JPH0464019B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0464019B2 JPH0464019B2 JP57070703A JP7070382A JPH0464019B2 JP H0464019 B2 JPH0464019 B2 JP H0464019B2 JP 57070703 A JP57070703 A JP 57070703A JP 7070382 A JP7070382 A JP 7070382A JP H0464019 B2 JPH0464019 B2 JP H0464019B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light beam
- wave plate
- polarized
- polarizing prism
- plane mirror
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は波長板の特性の測定装置に関するもの
である。
である。
近年、光束を使用して信号読取を行なわせる装
置が開発されたことに伴つて、入射光と反射光と
を分離するために、入射光に所定の偏光を与え、
波長板を通過して信号内蔵部材に入射させ、反射
光は再び波長板を通過することによつて入射光と
は偏光方向が直交する偏光となつて入射光束と分
離可能となる。
置が開発されたことに伴つて、入射光と反射光と
を分離するために、入射光に所定の偏光を与え、
波長板を通過して信号内蔵部材に入射させ、反射
光は再び波長板を通過することによつて入射光と
は偏光方向が直交する偏光となつて入射光束と分
離可能となる。
従つて、この種の信号読取のためには、波長板
により戻り光の入射偏光面の同一方向の成分強度
とこれと直角方向の成分強度の比ができるだけ小
さいことが必要である。
により戻り光の入射偏光面の同一方向の成分強度
とこれと直角方向の成分強度の比ができるだけ小
さいことが必要である。
本発明は上述の波長板の特性を簡単容易に測定
する装置を提供する。
する装置を提供する。
本発明を例示とした実施例並びに図面について
説明する。
説明する。
図は本発明による波長板測定装置の好適な実施
例を示し、光源装置１、第１の偏光プリズム装置
２、波長板支持装置３、反射装置４，５、第２の
偏光プリズム装置６、検出装置７、を有し、1/4
波長板８を検査、測定する。
例を示し、光源装置１、第１の偏光プリズム装置
２、波長板支持装置３、反射装置４，５、第２の
偏光プリズム装置６、検出装置７、を有し、1/4
波長板８を検査、測定する。
光源装置１には半導体レーザと光学系とを内蔵
し、レーザの発生する光束を平行光束として第１
の偏光プリズム装置２に供給する。
し、レーザの発生する光束を平行光束として第１
の偏光プリズム装置２に供給する。
光源装置１からの光束を装置光軸９に一致させ
るために、光源装置１を支持する支持板１１を偏
光プリズム装置２の回転板１２に対して角度調整
可能に固着する。
るために、光源装置１を支持する支持板１１を偏
光プリズム装置２の回転板１２に対して角度調整
可能に固着する。
第１の偏光プリズム装置は装置ハウジング１０
に取付けた固定の取付部材１３に固着した円筒部
材１４の内面に軸受１５を介して回転筒１６を回
転自在に支承する。回転筒１６の下部に回転板１
２を固着する。回転筒１６内に形成した孔内に偏
光プリズム１７を支持する。ハンドル１８によつ
て回転筒１６を90°回転し、偏光プリズム１７を
Ｓ偏光又はＰ偏光の所定の偏光とし、止めねじ１
９によつて所定の調整位置に保持する。取付部材
１３の孔に絞り部材２０を取付け、波長板８に対
する入射光束を所要の強度及び光束径にする。
に取付けた固定の取付部材１３に固着した円筒部
材１４の内面に軸受１５を介して回転筒１６を回
転自在に支承する。回転筒１６の下部に回転板１
２を固着する。回転筒１６内に形成した孔内に偏
光プリズム１７を支持する。ハンドル１８によつ
て回転筒１６を90°回転し、偏光プリズム１７を
Ｓ偏光又はＰ偏光の所定の偏光とし、止めねじ１
９によつて所定の調整位置に保持する。取付部材
１３の孔に絞り部材２０を取付け、波長板８に対
する入射光束を所要の強度及び光束径にする。
波長板支持装置３を第１，２図に示し、ハウジ
ング１０に固着した環状支持部材２５に回転板２
６を回転可能に支持する。回転板２６に固着した
調整部材２７の一方の面にばね装置２８を接触さ
せ、他方の面にマイクロメータ２９を接触させ
る。
ング１０に固着した環状支持部材２５に回転板２
６を回転可能に支持する。回転板２６に固着した
調整部材２７の一方の面にばね装置２８を接触さ
せ、他方の面にマイクロメータ２９を接触させ
る。
ばね装置２８はハウジング１０に固着したブラ
ケツト３０にスリーブ３１を取付け、スリーブ３
１内のばね３２が接触部材３３の肩部３４を押圧
する構成とする。回転板２６に設けた目盛３５を
ハウジング１０に固着した目盛板３６の目盛と対
向させ、回動角度を読む。回転板２５の支持台３
７上に図示しない支持装置によつて1/4波長板８
を所定の方向として支持する。止めねじ３８，３
９によつて回転板２６を調整位置に固定する。
ケツト３０にスリーブ３１を取付け、スリーブ３
１内のばね３２が接触部材３３の肩部３４を押圧
する構成とする。回転板２６に設けた目盛３５を
ハウジング１０に固着した目盛板３６の目盛と対
向させ、回動角度を読む。回転板２５の支持台３
７上に図示しない支持装置によつて1/4波長板８
を所定の方向として支持する。止めねじ３８，３
９によつて回転板２６を調整位置に固定する。
反射装置４にはハウジング１０に固定したブラ
ケツト４１に取付けたスリーブ４２を有し、スリ
ーブ４２の下面にレンズ４３を保持するレンズマ
ウント４４をねじこみ、スリーブ４２の上面に反
射鏡４５のマウント４６をねじこむ。
ケツト４１に取付けたスリーブ４２を有し、スリ
ーブ４２の下面にレンズ４３を保持するレンズマ
ウント４４をねじこみ、スリーブ４２の上面に反
射鏡４５のマウント４６をねじこむ。
反射装置４の構成は、装置光軸９を通る偏光光
束が1/4波長板８を通つて供給され、レンズ４３
を通つて平面反射鏡４５上に焦光し、これによる
反射光束は再びレンズ４３を通り平行光束となる
が、この反射光束が入射光束と干渉しあわないよ
うに上記レンズ４３は少なくとも上記入射光束の
半径分だけ偏心して配置される。
束が1/4波長板８を通つて供給され、レンズ４３
を通つて平面反射鏡４５上に焦光し、これによる
反射光束は再びレンズ４３を通り平行光束となる
が、この反射光束が入射光束と干渉しあわないよ
うに上記レンズ４３は少なくとも上記入射光束の
半径分だけ偏心して配置される。
第２の反射装置５はハウジング１０に取付けた
支持部材５１内に反射プリズム５２を収容した型
式とし、反射プリズム５２は装置光軸９には無関
係とし、光軸５０を通る反射光のみを直角に反射
させる。
支持部材５１内に反射プリズム５２を収容した型
式とし、反射プリズム５２は装置光軸９には無関
係とし、光軸５０を通る反射光のみを直角に反射
させる。
第２の偏光プリズム装置６は第１の偏光プリズ
ム装置２とほゞ同じ構造であり、装置ハウジング
１０に取付けた固定の取付部材５３に固着した円
筒部材５４の内面に軸受５５を介して回転筒５６
を回転自在に支承する。回転筒５６の右端に位置
ぎめ部材５７を固着する。回転筒５６の孔内に偏
光プリズム５８を取付ける。位置ぎめ部材５７に
目盛板５９と操作ノブ６０とを固着する。更に固
定の円筒部材５４の右端面に取付けた腕６１にハ
ンドル６２を取付ける。ハンドル６２は位置ぎめ
部材５７の凹部にカム６３を係合させ、回転筒５
６の回転位置を定める。これによつてノブ６０の
90°の２個所の回転位置を定める。ハンドル６２、
カム６３は第１図の紙の直角方向に調整可能と
し、偏光プリズム５８の所要の角度位置を定め
る。
ム装置２とほゞ同じ構造であり、装置ハウジング
１０に取付けた固定の取付部材５３に固着した円
筒部材５４の内面に軸受５５を介して回転筒５６
を回転自在に支承する。回転筒５６の右端に位置
ぎめ部材５７を固着する。回転筒５６の孔内に偏
光プリズム５８を取付ける。位置ぎめ部材５７に
目盛板５９と操作ノブ６０とを固着する。更に固
定の円筒部材５４の右端面に取付けた腕６１にハ
ンドル６２を取付ける。ハンドル６２は位置ぎめ
部材５７の凹部にカム６３を係合させ、回転筒５
６の回転位置を定める。これによつてノブ６０の
90°の２個所の回転位置を定める。ハンドル６２、
カム６３は第１図の紙の直角方向に調整可能と
し、偏光プリズム５８の所要の角度位置を定め
る。
検出装置７はハウジング１０に固着したブラケ
ツト６５に取付けたレンズマウント６６内の集光
レンズ６７と、レンズ６７の焦点位置に取付けた
ホトセル６８とを有する。ホトセル６８の出力は
図示しない演算、表示記録装置に接続する。
ツト６５に取付けたレンズマウント６６内の集光
レンズ６７と、レンズ６７の焦点位置に取付けた
ホトセル６８とを有する。ホトセル６８の出力は
図示しない演算、表示記録装置に接続する。
装置の作動について説明する。
第１の偏光プリズム装置２の偏光プリズム１７
を例えばＳ偏光位置とし、波長板支持装置３の支
持台３７上に測定すべき1/4波長板を取付ける。
を例えばＳ偏光位置とし、波長板支持装置３の支
持台３７上に測定すべき1/4波長板を取付ける。
光源装置１の半導体レーザを作動させれば内蔵
のレンズによつて平行光束となつて装置光軸９に
沿つて偏光プリズム装置２の偏光プリズム１７を
通り、絞り２０を通つて所要強さの光束が1/4波
長板８を通る。
のレンズによつて平行光束となつて装置光軸９に
沿つて偏光プリズム装置２の偏光プリズム１７を
通り、絞り２０を通つて所要強さの光束が1/4波
長板８を通る。
1/4波長板８を通つた光束は反射装置４に入り、
レンズ４３を通つて反射鏡４５の面で反射し再び
レンズ４３を通つて、光軸９に平行の光軸５０に
沿う反射光束となり、反射装置５の反射プリズム
５２によつて直角に曲げられて第２の偏光プリズ
ム装置６に入り、偏光プリズム５８を通つて検出
装置７に入る。検出装置７では集光レンズ６７が
平行光束を集光し、ホトセル６８が光入力を電気
出力に変換して表示する。
レンズ４３を通つて反射鏡４５の面で反射し再び
レンズ４３を通つて、光軸９に平行の光軸５０に
沿う反射光束となり、反射装置５の反射プリズム
５２によつて直角に曲げられて第２の偏光プリズ
ム装置６に入り、偏光プリズム５８を通つて検出
装置７に入る。検出装置７では集光レンズ６７が
平行光束を集光し、ホトセル６８が光入力を電気
出力に変換して表示する。
光束は偏光プリズム１７によつて、この例では
Ｓ偏光となつて1/4波長板を２回即ち光軸９に沿
う入射と光軸５０に沿う反射との２回通過するた
め、Ｓ偏光で入射した場合Ｐ偏光の反射光束とな
る。第２の偏光プリズム装置を第１にＰ偏光を透
過させる位置に設定すれば反射光束のＰ偏光部分
の値が測定される。この値をＡとする。
Ｓ偏光となつて1/4波長板を２回即ち光軸９に沿
う入射と光軸５０に沿う反射との２回通過するた
め、Ｓ偏光で入射した場合Ｐ偏光の反射光束とな
る。第２の偏光プリズム装置を第１にＰ偏光を透
過させる位置に設定すれば反射光束のＰ偏光部分
の値が測定される。この値をＡとする。
次に、第２の偏光プリズム装置６の操作ノブ６
０を90°回転し、位置ぎめ部材５７の第２の凹み
にカム６３を係合させれば、偏光プリズム５８は
Ｐ偏光を反射しＳ偏光を透過させる位置となる。
０を90°回転し、位置ぎめ部材５７の第２の凹み
にカム６３を係合させれば、偏光プリズム５８は
Ｐ偏光を反射しＳ偏光を透過させる位置となる。
理論上はこの場合は検出装置７のホトセル６８
の出力はゼロであるが実際には出力Ｂが生ずる。
の出力はゼロであるが実際には出力Ｂが生ずる。
両出力Ａ，Ｂから式Ａ／Ａ＋Ｂによつて測定した
1/4波長板８の特性が得られる。
本発明によつて、反射装置４，５を使用するこ
とによつて簡単な構造で1/4波長板８に平行光束
を同じ軸線でなく２回通過させることができ、入
射光束を反射光束とを完全に分離して検出するこ
とが可能となり、測定精度は著しく高くなり、し
かも測定装置が小型になる。
とによつて簡単な構造で1/4波長板８に平行光束
を同じ軸線でなく２回通過させることができ、入
射光束を反射光束とを完全に分離して検出するこ
とが可能となり、測定精度は著しく高くなり、し
かも測定装置が小型になる。
第１図は本発明による波長板測定装置の一部断
面とした側面図、第２図は第１図のＡ−Ａ線に沿
う部分平面図である。 １……光源装置、２……第１の偏光プリズム装
置、３……波長板支持装置、４，５……反射装
置、６……第２の偏光プリズム装置、７……検出
装置、８……1/4波長板、９，５０……装置光軸、
１０……ハウジング、１３，５３……取付部材、
１４，５４……円筒部材、１５，５５……軸受、
１６，５６……回転筒、１７，５８……偏光プリ
ズム、２０……絞り、２６……回転板、３７……
支持台、４３……レンズ、４５……平面反射鏡、
５２……反射プリズム、６７……集光レンズ、６
８……ホトセル。
面とした側面図、第２図は第１図のＡ−Ａ線に沿
う部分平面図である。 １……光源装置、２……第１の偏光プリズム装
置、３……波長板支持装置、４，５……反射装
置、６……第２の偏光プリズム装置、７……検出
装置、８……1/4波長板、９，５０……装置光軸、
１０……ハウジング、１３，５３……取付部材、
１４，５４……円筒部材、１５，５５……軸受、
１６，５６……回転筒、１７，５８……偏光プリ
ズム、２０……絞り、２６……回転板、３７……
支持台、４３……レンズ、４５……平面反射鏡、
５２……反射プリズム、６７……集光レンズ、６
８……ホトセル。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 半導体レーザ発光装置と、 この半導体レーザ発光装置から出力される光束
を平行光束とする第１のレンズと、 上記平行光束を、所定の偏光成分を有する第１
の偏光光束とする、第１の偏光プリズムと、 上記第１の偏光光束を受光する位置に測定すべ
き波長板を該光束に対して直角に支持する、波長
板支持装置と、 上記波長板を通過した光束を反射させて、該波
長板の上記通過光束とは干渉しない位置を通過さ
せる平面鏡と、 上記波長板支持装置と平面鏡との間に配置し、
上記波長板の通過光束を平面鏡に集光させるとと
もに平面鏡で反射した光束と通過光束とが干渉し
ないように少なくとも通過光束の半径分だけ偏心
させた第２のレンズと、 上記波長板を通過した反射光束のみを偏向する
ための偏向手段と、 上記偏向手段にて偏向された光束を第２の偏光
光束とする第２の偏光プリズムと、 上記第２の偏光プリズムを回動させ、波長板を
通過した光束をＰ偏光成分またはＳ偏光成分のみ
にして供給する切替装置と、 上記Ｐ偏光成分による光束の強度またはＳ偏光
成分による光束の強度を検出する強度検出装置
と、 上記各光束の強度の和を演算し、和に対する各
偏光成分の光束の強度から波長板の特性値を得る
演算記録表示装置と、 を具備することを特徴とする波長板測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7070382A JPS58187830A (ja) | 1982-04-27 | 1982-04-27 | 波長板測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7070382A JPS58187830A (ja) | 1982-04-27 | 1982-04-27 | 波長板測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58187830A JPS58187830A (ja) | 1983-11-02 |
| JPH0464019B2 true JPH0464019B2 (ja) | 1992-10-13 |
Family
ID=13439222
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7070382A Granted JPS58187830A (ja) | 1982-04-27 | 1982-04-27 | 波長板測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58187830A (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5840135B2 (ja) * | 1972-09-06 | 1983-09-03 | 工業技術院長 | ヘンコウメン ノ カイテンカクソクテイホウ |
| JPS5246827B2 (ja) * | 1973-11-12 | 1977-11-28 |
-
1982
- 1982-04-27 JP JP7070382A patent/JPS58187830A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58187830A (ja) | 1983-11-02 |
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