JPH0463016B2 - - Google Patents
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Extraction Or Liquid Replacement (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Description
（産業上の利用分野）
本発明はガリウム−砒素金属間化合物含有物か
らのガリウムの回収方法、特にトランジスタ、ダ
イオード、ICなどの電子部品を製造するときに
生じるガリウム−砒素半導体屑などからガリウム
を高純度で効率よく回収する方法に関する。 （従来の技術） 半導体などの電子材料として有用な−族金
属間化合物の研究・開発が進められている。−
族金属間化合物のなかでも、ガリウム−砒素金
属間化合物（以下、GaAs金属間化合物という）
は、電子材料としての特性に優れているため、
ICの基板用などにその需要が急増している。原
料となるガリウムは、その精鉱がほとんど存在し
ない稀少元素のひとつであり、主として、アルミ
ニウムや亜鉛の精錬副産物として得られる。その
ため、上記ICなどの電子部品を製造するときに
生じるGaAs金属間化合物屑やスクラツプからの
ガリウムの回収が望まれている。他方、砒素は有
毒物質であるため、GaAs金属間化合物屑やスク
ラツプからクローズド・システムで回収されるこ
とが公害防止の面から必要とされる。 ガリウムまたは砒素の個々についての回収方法
に関する文献や特許は過去にも知られている。例
えば、特開昭54−40212号公報には、アルミニウ
ム製錬におけるバイヤー液（アルミニウム、ナト
リウム、ガリウムを含有するアルカリ性水溶液）
からヒドロキシキノリン類を抽出剤として液−液
抽出によりガリウムを回収する方法が開示されて
いる。しかし、これらの方法はGaAs金属間化合
物からのガリウムの回収には適当ではない。この
ように、現在のところ、GaAs金属間化合物から
ガリウムを高純度で効率よく回収する方法は知ら
れていない。 （発明が解決しようとする問題点） 本発明は上記従来の欠点を解決するものであ
り、その目的とするところはGaAs金属間化合物
からガリウムを高純度で効率よく回収する方法を
提供することにある。本発明の他の目的は、上記
ガリウムの回収を操作の簡単な湿式処理により行
う方法を提供することにある。 （問題点を解決するための手段） 本発明のガリウム−砒素金属間化合物含有物か
らのガリウムの回収方法は、(a)ガリウム−砒素金
属間化合物含有物を硝酸に溶解させる工程、(b)(a)
項で得られた硝酸水溶液と酸性有機リン化合物を
含む有機溶媒とを液−液接触させ、ガリウムを有
機相に抽出する工程、および(c)(b)項で得られた有
機相を鉱酸により逆抽出しガリウム水溶液を得る
工程、を包含し、そのことにより上記目的が達成
される。 本発明方法によれば、第１図に示すように、ま
ず、第１工程（溶解工程）１においてGaAs金属
間化合物屑などのGaAs金属間化合物含有物を硝
酸に溶解させる。GaAs金属間化合物含有物は溶
解しやすいように粉砕されていることが好まし
い。通常、粉砕されたGaAs金属間化合物含有物
に水を加えてスラリー状とし、これに硝酸水溶液
を加えて溶解させる。溶解時の温度が高いほど溶
解効率が上がるため、40〜110℃に加熱して溶解
させることが好ましい。硝酸添加量がGaAs金属
間化合物１モルに対して５モル以上であれば該
GaAs金属間化合物を溶解させることができる。
通常、工業的には硝酸はGaAs金属間化合物含有
物１モルに対して５〜10モルの割合で添加される
のが有利である。添加量が過剰であると、後述の
第２において酸性有機リン化合物でガリウムを抽
出するときのPH調整に塩基が大量に必要となる。
この第１工程において、用いる水の量を少量とす
れば、砒素を亜硫酸（As2O3）として析出させる
ことができる。水溶液の容量が少量でありかつ
As2O3を濾別して得られる水溶液中には砒素量が
少なくなるため、第２工程以後におけるガリウム
と砒素との分離効率が上がる。容量効率も上がる
ため大規模の設備を必要とせず、工業的に有利と
なる。水溶液の容量は、通常、金属間化合物含有
物100ｇに対して４以上であり、As2O3を析出
させる場合には１以下である。 次に、第２工程（抽出工程）２において、上記
GaAs金属間化合物を含有する硝酸水溶液を酸性
有機リン化合物を含有する有機溶媒と接触させ、
ガリウムを有機相中に液−液抽出する。ここで、
抽出剤として用いられる酸性有機リン化合物は、
下記の構造式を有する化合物のうちの少なくとも
１種である： （ここで、R1〜R6は、それぞれ、炭素数３〜18
のアルキル基、アルケニル基、脂環式基、アリー
ル基またはアルキルアリール基である）。 このような化合物には、例えばジ−２−エチル
ヘキシルリン酸、２−エチルヘキシルホスホン酸
モノ−２−エチルヘキシルエステル、ジ−２−エ
チルヘキシルホスフイン酸がある。 有機溶媒としては、上記抽出剤およびその金属
塩を溶解しうる通常の有機溶媒が利用されうる。
例えば、石油系炭化水素が好適に用いられ得、上
記抽出剤が、５〜90vol％、好ましくは、10〜
50vol％に希釈されて用いられる。液−液抽出を
行うときには、NaOH、Ca（OH）2、NH3などの
塩基を加えて接触時の水相のPHを0.5以上、好ま
しくは１〜２に調整する。ガリウムの抽出量は水
相のPHに依存するため、PHが低すぎるとガリウム
が有機層に抽出されにくい。水相と有機相との接
触方法は既知の方法が用いられうる。塔式あるい
は槽式の多段向流接触装置を用いると効果的に抽
出が行われうる。後述の第３工程（逆抽出工程）
および精製工程における接触方法についても同様
である。 第２工程において得られたガリウムを含有する
有機相は、次いで、第３工程（逆抽出工程）３へ
移される。この第２工程と第３工程との間に、最
終的に得られるガリウム水溶液の純度を高めるた
めに、洗浄工程４が適宜設けられる。洗浄工程４
においては、第２工程で得られたガリウムを含有
する有機相を希硝酸と接触させて、ガリウムと共
に有機相に抽出された不純物を水相へ除去する。
洗浄に用いる硝酸の濃度は高いほど優れた洗浄効
果が得られる。しかし、濃度が高いほど有機相に
含有されるガリウムも同時に、水相に移行する。
それゆえ、硝酸濃度は0.1〜1Nであることが好ま
しい。洗浄後の水相は、第１図において実線で示
すように、第１工程または第２工程へフイード・
バツクして用いることができる。洗浄水相を第１
または第２工程へフイード・バツクすることによ
りガリウムの回収率が上がる。 第２工程の抽出工程もしくはこの抽出工程と洗
浄工程を経て得られたガリウム含有有機相を、次
いで、第３工程（逆抽出工程）において鉱酸水溶
液と接触させる。それにより、ガリウムが水相に
逆抽出される。逆抽出用の鉱酸としては、塩酸、
硝酸、硫酸などが用いられる。鉱酸の濃度は高い
ほうが逆抽出効率が上がる傾向にあるが、濃度が
高すぎても逆抽出効率が低下する。通常、１〜
5Nが好適である。逆抽出後の有機相は、第１図
において点線で示すように、第２工程にフイー
ド・バツクさせて用いられうる。 このようにして99.9％以上の純度のガリウムを
含有する水溶液が得られる。このガリウム水溶液
は、必要に応じて、さらに、第２図に示す精製工
程５で精製される。この方法で精製を行う場合に
は、第３工程において鉱酸として塩酸を用いるの
が好適である。精製を行うには、まず、第３工程
で得られたガリウムの塩酸水溶液をさらに濃塩酸
を添加もしくは塩化水素ガスを吹き込み、高級ア
ルコールおよび／もしくはエーテルでガリウムを
抽出する。ガリウムは塩化物の形態で高級アルコ
ールやエーテルと錯体を形成するため、容易に抽
出されうる。高級アルコールとしては、炭素数４
〜18個のアルキル基または脂環式基を有するアル
コール、例えば、２−エチルヘキサノールが用い
られる。エーテルとしては。炭素数２〜８個のア
ルキル基を有するエーテル、例えばイソプロピル
エーテルが用いられる。この高級アルコールやエ
ーテルは溶媒に溶解させて用いられてもよい。溶
媒としては、上記高級アルコールやエーテルおよ
びそれらの金属付加物（ガリウム塩化物との錯
体）を溶解しうる有機溶媒が用いられる。これら
の有機溶媒としては。例えば、石油系炭化水素が
好適に用いられる。ガリウムの抽出量は水相の塩
酸濃度に依存し、塩酸濃度が高いほど抽出率が高
くなる。工業的には塩酸濃度を４〜10Nとするの
が有利である。次に、ガリウムを含む有機相を水
と接触させれば、ガリウムは水相に容易に逆抽出
される。逆抽出後の有機相は、第２図において点
線で示すように、精製工程における抽出にフイー
ド・バツクして利用されうる。 （作用） 本発明方法によれば、このように、GaAs金属
間化合物からガリウムが湿式処理法（液−液抽出
法）で有利に回収される。得られたガリウム水溶
液中のガリウムの純度は99.9％以上である。この
水溶液から既知の方法により高純度の金属ガリウ
ムまたはその酸化物が容易に得られうる。例え
ば、上記ガリウム水溶液もしくは精製後のガリウ
ム水溶液にアルカリを加えて水酸化ガリウムとし
てガリウムを分離した後、アルカリ電解法にて金
属ガリウムが得られる。 （実施例） 以下に本発明を実施例について説明する。 実施例 １ GaAs金属間化合物含有物として表１に示す組
成のGaAs半導体屑を用いた。この組成は原子吸
光分析法により決定された。
らのガリウムの回収方法、特にトランジスタ、ダ
イオード、ICなどの電子部品を製造するときに
生じるガリウム−砒素半導体屑などからガリウム
を高純度で効率よく回収する方法に関する。 （従来の技術） 半導体などの電子材料として有用な−族金
属間化合物の研究・開発が進められている。−
族金属間化合物のなかでも、ガリウム−砒素金
属間化合物（以下、GaAs金属間化合物という）
は、電子材料としての特性に優れているため、
ICの基板用などにその需要が急増している。原
料となるガリウムは、その精鉱がほとんど存在し
ない稀少元素のひとつであり、主として、アルミ
ニウムや亜鉛の精錬副産物として得られる。その
ため、上記ICなどの電子部品を製造するときに
生じるGaAs金属間化合物屑やスクラツプからの
ガリウムの回収が望まれている。他方、砒素は有
毒物質であるため、GaAs金属間化合物屑やスク
ラツプからクローズド・システムで回収されるこ
とが公害防止の面から必要とされる。 ガリウムまたは砒素の個々についての回収方法
に関する文献や特許は過去にも知られている。例
えば、特開昭54−40212号公報には、アルミニウ
ム製錬におけるバイヤー液（アルミニウム、ナト
リウム、ガリウムを含有するアルカリ性水溶液）
からヒドロキシキノリン類を抽出剤として液−液
抽出によりガリウムを回収する方法が開示されて
いる。しかし、これらの方法はGaAs金属間化合
物からのガリウムの回収には適当ではない。この
ように、現在のところ、GaAs金属間化合物から
ガリウムを高純度で効率よく回収する方法は知ら
れていない。 （発明が解決しようとする問題点） 本発明は上記従来の欠点を解決するものであ
り、その目的とするところはGaAs金属間化合物
からガリウムを高純度で効率よく回収する方法を
提供することにある。本発明の他の目的は、上記
ガリウムの回収を操作の簡単な湿式処理により行
う方法を提供することにある。 （問題点を解決するための手段） 本発明のガリウム−砒素金属間化合物含有物か
らのガリウムの回収方法は、(a)ガリウム−砒素金
属間化合物含有物を硝酸に溶解させる工程、(b)(a)
項で得られた硝酸水溶液と酸性有機リン化合物を
含む有機溶媒とを液−液接触させ、ガリウムを有
機相に抽出する工程、および(c)(b)項で得られた有
機相を鉱酸により逆抽出しガリウム水溶液を得る
工程、を包含し、そのことにより上記目的が達成
される。 本発明方法によれば、第１図に示すように、ま
ず、第１工程（溶解工程）１においてGaAs金属
間化合物屑などのGaAs金属間化合物含有物を硝
酸に溶解させる。GaAs金属間化合物含有物は溶
解しやすいように粉砕されていることが好まし
い。通常、粉砕されたGaAs金属間化合物含有物
に水を加えてスラリー状とし、これに硝酸水溶液
を加えて溶解させる。溶解時の温度が高いほど溶
解効率が上がるため、40〜110℃に加熱して溶解
させることが好ましい。硝酸添加量がGaAs金属
間化合物１モルに対して５モル以上であれば該
GaAs金属間化合物を溶解させることができる。
通常、工業的には硝酸はGaAs金属間化合物含有
物１モルに対して５〜10モルの割合で添加される
のが有利である。添加量が過剰であると、後述の
第２において酸性有機リン化合物でガリウムを抽
出するときのPH調整に塩基が大量に必要となる。
この第１工程において、用いる水の量を少量とす
れば、砒素を亜硫酸（As2O3）として析出させる
ことができる。水溶液の容量が少量でありかつ
As2O3を濾別して得られる水溶液中には砒素量が
少なくなるため、第２工程以後におけるガリウム
と砒素との分離効率が上がる。容量効率も上がる
ため大規模の設備を必要とせず、工業的に有利と
なる。水溶液の容量は、通常、金属間化合物含有
物100ｇに対して４以上であり、As2O3を析出
させる場合には１以下である。 次に、第２工程（抽出工程）２において、上記
GaAs金属間化合物を含有する硝酸水溶液を酸性
有機リン化合物を含有する有機溶媒と接触させ、
ガリウムを有機相中に液−液抽出する。ここで、
抽出剤として用いられる酸性有機リン化合物は、
下記の構造式を有する化合物のうちの少なくとも
１種である： （ここで、R1〜R6は、それぞれ、炭素数３〜18
のアルキル基、アルケニル基、脂環式基、アリー
ル基またはアルキルアリール基である）。 このような化合物には、例えばジ−２−エチル
ヘキシルリン酸、２−エチルヘキシルホスホン酸
モノ−２−エチルヘキシルエステル、ジ−２−エ
チルヘキシルホスフイン酸がある。 有機溶媒としては、上記抽出剤およびその金属
塩を溶解しうる通常の有機溶媒が利用されうる。
例えば、石油系炭化水素が好適に用いられ得、上
記抽出剤が、５〜90vol％、好ましくは、10〜
50vol％に希釈されて用いられる。液−液抽出を
行うときには、NaOH、Ca（OH）2、NH3などの
塩基を加えて接触時の水相のPHを0.5以上、好ま
しくは１〜２に調整する。ガリウムの抽出量は水
相のPHに依存するため、PHが低すぎるとガリウム
が有機層に抽出されにくい。水相と有機相との接
触方法は既知の方法が用いられうる。塔式あるい
は槽式の多段向流接触装置を用いると効果的に抽
出が行われうる。後述の第３工程（逆抽出工程）
および精製工程における接触方法についても同様
である。 第２工程において得られたガリウムを含有する
有機相は、次いで、第３工程（逆抽出工程）３へ
移される。この第２工程と第３工程との間に、最
終的に得られるガリウム水溶液の純度を高めるた
めに、洗浄工程４が適宜設けられる。洗浄工程４
においては、第２工程で得られたガリウムを含有
する有機相を希硝酸と接触させて、ガリウムと共
に有機相に抽出された不純物を水相へ除去する。
洗浄に用いる硝酸の濃度は高いほど優れた洗浄効
果が得られる。しかし、濃度が高いほど有機相に
含有されるガリウムも同時に、水相に移行する。
それゆえ、硝酸濃度は0.1〜1Nであることが好ま
しい。洗浄後の水相は、第１図において実線で示
すように、第１工程または第２工程へフイード・
バツクして用いることができる。洗浄水相を第１
または第２工程へフイード・バツクすることによ
りガリウムの回収率が上がる。 第２工程の抽出工程もしくはこの抽出工程と洗
浄工程を経て得られたガリウム含有有機相を、次
いで、第３工程（逆抽出工程）において鉱酸水溶
液と接触させる。それにより、ガリウムが水相に
逆抽出される。逆抽出用の鉱酸としては、塩酸、
硝酸、硫酸などが用いられる。鉱酸の濃度は高い
ほうが逆抽出効率が上がる傾向にあるが、濃度が
高すぎても逆抽出効率が低下する。通常、１〜
5Nが好適である。逆抽出後の有機相は、第１図
において点線で示すように、第２工程にフイー
ド・バツクさせて用いられうる。 このようにして99.9％以上の純度のガリウムを
含有する水溶液が得られる。このガリウム水溶液
は、必要に応じて、さらに、第２図に示す精製工
程５で精製される。この方法で精製を行う場合に
は、第３工程において鉱酸として塩酸を用いるの
が好適である。精製を行うには、まず、第３工程
で得られたガリウムの塩酸水溶液をさらに濃塩酸
を添加もしくは塩化水素ガスを吹き込み、高級ア
ルコールおよび／もしくはエーテルでガリウムを
抽出する。ガリウムは塩化物の形態で高級アルコ
ールやエーテルと錯体を形成するため、容易に抽
出されうる。高級アルコールとしては、炭素数４
〜18個のアルキル基または脂環式基を有するアル
コール、例えば、２−エチルヘキサノールが用い
られる。エーテルとしては。炭素数２〜８個のア
ルキル基を有するエーテル、例えばイソプロピル
エーテルが用いられる。この高級アルコールやエ
ーテルは溶媒に溶解させて用いられてもよい。溶
媒としては、上記高級アルコールやエーテルおよ
びそれらの金属付加物（ガリウム塩化物との錯
体）を溶解しうる有機溶媒が用いられる。これら
の有機溶媒としては。例えば、石油系炭化水素が
好適に用いられる。ガリウムの抽出量は水相の塩
酸濃度に依存し、塩酸濃度が高いほど抽出率が高
くなる。工業的には塩酸濃度を４〜10Nとするの
が有利である。次に、ガリウムを含む有機相を水
と接触させれば、ガリウムは水相に容易に逆抽出
される。逆抽出後の有機相は、第２図において点
線で示すように、精製工程における抽出にフイー
ド・バツクして利用されうる。 （作用） 本発明方法によれば、このように、GaAs金属
間化合物からガリウムが湿式処理法（液−液抽出
法）で有利に回収される。得られたガリウム水溶
液中のガリウムの純度は99.9％以上である。この
水溶液から既知の方法により高純度の金属ガリウ
ムまたはその酸化物が容易に得られうる。例え
ば、上記ガリウム水溶液もしくは精製後のガリウ
ム水溶液にアルカリを加えて水酸化ガリウムとし
てガリウムを分離した後、アルカリ電解法にて金
属ガリウムが得られる。 （実施例） 以下に本発明を実施例について説明する。 実施例 １ GaAs金属間化合物含有物として表１に示す組
成のGaAs半導体屑を用いた。この組成は原子吸
光分析法により決定された。
【表】
この粉砕された半導体屑100ｇに水500mlを加え
てスラリーとした。これに61wt％の硝酸を284ml
加えて２時間加熱還流させた後、水を加えて４
とした。不溶物はほとんど認められなかつた。こ
の硝酸水溶液を濾過して得られた濾液の組成を表
２に示す。
てスラリーとした。これに61wt％の硝酸を284ml
加えて２時間加熱還流させた後、水を加えて４
とした。不溶物はほとんど認められなかつた。こ
の硝酸水溶液を濾過して得られた濾液の組成を表
２に示す。
【表】
次に、この濾液40容量部を酸性有機リン化合物
を抽出剤として含有する抽出溶媒50容量部を用い
て抽出した。抽出剤としてはジ−２−エチルヘキ
シルリン酸を用い、これをパラフイン系炭化水素
（Shellsol71、Shell社製）に0.6mol／となるよ
うに溶解させて抽出溶媒を調製した。抽出時に
は、dil NaOH10容量部を加えて接触時のPHを
1.3に調製した。得られた有機相100容量部に対し
て0.15Nの硝酸水溶液50容量部を加えて洗浄を２
回行つた。洗浄後の有機相100容量部に対して2N
塩酸50容量部を加えて逆抽出を行つた。得られた
塩酸水溶液中の金属成分の分析を行つた。なお今
回は第１表および第２には示されていない微量成
分（Cu、Na、Te、GeおよびＰ）についても測
定を行つた。その結果を表３に示す。塩酸水溶液
中のガリウムの純度は99.97％でありGaAs半導体
屑からのガリウムの回収率は85％であつた。
を抽出剤として含有する抽出溶媒50容量部を用い
て抽出した。抽出剤としてはジ−２−エチルヘキ
シルリン酸を用い、これをパラフイン系炭化水素
（Shellsol71、Shell社製）に0.6mol／となるよ
うに溶解させて抽出溶媒を調製した。抽出時に
は、dil NaOH10容量部を加えて接触時のPHを
1.3に調製した。得られた有機相100容量部に対し
て0.15Nの硝酸水溶液50容量部を加えて洗浄を２
回行つた。洗浄後の有機相100容量部に対して2N
塩酸50容量部を加えて逆抽出を行つた。得られた
塩酸水溶液中の金属成分の分析を行つた。なお今
回は第１表および第２には示されていない微量成
分（Cu、Na、Te、GeおよびＰ）についても測
定を行つた。その結果を表３に示す。塩酸水溶液
中のガリウムの純度は99.97％でありGaAs半導体
屑からのガリウムの回収率は85％であつた。
【表】
実施例 ２
実施例１と同様の組成のGaAs半導体屑10ｇを
20mlの水を用いてスラリーとした。これに61wt
％の硝酸を45ml加えて２時間加熱還流させた。常
温にもどした後析出した沈澱物（As2O3）を濾去
し濾液に水を加えて100mlとした。この硝酸水溶
液中の金属成分の組成を表４に示す。
20mlの水を用いてスラリーとした。これに61wt
％の硝酸を45ml加えて２時間加熱還流させた。常
温にもどした後析出した沈澱物（As2O3）を濾去
し濾液に水を加えて100mlとした。この硝酸水溶
液中の金属成分の組成を表４に示す。
【表】
この水溶液を実施例１と同様に処理した。得ら
れた塩酸水溶液中のガリウムの純度は99.9％以上
であつた。 実施例 ３ 第３工程（逆抽出工程）のあとにさらに精製工
程を設けてその効果を評価した。 実施例１で得られた塩酸水溶液にZn2+、Fe3+、
Al3+を塩化物として添加し、さらに、濃塩酸を
加えて表５に示す組成の水溶液を得た。
れた塩酸水溶液中のガリウムの純度は99.9％以上
であつた。 実施例 ３ 第３工程（逆抽出工程）のあとにさらに精製工
程を設けてその効果を評価した。 実施例１で得られた塩酸水溶液にZn2+、Fe3+、
Al3+を塩化物として添加し、さらに、濃塩酸を
加えて表５に示す組成の水溶液を得た。
【表】
この水溶液100容量部に２−エチルヘキサノー
ル30vol％を含有する抽出溶媒（Shellsol71を溶
媒として使用）100容量部を加えて液−液抽出を
行つた。得られた有機相に水30容量部を加えて逆
抽出した。得られた精製ガリウム水溶液の組成を
表６に示す。
ル30vol％を含有する抽出溶媒（Shellsol71を溶
媒として使用）100容量部を加えて液−液抽出を
行つた。得られた有機相に水30容量部を加えて逆
抽出した。得られた精製ガリウム水溶液の組成を
表６に示す。
【表】
実施例 ４
抽出剤として２−エチルヘキシルホスホン酸モ
ノー２−エチルヘキシルエステルを用い、そして
2N塩酸の代わりに2N硝酸を用いたこと以外は実
施例１と同様である。得られた水溶液中のガリウ
ムの純度は99.96％であつた。 （発明の効果） 本発明によれば、このように、GaAs金属間化
合物含有物から高純度のガリウムが回収される。
操作法は簡単な液−液抽出法（湿式処理法）であ
り、クローズド・システムで処理されうるため砒
素による環境汚染がない。この方法は、ICなど
の電子部品を製造するときに生じるGaAs金属間
化合物屑やスクラツプからのガリウムの回収に有
効である。
ノー２−エチルヘキシルエステルを用い、そして
2N塩酸の代わりに2N硝酸を用いたこと以外は実
施例１と同様である。得られた水溶液中のガリウ
ムの純度は99.96％であつた。 （発明の効果） 本発明によれば、このように、GaAs金属間化
合物含有物から高純度のガリウムが回収される。
操作法は簡単な液−液抽出法（湿式処理法）であ
り、クローズド・システムで処理されうるため砒
素による環境汚染がない。この方法は、ICなど
の電子部品を製造するときに生じるGaAs金属間
化合物屑やスクラツプからのガリウムの回収に有
効である。
第１図は本発明のガリウム回収方法を説明する
工程図、第２図は第１図の第３工程で得られるガ
リウム水溶液を精製する方法を説明する工程図で
ある。 １……第１工程（溶解工程）、２……第２工程
（抽出工程）、３……第３工程（逆抽出工程）、４
……洗浄工程、５……精製工程。
工程図、第２図は第１図の第３工程で得られるガ
リウム水溶液を精製する方法を説明する工程図で
ある。 １……第１工程（溶解工程）、２……第２工程
（抽出工程）、３……第３工程（逆抽出工程）、４
……洗浄工程、５……精製工程。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ (a) ガリウム−砒素金属間化合物含有物を硝
酸に溶解させる工程、 (b) (a)項で得られた硝酸水溶液と酸性有機リン化
合物を含む有機溶媒とを液−液接触させ、ガリ
ウムを有機相に抽出する工程、および (c) (b)項で得られた有機相を鉱酸により逆抽出し
ガリウム水溶液を得る工程、 を包含するガリウム−砒素金属間化合物含有物か
らのガリウムの回収方法。 ２ 前記(a)項で得られた硝酸水溶液から砒素を固
体の亜砒酸として分離・除去する特許請求の範囲
第１項に記載の方法。 ３ 前記(c)項で得られたガリウム水溶液を高級ア
ルコールおよび／もしくはエーテルまたは高級ア
ルコールおよび／もしくはエーテルを含有する有
機溶媒と液−液接触させ、ガリウムを有機相に抽
出する工程、および 該有機相を水により逆抽出しガリウム水溶液を
得る工程、 を包含する特許請求の範囲第１項に記載の方法。 ４ 前記酸性有機リン化合物が下記構造式を有す
る化合物のうちの少なくとも１種である特許請求
の範囲第１項に記載の方法： （ここで、R1〜R6は、それぞれ、炭素数３〜18
のアルキル基、アルケニル基、脂環式基、アリー
ル基またはアルキルアリール基である）。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60057000A JPS61215214A (ja) | 1985-03-20 | 1985-03-20 | ガリウム−砒素金属間化合物含有物からのガリウムの回収方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60057000A JPS61215214A (ja) | 1985-03-20 | 1985-03-20 | ガリウム−砒素金属間化合物含有物からのガリウムの回収方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61215214A JPS61215214A (ja) | 1986-09-25 |
| JPH0463016B2 true JPH0463016B2 (ja) | 1992-10-08 |
Family
ID=13043213
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60057000A Granted JPS61215214A (ja) | 1985-03-20 | 1985-03-20 | ガリウム−砒素金属間化合物含有物からのガリウムの回収方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61215214A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63206312A (ja) * | 1987-02-23 | 1988-08-25 | Mitsubishi Kasei Corp | 希土類元素の抽出法 |
| FR2624524B1 (fr) * | 1987-11-24 | 1990-05-18 | Metaleurop Sa | Procede de traitement hydrometallurgique de solution de matieres galliferes |
-
1985
- 1985-03-20 JP JP60057000A patent/JPS61215214A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61215214A (ja) | 1986-09-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |