL−J :、ハ2〜χ2・→
]本体との接合、1用とが良好了゛あり、また焼成後の
メツキ処理が容易な積層型:Iンテ゛′ンザの端了電極
形成用導電牲べ・−ス1が実現できる。
第1図は本発明に係る導電性ベース1へが抹用された積
層セラミックコンデンジの14視図、第2図は第1図I
I−II断面図である。 1・・・積層セラミックーJンデン4ノ1.3a、3b
・・・夕4部電極。
層セラミックコンデンジの14視図、第2図は第1図I
I−II断面図である。 1・・・積層セラミックーJンデン4ノ1.3a、3b
・・・夕4部電極。
Claims (1)
- (1)銀系の導電性粉末と、ZnOを含む硼硅酸亜鉛系
ガラスフリットと、有機ビヒクルとを含む積層型コンデ
ンサの端子電極形成用導電性ペーストにおいて、 前記硼硅酸亜鉛系ガラスフリット中のZnO含量が13
.5〜22.5重量%であることを特徴とする積層型コ
ンデンサの端子電極形成用導電性ペースト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17396890A JP2968316B2 (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | 積層型セラミックコンデンサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17396890A JP2968316B2 (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | 積層型セラミックコンデンサ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0461214A true JPH0461214A (ja) | 1992-02-27 |
| JP2968316B2 JP2968316B2 (ja) | 1999-10-25 |
Family
ID=15970372
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17396890A Expired - Fee Related JP2968316B2 (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | 積層型セラミックコンデンサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2968316B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100546086B1 (ko) * | 2000-07-10 | 2006-01-26 | 티디케이가부시기가이샤 | 전도성 페이스트, 외부 전극 및 그의 제조 방법 |
| US9666860B2 (en) | 2007-03-20 | 2017-05-30 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Optimised energy storage device having capacitor material on lead based negative electrode |
| US9812703B2 (en) | 2010-12-21 | 2017-11-07 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Electrode and electrical storage device for lead-acid system |
-
1990
- 1990-06-28 JP JP17396890A patent/JP2968316B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100546086B1 (ko) * | 2000-07-10 | 2006-01-26 | 티디케이가부시기가이샤 | 전도성 페이스트, 외부 전극 및 그의 제조 방법 |
| US9666860B2 (en) | 2007-03-20 | 2017-05-30 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Optimised energy storage device having capacitor material on lead based negative electrode |
| US9812703B2 (en) | 2010-12-21 | 2017-11-07 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Electrode and electrical storage device for lead-acid system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2968316B2 (ja) | 1999-10-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |