JPH0465013A - Copper conductive paste compound - Google Patents
Copper conductive paste compoundInfo
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- JPH0465013A JPH0465013A JP2175730A JP17573090A JPH0465013A JP H0465013 A JPH0465013 A JP H0465013A JP 2175730 A JP2175730 A JP 2175730A JP 17573090 A JP17573090 A JP 17573090A JP H0465013 A JPH0465013 A JP H0465013A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、セラミックス等の絶縁性基板上に電極や配線
パターンを形成するために用いられる銅導体ペースト組
成物に関し、更に詳しくは、導電性および半田濡れ性に
優れ、かつ基板との密着性も良好な銅導体ペースト組成
物(以下単に銅導体ペーストと称することもある)に関
する。Detailed Description of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention relates to a copper conductor paste composition used for forming electrodes and wiring patterns on insulating substrates such as ceramics. The present invention also relates to a copper conductor paste composition (hereinafter sometimes simply referred to as copper conductor paste) that has excellent solder wettability and good adhesion to a substrate.
(従来の技術)
導体ペーストはガラス、セラミックス等の絶縁性基板に
、スクリーン印刷法、直接描画法等で所定パターンとな
るように塗布した後、焼成することにより導体厚膜を形
成するものである。従来、かかる導体ペーストには、金
、銀、銀/Pd 、銅、ニッケルなどの粉末が用いられ
ているが、近年銅導体ペーストを用いる傾向になりつつ
あることは周知の通りである。(Prior art) Conductor paste is a paste that is applied to an insulating substrate such as glass or ceramics in a predetermined pattern using a screen printing method, direct writing method, etc., and then baked to form a thick conductor film. . Conventionally, powders of gold, silver, silver/Pd, copper, nickel, etc. have been used for such conductor pastes, but it is well known that in recent years there has been a trend to use copper conductor pastes.
すなわち、金導体ペーストは大気中でも焼成できるが高
価であり、銀導体ペーストはエレクトロマイグレーンヨ
ンが起こりやすく、銀/Pd導体ペーストも高価であり
、ニッケル導体ペーストは配線抵抗が高いなどの欠点を
有するが、銅導体ペーストは低コストである上に配線抵
抗も低く、さらに、マイグレーションも起こりにくく理
想的な導体材料といえる。That is, gold conductor paste can be fired in the atmosphere but is expensive, silver conductor paste is prone to electromigration, silver/Pd conductor paste is also expensive, and nickel conductor paste has drawbacks such as high wiring resistance. However, copper conductor paste is low in cost, has low wiring resistance, and is less prone to migration, making it an ideal conductor material.
従来の銅導体ペーストは、例えば平均粒径0,5〜11
0A1の銅粉を無機結合剤とともに有機ビヒクル中に分
散させてペースト化させたものである。銅粉は焼成によ
り導電膜である網焼成膜を形成する。Conventional copper conductor paste has an average particle size of 0.5 to 11, for example.
0A1 copper powder is dispersed in an organic vehicle together with an inorganic binder to form a paste. When fired, the copper powder forms a mesh fired film which is a conductive film.
有機ビヒクルは、ペースト化用液体バインダとしてチク
ソトロビックなレオロジーをもたせる役割を有し、基板
への塗布・印刷を可能にし、焼成時には分解・飛散する
。通常、有機ビヒクルとしては樹脂を揮発性の溶剤中に
溶解したものが用いられる。The organic vehicle has the role of providing thixotropic rheology as a liquid binder for pasting, enables coating and printing on a substrate, and decomposes and scatters during firing. Usually, the organic vehicle used is a resin dissolved in a volatile solvent.
無機結合剤にはこの網焼成膜を基板に密着させる作用が
あり、ガラスフリット、金属酸化物等が用いられる。The inorganic binder has the effect of making this net-fired film adhere to the substrate, and glass frit, metal oxide, etc. are used.
特にガラスフリットによる密着作用はガラスボンドと呼
ばれ導体ペーストの焼成時にガラスフリットが溶融し、
これが濡れ現象により銅粉間より基板へ流動することに
よって網焼成膜と基板とを密着させる。従来より用いら
れているガラスフリフトとしては、軟化点が300〜7
00℃のものが多く、Pb0−BzOz−5iOz系に
例えばCdO,ZnO1AQzOi、CaO等の金属酸
化物を含むガラス、およびホウケイ酸塩ガラス等が使用
されている。In particular, the adhesion effect caused by glass frit is called glass bond, and the glass frit melts when the conductor paste is fired.
This flows from between the copper powders to the substrate due to the wetting phenomenon, thereby bringing the net-fired film and the substrate into close contact. Conventionally used glass lifts have a softening point of 300 to 7.
Glasses containing metal oxides such as CdO, ZnO1AQzOi, CaO, etc. in the Pb0-BzOz-5iOz system, and borosilicate glasses are used.
一方、金属酸化物による密着作用はケミカルボンドと呼
ばれ、基板と金属酸化物との反応により網焼成膜と基板
とを密着させるものである。このときの反応により形成
された部分は半田の侵食におかされにくいため、ケミカ
ルボンドは半田付後の高温エージングによる密着性の低
下が小さいという特徴をもつ。従来より用いられる金属
酸化物としては、Cu、OおよびCuOが主であるが、
その他、Biz03、Cd01PbOz、5b203、
v205、ZnO等を使用する場合もある。On the other hand, the adhesion effect by the metal oxide is called a chemical bond, and the net-fired film and the substrate are brought into close contact by the reaction between the substrate and the metal oxide. Since the portion formed by this reaction is less susceptible to solder erosion, chemical bonding is characterized by less loss of adhesion due to high-temperature aging after soldering. Traditionally used metal oxides are mainly Cu, O and CuO, but
Others: Biz03, Cd01PbOz, 5b203,
V205, ZnO, etc. may also be used.
また近年、銅粉の表面上に酸化物層を形成させた粉末を
用いることにより、より有効にケミカルボンドを発現さ
せる手法も提供された。特開平1196192号公報お
よび特開昭60−35405号公報参照。Also, in recent years, a method has been provided in which a chemical bond is more effectively developed by using a powder in which an oxide layer is formed on the surface of copper powder. See JP-A-1196192 and JP-A-60-35405.
なお、ガラスボンドとケミカルボンドを組み合わせたも
のがミックスボンドであり、現在量も多く用いられる結
合法である。Note that mixed bond is a combination of glass bond and chemical bond, and it is a bonding method that is currently widely used.
(発明が解決しようとする課題)
従来、ケミカルボンドおよびミックスボンドにおいて、
金属酸化物の添加法としては、金属酸化物粉末を添加す
る方法と、表面に予め酸化層を形成させた銅粉を用いる
方法がある。(Problem to be solved by the invention) Conventionally, in chemical bonds and mixed bonds,
Methods for adding metal oxide include a method of adding metal oxide powder and a method of using copper powder with an oxide layer formed on the surface in advance.
金属酸化物粉を添加した場合に問題となる点は、金属酸
化物の粒子全体が反応するのには高温を要するため(例
えばCuOでは1026℃、CdOでは900〜100
0°Cである)、焼成温度が900°C以下である通常
の焼成条件では不完全反応物が残りやすい。The problem when adding metal oxide powder is that high temperatures are required for the entire metal oxide particles to react (e.g. 1026°C for CuO, 900-100°C for CdO).
0°C), and under normal firing conditions where the firing temperature is 900°C or less, incomplete reactants tend to remain.
このため、所望の密着性が得られないばかりか、副作用
として、むしろ導電性および半田濡れ性を低下させる。For this reason, not only is it not possible to obtain the desired adhesion, but as a side effect, the conductivity and solder wettability are rather reduced.
一方、表面酸化層を有する銅粉を用いた場合は、ある程
度の密着性は得られるものの、表面酸化層は銅粉の焼結
を著しく阻害するために導電性が低く、また半田濡れ性
にも問題がある。On the other hand, when copper powder with a surface oxidation layer is used, although a certain degree of adhesion can be obtained, the surface oxidation layer significantly inhibits the sintering of the copper powder, resulting in low conductivity and poor solder wettability. There's a problem.
本発明は上記欠点を解消すべく成されたもので、基板と
の密着性にすぐれ、かつ、半田濡れ性および導電性にも
すぐれた銅導体ペースト組成物を提供することを目的と
している。The present invention was made to solve the above-mentioned drawbacks, and an object of the present invention is to provide a copper conductor paste composition that has excellent adhesion to a substrate, and also has excellent solder wettability and conductivity.
(課題を解決するための手段)
上記目的を達成するため本発明者は種々の銅化合物につ
いて検討した結果、従来の酸化銅に代えて水酸化銅を用
いると水酸化銅が低温加熱により活性の酸化銅を生成し
、これが低温でも十分に反応することを知見し、本発明
を完成するに至った。(Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, the present inventor investigated various copper compounds and found that when copper hydroxide is used in place of conventional copper oxide, the copper hydroxide is activated by low-temperature heating. They discovered that copper oxide was produced and that this reacted sufficiently even at low temperatures, leading to the completion of the present invention.
すなわち、本発明の銅導体ペースト組成物は、銅粉を導
電粒子とする導体ペーストにおいて、粒径5−以下の水
酸化銅粉を銅粉土水酸化銅粉の合計量を基準に2〜7重
量%含有することを特徴とする銅導体ペースト組成物で
ある。That is, in the copper conductor paste composition of the present invention, in a conductor paste containing copper powder as conductive particles, the amount of copper hydroxide powder with a particle size of 5 or less is 2 to 7, based on the total amount of copper powder and copper hydroxide powder. % by weight of a copper conductor paste composition.
本発明は、より具体的には、銅粉末と水酸化銅の粉末と
ガラスフリットおよび有機ビヒクルとからなる銅導体ペ
ースト組成物である。More specifically, the present invention is a copper conductor paste composition comprising copper powder, copper hydroxide powder, glass frit, and an organic vehicle.
本発明の銅導体ペーストが、導体に要求される特性であ
る導電性、半田濡れ性、基板との密着性をすべて満足で
きた理由は、ペーストへの配合物として金属酸化物の粉
末を添加することなく、また、好ましくは表面酸化の進
んだ銅粉を用いることなく、水酸化銅粉を添加した点に
ある。The reason why the copper conductor paste of the present invention was able to satisfy all of the properties required for a conductor, such as conductivity, solder wettability, and adhesion to the board, is because metal oxide powder is added as a compound to the paste. The point is that copper hydroxide powder is added without using copper powder, and preferably without using copper powder with advanced surface oxidation.
すなわち、水酸化銅は、150°Cから200″Cの温
度で脱水反応を起こす。この反応過程において、副生成
物として酸化銅が生成するのであるが、そのとき生成す
る酸化銅は非常に反応性に冨み、従来の酸化物存在状態
(酸化銅粉添加、銅粉の表面酸化層)より、より活発に
基板と反応するため、また焼成後には未反応の酸化銅が
存在しないため理想的なケミカルポンディングが発現す
ると考えられる。In other words, copper hydroxide undergoes a dehydration reaction at a temperature of 150°C to 200"C. During this reaction process, copper oxide is produced as a byproduct, but the copper oxide produced at that time is highly reactive. It is ideal because it reacts more actively with the substrate than the conventional oxide state (addition of copper oxide powder, surface oxidation layer of copper powder), and there is no unreacted copper oxide after firing. It is thought that chemical ponding occurs.
(作用) 本発明の構成と作用を説明する。(effect) The structure and operation of the present invention will be explained.
本発明に使用する銅粉の平均粒径は0.1〜10/Al
+、好ましくは0.5〜5pである。銅粉の製造方法、
粒子の形状等には特に制限はないが、スクリーン印刷の
面からは球状に近い粒子であることが好ましい。The average particle size of the copper powder used in the present invention is 0.1 to 10/Al
+, preferably 0.5 to 5p. method for producing copper powder,
There are no particular restrictions on the shape of the particles, but from the perspective of screen printing, particles that are close to spherical are preferred.
銅粉は一般に酸化され易いため表面酸化がみられ、その
酸化層はすでに述べたように銅粉の焼結性を劣化させる
が、本発明の場合、通常みられる程度、例えば0.6%
までは許容される。好ましくは0.5%以下に制限する
。Copper powder is generally easily oxidized, so surface oxidation is observed, and as mentioned above, this oxidized layer deteriorates the sinterability of copper powder, but in the case of the present invention, the oxidation layer is oxidized to a level that is normally seen, for example, 0.6%.
It is permissible until Preferably it is limited to 0.5% or less.
本発明に使用される水酸化銅粉末とは主として水酸化第
二M [Cu (OH) zl のことを言うが、これ
に金属銅および水酸化第一銅(Cu(Of()Iが少量
含有されているものであっても使用可能である。The copper hydroxide powder used in the present invention mainly refers to hydroxide M [Cu (OH) zl ], but it also contains a small amount of metallic copper and cuprous hydroxide (Cu(Of()I). It can be used even if it is
水酸化銅としてはCu(OH)z 、Cu0Hあるいは
Cu(OH) z+cuOHのいずれも使用可能である
。均一に分散させるためにはその粒径が5p以下である
ことが必要であり、これよりも大きくなると反応にムラ
を生ずる。また添加量が銅粉+水酸化銅粉の合計量を基
準に2重量%未満では接着効果が乏しく一方、7重量%
を超える場合は導電性、半田濡れ性が劣化する。好まし
くは、3〜4%である。As the copper hydroxide, any of Cu(OH)z, Cu0H, and Cu(OH)z+cuOH can be used. For uniform dispersion, the particle size must be 5p or less; if it is larger than this, the reaction will be uneven. Furthermore, if the amount added is less than 2% by weight based on the total amount of copper powder + copper hydroxide powder, the adhesion effect will be poor;
If it exceeds this value, the conductivity and solder wettability will deteriorate. Preferably it is 3 to 4%.
本発明の銅導体ペーストは、上記した銅粉末および水酸
化銅粉を、必要によりそれらの合計量の2重量%以下の
ガラスフリットとともに有機ビヒクルに混線分散させる
ことによってペースト化する。The copper conductor paste of the present invention is made into a paste by cross-dispersing the above-described copper powder and copper hydroxide powder in an organic vehicle together with glass frit in an amount of 2% by weight or less of the total amount thereof, if necessary.
本発明に使用されるガラスフリットとしては、公知のガ
ラスフリットが使用可能である。たとえば、PbO−8
,0,−510□ガラスをベースとして、各種の金属を
添加したものが使用可能である。ガラスフリントの平均
粒径は0.1〜10m、好ましくは0゜3〜5pである
。As the glass frit used in the present invention, any known glass frit can be used. For example, PbO-8
, 0, -510□ Glass-based materials to which various metals are added can be used. The average particle size of the glass flint is 0.1 to 10 m, preferably 0.3 to 5 p.
本発明に使用される有機ビヒクルとしては、般に厚膜導
体ペーストに使用されるものであれば良く、特定のもの
に限定されない。たとえば、エチルセルロース、ポリブ
チルメタクリレート等の樹脂をテルピネオール、ジブチ
ルカルピトール、ジブチルフタレート、ジブチルカルピ
トール、22.4− トリメチル−1,3−ベンタンジ
オールモノイソブチレート等の溶剤に溶解したものが挙
げられる。The organic vehicle used in the present invention is not limited to any particular one, as long as it is generally used for thick film conductor pastes. Examples include those obtained by dissolving resins such as ethyl cellulose and polybutyl methacrylate in solvents such as terpineol, dibutyl calpitol, dibutyl phthalate, dibutyl calpitol, and 22.4-trimethyl-1,3-bentanediol monoisobutyrate. .
上記ペースト化法としては、公知の各種方法が使用可能
である。例えば、万能攪拌混合機を用いて予備混練した
後、三本ロールで混練するという手法が一般的である。As the pasting method, various known methods can be used. For example, a common method is to pre-knead using a universal stirring mixer and then knead with three rolls.
このようにして得られた銅導体ペーストは、次いでセラ
ミック基板上に印刷または描画により塗布し、溶剤を乾
燥、揮散させ、次いで焼成して導電被膜を得る。The copper conductor paste thus obtained is then applied by printing or drawing onto a ceramic substrate, the solvent is dried and volatilized, and the paste is then fired to obtain a conductive film.
本発明の銅導体ペーストの印刷には公知の印刷方法が使
用可能である。このような印刷法としては、スクリーン
印刷法、メタルマスクによる印刷法、直接描画法等が挙
げられる。Known printing methods can be used to print the copper conductor paste of the present invention. Examples of such printing methods include a screen printing method, a printing method using a metal mask, a direct drawing method, and the like.
また、本発明の導体ペーストの焼成方法としては、公知
の焼成方法が使用可能であるが、生産性および安全性の
点からハツチ炉よりもベルト炉が望ましい。Further, as a method for firing the conductor paste of the present invention, any known firing method can be used, but a belt furnace is more preferable than a hatch furnace from the viewpoint of productivity and safety.
(実施例) 以下、本発明を具体的実施例により説明する。(Example) The present invention will be explained below using specific examples.
第1表の組成割合で調整した各銅導体ペーストを純度9
11%のアルミナ基板上にスクリーン印刷機で適当なパ
ターンに印刷を行い、120°Cで10分間乾燥して溶
剤を除去した後、窒素雰囲気中で、ベルト炉においてピ
ーク温度750°C、ピーク温度保持時間10分を含む
1サイクル40分のプロファイルで焼成を行い、膜厚2
0/Jlの銅導体厚膜を得た。Purity 9 of each copper conductor paste adjusted according to the composition ratio in Table 1
A suitable pattern was printed on a 11% alumina substrate using a screen printer, dried at 120°C for 10 minutes to remove the solvent, and then heated in a belt furnace in a nitrogen atmosphere at a peak temperature of 750°C. Firing was performed with a profile of 40 minutes per cycle including a holding time of 10 minutes, and the film thickness was 2.
A copper conductor thick film of 0/Jl was obtained.
このようにして得られた各焼成膜について、導電性、半
田濡れ性および接着強度による導体特性評価を行った。Each of the fired films obtained in this way was evaluated for conductor properties based on conductivity, solder wettability, and adhesive strength.
評価要領は次の通りであった。The evaluation procedure was as follows.
(導電性)
導体抵抗値の測定により評価した。具体的には、4端子
法抵抗測定、および銅厚膜の線幅・膜厚より比抵抗値を
求めた。(Conductivity) Evaluated by measuring conductor resistance value. Specifically, the specific resistance value was determined from the four-terminal resistance measurement and the line width and film thickness of the thick copper film.
(半田濡れ性)
焼成部品を230±3°Cの温度に維持した63%5n
−37%pb半田槽に3±0.5秒間浸漬し、4mmX
4mの銅被膜上に被着した半田の被着率を目視で測定し
た。(Solder wettability) 63%5N with fired parts maintained at a temperature of 230±3°C
- Immerse in 37% pb solder bath for 3±0.5 seconds,
The adhesion rate of the solder deposited on the 4 m copper film was visually measured.
(接着強度)
211!11角の銅導体被膜に、230±3°Cの温度
に維持した63%5n−37%pb半田槽に3±0.5
秒間浸漬した後、その上に0.6 mmφスズメツキ銅
線をハンダゴテにて半田付けした。スズメツキ銅線を被
膜端部より11の位置で90度曲げて基板と垂直とし、
基板を固定した状態で引張り試験機により]Ocm/m
inの速度でスズメンキ銅線を引張り、スズメツキ銅線
が基板からはがれた時の接着強度を測定した。(Adhesion strength) 3±0.5 to 211!11 square copper conductor coating in a 63%5N-37%PB solder bath maintained at a temperature of 230±3°C
After dipping for seconds, a 0.6 mmφ tin plated copper wire was soldered thereon using a soldering iron. Bend the tinted copper wire 90 degrees at position 11 from the end of the coating so that it is perpendicular to the board,
[by tensile testing machine with the board fixed]Ocm/m
The tin-plated copper wire was pulled at a speed of 1.5 in, and the adhesive strength was measured when the tin-plated copper wire was peeled off from the substrate.
接着強度は半田付直後の値(初期接着強度)、および1
50°Cで100時間エージングした後の値を測定した
。The adhesive strength is the value immediately after soldering (initial adhesive strength), and 1
Values were measured after aging at 50°C for 100 hours.
これらの結果は同しく第1表にまとめて示す。These results are also summarized in Table 1.
水酸化銅粉を含まない比較例1.2にあっては銅粉の平
均粒径が1.4pであったが導電率および半田濡れ性が
十分でなかった。また比較例3.4にあっては従来のよ
うに酸化銅粉を使用したが導電率、接着強度および半田
濡れ性のいずれについても十分でなかった。In Comparative Example 1.2, which did not contain copper hydroxide powder, the average particle size of the copper powder was 1.4p, but the conductivity and solder wettability were insufficient. Further, in Comparative Example 3.4, copper oxide powder was used as in the prior art, but the conductivity, adhesive strength, and solder wettability were all insufficient.
一方、本発明にかかる銅導体ペーストを使用したものは
これらのいずれについても満足すべき特性を示すことが
できた。On the other hand, those using the copper conductor paste according to the present invention were able to exhibit satisfactory characteristics in all of these respects.
なお、本例では水酸化銅としてCu (OH) zを使
用したが、Cu (Of()あるいはそれら両者の混合
物を使用しても同様の結果が得られる。In this example, Cu (OH) z was used as the copper hydroxide, but similar results can be obtained by using Cu (Of() or a mixture of both).
(発明の効果)
本発明は以上説明したように構成されており、前述の実
施例からも明らかなように、本発明の銅導体ペーストは
水酸化銅粉を含有することにより、導電性、半田濡れ性
、基板との密着性(初期、エージング後とも)をすべて
実用上満足する程度にまで改善されており、画期的な導
体ペーストであり、産業上きわめて有用である。(Effects of the Invention) The present invention is constructed as described above, and as is clear from the above-mentioned examples, the copper conductor paste of the present invention has good conductivity and solderability by containing copper hydroxide powder. The wettability and adhesion to the substrate (both initially and after aging) have been improved to a level that is practically satisfactory, making it an innovative conductive paste and extremely useful industrially.
Claims (2)
径5μm以下の水酸化銅粉を銅粉+水酸化銅粉の合計量
を基準に2〜7重量%含有することを特徴とする銅導体
ペースト組成物。(1) A conductive paste containing copper powder as conductive particles, containing 2 to 7% by weight of copper hydroxide powder with a particle size of 5 μm or less based on the total amount of copper powder + copper hydroxide powder. Conductor paste composition.
して2重量%以下添加してなる請求項1記載の銅導体ペ
ースト組成物。(2) The copper conductor paste composition according to claim 1, wherein 2% by weight or less of glass frit is added to the total amount of copper powder + copper hydroxide powder.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2175730A JPH0465013A (en) | 1990-07-03 | 1990-07-03 | Copper conductive paste compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2175730A JPH0465013A (en) | 1990-07-03 | 1990-07-03 | Copper conductive paste compound |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0465013A true JPH0465013A (en) | 1992-03-02 |
Family
ID=16001236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2175730A Pending JPH0465013A (en) | 1990-07-03 | 1990-07-03 | Copper conductive paste compound |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0465013A (en) |
-
1990
- 1990-07-03 JP JP2175730A patent/JPH0465013A/en active Pending
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