JPH0469814A - magnetic disk board - Google Patents

magnetic disk board

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JPH0469814A
JPH0469814A JP18053790A JP18053790A JPH0469814A JP H0469814 A JPH0469814 A JP H0469814A JP 18053790 A JP18053790 A JP 18053790A JP 18053790 A JP18053790 A JP 18053790A JP H0469814 A JPH0469814 A JP H0469814A
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JP
Japan
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substrate
magnetic
magnetic disk
titanium
inclusions
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Pending
Application number
JP18053790A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideaki Fukai
英明 深井
Toshio Sakiyama
崎山 利夫
Hiroyoshi Suenaga
末永 博義
Kuninori Minagawa
邦典 皆川
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JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0469814A publication Critical patent/JPH0469814A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain excellent thermal resistance and wear resistance and to reduce the thickness by using titanium as the material of a substrate and adding specific components. CONSTITUTION:Titanium is used as the material of a magnetic disk substrate to improve the thermal resistance of the substrate. Al and O are added to the titanium matrix. In the case of <=1.0wt.% (5/2)+ O + (1/3)Al, the hardness cannot obtained, and the wear resistance cannot be obtained. For the purpose of preventing degradation the cold workability, quantities of O and Al are set to <=0.6% and <=4.0% respectively. Further, V,Fe,Cr,Ni, and Co are added in 1/13:1/20:1/17:1/31:1/23 for the purpose of preventing the occurrence of pits. Thus, excellent thermal resistance and wear resistance are realized and the thickness is reduced, and the substrate is produced where interpositions, pits, or the like to cause the magnetic error are less generated.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、磁気ディスク基板に関し、特に、耐熱性に
優れ、薄肉化が可能であり、高記録密度の磁気ディスク
の製造に適した磁気ディスク基板に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a magnetic disk substrate, and in particular to a magnetic disk substrate that has excellent heat resistance, can be made thin, and is suitable for manufacturing magnetic disks with high recording density. Regarding the board.

[従来の技術] コンピュータ用記録媒体として使用されている磁気ディ
スクは、基板と、その上に形成された磁性膜とを具備し
ている。このうち、磁気ディスク基板には以下の−よう
な特性が要求される。
[Prior Art] A magnetic disk used as a recording medium for computers includes a substrate and a magnetic film formed on the substrate. Among these, the magnetic disk substrate is required to have the following characteristics.

(a)磁気ヘッドが安定してディスク上を走行すること
ができるように、あるいは磁気的エラーが少なく安定し
た磁気特性が得られるように、精密研磨又は精密研削後
の表面性状が良好であること。
(a) The surface quality after precision polishing or precision grinding must be good so that the magnetic head can run stably on the disk, or so that stable magnetic characteristics with few magnetic errors can be obtained. .

(b)基板表面に形成される磁気媒体の欠陥となるよう
な基板表面の突起又は穴がないこと。
(b) There are no protrusions or holes on the substrate surface that would cause defects in the magnetic medium formed on the substrate surface.

(c)基板製造の際の機械加工、及びディスクとして使
用する際の高速回転に耐え得る強度及び剛性を有するこ
と。
(c) It has strength and rigidity that can withstand machining during substrate manufacturing and high-speed rotation when used as a disk.

(d)磁気媒体を形成する際の加熱に耐え得ること。(d) Must be able to withstand heating during formation of the magnetic medium.

(e)軽量かつ非磁性であること。(e) It should be lightweight and non-magnetic.

(f)ある程度の耐食性を有すること。(f) It has a certain degree of corrosion resistance.

このような特性を満たす基板材料として、従来、Al−
Mg系合金等のアルミニウム合金が用いられている。
Conventionally, Al-
Aluminum alloys such as Mg-based alloys are used.

一方、近時、磁気ディスクは高記録密度化、及び小型化
の傾向にあり、このため次のようなことが要求されるよ
うになっている。
On the other hand, in recent years, there has been a trend towards higher recording densities and smaller sizes of magnetic disks, which has led to the following requirements.

(A)磁性膜の磁気特性を向上させること。例えば保磁
力が高い磁性膜を形成すること。
(A) Improving the magnetic properties of the magnetic film. For example, forming a magnetic film with high coercive force.

(B)磁性膜の厚みを薄くすること。(B) Making the thickness of the magnetic film thinner.

(C)磁気ヘッド浮上量を減少させること。(C) Decreasing the flying height of the magnetic head.

(D)磁気ヘッドのギャップ長を小さくすること。(D) Decreasing the gap length of the magnetic head.

(E)磁気ヘッドの位置決め制御技術を向上させること
(E) Improving magnetic head positioning control technology.

(F)基板を小形化及び薄肉化すること。(F) Making the substrate smaller and thinner.

これらの要求を満足させるため、従来、以下に示すよう
なことがなされている。
In order to satisfy these demands, the following actions have been taken in the past.

すなわち、スパッタリングにより高記録密度の磁性膜を
形成したり(中村久三 金属1986年11月号)、又
は基板にスパッタリングの際の加熱に対する耐熱性を付
与している。
That is, a magnetic film with high recording density is formed by sputtering (Kyuzo Nakamura, Kinzoku November 1986 issue), or heat resistance is imparted to the substrate against heating during sputtering.

また、磁気ヘッドの浮上量を減少させるため、アルミニ
ウム合金製ディスク上にN1−Pめつきを施して介在物
を覆い、表面粗さ及びうねりに関して高度なレベルの表
面清浄を得ることもなされている(斉藤昌弘ら 実務表
面技術vo1.35. No、6゜1.988)。
Additionally, in order to reduce the flying height of the magnetic head, N1-P plating is applied to the aluminum alloy disk to cover inclusions and obtain a high level of surface cleanliness in terms of surface roughness and waviness. (Masahiro Saito et al. Practical Surface Technology vol. 1.35. No. 6゜1.988).

更に、基板を電気的及び磁気的エラーの原因となる介在
物の少ない合金組成にしたり(特開昭63−21695
3)、基板自体を薄肉化することも試みられている。
Furthermore, the alloy composition of the substrate is reduced in inclusions that cause electrical and magnetic errors (Japanese Patent Laid-Open No. 63-21695).
3) Attempts have also been made to make the substrate itself thinner.

一方、上述の(a)〜(f)の条件を満足する基板材料
として、アルミニウム合金に代わる新しい材料が開発さ
れつつある。例えば、ガラス(石崎浩善 工業材料第3
5巻、第5号)、セラミックス(松元武志 磁性材料研
究会、電子材料表面処理技術 昭和62年7月)、チタ
ン(特開昭52−105804、特開昭59−1513
35、特開平1−112521)が開発されている。
On the other hand, new materials are being developed to replace aluminum alloys as substrate materials that satisfy the conditions (a) to (f) above. For example, glass (Hiroyoshi Ishizaki Industrial Materials No. 3)
5, No. 5), ceramics (Takeshi Matsumoto, Magnetic Materials Research Group, Electronic Materials Surface Treatment Technology, July 1986), titanium (JP-A-52-105804, JP-A-59-1513)
35, Japanese Unexamined Patent Publication No. 1-112521) has been developed.

[発明が解決しようとする課題] ところで、磁気ディスク基板として従来から一般に用い
られているA l−Mg系等のアルミニウム合金は、高
密度記録に必要な高保磁力の磁性薄膜形成のため、及び
、磁性膜の薄肉化のために行われるスパッタリングの際
に生じる基板温度の上昇に耐え得るだけの耐熱性がない
という不都合がある。また、この材料は組成を調節した
としても、本質的に介在物を多く含むので高度のレベル
の表面性状を得る−ことができず、高記録密度化のため
になされるヘッド浮上量の減少、及び電気的エラーの減
少を十分に達成することができない。
[Problems to be Solved by the Invention] By the way, aluminum alloys such as Al-Mg series, which have been commonly used as magnetic disk substrates, are used for forming magnetic thin films with high coercive force necessary for high-density recording, and for There is a disadvantage that it does not have enough heat resistance to withstand the rise in substrate temperature that occurs during sputtering to reduce the thickness of the magnetic film. In addition, even if the composition of this material is adjusted, it is not possible to obtain a high level of surface texture because it inherently contains many inclusions, and the reduction in head flying height that is required to increase recording density. and electrical errors cannot be sufficiently reduced.

高度のレベルの表面性状を得るために、前述したように
表面にN1−Pめっきを行なっているが、このめっきの
歩留がかなり低いという欠点がある。
In order to obtain a high level of surface quality, the surface is plated with N1-P as described above, but there is a drawback that the yield of this plating is quite low.

また、N1−Pめっきは、350℃程度の比較的低い温
度で結晶化して磁性を保持したり、剥離するというよう
な不都合がある。
Further, N1-P plating has disadvantages such as crystallization at a relatively low temperature of about 350° C., retaining magnetism, and peeling.

また、従来のアルミニウム合金製基板を要求に従って薄
肉化する場合には、アクセスタイムの短縮のためのディ
スクの高速回転(例えば3600rpm )に耐え得る
だけの強度及び剛性を維持することができない。
Further, when a conventional aluminum alloy substrate is made thinner as required, it is not possible to maintain sufficient strength and rigidity to withstand high-speed rotation of the disk (for example, 3600 rpm) for shortening access time.

また、基板材料としてガラスやセラミックスを用いた場
合には、耐熱性及び強度の面では十分であるが、どちら
も脆性材料であるため、信頼性が低いという欠点がある
。また、ガラス製基板は、スパッタリングの際の高温加
熱によってガスを放出したり、ガラス中の不純物元素が
磁性膜へ拡散したりして磁性膜の磁気特性に悪影響を及
はす。
Further, when glass or ceramics is used as the substrate material, it has sufficient heat resistance and strength, but since both are brittle materials, there is a drawback that reliability is low. Furthermore, glass substrates emit gas when heated to high temperatures during sputtering, and impurity elements in the glass diffuse into the magnetic film, which adversely affects the magnetic properties of the magnetic film.

セラミックス製基板は気孔が多く存在し、十分な表面性
状を得ることができない。このように、ガラス及びセラ
ミックスも磁気ディスク基板として未だ不十分である。
Ceramic substrates have many pores, making it impossible to obtain sufficient surface texture. Thus, glass and ceramics are still insufficient as magnetic disk substrates.

チタン製基板については、前述したように種々の提案が
なされている。例えば前記特開昭52−105804で
は、表面に酸化膜又は窒化膜が形成されたチタン又はチ
タン合金を基体とする磁気ディスク基板が提案されてい
る。これは、表面を酸化又は窒化して酸化膜又は窒化膜
を形成することで、基板表面の硬度を上昇させ、これに
伴う研削性の向上により良好な表面性状を得ようとする
ものである。また、特開昭59−151335では、h
cp相を体積比で80%以上有し、強度が60 kg/
 ms2以上のα型チタン合金で形成された磁気ディス
ク基板を提案している。さらに、特開平1−11252
1では、表面粗さRaを0.03μmにすべく表面が鏡
面研磨され、断面硬さHVが250以上であるチタン合
金からなる磁気ディスク基板を提案している。
As mentioned above, various proposals have been made regarding titanium substrates. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 52-105804 proposes a magnetic disk substrate made of titanium or a titanium alloy with an oxide film or nitride film formed on the surface. This is intended to increase the hardness of the substrate surface by oxidizing or nitriding the surface to form an oxide film or a nitride film, thereby improving the grindability and thereby obtaining good surface quality. In addition, in JP-A-59-151335, h
Contains at least 80% cp phase by volume and has a strength of 60 kg/
We have proposed a magnetic disk substrate made of an α-type titanium alloy with a particle diameter of ms2 or higher. Furthermore, JP-A-1-11252
No. 1 proposes a magnetic disk substrate made of a titanium alloy whose surface is mirror-polished to have a surface roughness Ra of 0.03 μm and a cross-sectional hardness HV of 250 or more.

しかし、通常の純チタンやα型チタン合金では、Fe、
V等のβ型安定化元素が不可避的に0.1重量%含まれ
ており、これらβ型安定化元素は溶解並びに分塊及び仕
上圧延の段階で偏析しやすく、研磨中に偏析に起因した
ピッティングを起こし易い。このため、高レベルの表面
性状を得ようとすると、歩留が低下してしまう。また、
α十β型やβ型合金でも、異相を含むので、同様の理由
で歩留まりが低下してしまう。また、α相とβ相(偏析
部)とては、酸化及び窒化の速度が異なり、均一に酸化
又は窒化させることが難しく、酸化膜又は窒化膜を形成
した基板は、チタン単体の基板に比べて歩留が低く、ま
た製造コストが高い。また、通常の純チタンやα型チタ
ン合金は不純物元素の総合有量が0.3重量%以下に規
定されており、アルミニウム合金と比較して不純物が著
しく少ないが、この程度の不純物レベルでは介在物に起
因するエラーの発生を皆無にするには未だ不十分であり
、また、高レベルの表面性状を得る上でも十分とはいえ
ない。
However, in ordinary pure titanium and α-type titanium alloy, Fe,
β-type stabilizing elements such as V are unavoidably contained at 0.1% by weight, and these β-type stabilizing elements tend to segregate during the melting, blooming and finish rolling stages, and are caused by segregation during polishing. Easy to cause pitting. For this reason, when trying to obtain a high level of surface quality, the yield will decrease. Also,
Since α-decade-β type and β-type alloys also contain different phases, the yield decreases for the same reason. In addition, the oxidation and nitridation rates of the α phase and β phase (segregation area) are different, making it difficult to oxidize or nitride uniformly. The yield is low and the manufacturing cost is high. In addition, the total content of impurity elements in ordinary pure titanium and α-type titanium alloys is specified to be 0.3% by weight or less, which is significantly lower than that in aluminum alloys. It is still insufficient to completely eliminate errors caused by objects, and it cannot be said to be sufficient to obtain a high level of surface quality.

このように、チタンを主体とする磁気ディスク基板でも
良好なものは得られていないのが現状である。
As described above, at present, good magnetic disk substrates mainly made of titanium have not been obtained.

この発明はかかる事情に鑑みてなされたものであって、
耐熱性、耐磨耗性に優れ、薄肉化が可能であり、かつ磁
気的エラー等の原因となる介在物及びビットの発生がな
い磁気ディスク基板を提供することを目的とする。
This invention was made in view of such circumstances, and
It is an object of the present invention to provide a magnetic disk substrate that has excellent heat resistance and abrasion resistance, can be made thinner, and does not generate inclusions or bits that cause magnetic errors.

[課題を解決するための手段及び作用]本願発明者等が
磁気ディスク基板について種々検討を重ねた結果、磁気
ディスク基板の耐熱性及び強度は基板材料、及びその組
成に主に依存し、また、耐磨耗性、加工性および磁気的
エラーや表面性状悪化の原因となる介在物及びビットの
発生は、基板材料の成分組成に主に関係していることを
見出した。この発明はこのような知見に基づいてなされ
たものである。
[Means and effects for solving the problem] As a result of various studies on magnetic disk substrates by the inventors of the present application, it has been found that the heat resistance and strength of magnetic disk substrates mainly depend on the substrate material and its composition. It has been found that wear resistance, processability, and the occurrence of inclusions and bits that cause magnetic errors and deterioration of surface quality are mainly related to the component composition of the substrate material. This invention was made based on such knowledge.

すなわち、重量%で、0が0.6%以下、Aj)が4.
0%以下、(5/2)O+ (4/3.) Ajlが1
.0%以上、(V / 13 ) +(F e / 2
0 )+  (Cr/17)   +  (N、i/3
1)   +   (Co/23)が0.020%以下
、Rem+S i +B+Wが0.015%以下であり
(ただし、Remは希土類金属元素を示す。)、残部が
実質的にTiからなることを特徴とするディスク基板に
よって上記目的が達成される。
That is, in weight percent, 0 is 0.6% or less, Aj) is 4.
0% or less, (5/2) O+ (4/3.) Ajl is 1
.. 0% or more, (V / 13) + (F e / 2
0 ) + (Cr/17) + (N, i/3
1) + (Co/23) is 0.020% or less, Rem+S i +B+W is 0.015% or less (However, Rem represents a rare earth metal element), and the remainder is substantially composed of Ti. The above object is achieved by the disk substrate.

以下、この発明について詳細に説明する。This invention will be explained in detail below.

なお、以下の記載においては、簡略化のため、上述の(
5/2)0.+ (1/3)Ajl!をEQI、(V/
13)+(Fe/20)+(Cr/17)+ (N i
 / 31 ) + (Co / 23 )をEQ2、
Rem十S i +B+WをEQ3と表わす。
In the following description, for the sake of brevity, the above (
5/2) 0. + (1/3)Ajl! EQI, (V/
13)+(Fe/20)+(Cr/17)+(N i
/ 31 ) + (Co / 23 ) with EQ2,
R<em>S i +B+W is expressed as EQ3.

チタンは、融点が1650℃程度と高いので、磁気ディ
スク基板材料としてチタンを用いることにより、基板の
耐熱性を良好にす゛ることかでき、磁性薄膜をスパッタ
リングにより形成する際の基板温度である300〜40
0℃においても形状の変化がない。また、チタンは引張
強度が30 kgf’/■2程度、縦弾性係数が100
100O0/腸■2程度と強度及び剛性が高いので、薄
い場合でも3600 rpm以上という高速回転の際に
生じる遠心力に十分に耐え得る。更に、基板がチタン単
体であるから薄肉化が容易であり、N1−Pめっき型A
fi合金製基板のように異層界面での剥離が生じること
がない。このように、基板材料としてチタンを用いるこ
とは好ましい。
Titanium has a high melting point of about 1650°C, so by using titanium as a magnetic disk substrate material, the heat resistance of the substrate can be improved, and the temperature of the substrate when forming a magnetic thin film by sputtering is 300°C. 40
There is no change in shape even at 0°C. In addition, titanium has a tensile strength of about 30 kgf'/■2 and a longitudinal elastic modulus of 100.
Since it has high strength and rigidity of about 10000/intestine 2, even if it is thin, it can sufficiently withstand the centrifugal force generated during high speed rotation of 3600 rpm or more. Furthermore, since the substrate is made of titanium alone, it is easy to reduce the thickness, and N1-P plating type A
Unlike fi alloy substrates, peeling does not occur at the interface between different layers. Thus, it is preferable to use titanium as the substrate material.

この発明においては、チタンマトリックスにAI、0を
添加する。これらの元素は、基板の硬度を向上させ、耐
磨耗性を良好にする。しかし、これらの量は重量%でE
QI≧1.0%の関係を満たす必要がある。この範囲を
外れると、十分な硬度が得られず、良好な耐磨耗性が得
られないからである。また、これらの元素は硬度の上昇
を招くと共に冷間加工性の悪化を招くので、0が0.6
%、Allが4.0%を超えて添加された場合には、上
述の関係を満足しても冷間加工の際に割れを生じる恐れ
があり、鏡面加工前のブランク材を歩留り良く製造する
ことが困難である。このため、0及びAfiの量は、0
≦0.6%、Aρ≦4.0%、かつEQI≧1,0%に
規定される。
In this invention, AI,0 is added to the titanium matrix. These elements improve the hardness of the substrate and provide good wear resistance. However, these amounts are E
It is necessary to satisfy the relationship QI≧1.0%. This is because, outside this range, sufficient hardness will not be obtained and good abrasion resistance will not be obtained. In addition, these elements cause an increase in hardness and worsen cold workability, so 0 is 0.6.
%, if All is added in excess of 4.0%, there is a risk of cracking during cold working even if the above relationship is satisfied, and it is difficult to produce a blank material before mirror finishing with a high yield. It is difficult to do so. Therefore, the amount of 0 and Afi is 0
≦0.6%, Aρ≦4.0%, and EQI≧1.0%.

チタン中において、V、Fe、Cr、Ni。In titanium, V, Fe, Cr, Ni.

Coは、高温において安定なりcc構造を有するβ相を
安定化させる元素である。磁気ディスク基板のチタンマ
トリックスにこれらの元素が一定量以上存在する場合に
は、溶解、分塊又は仕上圧延等の高温にさらされる工程
において、これらの元素が濃化又は偏析する。そして、
これらの元素の濃化及び偏析は、鏡面加工工程前の円環
平板であるブランク材にまでも引継がれる。このように
、β安定化元素が濃化又は偏析したブランク材を鏡面加
工のため研磨、研削すると、濃化又は偏析した部分とマ
トリックスとの特性の相違のため、ピッティングを生じ
る。このためTiマトリックス中のV、Fe、Cr、N
i、Co等のβ安定化元素を極力少なくすることが必要
となる。本発明においては、基板材料中のマトリックス
であるα相を安定化するO又は/及びAlを含有してい
るので、多少のβ安定化元素の含有では、濃縮や偏析は
起こらないものの、■が0,26%よりも高い濃度、F
eについては0,40%よりも高い濃度、Crについて
は0.34%よりも高い濃度、Nlについては0.62
%よりも高い濃度、COについては0.46%よりも高
い濃度であるとピ、ノドが発生する。このため、■≦0
.26%、Fe≦0.40%、Cr≦0.34%、Ni
≦0.62%、CO≦0.46%とすることが望ましい
。しかし、これらの元素は夫々同様の作用をするので、
合計で規定する必要がある。そして、これらの効果の割
合は、V:Fe:Cr:Ni:Co−1/13+1/2
0:1/17:1/31:1/23である。よって、こ
れら成分の含有量をEQ2≦0.02%とする。
Co is an element that is stable at high temperatures and stabilizes the β phase having a cc structure. If a certain amount or more of these elements is present in the titanium matrix of the magnetic disk substrate, these elements will become concentrated or segregated during processes in which the titanium matrix is exposed to high temperatures, such as melting, blooming, or finish rolling. and,
The concentration and segregation of these elements is carried over even to the blank material, which is a circular plate before the mirror finishing process. As described above, when a blank material in which β-stabilizing elements are concentrated or segregated is polished or ground for mirror finishing, pitting occurs due to the difference in characteristics between the concentrated or segregated portion and the matrix. Therefore, V, Fe, Cr, N in the Ti matrix
It is necessary to minimize the amount of β-stabilizing elements such as i and Co. The present invention contains O and/or Al that stabilizes the α phase that is the matrix in the substrate material, so even if some β stabilizing elements are included, concentration and segregation will not occur, but ■ Concentrations higher than 0.26%, F
Concentrations higher than 0.40% for e, higher than 0.34% for Cr, 0.62% for Nl
If the concentration of CO is higher than 0.46%, blemishes will occur. For this reason, ■≦0
.. 26%, Fe≦0.40%, Cr≦0.34%, Ni
It is desirable that CO≦0.62% and CO≦0.46%. However, since each of these elements has similar effects,
It is necessary to specify the total. And the ratio of these effects is V:Fe:Cr:Ni:Co-1/13+1/2
0:1/17:1/31:1/23. Therefore, the content of these components is set to EQ2≦0.02%.

チタンマトリックス中に、Rem、St、B。Rem, St, B in the titanium matrix.

Wが一定濃度以上存在すると、これらの元素がチタン中
に固溶しているO、Nと結合して酸化物や窒化物になっ
たり、又はチタンと結合して金属間化合物となったりし
、介在物生成の原因となる。
When W is present at a certain concentration or higher, these elements combine with O and N dissolved in titanium to form oxides and nitrides, or combine with titanium to form intermetallic compounds. It causes the formation of inclusions.

このため、Rem、Si、B、Wを低減することにより
介在物の発生を抑制する。これら元素は夫々0.015
%以下であることが好ましいが、夫々同様の作用をする
ので合計で規定する必要がある。従って、これらの成分
の合計量をEQ3≦0.15%とする。なお、Remは
Sc、Y。
Therefore, by reducing Rem, Si, B, and W, the generation of inclusions is suppressed. Each of these elements is 0.015
% or less, but since each has the same effect, it is necessary to specify the total. Therefore, the total amount of these components is set to EQ3≦0.15%. Note that Rem is Sc, Y.

La、Ce、Pr、Nd、Pm、Eu、Gd。La, Ce, Pr, Nd, Pm, Eu, Gd.

Tb、Dy、Lu等の希土類元素を表わす。Represents rare earth elements such as Tb, Dy, and Lu.

このように、磁気ディスク基板の組成を規定することに
より、耐熱性、耐磨耗性に優れ薄肉化が可能であり、か
つ磁気的エラーの原因となる介在物やビット等の発生が
少ない基板を歩留り良く製造することができる。
In this way, by specifying the composition of the magnetic disk substrate, we can create a substrate that has excellent heat resistance and wear resistance, can be made thinner, and has fewer inclusions and bits that can cause magnetic errors. It can be manufactured with good yield.

[実施例〕 以下、この発明の実施例について説明する。[Example〕 Examples of the present invention will be described below.

第1表に示されているような成分組成のインゴット(組
成番号AOI〜A20.BOI〜B25)をVAR溶解
によって溶製し、1000℃にて分塊鍛造して、厚さ2
05mのスラブとした。これらスラブに対して870℃
で最終熱間圧延を施し、厚さ6■の熱延板とした。その
後、この熱延板の酸化被膜を除去し、切削加工により厚
さ5■の板状にし、更に冷間圧延を施して厚さ0,6■
の冷延板とした。後述する割れ試験の評価はこの冷延板
にて行った。
Ingots having the composition shown in Table 1 (composition numbers AOI~A20.BOI~B25) were melted by VAR melting, and then bloomed at 1000°C to a thickness of 2.
05m slab. 870℃ for these slabs
A final hot rolling process was performed to obtain a hot rolled sheet with a thickness of 6 cm. After that, the oxide film of this hot-rolled plate was removed, and it was cut into a plate with a thickness of 5 cm, and then cold rolled to a thickness of 0.6 cm.
It was made into a cold-rolled sheet. Evaluation of the cracking test described below was performed on this cold rolled sheet.

この冷延板からリング状(外径95m5、内径25mm
+、厚さQ、6m5)を打ち抜き、600℃で6時間熱
間矯正した後、これらディスク基板素材表面を#400
、#800、#1500、#4000の砥石で順次研磨
し、最後にアルミナ仕上研磨を施して、磁気ディスク基
板を各組成に対して100枚ずつ作製した。このように
作製された各サンプルについて、硬度、耐磨耗性、ビッ
ト、介在物について評価した。
A ring shape (outer diameter 95m5, inner diameter 25mm) is made from this cold-rolled plate.
+, thickness Q, 6m5), and after hot straightening at 600℃ for 6 hours, the surface of these disk substrate materials was #400.
, #800, #1500, and #4000 grindstones, and finally alumina finish polishing was performed to produce 100 magnetic disk substrates for each composition. Each sample produced in this manner was evaluated for hardness, abrasion resistance, bits, and inclusions.

第1表に各サンプルの組成と共に、各試験により評価し
た特性値を示す。なお、第1表中、組成番号AOI〜A
20はこの発明の組成範囲内のものであり、組成番号B
OI〜B25はその範囲から外れる比較例である。また
、第1表中「割れ」の欄には圧延の際に生じた長さ1+
i+i以上の割れの有無を示し、「ビット及び介在物」
の欄には微分干渉顕微鏡及び光学顕微鏡で1. O0倍
の倍率で各組成のサンプルを100枚、60視野ずつ観
察した際のビット及び介在物が存在していたサンプル数
を示す。硬度はビッカース硬度計にてIKgの加重で測
定した。さらに、耐磨耗性は、基板表面易く説明したほ
うがよいと思われます)を形成し、現用の磁気ディスク
と同様の状態にし、ディスク回転数60Orpm、加重
100g/C112、摺動時間24時間の条件で評価し
た。
Table 1 shows the composition of each sample as well as the characteristic values evaluated by each test. In addition, in Table 1, composition numbers AOI to A
20 is within the composition range of this invention, composition number B
OI-B25 are comparative examples outside of this range. In addition, in the "Crack" column in Table 1, the length 1+ that occurred during rolling is
Indicates the presence or absence of cracks of i + i or more, "bits and inclusions"
In the column 1. with a differential interference microscope and an optical microscope. The number of samples in which bits and inclusions were present is shown when 100 samples of each composition were observed in 60 fields of view at a magnification of 0x. The hardness was measured using a Vickers hardness meter under a load of IKg. Furthermore, the abrasion resistance is determined by forming a substrate surface (I think it would be better to explain it simply) and making it in the same condition as a current magnetic disk, with a disk rotation speed of 60 Orpm, a load of 100 g/C112, and a sliding time of 24 hours. The conditions were evaluated.

また、第1表の結果を第1図乃至第3図にまとめて示す
。第1図はA[及びOの含有量と特性との関係を示す図
、第2図はEQ2の値とビットが発生した基板数との関
係を示す図、第3図はEQ3の値と介在物が発生した基
板数との関係を示す図である。
Further, the results in Table 1 are summarized in FIGS. 1 to 3. Figure 1 is a diagram showing the relationship between the content of A[ and O and characteristics, Figure 2 is a diagram showing the relationship between the value of EQ2 and the number of substrates on which bits are generated, and Figure 3 is a diagram showing the relationship between the value of EQ3 and the number of substrates on which bits are generated. FIG. 6 is a diagram showing the relationship between the number of substrates on which objects are generated;

先ず、ディスク基板の加工性及び耐磨耗性の結果につい
て示す。第1表及び第1図に示すように、Al及び0量
が本発明の範囲内である実施例の組成番号AOI〜A2
0及び比較例のB ]、 3〜B22では、割れの発生
がなく、かつ硬度がHv≧250以上であり、耐磨耗性
が良好であった。これに対し、Aj7≦4.0%かつO
≦0.6%を満たすが、EQI≧1,0%を満たさない
比較例の組成番号B01〜BO5及び823〜B24で
は、割れは発生しなかったか、硬度がHv<250であ
り、良好な耐磨耗性が得られなかった。また、EQI≧
1.0%を満たすが、Aj)64.0%かつO≦0.6
%を満たさない比較例の組成番号BO6〜B12及びB
25では、Hv≧250であり耐磨耗性が良好であった
が、割れが発生した。
First, the results of the processability and abrasion resistance of the disk substrate will be shown. As shown in Table 1 and FIG. 1, composition numbers AOI to A2 of examples in which Al and 0 amounts are within the range of the present invention
0 and Comparative Examples B] and 3 to B22, no cracking occurred, the hardness was Hv≧250, and the abrasion resistance was good. On the other hand, if Aj7≦4.0% and O
Comparative example composition numbers B01 to BO5 and 823 to B24 that satisfy ≦0.6% but do not satisfy EQI≧1.0% have good durability with no cracking or hardness of Hv<250. Abrasion resistance could not be obtained. Also, EQI≧
1.0% is satisfied, but Aj) 64.0% and O≦0.6
Composition numbers BO6 to B12 and B of comparative examples that do not satisfy %
In No. 25, Hv≧250 and abrasion resistance was good, but cracking occurred.

これらの結果から、AN及びOの含有量が本発明の範囲
内であれば、磁気ディスク基板として良好な加工性及び
耐磨耗性が得られることが確認された。
From these results, it was confirmed that as long as the contents of AN and O are within the range of the present invention, good workability and wear resistance can be obtained as a magnetic disk substrate.

次に、ビット発生について示す。第1表及び第2図に示
すように、本発明範囲内の組成番号A01〜A20及び
比較例のうちEQ2≦0.02%を満たす組成番号BO
7〜B15では、ビットは生じなかった。これに対し、
EQ2≦0.02%を満たさない組成番号BOI〜BO
6及びB16〜B25では、ビットの発生が確認された
Next, bit generation will be explained. As shown in Table 1 and FIG. 2, among the composition numbers A01 to A20 within the scope of the present invention and the comparative examples, composition numbers BO that satisfy EQ2≦0.02%
No bits occurred in 7-B15. On the other hand,
Composition numbers BOI to BO that do not satisfy EQ2≦0.02%
6 and B16 to B25, the occurrence of bits was confirmed.

この結果から、本発明のようにEQ≦0.02%を満た
せばビットの発生がない磁気ディスク基板が得られるこ
とが確認された。
From this result, it was confirmed that if EQ≦0.02% is satisfied as in the present invention, a magnetic disk substrate without bit generation can be obtained.

次に、介在物の発生について示す。第1表及び第3図に
示すように、本発明範囲内の組成番号AOI〜A20及
び比較例のうちEQ3≦0.015%を満たす組成番号
B12.816〜B18及び823〜B25では、介在
物の発生はなかった。これに対し、EQ3≦0.015
%を満たさない801〜Bll、813〜B15及び8
19〜B22では介在物の発生が確認された。この結果
から、本発明のようにEQ3≦0.015%を満たせば
介在物の発生がない磁気ディスク基板が得られることが
確認された。
Next, the occurrence of inclusions will be explained. As shown in Table 1 and FIG. 3, among the composition numbers AOI to A20 within the scope of the present invention and the comparative examples, composition numbers B12.816 to B18 and 823 to B25 that satisfy EQ3≦0.015% have inclusions. There were no occurrences. On the other hand, EQ3≦0.015
801-Bll, 813-B15 and 8 that do not meet %
Generation of inclusions was confirmed in samples No. 19 to B22. From this result, it was confirmed that if EQ3≦0.015% is satisfied as in the present invention, a magnetic disk substrate without generation of inclusions can be obtained.

以上のように、0が0.6%以下、ANが4.0%以下
、(5/2)0+(1/3)AIが1.0%以上、(V
/13)+ (Fe/20) +(Cr / 17 )
 + (N i / 31 ) + (Co / 23
 )が0.020%以下、Rem+S i +B十Wが
0.015%以下であり、残部が実質的にTiからなる
成分組成によって、優れた特性を有する磁気ディスク基
板が得られることが確認された。
As mentioned above, 0 is 0.6% or less, AN is 4.0% or less, (5/2)0+(1/3)AI is 1.0% or more, (V
/13)+(Fe/20)+(Cr/17)
+ (N i / 31) + (Co / 23
) was 0.020% or less, Rem+S i +B0W was 0.015% or less, and it was confirmed that a magnetic disk substrate with excellent characteristics could be obtained with a component composition in which the remainder was substantially Ti. .

なお、この発明に係る磁気ディスク基板は、Fe酸化物
系薄膜、バリウムフェライト系薄膜等の高基板温度を必
要とする高記録密度媒体にも適用可能であることはいう
までもない。
It goes without saying that the magnetic disk substrate according to the present invention can also be applied to high recording density media that require high substrate temperatures, such as Fe oxide thin films and barium ferrite thin films.

〔発明の効果] この発明によれば、耐熱性、耐磨耗性に優れ、薄肉化可
能であり、かつ高記録密度の磁気ディスク基板に適した
磁気ディスク基板を提供することができる。
[Effects of the Invention] According to the present invention, it is possible to provide a magnetic disk substrate that has excellent heat resistance and abrasion resistance, can be made thinner, and is suitable for a high recording density magnetic disk substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はAN及び0の含有量と特性との関係を示す図、
第2図はEQ2の値とビットが発生した基板数との関係
を示す図、第3図はEQ3の値と介在物が発生した基板
数との関係を示す図である。
Figure 1 is a diagram showing the relationship between the content and characteristics of AN and 0,
FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the value of EQ2 and the number of substrates where bits are generated, and FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the value of EQ3 and the number of substrates where inclusions are generated.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)重量%で、 Oが0.6%以下、 Alが4.0%以下、 (5/2)O+(1/3)Alが1.0%以上、(V/
13)+(Fe/20)+(Cr/17)+(Ni/3
1)+(Co/23)が0.020%以下、 Rem+Si+B+Wが0.015%以下であり(ただ
し、Remは希土類金属元素を示す。)、残部が実質的
にTiからなることを特徴とする磁気ディスク基板。
(1) In weight%, O is 0.6% or less, Al is 4.0% or less, (5/2) O + (1/3) Al is 1.0% or more, (V/
13) + (Fe/20) + (Cr/17) + (Ni/3
1)+(Co/23) is 0.020% or less, Rem+Si+B+W is 0.015% or less (however, Rem represents a rare earth metal element), and the remainder is substantially composed of Ti. magnetic disk board.
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