JPH0469827A - 片面型光記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
片面型光記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH0469827A JPH0469827A JP2183411A JP18341190A JPH0469827A JP H0469827 A JPH0469827 A JP H0469827A JP 2183411 A JP2183411 A JP 2183411A JP 18341190 A JP18341190 A JP 18341190A JP H0469827 A JPH0469827 A JP H0469827A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 60
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 23
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 16
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 16
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 13
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 239000010408 film Substances 0.000 description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は光を用いて情報の記録、再生または消去を行な
う片面型光記録媒体およびその製造方法に関する。
う片面型光記録媒体およびその製造方法に関する。
[従来の技術]
従来の片面型光記録媒体はコンパクトディスクに見られ
るように記録層が形成されている側にコート層を形成し
て保護層としたり、記録層が成膜されていない側にもハ
ードコート層を形成することが試みられていた。記録層
が成膜されている側に形成される層は紫外線硬化樹脂を
スピンコード法によって形成したものであった。
るように記録層が形成されている側にコート層を形成し
て保護層としたり、記録層が成膜されていない側にもハ
ードコート層を形成することが試みられていた。記録層
が成膜されている側に形成される層は紫外線硬化樹脂を
スピンコード法によって形成したものであった。
[発明が解決しようとする課題]
しかし従来技術では以下のような課題を有していた。記
録層を形成した側に形成される紫外線硬化樹脂は通常ス
ピンコード法によって塗布され。
録層を形成した側に形成される紫外線硬化樹脂は通常ス
ピンコード法によって塗布され。
2から5μmと薄い膜しか得られないため保護効果が弱
い。また、射出成形で形成される樹脂基板の、記録層が
形成されない側の面から吸湿して基板が反り易い。
い。また、射出成形で形成される樹脂基板の、記録層が
形成されない側の面から吸湿して基板が反り易い。
さらに、紫外線硬化樹脂はコンパクトディスクの反射膜
などに使用されるA1合金などの金属層やセラミックス
層との密着力が弱く、スピンコードで塗布されるため厚
い膜が得られないので信頼性が低く、コート材の9割以
上を捨てるので無駄が多い。
などに使用されるA1合金などの金属層やセラミックス
層との密着力が弱く、スピンコードで塗布されるため厚
い膜が得られないので信頼性が低く、コート材の9割以
上を捨てるので無駄が多い。
そこで本発明はそのような課題を解決するものでその目
的とするところは、高温高湿下でも片面型光記録媒体の
反りが大きくならない。また、金属層やセラミックス層
との密着力を強くすることができ、厚い膜が得られるの
で保護効果が強く信頼性が高く、有機保護層を無駄なく
塗布できるのでスピンコード法のように無駄が少ないと
ころにある。
的とするところは、高温高湿下でも片面型光記録媒体の
反りが大きくならない。また、金属層やセラミックス層
との密着力を強くすることができ、厚い膜が得られるの
で保護効果が強く信頼性が高く、有機保護層を無駄なく
塗布できるのでスピンコード法のように無駄が少ないと
ころにある。
[課題を解決するための手段]
本発明の片面型光記録媒体は光により情報の記録、再生
または消去を行なう光記録媒体の片面型構造において、
基板の片面に少な(とも第1のセラミックス層、記録層
、第2のセラミックス層。
または消去を行なう光記録媒体の片面型構造において、
基板の片面に少な(とも第1のセラミックス層、記録層
、第2のセラミックス層。
金属層の順に順次成膜することによる記録層部を成膜し
、前述の基板の前述の記録層部が成膜されている側にエ
ポキシ樹脂の有機保護層を形成したことを特徴とする。
、前述の基板の前述の記録層部が成膜されている側にエ
ポキシ樹脂の有機保護層を形成したことを特徴とする。
また1本発明の片面型光記録媒体の製造方法は前述の有
機保護層を形成する場合、前述の記録層部または硬化し
た前述の有機保護層が付着しない材質の平板上に、硬化
前の前述の有機保護層を塗布し、減圧下で前述の記録層
部を形成した基板と前記平板を合わせて、硬化前の前述
の記有機保護層をひろげて熱を加えて硬化させ、その後
前述の記録層部を形成した基板と前述の平板を剥離する
ことを特徴とする。
機保護層を形成する場合、前述の記録層部または硬化し
た前述の有機保護層が付着しない材質の平板上に、硬化
前の前述の有機保護層を塗布し、減圧下で前述の記録層
部を形成した基板と前記平板を合わせて、硬化前の前述
の記有機保護層をひろげて熱を加えて硬化させ、その後
前述の記録層部を形成した基板と前述の平板を剥離する
ことを特徴とする。
[実施例コ
以下本発明について図面に基づいて詳細に説明する。
第1図は本発明になる片面型光記録媒体の基本構成図で
あり、第2図(a)から第2図(e)は本発明の片面型
光記録媒体の製造方法の概略図である。
あり、第2図(a)から第2図(e)は本発明の片面型
光記録媒体の製造方法の概略図である。
第1図の1はポリカーボネートの基板、2は5fAIN
届、3はNdDyFeCoの記録層、4は5fAIN層
、5はAt−Ti−Zn−5iの反射膜、6は記録層が
ある側に形成された保護コート層、7は記録層がない側
に形成されたハードコート層である。
届、3はNdDyFeCoの記録層、4は5fAIN層
、5はAt−Ti−Zn−5iの反射膜、6は記録層が
ある側に形成された保護コート層、7は記録層がない側
に形成されたハードコート層である。
第2図(a)の8は記録層部を成膜した基板。
9はエポキシ樹脂を塗布するデイスペンサー 第2図(
b)の10はリング状に塗布されたエポキシ樹脂、
11は平板、12は真空チャンバー、第2図(C)の1
3は加圧機、第2図(d)の14はオーブン、第2図(
e)の15はエポキシ樹脂の有機保護層である。
b)の10はリング状に塗布されたエポキシ樹脂、
11は平板、12は真空チャンバー、第2図(C)の1
3は加圧機、第2図(d)の14はオーブン、第2図(
e)の15はエポキシ樹脂の有機保護層である。
第1図にある1のポリカーボネートの基板は射出圧縮成
形によって、スパイラル状のトラッキング用の溝及びフ
ォーマット用のビット列を形成したものである。2の5
jAIN層は5iAlの焼結ターゲットを用いて、窒素
とアルゴンの混合ガスを導入することによるRF反応マ
グネトロンスパッタ法により成膜したものである。3の
NdDyFeCoの記録層はNdDyFeCoの合金タ
ーゲットを用いて、アルゴンガスを導入することによる
。DCマグネトロンスパッタ法により成膜したものであ
る。4の5iAIN層は2及び9と同じ<、5IAIの
焼結ターゲットを用いて窒素とアルゴンの混合ガスを導
入することによるRF反応マグネトロンスパッタ法によ
って成膜したものである。5はA I−71−Zn−5
iの金属ターゲットを用いてアルゴンガスを導入するこ
とによるDCマグネトロンスパッタ法によって成膜した
ものである。
形によって、スパイラル状のトラッキング用の溝及びフ
ォーマット用のビット列を形成したものである。2の5
jAIN層は5iAlの焼結ターゲットを用いて、窒素
とアルゴンの混合ガスを導入することによるRF反応マ
グネトロンスパッタ法により成膜したものである。3の
NdDyFeCoの記録層はNdDyFeCoの合金タ
ーゲットを用いて、アルゴンガスを導入することによる
。DCマグネトロンスパッタ法により成膜したものであ
る。4の5iAIN層は2及び9と同じ<、5IAIの
焼結ターゲットを用いて窒素とアルゴンの混合ガスを導
入することによるRF反応マグネトロンスパッタ法によ
って成膜したものである。5はA I−71−Zn−5
iの金属ターゲットを用いてアルゴンガスを導入するこ
とによるDCマグネトロンスパッタ法によって成膜した
ものである。
6の保護コート層は8の記録層部を成膜した基板のAl
−Tl−Zn−5i層の上によく脱泡したエポキシ樹脂
を、9のエポキシ樹脂を塗布するデイスペンサーを用い
て10ようにのリング状に塗布し、 12の真空チャ
ンバーに移して、lt。
−Tl−Zn−5i層の上によく脱泡したエポキシ樹脂
を、9のエポキシ樹脂を塗布するデイスペンサーを用い
て10ようにのリング状に塗布し、 12の真空チャ
ンバーに移して、lt。
rr以下の減圧下で表面を4沸化エチレン処理を施した
11の平板と貼り合わた。そして、13の加圧機を用い
て500g/cm2の加重を加え、工ポキシ樹脂を拡散
させた。それから14のオーブンを用いて熱を加えてエ
ポキシ樹脂を硬化させた後、 11の平板を8の基板か
ら剥離して15のエポキシ樹脂の有機保護層が形成され
た。
11の平板と貼り合わた。そして、13の加圧機を用い
て500g/cm2の加重を加え、工ポキシ樹脂を拡散
させた。それから14のオーブンを用いて熱を加えてエ
ポキシ樹脂を硬化させた後、 11の平板を8の基板か
ら剥離して15のエポキシ樹脂の有機保護層が形成され
た。
このときエポキシ樹脂は大日本インキ化学工業ノエビク
ロンS−129を主剤とし、油化シェルエポキシのエビ
キュアーIBMI−12を硬化剤としたものを用いた。
ロンS−129を主剤とし、油化シェルエポキシのエビ
キュアーIBMI−12を硬化剤としたものを用いた。
このときエポキシ樹脂の忙布は基板の記録層形成面にし
たが、11の平板上に行なっても同様であった。11の
平板としては表面がエポキシ樹脂に付着しないものであ
ればよいのでポリエチレン、シリコン樹脂、ポリプロピ
レン樹脂、3沸化エチレン、4沸化エチレンなど多くの
材質のものを用いることができた。
たが、11の平板上に行なっても同様であった。11の
平板としては表面がエポキシ樹脂に付着しないものであ
ればよいのでポリエチレン、シリコン樹脂、ポリプロピ
レン樹脂、3沸化エチレン、4沸化エチレンなど多くの
材質のものを用いることができた。
7はスピンコードによって紫外線硬化樹脂を記録層が成
膜されていない側のディスク面に塗布した後、高圧水銀
灯によって紫外線を照射して硬化させてハードコートと
した。
膜されていない側のディスク面に塗布した後、高圧水銀
灯によって紫外線を照射して硬化させてハードコートと
した。
表1に本発明になる片面型光記録媒体と従来の片面型光
記録媒体の、各温湿度での反り量と80°C85%RH
で1000時間耐候性試験したときのピットエラーレー
トの変化率を示す。
記録媒体の、各温湿度での反り量と80°C85%RH
で1000時間耐候性試験したときのピットエラーレー
トの変化率を示す。
表1
表1に於てBER/BER(IN、)は耐候性試験後の
ピットエラーレートの値を耐候性試験前のビットエラレ
ートの値で割ったものである。表1の比較例は従来の片
面型光記録媒体で、保護コートとして紫外線硬化樹脂を
スピンニート法によって塗布し、硬化させたもので4μ
mの厚さに形成したものである。
ピットエラーレートの値を耐候性試験前のビットエラレ
ートの値で割ったものである。表1の比較例は従来の片
面型光記録媒体で、保護コートとして紫外線硬化樹脂を
スピンニート法によって塗布し、硬化させたもので4μ
mの厚さに形成したものである。
表1の結果をみると明らかなように2本発明になる片面
型光記録媒体は常温でも高温高湿下でも反り量が小さく
、 ピットエラーレートの変化率も小さいことがわかる
。従って、非常に信頼性が高い片面型光記録媒体になる
ことが分かる。
型光記録媒体は常温でも高温高湿下でも反り量が小さく
、 ピットエラーレートの変化率も小さいことがわかる
。従って、非常に信頼性が高い片面型光記録媒体になる
ことが分かる。
通常、コート剤は硬化すると収縮応力が働くので、基板
の反り量を制御するためにはコート剤の種類や配合ある
いは塗布厚を変えてやる方法かある。
の反り量を制御するためにはコート剤の種類や配合ある
いは塗布厚を変えてやる方法かある。
樹脂基板を用いる場合では記録層がない側が水を吸収し
て膨張するので、記録層がない側の応力が大きくなるよ
うにしておく。すなわち、記録層がない側が水を吸って
常温、常湿度で平衡状態になったときディスクがフラッ
トになるようにする。
て膨張するので、記録層がない側の応力が大きくなるよ
うにしておく。すなわち、記録層がない側が水を吸って
常温、常湿度で平衡状態になったときディスクがフラッ
トになるようにする。
あるいは使用環境温度範囲の中央付近でディスクがフラ
ットになるように設計するとよい。通常。
ットになるように設計するとよい。通常。
樹脂基板を用いると記録層がない方が吸水し、凸になる
傾向があるので記録層がない側の応力を大きくして1か
ら4ミリラジアン程度反るように設計する。ガラスなど
の無機物の基板を用いたの合は、成膜の応力により記録
層側が凹になったり凸になったりするので、コート層は
常温でフラットになるようにするとよい。このような制
御は本発明の方法により容易に実現できた。
傾向があるので記録層がない側の応力を大きくして1か
ら4ミリラジアン程度反るように設計する。ガラスなど
の無機物の基板を用いたの合は、成膜の応力により記録
層側が凹になったり凸になったりするので、コート層は
常温でフラットになるようにするとよい。このような制
御は本発明の方法により容易に実現できた。
尚2本発明はこれらの実施例に限定されると考えるべき
ではなく1本発明の主旨を逸脱しない限り種々の変更は
可能であることは言うまでもない。
ではなく1本発明の主旨を逸脱しない限り種々の変更は
可能であることは言うまでもない。
[発明の効果]
本発明の片面型光記録媒体及びその製造方法によれば、
高温高湿下でも片面型光記録媒体の反りが大きくならな
い。また、金属層やセラミックス層との密着力を強くす
ることができ、厚い膜が得られるので保護効果が強く信
頼性が高く、有機保膜層を無駄なく塗布できるのでスピ
ンコード法ノように無駄が少ないなどの効果を有する。
高温高湿下でも片面型光記録媒体の反りが大きくならな
い。また、金属層やセラミックス層との密着力を強くす
ることができ、厚い膜が得られるので保護効果が強く信
頼性が高く、有機保膜層を無駄なく塗布できるのでスピ
ンコード法ノように無駄が少ないなどの効果を有する。
第1図は本発明の片面型光記録媒体の基本構成図であり
、第2図(a)から第2図(e)は本発明の片面型光記
録媒体の製造方法の概略図である。 1・・・ポリカーボネートの基板 2−5fAINJii 3・・・NdDyFeCoの記録層 4・・・5iAIN層 5−− ・Al−Ti−Zn−5jの反射膜6・・・保
護コート層 7・・・ハードコート層 8・・・記録層部を成膜した基板 9・・・エポキシ樹脂を塗布するデイスペンサー10・
・リング状に塗布されたエポキシ樹脂1工・・平板 12・・真空チャンバー 13・・加圧機 14・・オーブン エポキシ樹脂の有機保護層 以上
、第2図(a)から第2図(e)は本発明の片面型光記
録媒体の製造方法の概略図である。 1・・・ポリカーボネートの基板 2−5fAINJii 3・・・NdDyFeCoの記録層 4・・・5iAIN層 5−− ・Al−Ti−Zn−5jの反射膜6・・・保
護コート層 7・・・ハードコート層 8・・・記録層部を成膜した基板 9・・・エポキシ樹脂を塗布するデイスペンサー10・
・リング状に塗布されたエポキシ樹脂1工・・平板 12・・真空チャンバー 13・・加圧機 14・・オーブン エポキシ樹脂の有機保護層 以上
Claims (2)
- (1)光により情報の記録、再生または消去を行なう光
記録媒体の片面型構造において、基板の片面に少なくと
も第1のセラミックス層、記録層、第2のセラミックス
層、金属層の順に順次成膜することによる記録層部を成
膜し、前記基板の前記記録層部が成膜されている側にエ
ポキシ樹脂の有機保護層を形成したことを特徴とする片
面型光記録媒体。 - (2)請求項第1項記載のエポキシ樹脂の有機保護層を
形成する場合、前記記録層部または硬化した前記有機保
護層が付着しない材質の平板上に、硬化前の前記有機保
護層を塗布し、減圧下で前記記録層部を形成した基板と
前記平板を合わせて、硬化前の前記有機保護層をひろげ
て熱を加えて硬化させ、その後前記記録層部を形成した
基板と前記平板を剥離することを特徴とする片面型光記
録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2183411A JPH0469827A (ja) | 1990-07-11 | 1990-07-11 | 片面型光記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2183411A JPH0469827A (ja) | 1990-07-11 | 1990-07-11 | 片面型光記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0469827A true JPH0469827A (ja) | 1992-03-05 |
Family
ID=16135312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2183411A Pending JPH0469827A (ja) | 1990-07-11 | 1990-07-11 | 片面型光記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0469827A (ja) |
-
1990
- 1990-07-11 JP JP2183411A patent/JPH0469827A/ja active Pending
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