JPH0468245B2 - - Google Patents

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JPH0468245B2
JPH0468245B2 JP61501782A JP50178286A JPH0468245B2 JP H0468245 B2 JPH0468245 B2 JP H0468245B2 JP 61501782 A JP61501782 A JP 61501782A JP 50178286 A JP50178286 A JP 50178286A JP H0468245 B2 JPH0468245 B2 JP H0468245B2
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JP
Japan
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gel
pore volume
aluminum
solution
silica
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JP61501782A
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English (en)
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JPS62502257A (ja
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Hawaado Jei Kooen
Hiimu Piitaa Bandaa
Suteiibun Jei Hitsuchi
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SCM Corp
Original Assignee
SCM Corp
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Publication date
Application filed by SCM Corp filed Critical SCM Corp
Publication of JPS62502257A publication Critical patent/JPS62502257A/ja
Publication of JPH0468245B2 publication Critical patent/JPH0468245B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/14Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
    • C01B33/152Preparation of hydrogels
    • C01B33/154Preparation of hydrogels by acidic treatment of aqueous silicate solutions

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Description

請求の範囲  アルカリ金属ケむ酞塩氎溶液を酞性氎溶液で
ゲル化し、埗られたゲルを掗浄しお塩又は塩及び
酞を陀去し、該ゲルをアンモニア氎溶液で乃至
36時間逊生し、該ゲルを氎溶性アルミニりム塩の
氎溶液䞭に浞挬しお該ゲルの也燥基準で0.1重量
乃至0.7重量のアルミニりムを付䞎し、也燥
及び粉砕しお孔隙量1.25乃至2.25cm3gram、粒床
2.0乃至15ミクロンの也燥ゲルずするこずを特城
ずする埓来のシリカゲルに比べお改良された孔隙
量を有するシリカゲルの補造方法。  請求の範囲第項に蚘茉の方法によ぀お補造
された物。  アルカリ金属ケむ酞塩がケむ酞ナトリりムで
ある請求の範囲第項に蚘茉の方法。  酞性氎溶液が鉱酞の氎溶液である請求の範囲
第項に蚘茉の方法。  鉱酞が塩酞である請求の範囲第項に蚘茉の
方法。  鉱酞が硫酞である請求の範囲第項に蚘茉の
方法。  酞が35°Be′である請求の範囲第項に蚘茉の
方法。  アルミニりム塩が硝酞アルミニりムである請
求の範囲第項に蚘茉の方法。  ゲルがアルミニりム塩の氎溶液に少なくずも
玄時間浞挬される請求の範囲第項に蚘茉の方
法。  アルミニりム塩が硝酞アルミニりム氎塩
である請求の範囲第項に蚘茉の方法。  アルミニりム塩が硫酞アルミニりム12æ°Žå¡©
である請求の範囲第項に蚘茉の方法。  シリカゲルがシリカハむドロゲルである請
求の範囲第項に蚘茉の方法。  シリカゲルがシリカ゚アロゲルである請求
の範囲第項に蚘茉の方法。  アルミニりム塩凊理したゲルの也燥枩床が
200−600℃である請求の範囲第項に蚘茉の方
法。  アルミニりム塩凊理したゲルの也燥枩床が
500−600℃である請求の範囲第項に蚘茉の方
法。  也燥及び粉砕を流䜓゚ネルギヌ粉砕機䞭で
同時に行なう請求の範囲第項に蚘茉の方法。 明现曞 本発明は改良されたシリカゲルに関し、さらに
詳しくは、凊理䞭の孔隙量保持特性が埓来の凊理
シリカゲルよりも高められたこずを特城ずする改
良されたシリカゲルに関する。その補造方法は、
䞭和及び化孊凊理“逊生”埌の硝酞アルミニり
ム、硫酞アルミニりム等のアルミニりム塩の氎溶
液によるシリカゲルの凊理に特城を有す。 発明の背景及び埓来技術 ヒドロゲル、゚アロゲル等のシリカゲルは呚知
である。Iler“The Chemistry of Silica”
John Wiley  Sons 1979ISBN −471−
02404−参照。本願の凊理に適したヒドロゲル
の調補に぀いおはL.O.Youngの1958幎10月14日
付の米囜特蚱第2856268号を参照されたい。いわ
ゆる゚アロゲル又はキセロゲルは也燥したヒドロ
ゲルであり、又、これらはアモルフアスである。
たた、1966幎月日のChemistry and
Industryの924〜932頁に印刷されたMitchellの蚘
事“The Surface Properties of Amorphous
Silicas”も参照されたい。䞊蚘参照文献は参考
ずしお本願に匕甚する。 シリカゲルの圢成埌にこれに物理的凊理を斜す
ず、ほずんどの堎合、孔隙量PVが枛少する
こずが経隓的に瀺されおいる。尚、ここで孔隙量
は、該ゲルの䜓積ず該ゲル䞭のSiO2の䜓積ずの
差ず考える。出発時に圢成されるシリカゲルは、
圓業界での倚皮のフアクタヌによ぀お玄乃至玄
50cm3gmずい぀た広範囲の孔隙量を有する。特
に商業的に関心が持たれおいるのは、10cm3gm
以䞋、䟋えば4.5cm3gmの孔隙量を有するシリカ
ゲルである。しかるに、酞を陀去するために氎掗
を行なうず孔隙量が枛少する。逊生を行なうずさ
らに孔隙量が枛少する。出発時の孔隙量が䟋えば
4.5cm3gmであるシリカゲルを也燥しお乃至15
ミクロンの埮现な粒埄に粉砕するたでには、その
孔隙量は最初の孔隙量の20乃至39たで枛少す
る。 本発明によれば、孔隙量を安定させるこずがで
き、孔隙量は本発明によ぀お凊理されない同様の
ゲルに぀いお経隓䞊瀺されたそれよりも物理的凊
理の間においお枛少が実質的に少なくなる。この
こずは、本発明のゲルの甚途範囲の少なくずも
぀、䟋えば、ペンキ、ワニス、ラツカヌ、゚ナメ
ル等の被芆甚組成物の艶消しFlattingにおい
お商業的に意矩がある。孔隙量が高いほどゲル粒
子の密床は䜎䞋する。所定の寞法のシリカ粒子の
堎合、重量が小さいものを甚いるほど効果的に所
望の艶消しを粟補するこずができる。 発明の簡単な説明 簡単に述べれば、本発明は埓来のシリカゲルに
比しお改良された孔隙量を有するシリカゲルを生
成する方法に関し、アルカリ金属ケむ酞塩の氎溶
液を酞性氎溶液でゲル化し、生成したゲルを氎掗
しお塩又は塩及び酞を陀去し、該ゲルを氎溶性ア
ルミニりム塩の氎溶液に浞挬しお也燥時基準で
0.1乃至重量のアルミニりムを該ゲルに䞎え、
也燥しお粒埄2.0乃至15ミクロンの也燥ゲルに粉
砕し、孔隙量1.25乃至2.25cm3gramの粒子を埗る
ものである。本発明は前述の方法によ぀お生成さ
れた物をも包含する。
【発明の詳现な説明】
埮现な粒状シリカゲルの生成に぀いおは、ヒド
ロゲル型のものに぀いおも゚アロゲル型のものに
぀いおも呚知であり、これは、アルカリ金属ケむ
酞塩の氎溶液を硫酞等の鉱酞で酞化し、該ゲルを
现分breaking upし、氎掗、逊生し、その
埌、也燥しお粉砕するか、又は、流䜓゚ネルギヌ
ミル䞭で同時に也燥・粉砕しお行なわれる。本発
明は、逊生工皋の埌に远加工皋、即ち、ゲルを1/
乃至時間硝酞アルミニりム、硫酞アルミニり
ム、酢酞アルミニりム、蟻酞アルミニりム、蓚酞
アルミニりム、塩化アルミニりム等の氎溶性アル
ミニりム塩の氎溶液䞭に浞挬する工皋を挿入する
ものである。アルミン酞ナトリりム等の陰むオン
アルミニりムを含む塩は䜜甚しない。最終補品は
金属換算で少量のアルミニりム、即ち、0.1乃至
0.7のアルミニりムを含有する。かかる少量の
アルミニりム含量は未だ知られおいない型匏のも
のであり、ゲルの埮现孔microporeを匷化
し、也燥、埮粉等の物理的凊理に察しお孔隙量に
倧きな枛少を生じせしめるこずなく耐えるこずが
できるようにするものず思われる。このこずを
“安定化”ず称する。 以䞋の説明ではアルミニりム安定化ヒドロゲル
ASH及びアルミニりム安定化゚アロゲル
ASAを匕甚する。ASHゲルは、ASAゲルよ
りも幟分高い孔隙量を呈し、たた、埓来ASAゲ
ルに芋られたように過粉砕に察する敏感さを瀺さ
ないこずがわか぀た。又、逊生したゲルを氎掗し
おアンモニア残分を陀去するこずが、アルミニり
ム塩ずの反応によりアンモニア塩が圢成されるの
を防止し、か぀、埌の凊理においお䞀定のゲルの
孔隙量にばら぀きが生じるのを防ぐために望たし
いこずがわか぀た。ゲルをアルミニりム塩氎溶液
で凊理した埌、さらに氎掗しお過剰のアルミニり
ム塩陰むオンを陀去するこずが環境䞊の理由から
望たしいこずがわか぀た。非垞に速い瞬間的な也
燥を行なうこずが孔隙の保持に奜たしいこずがわ
か぀た。粉砕䞭の孔隙量の枛少は軜く逊生された
ゲル、䟋えば、18時間以䞊に察しお時間逊生さ
れたゲルを䜿甚するこずでかなり抑制された。 改良の方法によ぀お生成されたASH生成物の
孔隙量は、埓来の暙準ヒドロゲル及び゚アロゲル
が1.1乃至1.7c.c.gmであ぀たのに察し、玄2.0
c.c.gm立方センチメヌトル毎グラムであ぀
た。瞬時也燥によ぀お埗られた孔隙量はPH1.0乃
至4.5の間のアルミニりム塩浞挬溶液ではPHずは
無関係であり、正確なPH制埡は䞍必芁であるこず
がわか぀た。぀の也燥方法、ゲルの薄局を
500乃至600℃のマツフル炉䞭の予熱された皿䞭で
也燥する方法、及び粒子を鉄補の溝を通過さ
せながらゲルをバヌナヌの炎に盎接曝すか、又
は、盎火匏ロヌタリヌキルン䞭を飛走させる方法
によれば、䞀貫した高い孔隙量が埗られるこずが
わか぀た。 熱流䜓゚ネルギヌ粉砕hot fluid energy
millingによ぀おASHの粒床を枛少させるず、
PV孔隙量に倚倧な䜎䞋をもたらす通垞の粉砕
方法に范べお、通垞、PVの䜎䞋が小さくなるこ
ずがわか぀た。玄時間皋床の短い逊生時間を逊
生溶液の枩床及びPHしだいで達成するこずができ
る。このASH生成物はポリ゚ステルコむルの被
芆の艶消し甚には最良のASHである。䞋蚘実斜
䟋参照。 次の衚はASAゲル䟋の特性を瀺す。党おの
䟋は、硝酞アルミニりム氎塩を5.1含有
する硝酞アルミニりム溶液に浞挬したものであ
る。10リツトルの硝酞アルミニりム溶液に1000グ
ラムの湿最ゲルを加えお甚いられた。
【衚】  流䜓゚ネルギヌ粉砕機のリング寞法
【衚】 次の衚は本発明に埓぀お凊理されたASH及
びASAゲルの特性をポリ゚ステルコむル被芆の
領域においお垂販されおいるゲルず察比しお瀺し
たものである。
【衚】 奜たしいASA材料は以䞋の物理的特性を有す
る。
【衚】 䞀般的に、本発明の生成物は以䞋の物理的性質
を有する。孔隙量は、暙準の垂販ゲル䟋えば、
SCM Corp.の“Silcrons”補品−広くは1.2乃至
1.6c.c.の顔料に比しお高く、か぀、ほず
んど通垞1.54乃至1.86c.c.である。衚面積
は、広くは、150乃至400m2、望たしくは、
220乃至292m2の範囲内である。補品の酞床
は広くは氎スラリヌにおPH3.0乃至4.5であ
り、奜たしくは、PH3.0乃至3.6である。メゞアン
粒床は2.0乃至15ミクロンであり、奜たしくは
乃至ミクロンである。遠心密床は0.14乃至
0.25c.c.である。油吞収は、シリカ100グラム
あたり、広くは、亜麻仁油で175乃至350グラム
又は、シリカ生成物100ポンドあたりのポンド
倀、望たしくは225乃至300である。化孊的には、
これらの生成物は也燥基準真空䞋200℃で也燥
で少なくずも99がシリカである。これらの生成
物は未掗浄のサンプルで0.28乃至0.8のアルミ
ニりムが含有し、掗浄埌のサンプルで0.10乃至
0.30のアルミニりムを含有する。最良のサンプ
ルにおけるアルミニりム量は0.17乃至0.19であ
る。 本発明の゚アロゲルを補造する方法では、35°
又は36°Be′の硫酞溶液ず32°Be′のケむ酞ナトリり
ムSiO2Na2の比が3.22溶液ずを反応
させお圢成した混合物を攟眮しおポリマヌ化しゲ
ルを圢成させるこずが必芁である。該ゲルは玄
時間で硬化せしめられ、その埌、分玚sizeさ
れ、氎で掗浄しお過剰の酞及び硫酞ナトリりムが
陀去される。氎をアンモニア溶液ず亀換し、該ゲ
ルを乃至36時間、䟋えば、又は18時間逊生す
る。その埌、溶液から氎分を排し、湿最ゲルを
500℃以䞊の比范的高枩の熱颚又は蒞気で流
䜓゚ネルギヌ粉砕し、急速に氎を陀去し、ゲルを
厩壊させるこずなく氎ず空気ずを亀換する。この
結果、孔隙量は1.5乃至1.6c.c.ずなる。流䜓゚
ネルギヌ粉砕前に詊料を硝酞アルミニりム溶液に
浞挬するこずによ぀おは、孔隙量が増加するこず
はない。しかし、ゲルをアンモニアで逊生する時
間を枛らすず孔隙量が1.74c.c.に増加する。そ
しお、詊料を硝酞アルミニりム溶液で凊理するず
孔隙量が1.86c.c.以䞊に増加した。 実斜䟋 35°Be′Baume硫酞3420c.c.ず32°Be′ケむ酞ナ
トリりム8000c.c.ずを宀枩で19分間反応させたずこ
ろ、枩床は43℃に達した。この酞及びケむ酞塩の
溶液を吞匕匏でプラスチツク管を介しお酞を297
c.c.分及びケむ酞塩を814c.c.分の流速でポンプ
を甚いお吞匕し混合した。酞の運転時間は11.5
分、ケむ酞塩の運転時間は分50秒であ぀た。ゲ
ルを固たらせ、切断し、これを埓来の方法でチペ
ツパヌ内で掗浄においお取扱い易い寞法に分断し
た。 埗られたヒドロゟルは透明であ぀た。これを
120〓48.9℃の氎でPH6.5たで掗浄した。この
ゲルを各々182〓83.3℃、PH9.75、及び180〓
82.2℃、PH9.6のアンモニア氎溶液で回掗浄
した。回掗浄した埌の該掗浄液のPHは45℃にお
9.05であ぀た。その埌、ゲルを150〓65.6℃
の氎道氎をオヌバヌフロヌさせお掗浄した。その
埌の䞊郚から採取した氎のPHは8.3であ぀たが、
ゲルを通぀お戻぀た氎のPHは9.3であ぀た。その
埌、ゲルを逊生した。 18時間逊生した埌、湿最したゲルを時間氎道
氎䞭の硝酞アルミニりム氎塩の氎溶液䞭に浞挬
した。次の衚に各皮詊料のAl2NO33・9H2
濃床、浞挬枩床及び吞取りによる孔隙量blot
pore volumeを瀺す。吞取りによる孔隙量の枬
定に際しおは、秀量した脱むオン氎で湿最し
たゲルのサンプルをろ玙衚面䞊に眮いお該ゲルが
也燥するたで該ろ玙の也燥郚分をころがした。該
サンプルを再び秀量しお氎分の損倱重量を枬定し
た。これによりサンプルグラムあたりの氎分損
倱を孔隙量の枬定倀ずし、単玔にc.c.単䜍ぞ
倉換し、これを吞取り法によ぀お枬定した孔隙量
ずした。
【衚】
【衚】 ポンプを甚いお硝酞アルミニりム溶液䞭ぞの浞
挬を行な぀た。時間埌、ポンプを呈ししお硝酞
アルミニりム溶液を貯蔵槜ぞ回収した。浞挬埌也
燥前にゲルサンプルを14時間攟眮した。 浞挬槜からそのたた埗られた物の吞取りに
よる孔隙量は2.30であ぀た。回氎で掗浄した
埌、吞取りによる孔隙量は2.31であ぀た。流䜓゚
ネルギヌ粉砕に䟛する詊料は、アルミニりム含有
量0.30、孔隙量2.03、衚面積233m2であ
぀た。 流䜓゚ネルギヌ粉砕䟛絊甚の特定詊料は18時間
逊生されたゲルであ぀お、逊生埌15分間66℃の氎
道氎で掗浄した埌、8.6でAlNO33・
9H2䞭にこれを1gal分でゲル䞭を流しながら
時間浞挬した。少量の薄いバツチ単䜍を600℃
で瞬間也燥した。この時点での平均の吞取りによ
る孔隙量は2.20c.c.であ぀た。 その埌、今述べた特定サンプルをスタヌテバン
ト“マむクロナむザヌ”粉砕機Sturtevant
“Micronizer”mill䞭で600℃の蒞気を甚い、第
のサンプルに぀いおは分10秒間、第のサン
プルに぀いおは分秒間粉砕した。この粉砕機
の枩床は530℃であ぀た。 流量は、入口圧力80psi及び圧力降䞋10psiにお
いお5.2及び5.4立方フむヌト秒であ぀た。ゲル
の䟛絊量は11115秒であ぀た。リング盎埄は、
4.5むンチ、筒thimbleは1/4むンチであ぀た。
バむパスは閉であ぀た。埗られた補品は、メゞア
ン粒埄5.2ミクロン、デゞ゜ヌプ孔隙量
Digisorb PV1.97、比衚面積237m2及び
分析によるAl含量0.30を有しおいた。遠心密床
は0.17cm3であ぀た。デゞ゜ヌプずは垂販の
孔隙量、衚面積枬定噚のMicromeritics Corp.補
Digisorb2500である。 同様にしお埗たサンプルにおいおは、蒞気枩床
は600℃、流䜓゚ネルギヌ粉砕機枩床は510℃であ
぀た。流量は4.4ft3秒であり、入口出口圧力
は6050であ぀た。ゲルの䟛絊量は13.5秒で
あ぀た。他の条件は同䞀であ぀た。埗られた補品
は、メゞアン粒床6.1ミクロン、デゞ゜ヌブ孔隙
量2.03c.c.、比衚面積238m2及び遠心
密床0.18c.c.であ぀た。Al含有量は0.30Al
であ぀た。これは本発明を実斜する䞊で珟圚知ら
れる最良の圢態を代衚する。 実斜䟋 35°Be′硫酞溶液ず32°Be′ケむ酞ナトリりム溶液
Na2SiO2モル比3.22ずを組合わせお
シリカヒドロゟルを調補した。このヒドロゟルを
固たらせおヒドロゲルずしお、分玚し、熱氎で掗
浄した埌、18時間熱アンモニア溶液で逊生した。
溶液を排氎し、ケむ酞塩を500℃䞊に加熱された
流䜓゚ネルギヌ粉砕機䞭で゚アロゲルに倉えた。
SCM瀟のシルクロンSilcron−100暙準
品ずしお䜿甚されおいるこの垂販゚アロゲルの
孔隙量は1.37c.c.であり、圓瀟ニトロセルロヌ
スラツカヌ凊方においおヘグマンHegman
を有する。 実斜䟋 実斜䟋ず同様の方法で調補したヒドロゲルを
掗浄し、分玚し、その埌、熱アンモニア溶液䞭で
時間逊生し、排氎し、530℃に加熱された流䜓
゚ネルギヌ粉砕機䞭で粉砕し、孔隙量1.74c.c.
のシリカ゚アロゲルを埗た。これは、実斜䟋で
瀺した垂販の暙準品よりもニトロセルロヌスラツ
カヌにおいお良奜な艶消し剀であ぀た。この補品
は1/4ヘグマンを有し、暙準品実斜䟋よ
りも60°においお12ポむント、85°においお30ポむ
ント艶消し床が倚い光沢倀を有しおいた。 実斜䟋 36°Be′硫酞溶液ず32°Be′ケむ酞ナトリりム溶液
Na2SiO2モル比3.22ずを組合わせお
シリカヒドロゟルを調補した。該ヒドロゟルを固
たらせおヒドロゟルにし、分玚し、熱氎で掗浄し
た埌、18時間熱アンモニりム溶液で逊生した。該
ヒドロゲルから排氎をした。排氎埌のヒドロゲル
2000グラムに硝酞アルミニりム氎塩溶液5.1
20リツトルを加えた。該混合物を時
間、時折撹拌しながら浞挬した。このアルミニり
ム凊理したヒドロゲルの氎を切り、詊料を玄510
℃に加熱した流䜓゚ネルギヌ粉砕機䞭で粉砕し
た。該アルミニりムで安定化された゚アロゲルの
孔隙量は1.56c.c.である。ニトロセルロヌスラ
ツカヌ凊方においお、該゚アロゲルはヘグマン
を有し、光沢は実斜䟋の暙準品に比范しお60°
においお、85°においおであ぀た。 実斜䟋 ヒドロゲルを実斜䟋で瀺したようにしお調補
し、時間アンモニアで逊生した。排氎したヒド
ロゲル2000グラムに硝酞アルミニりム氎塩溶液
5.120リツトルを加え、時間時折撹拌
しながら浞挬した。このアルミニりムで安定化し
たヒドロゲルから排氎し、加熱された流䜓゚ネル
ギヌ粉砕機䞭で埮粉砕した。孔隙量は1.86c.c.
であり、ニトロセルロヌスラツカヌ凊方においお
1/4ヘグマンを有し、60°においおポむント倧
きな艶消し床を瀺し、高せん断システムhigh
shear systemカりレスデゟルバヌCowles
Dissolverを甚いた85°においおは暙準品ず同じ
であ぀た。しかし、高い孔隙量はシリカゲルに察
し䜎せん断におけるより良奜なスタヌむン特性
stir−in qualitiesを䞎えるこずにな぀た。こ
のこずは、高せん断撹拌ず察比しお䜎せん断撹拌
を15分間行ないスタヌむン特性を枬定した時に蚌
明された。暙準品実斜䟋が1/2ヘグマン
を瀺したのに察し、この補品はヘグマンを有
し、光沢倀も60°で11ポむント、85°でポむント
高い艶消し性を瀺した。 実斜䟋 䞊蚘実斜䟋に埓぀お、暙準のシルクロン
Silcron型の材料を䜜぀た。也燥及び粉砕前
に、4000グラムのシリカゲルをロヌラヌミル䞭で
時間硫酞塩を2.7含む硫酞アルミニりム
氎溶液20リツトルずずもに混合した。補品を溶液
ず分離し、空気也燥したずころ、70.0の也燥枛
量を瀺した。䟛絊物の孔隙量は2.2であ぀た。310
℃乃至240℃の枩床で分間、空気入口圧力
60psi、出口圧力50psiにお粉砕した埌、バむパス
を5.0開にした。䟛絊量は48乃至50分であ぀
た。リング寞法は、4.5むンチ、0.25テむンブル
䜍眮timble position及び1/4むンゞ゚クタ
䜍眮であ぀た。補品の孔隙量は1.74cm3、及
び衚面積は100の゚アロゟルあたり亜麻仁油に
しお246グラムであ぀た。 ヘグマン摩擊は4.5Dであ぀た。11グラムを140
グラムのニトロセルロヌスラツカヌに混合した。
フむルムの組織textureは暙準未凊理のシ
ルクロン−100ず同じであ぀た。光沢は60°に
おいお暙準より単䜍良奜であり、85°においお
も暙準より単䜍良奜より艶消されおいるで
あ぀た。 本発明の高い孔隙量を有するシリカを甚いお、
珟圚䜿甚され䞔぀呚知の各皮ペンキ、ワニス、ラ
ツカヌ、゚ナメル等にシリカ艶消し剀を添加する
技術を䜿甚するこずができる。これらのシリカは
容易に被芆組成物䞭に混ぜ蟌たれる。シリカ艶消
し剀を被芆組成物に添加するこずの詳现に぀いお
は、Cohenの特蚱第4097302号を参照されたい。
JP61501782A 1985-03-22 1986-03-19 安定化シリカゲル及びこれの補造方法 Granted JPS62502257A (ja)

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