JPH0465349A - 磁気ヘッド用非磁性セラミックス - Google Patents

磁気ヘッド用非磁性セラミックス

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JPH0465349A
JPH0465349A JP2172682A JP17268290A JPH0465349A JP H0465349 A JPH0465349 A JP H0465349A JP 2172682 A JP2172682 A JP 2172682A JP 17268290 A JP17268290 A JP 17268290A JP H0465349 A JPH0465349 A JP H0465349A
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magnetic
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mgo
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magnetic head
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Heiki Hoshi
星 兵喜
Yukio Nagayama
長山 幸雄
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Tokin Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、磁気ヘッド用非磁性セラミックスに関し、さ
らに詳しくはコンピュータの周辺装置であるフロッピー
ディスク装置あるいはハードディスク装置、さらにはビ
デオテープレコーダ等の磁気ヘッドに用いられる非磁性
セラミックスに関するものである。
[従来の技術] 一般にフロッピーディスク装置やオーディオ・ビジュア
ル2置等に用いられている磁気ヘッドは磁性材料である
フェライトと非磁性材料のセラミックスをガラスボンデ
ィングして構成されている。
また、薄膜磁気ヘッドの場合には、磁性あるいは非磁性
セラミックス基板上へ磁性薄膜を蒸着あるいは スパッ
タリングにより生成し作製される。
さらには、金属磁性膜を非磁性セラミックス基板で挟み
込んだ積層型ヘッドの開発も着々となされている。
近年、デジタル磁気ヘッドは記録媒体の高密度記録化へ
の技術推移に伴って、より小型化7高密度記録化1高品
質化が要求されてきている。
そのためフェライトは記録媒体の特性に適用すべく、大
きな飽和磁束密度を有することが要求されてきている。
すなわちフェライトにおいて高飽和磁束密度の磁気特性
を持つには、必然的に熱膨張係数の大きくなる組成領域
にて製造せざるを得ない。又、薄膜ヘッドの場合、高飽
和磁束密度で。
高熱膨張係数(130〜140 X 10−7/℃)と
大きなパーマロイ又はセンダスト等の金属磁性薄膜をセ
ラミックス基板上へ生成して製造される。
ところで、これら異種材料を接着あるいは蒸着スパッタ
リングにて構成し製造する場合においては8構成材料の
熱膨張係数を近いものとし、かつ。
接合時に発生する歪を最小のものとすることか必要条件
となる。
従来、この様な磁性体と一体で構成される非磁性セラミ
ックスは、CaTiO2系、BaTiO3系、Znフェ
ライト系、Af)203  TiL系セラミックスが使
用されていた。しかしなから。
これらセラミックスの熱膨張係数は、75〜120XI
O−7/’Cの値を示すことから、130X10−7/
’C以上の熱膨張係数を有するセラミックスを製造する
には非常に困難である。
また 一般に磁気ヘッド用磁性セラミックスには 1)高密度で気孔が少ないこと。
2)耐摩耗特性に優れていること。
3)加工性に優れていること。
4)熱膨張係数が磁性体のそれと近似であること。
5)低効率が大きいこと。
6)物理的、化学的に安定であること。
等か要求される。
[問題点を解決するための手段] 本発明は、上記の問題点に鑑みて熱膨張係数(α)の大
きな磁性体に適応すべく熱膨張係数か大きく、摩耗特性
が良く、かつ加工性の良い磁気ヘッド用非磁性セラミッ
クを提供するものである。
本発明は、熱膨張係数の大きな酸化物MgOとNiOが
全率固溶し、安定均一成分を作ることに着眼し、熱膨張
係数を組成比でコントロールするとともに 機械的強度
と加工性にすぐれた高密度非磁性セラミックスを容易に
製造するものである。
本発明者は、まず本発明の磁気ヘッド用非磁性セラミッ
クス材の主成分であるMgOとNiOの成分比の検討を
行った結果1熱膨張係数a≧13OXIO−”/℃は、
MgO成分か80モル96以下で得られることがわかっ
た。しかし、MgO成分か20モル96より少ない(即
ち、NiOか80モル9oを越える)と透磁率か1を越
え非磁性セラミックスとしては不適当であることもわか
った。Mg○20〜80モル%てα≧130X10−7
/’Cを可能とするが1400℃の焼結温度では緻密化
か不十分て気孔率が大きくなり、また硬度も低く。
磁気ヘッド用セラミックス材としては不適当である。
本発明者らは、これらの問題点をTlO2を添加し、か
つ、P r60.、、Tm2 o3.yb20B、Lu
20.の一種又は二種以上添加することにより改善でき
ることを見い出した。即ち、TlO2を添加することに
より硬度を増加させ、焼結促進効果及び結晶の微細化に
効果のあるPrbOTm203 、Yb203 、Lu
2O3を添加することにより気孔率を改善するものであ
る。
前記範囲においてTlO2は0.1重量部より少ない場
合は硬度が低く15重量部を越えると熱膨張係数が小さ
くなる。P r 6011. T m 203Yb20
3 、Lu2O3の一種又は二種以上か01重量部より
少ない場合、10重量部を越えた場合は気孔率が大きく
なる。
[実施例] 以下、この発明の実施例について説明する。
ます、市販の原料であるMgO,TlO2,Pr+、O
’++、Tm2o、、Yb203 、L u203を表
−1に示す組成比となる様に秤量し1分散媒にアルコー
ルを用いてボールミルにて混合した。
そして、乾燥後7空気中にて1200℃の温度で2時間
仮焼し、再びボールミルにて粉砕した。この粉砕後の粉
末の平均粒径は約1.2μWであった。
また、バインダーを1%添加し、造粒を行い、2ton
/c−の圧力にて成形し、空気中にて1400℃、3時
間の焼結を行った。次に相対密度97%以上の密度を有
する焼結体をアルミナルツボ内に設置し、温度1300
℃、圧力1000 kg/ cd。
保持時間2時間の条件にてArガス雰囲気にて熱間静水
圧プレス(HI P)処理を行った。
以上の工程より得られた各試料より熱膨張係数(100
℃〜400℃)、ビッカース硬度(500g荷重)、抵
抗強度平均粒径、気孔率、透磁率をM]定した。尚透磁
率はφ10×φ6×211I11のトロイダルコアを周
波数1 kHzにて測定した。
C1下余日 試料k 1〜7の本発明例と試料No、 8〜13の比
較例から明らかな様に、MgOが80モル%を越える(
No、〕3)と熱膨張係数が低下し、MgOが20モル
%より少ない(Na12)と透磁率か大きくなる。また
、TiO□が0.1重量部より少ない場合(No、11
)は、硬度の低下5.0重量部を越えた場合(Nα9)
は、熱膨張係数の低下となる。さらに、P rb O,
、、Tm2 o、、Yb2O3,Lu2O3の一種又は
二種以上が0.1重量部より少ない場合(Nα8.10
)は、気孔率が大きく、平均粒径も大きく、それら判い
硬度、抵抗強度も低下している。10.0重量部を越え
た場合(No、13)は、気孔率が大きいことか分った
以上1本発明の通り、Mg020〜80モル%残部Ni
Oより成る主成分100重量部に対しT i 020.
1〜0.5重量部添加し、かっPr6011 、” m
203 r Yb203 r  ” u203の一種又
は二種以上を0.1〜10重量部添加することにより、
熱膨張係数a>130X10−7/”Cを有し。
微細組織で機械特性に優れた高密度非磁性セラミックス
か得られた。
[発明の効果] 以上の結果から、明らかな様に1本発明によれば従来製
造困難であった熱膨張係数a>130×10−7/’C
を有する高密度非磁性セラミックスを容易に製造するこ
とが可能となる。
即ち、高飽和磁束密度を有するM n Z nフェライ
ト、さらには、パーマロイ、センダスト等の金属磁性薄
膜の接合に最適な材料となり、信頼性の高い磁気ヘッド
を製造することができた。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1)MgO20〜80モル%を含み,残部NiOより成
    る主成分100重量部に対し,TiO_2を0.1〜5
    重量部含有し、かつ、Pr_6O_1_1,Tm_2O
    _3,Yb_2O_3,Lu_2O_3のうち少くとも
    1種を0.1〜10重量部含有することを特徴とする磁
    気ヘッド用非磁性セラミックス。
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