JPH0466349B2 - - Google Patents
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- JPH0466349B2 JPH0466349B2 JP60163001A JP16300185A JPH0466349B2 JP H0466349 B2 JPH0466349 B2 JP H0466349B2 JP 60163001 A JP60163001 A JP 60163001A JP 16300185 A JP16300185 A JP 16300185A JP H0466349 B2 JPH0466349 B2 JP H0466349B2
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- JP
- Japan
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- group
- benzophenone
- general formula
- carbon atoms
- tertiary
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高感度の光重合性組成物に関するも
のである。この組成物は各種基板に塗布すること
により、刷版材、製版用コンタクトフイルム、マ
スキングフイルム、プルーフペーパー、記録フイ
ルム、フオトレジストなどの画像形成材料として
広い用途がある。
〔従来の技術〕
従来、光重合性組成物の光に対する感度を高め
る手段として、ベンゾフエノンに4,4′−ビス
(ジメチルアミノ)ベンゾフエノン(通称名:ミ
ヒラーズケトン)を加える方法(例えば、加藤清
視、中原正二著「UV硬化技術入門」P65、高分
子刊行会(1984))やこれに有機過酸化物を加え
る方法(特開昭60−35725号)があり、確かに重
合速度に対する効果は認められるが、前者におい
ては得られる感度がフオトレジストその他に用い
るには十分ではなく、又、後者は、高感度を得る
に必要な量の有機過酸化物を用いた場合、感光性
樹脂の液ならびに塗布された膜の熱的安定性を含
めた経時安定性(以下単に安定性という)が十分
ではない。
さらに、特開昭60−76503号公報には、特殊な
有機過酸化物と有機染料化合物とを用いる光開始
剤組成物が記載されているが、これも高感度では
あるが前記同様安定性が十分ではない。
〔発明が解決しようとする問題点〕
光重合性組成物において感度は最も重要な特性
であり、また作業効率を考慮した場合もより高感
度な製品の出現が待たれているのが現状である。
また、光重合性組成物の安定性が不十分な場合
には、感光液を塗布した後の乾燥温度が高い時、
露光時間が一定とならず品質のバラツキの原因と
なり再現性の良い鮮明な画像が得られなくなる、
いわゆる「カブリ」現象が発生する。
本発明は、高感度でかつ、感光液ならびに塗布
された膜の安定性の改善された光重合性組成物を
得ることを目的としている。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者らは、光重合開始剤として特定の有機
過酸化物と光増感剤を組合せて用いることによ
り、高感度でしかも安定性の優れた光重合性組成
物が得られることを見い出して本発明に至つた。
すなわち、本発明は、エチレン性不飽和二重結
合を有する化合物と下記一般式()で示される
ベンゾフエノン基含有多価ペルオキシエステル及
び一般式()で示される4,4′−ビス(ジアル
キルアミノ)ベンゾフエノンからなる光重合開始
剤とを含有する高感度光重合性組成物を提供する
ものである。
一般式()
〔式中R1およびR′1はそれぞれ炭素数4から8
の第3アルキル基、または炭素数9から12の第3
アラルキル基、R2およびR′2はそれぞれ水素原子
または炭素数4から8の第3アルコキシ基または
炭素数9から12の第3アラルキルオキシ基を表
す。〕
一般式()
〔但し、Rは炭素数1から6のアルキル基、シ
クロアルキル基またはヒドロキシアルキル基を表
わす。〕
本発明に用いるエチレン性不飽和二重結合を有
する化合物としては、光重合開始剤により重合可
能な化合物であればよく、例えばアクリル酸、メ
タクリル酸、イタコン酸、マレイン酸及びその無
水物、フタル酸及びその無水物、フマル酸等の不
飽和酸や(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)ア
クリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メ
タ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸
ヒドロキシエチル、マレイン酸ジメチル、マレイ
ン酸ジエチル、フマル酸ジメチル、ペンタエリス
リトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート等の不飽和
酸エステル、及びスチレン、アクリルアミド、ア
クリロニトリル、N−ビニルピロリドン、酢酸ビ
ニル、さらに種々の不飽和ポリエステル、不飽和
ポリエーテル、不飽和ポリウレタンやエポキシ基
を有する(メタ)アクリレート化合物等がある。
また本発明において光重合開始剤として用いる
一般式()
〔式中R1およびR′1はそれぞれ炭素数4から8
の第3アルキル基、または炭素数9から12の第3
アラルキル基、R2およびR′2はそれぞれ水素原子
または炭素数4から8の第3アルコキシ基または
炭素数9から12の第3アラルキルオキシ基を表わ
す。〕
で示されるベンゾフエノン基含有多価ペルオキシ
エステルの例としては、3,3′,4,4′−テトラ
−(第3ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフ
エノン、3,3′,4,4′−テトラ−(第3アミル
ペルオキシカルボニル)ベンゾフエノン、3,
3′,4,4′−テトラ(第3ヘキシルペルオキシカ
ルボニル)ベンゾフエノン、3,3′,4,4′−テ
トラ(第3オクチルペルオキシカルボニル)ベン
ゾフエノン、3,3′,4,4′−テトラ(クミルペ
ルオキシカルボニル)ベンゾフエノン、3,3′,
4,4′−テトラ(p−イソプロピルクミルペルオ
キシカルボニル)ベンゾフエノン、等がある。
本発明に用いる一般式()
〔但し、Rは炭素数1から6のアルキル基、シ
クロアルキル基またはヒドロキシアルキル基を表
わす。〕
で示される化合物には、例えば4,4′−ビス(ジ
メチルアミノ)ベンゾフエノン、4,4′−ビス
(ジエチルアミノ)ベンゾフエノン、4,4′−ビ
ス(ジシクロヘキシルアミノ)ベンゾフエノン、
4,4′−ビス(ジヒドロキシエチルアミノ)ベン
ゾフエノン等がある。これらのうちで4,4′−ビ
ス(ジメチルアミノ)ベンゾフエノンと4,4′−
ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフエノンが特に好
ましい。
上記各成分の配合割合は、エチレン性不飽和二
重結合を有する化合物100重量部に対して、一般
式()で示すベンゾフエノン基含有多価ペルオ
キシエステル及び一般式()で示す化合物がそ
れぞれ0.01〜100重量部、好ましくは0.1〜30重量
部、特に好ましくは1〜30重量部である。
また一般式()で示す化合物(a)と一般式
()で示す化合物(b)の配合比は重量比でa:b
が1:10〜10:1が好ましい。
上記の配合量および配合比の範囲外では優れた
性能の光重合性組成物が得られない。
本発明の光重合性組成物は、前記の光重合開始
剤と重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有す
る化合物を必須成分とするが、必要に応じてバイ
ンダー樹脂、重合防止剤、色素等を適宜配合して
用いることができる。
バインダー樹脂は、刷版材やフオトレジストな
どの塗膜形成助剤として物性向上の目的で用いる
ものであり、エチレン性不飽和二重結合を有する
化合物100重量部に対して通常50〜500重量部程度
使用するのが好ましい。バインダー樹脂として例
えば、(メタ)アクリル酸エステル系の樹脂、ビ
ニルピロリドン系の樹脂、ビニルアルコール系の
樹脂等があり、樹脂中に重合基を含有していても
していなくとも良い。
重合防止剤の例としてp−メトキシフエノール
やヒドロキノン等があり、色素の例として、ブリ
アントグリーン、エチルバイオレツト、エオシ
ン、エリスロシンBなどがある。
本発明の光重合性組成物は、各種基板上に塗布
して感光性樹脂シートとして用いるものであり、
この際、光重合性組成物をメチルエチルケトン、
イソプロパノール、メチルセロソルブなどの溶媒
で5〜100倍程度に希釈して、回転塗布、ロール
コート、バーコート等の方法を用いて基板上に
0.5〜50μmの厚さになるよう均一に塗布して用い
る。
このようにして得た感光性樹脂シートは、紫外
線等の活性光線を照射することにより光重合反応
が達成され、これを現像することにより所定の画
像が得られる。
〔発明の効果〕
本発明の光重合性組成物は、光重合開始剤とし
て前記の一般式()で示す化合物および一般式
()で示す化合物を組み合わせて用いているた
め、従来の光重合性組成物よりも著しく高感度で
あり、しかも安定性も優れている。したがつて、
多くの光重合反応に使用可能であり、各種の画像
形成材料や光硬化型の樹脂、塗料および印刷イン
キなど多方面に応用することができる。
〔実施例〕
以下実施例及び比較例によつて本発明をさらに
詳細に説明する。例中の部は重量部を示す。
実施例1〜2および比較例1〜3
下記の配合組成からなる光重合性組成物を均一
に混合して感光液を調製した。
これらの感光液を、砂目立てした陽極酸化処理
アルミニウム板上に、ホワラーを用いて乾燥塗膜
厚が2μmとなるように塗布し、40℃で5分間乾燥
して、感光性基板とした。
・ エポキシアクリレート 100部
(新中村化学工業(株)製 EA−800)
・ ポリ(ブチルアクリレート/エチルアクリレ
ート/メタクリル酸) 100部
(モル比50/40/10、分子量10万)
・ 3,3′,4,4′−テトラ−(第3ブチルペル
オキシカルボニル)ベンゾフエノン(以下
BTTBという) 表1に示す部
・ 4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフエ
ノン(以下EMKという) 〃部
・ ベンゾフエノン(以下BPという) 〃部
・ ジ−第3ブチルペルオキシイソフタレート
(以下PBIFという) 〃部
・ メチルセロソルブ 1800部
この感光性基板にステツプタブレツト(コダツ
ク(株)製No.2)を重ねて真空密着し、60cmの距離か
ら2K.W.の超高圧水銀灯で1.5秒間露光した後、
市販のアルカリ現像液(富士写真フイルム(株)製
DN−3C水希釈品)で現像を行ない、乾燥後に得
られるステツプタブレツトによる露光部分の段数
を目視の判断で求め、これを初期感度とした。結
果を表1に示す。なお段数は数値が大きいほど高
感度であることを示し、2段差があると感度は2
倍になる。
次に、露光前の感光性基板を55℃の保温器中に
48時間静置した後、前記と同様に露光後現像を行
ない安定性を調べた。結果を表1に示す。なお、
ここで「正常」は露光後に正常に現像できるもの
を示し、「不能」は「カブリ」が出て正常な現像
が不可能なことを示す。
[Industrial Application Field] The present invention relates to a highly sensitive photopolymerizable composition. By applying this composition to various substrates, it has a wide range of uses as an image forming material such as printing plate materials, contact films for plate making, masking films, proof papers, recording films, and photoresists. [Prior Art] Conventionally, as a means of increasing the sensitivity of photopolymerizable compositions to light, there has been a method of adding 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone (common name: Michler's ketone) to benzophenone (for example, Kiyomi Kato, Shoji Nakahara, "Introduction to UV Curing Technology," p. 65, Kobunshi Publishing Co., Ltd. (1984)) and a method of adding an organic peroxide to this method (Japanese Patent Application Laid-open No. 60-35725), which certainly have an effect on the polymerization rate. However, the sensitivity obtained with the former is not sufficient for use in photoresists and other applications, and with the latter, when the amount of organic peroxide required to obtain high sensitivity is used, the photosensitive resin liquid and coating The stability over time (hereinafter simply referred to as stability), including thermal stability, of the resulting film is not sufficient. Furthermore, JP-A-60-76503 describes a photoinitiator composition that uses a special organic peroxide and an organic dye compound, but this also has high sensitivity but is not as stable as above. Not enough. [Problems to be solved by the invention] Sensitivity is the most important characteristic of photopolymerizable compositions, and even when work efficiency is taken into account, the appearance of products with higher sensitivity is currently awaited. . In addition, if the stability of the photopolymerizable composition is insufficient, when the drying temperature after applying the photosensitive liquid is high,
Exposure time is not constant, which causes variations in quality and makes it impossible to obtain clear images with good reproducibility.
A so-called "fogging" phenomenon occurs. An object of the present invention is to obtain a photopolymerizable composition which is highly sensitive and has improved stability of a photosensitive solution and a coated film. [Means for Solving the Problems] The present inventors have achieved photopolymerization with high sensitivity and excellent stability by using a combination of a specific organic peroxide and a photosensitizer as a photopolymerization initiator. The inventors have discovered that a sexual composition can be obtained, leading to the present invention. That is, the present invention relates to a compound having an ethylenically unsaturated double bond, a benzophenone group-containing polyhydric peroxyester represented by the following general formula (), and a 4,4'-bis(dialkylamino) represented by the general formula (). The present invention provides a highly sensitive photopolymerizable composition containing a photopolymerization initiator consisting of benzophenone. General formula () [In the formula, R 1 and R′ 1 each have a carbon number of 4 to 8
tertiary alkyl group, or a tertiary alkyl group having 9 to 12 carbon atoms
The aralkyl groups R 2 and R' 2 each represent a hydrogen atom, a tertiary alkoxy group having 4 to 8 carbon atoms, or a tertiary aralkyloxy group having 9 to 12 carbon atoms. ] General formula () [However, R represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or a hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms. ] The compound having an ethylenically unsaturated double bond used in the present invention may be any compound that can be polymerized with a photopolymerization initiator, such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid and its anhydride, phthalate, etc. Acids and their anhydrides, unsaturated acids such as fumaric acid, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, hydroxyethyl (meth)acrylate, Unsaturated acid esters such as dimethyl maleate, diethyl maleate, dimethyl fumarate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate, propylene glycol di(meth)acrylate, etc. and styrene, acrylamide, acrylonitrile, N-vinylpyrrolidone, vinyl acetate, and various unsaturated polyesters, unsaturated polyethers, unsaturated polyurethanes, and (meth)acrylate compounds having epoxy groups. In addition, the general formula () used as a photopolymerization initiator in the present invention [In the formula, R 1 and R′ 1 each have a carbon number of 4 to 8
tertiary alkyl group, or a tertiary alkyl group having 9 to 12 carbon atoms
The aralkyl groups R 2 and R' 2 each represent a hydrogen atom, a tertiary alkoxy group having 4 to 8 carbon atoms, or a tertiary aralkyloxy group having 9 to 12 carbon atoms. ] Examples of benzophenone group-containing polyhydric peroxyesters include 3,3',4,4'-tetra-(tert-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 3,3',4,4'-tetra-( tertiary amylperoxycarbonyl)benzophenone, 3,
3',4,4'-tetra(tertiary hexylperoxycarbonyl)benzophenone, 3,3',4,4'-tetra(tertiary octylperoxycarbonyl)benzophenone, 3,3',4,4'-tetra( cumylperoxycarbonyl)benzophenone, 3,3′,
4,4'-tetra(p-isopropylcumylperoxycarbonyl)benzophenone, and the like. General formula () used in the present invention [However, R represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or a hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms. ] Examples of the compounds represented by include 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone, 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone, 4,4'-bis(dicyclohexylamino)benzophenone,
Examples include 4,4'-bis(dihydroxyethylamino)benzophenone. Among these, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone and 4,4'-
Particularly preferred is bis(diethylamino)benzophenone. The blending ratio of each of the above components is 0.01 to 0.01 to 100 parts by weight of the compound having an ethylenically unsaturated double bond, and the benzophenone group-containing polyhydric peroxyester represented by the general formula () and the compound represented by the general formula (), respectively. 100 parts by weight, preferably 0.1 to 30 parts by weight, particularly preferably 1 to 30 parts by weight. The compounding ratio of compound (a) represented by general formula () and compound (b) represented by general formula () is a:b in weight ratio.
is preferably 1:10 to 10:1. A photopolymerizable composition with excellent performance cannot be obtained outside the range of the above-mentioned blending amount and blending ratio. The photopolymerizable composition of the present invention has as an essential component a compound having an ethylenically unsaturated double bond that is polymerizable with the photopolymerization initiator, but may optionally include a binder resin, a polymerization inhibitor, a dye, etc. can be used by appropriately blending them. Binder resin is used as a coating film forming aid for printing plate materials and photoresists for the purpose of improving physical properties, and is usually used in an amount of 50 to 500 parts by weight per 100 parts by weight of a compound having an ethylenically unsaturated double bond. It is preferable to use it in moderation. Examples of the binder resin include (meth)acrylate resin, vinylpyrrolidone resin, and vinyl alcohol resin, and the resin may or may not contain a polymeric group. Examples of polymerization inhibitors include p-methoxyphenol and hydroquinone, and examples of dyes include brilliant green, ethyl violet, eosin, and erythrosin B. The photopolymerizable composition of the present invention is used as a photosensitive resin sheet by coating on various substrates,
At this time, the photopolymerizable composition is methyl ethyl ketone,
Dilute it approximately 5 to 100 times with a solvent such as isopropanol or methyl cellosolve, and apply it on the substrate using a method such as spin coating, roll coating, or bar coating.
It is used by applying it evenly to a thickness of 0.5 to 50 μm. The thus obtained photosensitive resin sheet undergoes a photopolymerization reaction by being irradiated with actinic light such as ultraviolet rays, and a predetermined image is obtained by developing the sheet. [Effects of the Invention] The photopolymerizable composition of the present invention uses a combination of the compound represented by the general formula () and the compound represented by the general formula () as a photopolymerization initiator. It has significantly higher sensitivity than other compositions, and also has superior stability. Therefore,
It can be used in many photopolymerization reactions, and can be applied to a wide variety of fields such as various image forming materials, photocurable resins, paints, and printing inks. [Examples] The present invention will be explained in more detail below using Examples and Comparative Examples. Parts in the examples indicate parts by weight. Examples 1 to 2 and Comparative Examples 1 to 3 A photosensitive liquid was prepared by uniformly mixing photopolymerizable compositions having the following composition. These photosensitive solutions were applied onto a grained anodized aluminum plate using a whirler so that the dry film thickness was 2 μm, and dried at 40° C. for 5 minutes to obtain a photosensitive substrate. - 100 parts of epoxy acrylate (EA-800 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) - 100 parts of poly(butyl acrylate/ethyl acrylate/methacrylic acid) (mole ratio 50/40/10, molecular weight 100,000) - 3,3',4,4'-tetra-(tert-butylperoxycarbonyl)benzophenone (hereinafter
Parts shown in Table 1: 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone (hereinafter referred to as EMK) Parts: Benzophenone (hereinafter referred to as BP) Parts: Di-tert-butylperoxyisophthalate (hereinafter referred to as PBIF) 1,800 parts of methyl cellosolve A step tablet (No. 2 manufactured by Kodaku Corporation) was placed on top of this photosensitive substrate and adhered in vacuum, and exposed for 1.5 seconds with a 2K.W. ultra-high pressure mercury lamp from a distance of 60cm.
Commercially available alkaline developer (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.)
Development was carried out with DN-3C (water-diluted product), and after drying, the number of steps in the exposed area by the step tablet obtained was determined by visual judgment, and this was taken as the initial sensitivity. The results are shown in Table 1. The higher the number of steps, the higher the sensitivity.If there is a difference of 2 steps, the sensitivity will be 2.
Double. Next, place the photosensitive substrate before exposure in a heat insulator at 55℃.
After standing still for 48 hours, post-exposure development was performed in the same manner as above to examine stability. The results are shown in Table 1. In addition,
Here, "normal" indicates that normal development is possible after exposure, and "impossible" indicates that "fogging" occurs and normal development is impossible.
【表】
*画像ができない。 **全く感光しない。
表1の結果から明らかなように、BTTBと
EMKとを併用する本発明のものは、いずれも比
較例のものより高感度でありまた安定性も優れて
いる。なお、本発明はBTTBとEMKの相乗効果
によることは比較例1および比較例2から明らか
であるが、さらに、実施例1において、EMK5部
に対し同一分子内にベンゾフエノン基とペルオキ
シ基とを有するBTTBを8部という小量用いる
ことで、比較例3においてBPとPBIFを別々に合
計34部も用いた場合よりも著しく優れた性能が得
られることでも、その優れた相乗効果が認められ
る。
実施例3および比較例4〜5
下記の配合組成の感光液を実施例1に準じて調
製し、これを塗工紙(三菱製紙(株)製、パールコー
ト#100)上に、バーコーターを用いて乾燥塗膜
厚が1μmになるように均一に塗布し、乾燥を行な
つて感光性シートを得た。この感光性シートを用
いて、現像に水を用いた以外は実施例1と同様に
して、初期感度および安定性を調べた。それらの
結果を表2に示す。
・ ペンタエリスリトールトリアクリレート
100部
・ ポリ−N−ビニルピロリドン(分子量36万)
100部
・ BTTB 表2に示す〃
・ 4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフエ
ノン(以下MKという) 〃 〃
・ BP 〃 〃
・ PBIF 〃 〃
・ メチルセロソルブ 5000〃[Table] *Image cannot be taken. **Not exposed to light at all.
As is clear from the results in Table 1, BTTB and
All of the products of the present invention that are used in combination with EMK have higher sensitivity and better stability than those of comparative examples. It is clear from Comparative Examples 1 and 2 that the present invention is based on the synergistic effect of BTTB and EMK, but in addition, in Example 1, 5 parts of EMK have a benzophenone group and a peroxy group in the same molecule. The excellent synergistic effect is also recognized by the fact that by using a small amount of 8 parts of BTTB, a significantly superior performance is obtained than when 34 parts of BP and PBIF were used separately in Comparative Example 3. Example 3 and Comparative Examples 4 to 5 A photosensitive solution having the following composition was prepared according to Example 1, and coated on coated paper (Pearl Coat #100, manufactured by Mitsubishi Paper Mills Co., Ltd.) using a bar coater. A photosensitive sheet was obtained by uniformly applying the film to a dry film thickness of 1 μm and drying. Using this photosensitive sheet, the initial sensitivity and stability were examined in the same manner as in Example 1 except that water was used for development. The results are shown in Table 2.・Pentaerythritol triacrylate
100 parts/Poly-N-vinylpyrrolidone (molecular weight 360,000)
100 parts ・ BTTB Shown in Table 2 ・ 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone (hereinafter referred to as MK) 〃 〃 ・ BP 〃 〃 ・ PBIF 〃 〃 ・ Methyl cellosolve 5000〃
【表】
表2の結果から、本発明のものは比較例のもの
より高感度で安定性も優れていることが明らかで
ある。
実施例4および比較例6〜7
下記の配合組成の感光液を実施例1と準じて調
製し、これを鏡面に近く研磨した銅板(日本テス
トパネル工業(株)製、JISH3100(C1100P))上に、
回転塗布機を用いて乾燥塗膜厚が5μmになるよう
に均一に塗布し、乾燥を行なつて感光性銅板を得
た。この感光性銅板を用いて、現像にイソプルパ
ノール/水(重量比50/50)を用いた以外は実施
例1と同様にして、初期感度および安定性を調べ
た。それらの結果を表3に示す。
・ トリメチロールプロパントリアクリレート
50部
・ ポリ(メチルメタクリレート/メタクリル
酸)(モル比50/50、分子量8万) 150部
・ 3,3′,4,4′−テトラ(第3ヘキシルペル
オキシカルボニル)ベンゾフエノン(以下
BTTHという) 表3に示す部
・ EMK 〃 〃
・ BP 〃 〃
・ PBIF 〃 〃
・ 2,4,6−トリ(4−メトキシフエニル)
チアピリリウムフルオロボレート(以下MTF
という) 表3に示す部
・ エチルバイオレツト 2〃
・ P−メトキシフエノール 0.1〃
・ メチルエチルケトン 500〃
・ イソプロパノール 500〃[Table] From the results in Table 2, it is clear that the samples of the present invention have higher sensitivity and better stability than those of the comparative examples. Example 4 and Comparative Examples 6 to 7 A photosensitive solution having the following composition was prepared according to Example 1, and it was coated on a copper plate (JISH3100 (C1100P) manufactured by Japan Test Panel Industry Co., Ltd.) polished to a near mirror surface. To,
The coating was applied uniformly using a rotary coating machine so that the dry coating thickness was 5 μm, and the coating was dried to obtain a photosensitive copper plate. Using this photosensitive copper plate, the initial sensitivity and stability were examined in the same manner as in Example 1, except that isopropanol/water (weight ratio 50/50) was used for development. The results are shown in Table 3.・Trimethylolpropane triacrylate
50 parts Poly(methyl methacrylate/methacrylic acid) (mole ratio 50/50, molecular weight 80,000) 150 parts 3,3',4,4'-tetra(tertiary hexylperoxycarbonyl)benzophenone (hereinafter
BTTH) The parts shown in Table 3 EMK 〃 〃 ・ BP 〃 〃 ・ PBIF 〃 〃 ・ 2,4,6-tri(4-methoxyphenyl)
Thiapyrylium fluoroborate (MTF)
) Ethyl violet 2〃 ・ P-methoxyphenol 0.1〃 ・ Methyl ethyl ketone 500〃 ・ Isopropanol 500〃
【表】
表3の結果から、本発明のものは比較例6およ
びEMKの代わりに特殊な有機染料を用いた比較
例7のものより高感度で安定性も優れていること
が明らかである。[Table] From the results in Table 3, it is clear that the product of the present invention has higher sensitivity and better stability than Comparative Example 6 and Comparative Example 7 in which a special organic dye was used instead of EMK.
Claims (1)
下記一般式()で示されるベンゾフエノン基含
有多価ペルオキシエステル及び一般式()で示
される4,4′−ビス(ジアルキルアミノ)ベンゾ
フエノンからなる光重合開始剤とを含有する高感
度光重合性組成物。 一般式 〔式中R1およびR′1はそれぞれ炭素数4から8
の第3アルキル基、または炭素数9から12の第3
アラルキル基、R2およびR′2はそれぞれ水素原子
または炭素数4から8の第3アルコキシ基または
炭素数9から12の第3アラルキルオキシ基を表わ
す。〕 一般式 〔但し、Rは炭素数1から6のアルキル基、シ
クロアルキル基またはヒドロキシアルキル基を表
わす。〕[Scope of Claims] 1. A compound having an ethylenically unsaturated double bond, a benzophenone group-containing polyhydric peroxyester represented by the following general formula (), and a 4,4'-bis(dialkylamino) represented by the general formula (). ) A highly sensitive photopolymerizable composition containing a photopolymerization initiator consisting of benzophenone. general formula [In the formula, R 1 and R′ 1 each have a carbon number of 4 to 8
tertiary alkyl group, or a tertiary alkyl group having 9 to 12 carbon atoms
The aralkyl groups R 2 and R' 2 each represent a hydrogen atom, a tertiary alkoxy group having 4 to 8 carbon atoms, or a tertiary aralkyloxy group having 9 to 12 carbon atoms. ] General formula [However, R represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or a hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms. ]
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16300185A JPS6224240A (en) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | Photopolymerizable composition having high sensitivity |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16300185A JPS6224240A (en) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | Photopolymerizable composition having high sensitivity |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6224240A JPS6224240A (en) | 1987-02-02 |
| JPH0466349B2 true JPH0466349B2 (en) | 1992-10-22 |
Family
ID=15765310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16300185A Granted JPS6224240A (en) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | Photopolymerizable composition having high sensitivity |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6224240A (en) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US5184027A (en) * | 1987-03-20 | 1993-02-02 | Hitachi, Ltd. | Clock signal supply system |
| JP2751453B2 (en) * | 1989-09-05 | 1998-05-18 | 日本油脂株式会社 | Photopolymerization initiator |
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| KR100349600B1 (en) * | 1998-08-18 | 2002-11-18 | 주식회사 엘지화학 | Triazine compound containing benzophenone group and photoinitiator containing the same |
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Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6035725A (en) * | 1983-08-09 | 1985-02-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
-
1985
- 1985-07-25 JP JP16300185A patent/JPS6224240A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6224240A (en) | 1987-02-02 |
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