JPH0465055A - 荷電ビーム照射装置 - Google Patents
荷電ビーム照射装置Info
- Publication number
- JPH0465055A JPH0465055A JP2177175A JP17717590A JPH0465055A JP H0465055 A JPH0465055 A JP H0465055A JP 2177175 A JP2177175 A JP 2177175A JP 17717590 A JP17717590 A JP 17717590A JP H0465055 A JPH0465055 A JP H0465055A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- charged beam
- beam gun
- cooling panel
- section
- high vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体の加工、評価９分析等に用いる荷電
ビーム照射装置に関し、特にその荷電ビームの安定化を
図ったものに関するものである。
ビーム照射装置に関し、特にその荷電ビームの安定化を
図ったものに関するものである。
第２図は従来の荷電ビーム照射装置を示す断面図であり
、図において、２は荷電ビーム銃部、３ハ荷電ヒ一ム銃
部内に設置された荷電ビーム銃、４は引き出し電極、５
は加速電極、６はガスであり、通常大気あるいは窒素ガ
スである。７は荷電ビーム８が照射される試料である。
、図において、２は荷電ビーム銃部、３ハ荷電ヒ一ム銃
部内に設置された荷電ビーム銃、４は引き出し電極、５
は加速電極、６はガスであり、通常大気あるいは窒素ガ
スである。７は荷電ビーム８が照射される試料である。
ガス６は荷電ビーム銃部において、荷電ビーム銃部２に
取付けられた真空排気部１により排気している。
取付けられた真空排気部１により排気している。
次に動作について説明する。
従来の荷電ビーム照射装置は上記のように構成されてお
り、第２図の荷電ビーム銃部２にあるガス６を真空排気
部ｌによって電離、吸着することにより排気し、試料室
では例えばＩＱ’Ｐａ程度の圧力を持つガスを、荷電ビ
ーム銃部２では１×１０’−’Ｐａ程度の超高真空とな
るように減圧するので、荷電ビーム銃３から放出される
荷電ビーム８は安定に放出される。そしてこの荷電ビー
ム８は試料７に照射し、試料７を観察等するのに用いら
れる。
り、第２図の荷電ビーム銃部２にあるガス６を真空排気
部ｌによって電離、吸着することにより排気し、試料室
では例えばＩＱ’Ｐａ程度の圧力を持つガスを、荷電ビ
ーム銃部２では１×１０’−’Ｐａ程度の超高真空とな
るように減圧するので、荷電ビーム銃３から放出される
荷電ビーム８は安定に放出される。そしてこの荷電ビー
ム８は試料７に照射し、試料７を観察等するのに用いら
れる。
従来の荷電ビーム照射装置は以」−のように構成されて
おり、荷電ビーム銃部２内にある荷電ビ・−ム銃３を安
定稼働させるために、荷電ビーム銃部２内にあるガス６
を効率よく排気して高真空を得る必要があるが、荷電ビ
ーム銃部２の外に真空排気部１が付いているため、荷電
ビーム銃部２と真空排気部１に距離があり、排気効率が
よくないという問題点があった。
おり、荷電ビーム銃部２内にある荷電ビ・−ム銃３を安
定稼働させるために、荷電ビーム銃部２内にあるガス６
を効率よく排気して高真空を得る必要があるが、荷電ビ
ーム銃部２の外に真空排気部１が付いているため、荷電
ビーム銃部２と真空排気部１に距離があり、排気効率が
よくないという問題点があった。
本発明は、上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、排気効率を上げると同時に超高真空を得て荷
電ビーム銃３の安定稼働を可能にする荷電ビーム照射装
置を得ることを目的とする。
たもので、排気効率を上げると同時に超高真空を得て荷
電ビーム銃３の安定稼働を可能にする荷電ビーム照射装
置を得ることを目的とする。
本発明に係る荷電ビーム照射装置は、荷電ビーム銃部２
側壁を冷媒で冷却し、荷電ビーム銃部２のガス６を直接
凝縮、吸着し排気することにより、超高真空を効率よく
得て荷電ビーム銃３を安定稼働するものである。
側壁を冷媒で冷却し、荷電ビーム銃部２のガス６を直接
凝縮、吸着し排気することにより、超高真空を効率よく
得て荷電ビーム銃３を安定稼働するものである。
本発明における荷電ビーム照射装置の荷電ビーム銃部２
は側壁の冷却部９により荷電ビーム銃部２のガス６が直
接排気されるため、す早く超高真空となり、荷電ビーム
が安定する。
は側壁の冷却部９により荷電ビーム銃部２のガス６が直
接排気されるため、す早く超高真空となり、荷電ビーム
が安定する。
以下、この発明の実施例を図について説明する。
第１図は本発明の一実施例による荷電ビーム照射装置を
示す断面図であり、図において、第２図と同一符号は従
来装置と全く同一のものである。
示す断面図であり、図において、第２図と同一符号は従
来装置と全く同一のものである。
９は荷電ビーム銃部２の側壁全周にわたって、取付けら
れた冷却パネルである。
れた冷却パネルである。
次に作用、効果について説明する。以上のように構成さ
れた荷電ビーム照射装置においては、荷電ビーム銃部２
の内壁冷却パネル９に冷媒として例えば液体窒素を循環
させ、冷却パネル９を極低温にするので、ガス６を冷却
パネル９表面に凝縮。
れた荷電ビーム照射装置においては、荷電ビーム銃部２
の内壁冷却パネル９に冷媒として例えば液体窒素を循環
させ、冷却パネル９を極低温にするので、ガス６を冷却
パネル９表面に凝縮。
吸着でき、真空度の測定が不可能な超高真空を容易に得
ることができる。
ることができる。
なお、上記実施例では冷却パネル９を平板で示したが、
表面積を大きくする形状である程、良いことは言うまで
もない。
表面積を大きくする形状である程、良いことは言うまで
もない。
また、冷媒に液体窒素を使用したものを示したが、極低
温を作る冷媒であればよく、上記実施例と同様の効果を
奏する。
温を作る冷媒であればよく、上記実施例と同様の効果を
奏する。
以上のように、本発明に係る荷電ビーム照射装置によれ
ば、冷却パネルを荷電ビーム銃部の側壁に構成したので
、荷電ビーム銃部で直接排気がてき、超高真空が得られ
荷電ビーム銃が安定する効果がある。
ば、冷却パネルを荷電ビーム銃部の側壁に構成したので
、荷電ビーム銃部で直接排気がてき、超高真空が得られ
荷電ビーム銃が安定する効果がある。
第１図は本発明の一実施例による荷電ビーム照射装置を
示す断面図である。第２図は従来の荷電ビーム照射装置
を示す断面図である。 図において、ｌは真空排気部、２は荷電ビーム銃部、３
は荷電ビーム銃、４は引き出し電極、５は加速電極、６
はガス、７は試料、８は荷電ビーム、９は冷却パネルで
ある。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
示す断面図である。第２図は従来の荷電ビーム照射装置
を示す断面図である。 図において、ｌは真空排気部、２は荷電ビーム銃部、３
は荷電ビーム銃、４は引き出し電極、５は加速電極、６
はガス、７は試料、８は荷電ビーム、９は冷却パネルで
ある。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (1)
- （１）荷電ビーム銃、加速電極面および真空排気装置部
等を備えた荷電ビーム照射装置において、冷媒により荷
電ビーム銃部の側壁を冷却する冷却パネルを備えたこと
を特徴とする荷電ビーム照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2177175A JPH0465055A (ja) | 1990-07-02 | 1990-07-02 | 荷電ビーム照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2177175A JPH0465055A (ja) | 1990-07-02 | 1990-07-02 | 荷電ビーム照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0465055A true JPH0465055A (ja) | 1992-03-02 |
Family
ID=16026495
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2177175A Pending JPH0465055A (ja) | 1990-07-02 | 1990-07-02 | 荷電ビーム照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0465055A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5019398U (ja) * | 1973-06-16 | 1975-03-04 |
-
1990
- 1990-07-02 JP JP2177175A patent/JPH0465055A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5019398U (ja) * | 1973-06-16 | 1975-03-04 |
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