JPH0461988A - 浄水場の薬品注入制御装置 - Google Patents

浄水場の薬品注入制御装置

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JPH0461988A
JPH0461988A JP16853090A JP16853090A JPH0461988A JP H0461988 A JPH0461988 A JP H0461988A JP 16853090 A JP16853090 A JP 16853090A JP 16853090 A JP16853090 A JP 16853090A JP H0461988 A JPH0461988 A JP H0461988A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、自己洗浄型ろ過池を備えた浄水場の薬品注入
制御装置に関する。
(従来の技術) 従来より、浄水場の薬品注入装置としては第9図に示す
ものが知られており、この従来例は、自己洗浄型ろ過池
を設備した浄水場の後塩素注入制御装置を示している。
自己洗浄型ろ過池を設備した浄水場では一般に、原水を
まず沈殿池1に溜めて、ここで不純汚物を沈殿させ、沈
殿水を沈殿水渠2を通してろ過池3に導き、ここでさら
に不純物をろ過し、ろ過水をろ過水渠4を通して浄水池
5に送り込む。ろ過水渠4と浄水池5との間の管路には
総ろ過流量を計測するための総ろ過流量6が設けられて
いる。また、自己洗浄水7はろ過水渠4から各ろ過池3
に逆流させ、排水池8に排出するようになっている。
また、この従来例の制御系は、後塩素注入制御装置9と
、塩素注入機10とを備えている。
後塩素注入制御装置9は、オペレータの手動操作により
設定される注入率目標値γ1とがら注入量目標値qre
f’を第1式を用いて計算し、塩素注入機10に対して
出力している。
qrer−γ1×Q1     ・・・第1式塩素注入
機10では、理想的には、 ql−qref        ・・・第2式となるよ
うに、塩素注入量を制御している。
第2式において、qlは注入機出側の塩素注入量を表し
ている。
ここで、注入機出側から後塩素注入点Pまでの塩素水の
輸送時間をL[時間]とすると、後塩素注入点での塩素
注入量q2はqlからL[時間コ遅れて変化するのでq
l、q2を時間tの関数として表すと、 q2 (t)−ql (t−L)   ・・・第3式い
ま、塩素注入率目標値γ1が第10図(a)に示すよう
に時間tに対して一定であったと仮定する。
このとき、ろ過池の洗浄が第10図(b)に示すタイミ
ングで発生したとする。このとき、前述したように、自
己洗浄型ろ過池では、ろ過池洗浄水7はろ過水渠4から
、洗浄中のろ過池3を通って排水池8に流れるので、総
ろ過流量Q1は第10図(C)に示す様に変化する。
従来の後塩素注入制御装置は、第1式に示した制御目標
値を出力するので、第2式により、塩素注入機出側の塩
素注入量q1は第10図(d)に示すように総ろ過流量
Q1に応じて変化する。
塩素注入機出側から後塩素注入点PまでにはL〔時間]
の輸送時間がかかるので、第3式の関係から後塩素注入
点Pの塩素注入量q2は第10図(e)に示すように変
化する。
この結果、塩素注入点での実効注入率γ2は、γ2−q
2/Ql        ・・・第4式であるから、第
10図(f)に示すように変化する(発明が解決しよう
とする課題) 第10図に示したように、従来の後塩素注入制御装置を
用いた場合には、塩素注入率目標値γ1が一定であって
も、塩素注入点Pにおける実効注入率γ2は一定とはな
らず、ろ過池洗浄の度に変動する事となる。
一般に、ろ過池の洗浄は数時間に1度の割合で発生する
ので、洗浄のたびに実効注入率が変動し、これに比例す
るように生産している浄水の水質も変動するという不具
合があった。
本発明は、自己洗浄型ろ過池を設備した浄水処理施設に
おいて、ろ過池洗浄が発生した場合にも、実効注入率の
変動を極力小さくでき、安定した水質を維持できる薬品
注入制御装置を提供する事にある。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 上記目的を達成するために、本発明は、自己洗浄型ろ過
池と、 このろ過池でろ過されたろ過水の総ろ過流量を測定する
総ろ過流量測定手段と、 前記ろ過池の洗浄中において、総ろ過流量測定値の変化
に基づいて洗浄により消費されたろ過水の量を計測する
洗浄消費量計測手段と、前記総ろ過流量測定値と洗浄消
費量計測値とろ過池の洗浄間隔時間とから薬品の注入対
象流量を演算する注入対象流量演算手段と、 設定された薬品注入率目標値と前記注入対象流量演算値
とから、前記ろ過水に薬品を注入するための薬品注入機
に対する薬品注入量目標値を演算する注入量演算手段と
、 を具備することを特徴とする。
(作用) 上記構成によれば、ろ過池の洗浄により消費されるろ過
水の量(洗浄消費量)を総ろ過流量測定値の変化に基づ
いて計測する。この洗浄消費量と総ろ過流量測定値と洗
浄間隔時間とから薬品の注入対象流量を演算し、この演
算値と薬品注入率目標値とから薬品注入量目標値を演算
している。
この結果、注入点の実効注入率が一定になり安定した水
質を維持できる。
(実施例) 第1図は本発明の一実施例(第1実施例)を示す系統図
である。
本実施例の後塩素注入制御装置9は、外部から、例えば
オペレータの手動設定などによって、設定入力される注
入率目標値γ1に従って後塩素注入点における実効注入
率γ2か、 γ2−71          ・・・第5式となるよ
うに、塩素注入機10に対して注入量目標値qrefを
出力する。
このために、本発明の後塩素注入制御装置9では、ろ過
池洗浄コントローラ11から、ろ過池3が洗浄中である
ことを示する過池洗浄中信号S1と、ろ過池洗浄開始か
ら次のろ過池洗浄開始までの時間間隔T1とを入力する
。
後塩素注入制御装置9は、洗浄消費量計測部12と、注
入対象流量演算部13と、注入量演算部14とを備えて
いる。
洗浄消費量計測部12ては、前記ろ過池洗浄中信号S1
と総ろ過流量計の指示値Q1とから、ろ過池洗浄中の総
ろ過流量の変化を計測し、ろ過池洗浄に消費したろ過水
量:すなわち洗浄消費量Vを計測する。
注入対象流量演算部13では、洗浄消費量Vと洗浄間隔
T1とに基づいて、後塩素注入対象流量Q2を計測する
。
注入量演算部14ては、注入率目標値γ1と注入対象流
量Q2との乗算を行い、注入量目標値qrerを決定す
る。注入量目標値qrefは塩素注入機10に出力され
る。
塩素注入機10ては、注入量目標値qrerに一致する
だけの塩素(C12)を注入水(H2O)に注入して塩
素水を作る。ここで、塩素注入機10によって作られた
塩素水内の塩素注入機出側での塩素の量をqlとする。
塩素注入機出側から後塩素注入点Pまで、塩素水か輸送
されるのに必要な時間をLとし、後塩素注入点Pにおけ
る塩素水内の塩素量をq2とする。前述したようにql
とq2との間には第3式に示した関係がある。
ろ過池洗浄コントローラ11には、ろ過池制御設定値R
としてろ過池の洗浄周期、洗浄が必要であると判断する
為の基準値、例えばろ抗設定値や最大ろ過継続時間設定
値が入力されている。また、ろ過池洗浄コントローラ1
1には、ろ通油状態信号(すなわち、ろ過池3に設置さ
れている弁やサイフオンの状態信号、水位計の指示値、
水位接点状態、制御用圧縮空気源圧力などのろ過池の状
態を示す信号)S2が入力されている。ろ過池洗浄コン
トローラ11からは、ろ過池3の状態を制御するための
信号S3か出力されている。
第2図には、時間tに対する総ろ過流量Q1の関係が示
されており、図中斜線で示した部分の面積が、ろ過池洗
浄中にろ過池3の洗浄に消費されたろ過水の量(単位二
m3)を表わしている。
次に本実施例の作用を説明する。
洗浄消費量計測部12は、総ろ過流量計6の指示値Q1
とろ過池洗浄中信号S1とを取込んで、第6式で示され
る ろ過池洗浄中でないときにはQ−Ql ろ過池洗浄中には     Q−洗浄開始直前Q1の値 ・・・第6式 となる値Qを求める。
さらに、洗浄消費量計測部12は、 洗浄終了 V−J” (Q−Ql)・dt  ・・・第7式第7式
の積分を行い、ろ過池洗浄によるろ過水消費量、すなわ
ち洗浄消費量■を計測する。なお、Qlの単位が[m”
hコ、時間tの単位が[h]であれば、■の単位は[m
3]となる。
注入対象流量演算部13は、洗浄消費量Vと洗浄間隔T
1とを用いて以下の処理を行う。
△q−V/T I         ・・・第8式Q2
−Ql−△q       ・・・第9式この注入対象
流量Q2の時間変化は第2図に破線で示すように、はと
んど一定となる。
なお、T1の単位を[h]とすれば、△q、 Q2の単
位は[m3/h]となる。
注入量演算部14ては、注入率目標値γ1と注入対象流
量Q2とを用いて塩素注入機10に出力され注入量目標
値qref’を次の第10式で求める。
qref−γ1XQ2    −・・第10式なお、こ
こで、γ1の単位を[ppm]または[g / m 3
コとすれば、qrerの単位は[g/hlとなる。
塩素注入機10ては、理想的にはq 1−qref’と
なる塩素注入量q1を流入出力する。
従って、第10図に示した従来例と第3図に示す本実施
例の各波形かられかるように、本実施例の塩素注入量q
1は一定値をとり(第3図(d))、これに伴ない注入
点Pての塩素注入量q2も一定値となる(第3図(e)
)。これにより、実効流入率γ2の変動が大幅に抑制さ
れ、浄水の水質を安定に保持できる。
第4図は本発明の第2実施例を示す系統図である。
本実施例では、2台の塩素注入機10a、10bが設置
されている。2台の塩素注入機10a。
10bはそれぞれの注入能力が異なり、1台は小注入機
10a1残りの1台は大注入機(小注入機の2倍から6
倍の注入能力のものを選定する事が一般的)10bとな
っている。
後塩素注入量制御装置9から出力した注入量目標値qr
efは、その大きさによって適切な側、すなわち大注入
機10bまたは小注入機10aに入力される。
また、注入機切換ロジック部15が設けられており、こ
の注入機切換ロジック部15では、注入量目標値qre
fの大きさに従って、適切な側の塩素注入機10aまた
は10bに注入目標値が人力されるように、注入機切換
スイッチ16が切り換わると共に、注入量目標値が入力
されている側の塩素注入機10aまたは10bの出側に
設置されている注入機切換弁17aまたは17bが開状
態となる様に制御する。なお、他の構成は前記第一実施
例と同様である。
次に、本実施例の作用を説明する。
洗浄消費流量計測定部12において、本実施例では、第
6式、第7式の変わりに第6′式、第7′式を用いてい
る。
すなわち ろ過池洗浄中でないときにはQN−Q 1のn分間移動
平均 ろ過池洗浄中には     QS−洗浄中のQlの平均
値 ・・・第6′式 となる値:QN、QSを求める。
ここでQNは非洗浄中の総ろ過流量のn分間移動平均値
(nは10分程度)、QSは洗浄中の総ろ過流量の平均
値である。
さらに、ろ過池洗浄中信号S1を用いて、T−洗浄終了
時刻−洗浄開始時刻 ・・・第11式として、ろ過池洗
浄時間T [h]を第11式を用いて計測し、 V−(Q−Ql)XT     、、l@7/ 式第7
′式で、ろ過池洗浄によるろ過水消費量、すなわち洗浄
消費量Vを求める。
以上本実施例によれば、注入対象流量Q2を計算して塩
素を注入しているので、第3図に示したように、ろ過池
洗浄が発生しても、Q2の変動が小さくなり、結果とし
て、塩素注入機出側の塩素注入量Ql、塩素注入点にお
ける塩素注入量q2とも平滑化される。
この結果、ろ過池洗浄の度毎に、塩素注入機の大注入機
10bと小注入機10aとの切り換えが発生する事が防
止できるので、塩素注入機10a。
10bおよび注入機切換弁17a、17bの操作回数が
減り、塩素注入機10a、10bおよび注入機切換弁1
7a、17bの寿命の延命化の効果か期待できる。
また、注入点における実効注入率γ2は第3図(f)に
示すようにその変動が、第3図に比べると小さくなる。
この結果、ろ過水の水質が安定するという効果がある。
さらに、第6′式において、QN、QSの計算に総ろ過
流量Q1の平均値を用いているので、オンラインセンサ
ー(総ろ過流量針6)によって計測される値であるQl
にノイズが重畳している場合でも安定な動作を行い得る
という効果がある。
第5図〜第8図はそれぞれ、本発明のさらに他の実施例
を示しており、これらの実施例は浄水場の沈殿ろ過プロ
セスが2系統以上から構成されてる場合を例として示し
た。
第5図において、系統毎の注入量演算は、第1図に示し
た本発明の後塩素注入制御装置の構成と同し構成である
。第5図では、各系統毎に計算した注入量目標値qre
f1とqrer2とを加算して、7塩素注入機10への
注入量目標値qrefとしている。
第6図では、1系ろ過池洗浄コントローラ11aから出
力される1系洗浄間隔T1′と2系ろ過池洗浄コントロ
ーラllbから出力される2系洗浄間隔T1″との平均
値を平均演算部18て演算して、注入対象流量演算部1
3に洗浄間隔T1として入力している。同様に、1系ろ
過池洗浄中信号と2系ろ過池洗浄中信号との論理和をオ
ア回路19によりとって、洗浄生信号S1としている。
総ろ過流量Q1には、1系総ろ過流量Q1′と2系総ろ
過流量Ql’との和を入力する構成としている。
第7図では、注入対象流量Q2を、1系と2系で別々に
計算して加算する構成としている。すなわち1系注入対
象流量Q2’ と2系注入対象流量Q2’とを、それぞ
れ第7図に示した構成で計算し、 Q2−Q2’  +02’ で、注入対象流量Q2を求める構成としている。
第10図では、洗浄消費量計測を1系、2系それぞれ独
立に行い、1系洗浄消費量V′と2系洗浄消費量v′と
の和を洗浄消費量■としている。
洗浄対象流量計算の方法は、第7図と同様である。
以上、各実施例では後塩素注入制御を例に説明したが本
発明は殺菌剤や中和剤等の薬品の注入制御にも適用でき
る。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、注入点での実効
注入率が安定し、ろ過水の水質が安定する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す系統図、第2図及び第
3図は同実施例の作用説明図、第4図乃至第8図はそれ
ぞれ本発明の他の実施例を示す系統図、第9図は従来例
を示す系統図、第10図は同従来例の作用説明図である
。 3・・・ろ過池 5・・・浄水池 6・・・総ろ過流置針 9・・・薬品(後塩素)注入制御装置 10・・・塩素注入機 11・・・ろ過池洗浄コンローラ 12・・・洗浄消費量計測部 13・・・注入対象流量演算部 14・・・注入量演算部

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 自己洗浄型ろ過池と、 このろ過池でろ過されたろ過水の総ろ過流量を測定する
    総ろ過流量測定手段と、 前記ろ過池の洗浄中において、総ろ過流量測定値の変化
    に基づいて洗浄により消費されたろ過水の量を計測する
    洗浄消費量計測手段と、 前記総ろ過流量測定値と洗浄消費量計測値とろ過池の洗
    浄間隔時間とから薬品の注入対象流量を演算する注入対
    象流量演算手段と、 設定された薬品注入率目標値と前記注入対象流量演算値
    とから、前記ろ過水に薬品を注入するための薬品注入機
    に対する薬品注入量目標値を演算する注入量演算手段と
    、 を具備することを特徴とする浄水場の薬品注入制御装置
    。
JP16853090A 1990-06-28 1990-06-28 浄水場の薬品注入制御装置 Expired - Lifetime JP2768810B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8575906B2 (en) 2010-07-13 2013-11-05 Ricoh Company, Ltd. Constant voltage regulator

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8575906B2 (en) 2010-07-13 2013-11-05 Ricoh Company, Ltd. Constant voltage regulator

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