JPH0470631A - 有機非線形光学材料 - Google Patents
有機非線形光学材料Info
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- JPH0470631A JPH0470631A JP17878090A JP17878090A JPH0470631A JP H0470631 A JPH0470631 A JP H0470631A JP 17878090 A JP17878090 A JP 17878090A JP 17878090 A JP17878090 A JP 17878090A JP H0470631 A JPH0470631 A JP H0470631A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、有機非線形光学材料に関するものであり、更
に詳しくは波長変換、光演算、光シヤツター、光メモリ
ー等の光学素子に使用される、フタロシアニン誘導体か
ら成る有機非線形光学材料に関するものである。
に詳しくは波長変換、光演算、光シヤツター、光メモリ
ー等の光学素子に使用される、フタロシアニン誘導体か
ら成る有機非線形光学材料に関するものである。
（従来技術）
光か物質を透過する際に誘起される分極Ｐは光の電界か
Ｅの時。
Ｅの時。
式（１）
％式％
の様に表わされ、第一項は線形分極、第二項以降は非線
形分極と呼ばれる。この際に誘起される分極の大きさの
尺度となる係数χ（ｎ ｌ （ｎ≧２）はｎ次の非線
形感受率、χ゛°ゝを含む項に基づく分極からの効果は
ｎ次の非線形光学効果と呼ばれる。
形分極と呼ばれる。この際に誘起される分極の大きさの
尺度となる係数χ（ｎ ｌ （ｎ≧２）はｎ次の非線
形感受率、χ゛°ゝを含む項に基づく分極からの効果は
ｎ次の非線形光学効果と呼ばれる。
χＩ″は （ｎ＋１）階のテンソルで非線形光学効果を
定量的に表現する係数である。一般にχ３２χ（３１な
とは微小量であり、光強度Ｅが小さい場合には式（１）
の第一項に基づく線形効果のみ認められるが、χ３２１
．χ（Ｈの大きい材料の場合。
定量的に表現する係数である。一般にχ３２χ（３１な
とは微小量であり、光強度Ｅが小さい場合には式（１）
の第一項に基づく線形効果のみ認められるが、χ３２１
．χ（Ｈの大きい材料の場合。
レーザー光の様な強電界の下では二次以上の項が無視出
来なくなり、その結果非線形光学応答が現われる。二次
の非線形光学効果としては、第二高調波発生（ＳＨＧ）
、光整流、パラメトリック増幅及びポッケルス効果なと
かあり、三次の非線形光学効果としては、第三高調波発
生、直流誘起ＳＨＧ、カー効果および光双安定性なとか
ある。これらの現象を示す非線形光学材料は新しい光エ
レクトロニクス素子への２用か検討されている。これら
の現象のうち光双安定性は、光多重安定性の中で最も簡
単な場合である。光多重性とは、光学素子において人力
光を１１．出力光を１２と−７−る時。
来なくなり、その結果非線形光学応答が現われる。二次
の非線形光学効果としては、第二高調波発生（ＳＨＧ）
、光整流、パラメトリック増幅及びポッケルス効果なと
かあり、三次の非線形光学効果としては、第三高調波発
生、直流誘起ＳＨＧ、カー効果および光双安定性なとか
ある。これらの現象を示す非線形光学材料は新しい光エ
レクトロニクス素子への２用か検討されている。これら
の現象のうち光双安定性は、光多重安定性の中で最も簡
単な場合である。光多重性とは、光学素子において人力
光を１１．出力光を１２と−７−る時。
両者の関係か、Ｉ２・Ｆ（［、’）の様な多価関数で表
わされる場合を指し、そのうち入射光の一つの状態に対
して安定な値をとる出力光の状態か二種類ある場合か光
双安定性と呼ばれる。二種類のうちの何れの状態を取る
かは系の履歴によって決まる。
わされる場合を指し、そのうち入射光の一つの状態に対
して安定な値をとる出力光の状態か二種類ある場合か光
双安定性と呼ばれる。二種類のうちの何れの状態を取る
かは系の履歴によって決まる。
即ち、二つの状態の間にはヒステリシスか存在する。こ
の現象は光スィッチ、光記憶素子や光論理素子などへの
応用か考えられる。
の現象は光スィッチ、光記憶素子や光論理素子などへの
応用か考えられる。
以上に述へた様な性質を持つ非線形光学材料に関しては
９例えば次の文献等に詳しく記載されている。
９例えば次の文献等に詳しく記載されている。
Ｄ、Ｓ、Ｃ）ＩＥＭＬＡ、Ｊ、ＺＹＳＳ ｒＮＯＮＬ
ＩＮＥＡＲ０ＰＴＩＣＡＬ ＰＲＯＰＥＲＴＩＥＳ
ＯＦ ０ＲＧＡＮＩＣＭＯＬＥＣＬＩＬＥＳ ＡＮＤ
ＣＲＹＳＴＡＬＳＪ ＡＣＡＤＥＭ［ＣＰＲＥＳＳ、Ｉ
ＮＣ，，１９８７年刊加藤政雄、中西八部監へ「有機非
線形光学材料］株式会社シーエムシー、 １９８５年刊
三次の非線形光学材料の探索は、無機及び有機化合物の
何れの領域においても盛んに行なわれている。無機材料
としてはガリウム砒素や第■族〜第■族化合物等の半導
体が知られている。有機材料てこれ迄に報告されている
材料は主にπ共役系高分子であり、ポリジアセチレンを
はじめとしてポリシラン、ポリイミド、ポリアセチレン
、ポリチオフェンなどが知られている。特にＰＤＡ−Ｐ
ＴＳと呼ばれるポリジアセチレンの一種は現在。
ＩＮＥＡＲ０ＰＴＩＣＡＬ ＰＲＯＰＥＲＴＩＥＳ
ＯＦ ０ＲＧＡＮＩＣＭＯＬＥＣＬＩＬＥＳ ＡＮＤ
ＣＲＹＳＴＡＬＳＪ ＡＣＡＤＥＭ［ＣＰＲＥＳＳ、Ｉ
ＮＣ，，１９８７年刊加藤政雄、中西八部監へ「有機非
線形光学材料］株式会社シーエムシー、 １９８５年刊
三次の非線形光学材料の探索は、無機及び有機化合物の
何れの領域においても盛んに行なわれている。無機材料
としてはガリウム砒素や第■族〜第■族化合物等の半導
体が知られている。有機材料てこれ迄に報告されている
材料は主にπ共役系高分子であり、ポリジアセチレンを
はじめとしてポリシラン、ポリイミド、ポリアセチレン
、ポリチオフェンなどが知られている。特にＰＤＡ−Ｐ
ＴＳと呼ばれるポリジアセチレンの一種は現在。
三次非線形光学定数の最も大きな有機系材料として知ら
れている。また、スチルベン誘導体（特開平１−２７３
０２２号公報）も知られており１分子内に陽イオンを有
するπ共役系化合物をイオン性ポリマー中に分散した材
料（特開平１−２１７３２８号公報、特開平１−２１７
３２９号公報）も開示されている。その他の有機系材料
としては無置換あるいはアルコキシ基を宵する無金属あ
るいは金属フタロンアニンか時開下１−２３７６２６号
公報に開示されている。この有機系材料は、波長１９０
７ｎｍの光を照射した時の第三高調波強度はＰＤＡ−Ｐ
ＴＳよりも小さい値を示す。一般に有機系材料では、非
線形応答か分極し易い分子内のπ電子に起因しているの
に対して無機系材料では、格子結合に係わる電子か光に
応答している。この為、レーサー光に対する破壊しきい
値は有機系材料の方か無機系材料よりも大きい。
れている。また、スチルベン誘導体（特開平１−２７３
０２２号公報）も知られており１分子内に陽イオンを有
するπ共役系化合物をイオン性ポリマー中に分散した材
料（特開平１−２１７３２８号公報、特開平１−２１７
３２９号公報）も開示されている。その他の有機系材料
としては無置換あるいはアルコキシ基を宵する無金属あ
るいは金属フタロンアニンか時開下１−２３７６２６号
公報に開示されている。この有機系材料は、波長１９０
７ｎｍの光を照射した時の第三高調波強度はＰＤＡ−Ｐ
ＴＳよりも小さい値を示す。一般に有機系材料では、非
線形応答か分極し易い分子内のπ電子に起因しているの
に対して無機系材料では、格子結合に係わる電子か光に
応答している。この為、レーサー光に対する破壊しきい
値は有機系材料の方か無機系材料よりも大きい。
また、応答速度も無機系材料かピコ秒を越えることか無
いのに対して有機系材料ではフェムト秒と極めて高速の
応答か可能である。
いのに対して有機系材料ではフェムト秒と極めて高速の
応答か可能である。
無機系材料の場合、三次非線形感受率は１０−２〜１Ｏ
−５ｅ ｓ ｕと大きいか応答か遅＜、 １０ＧＨｚ程
度である。これに対して有機系材料ては、三次非線形感
受率はｔｏ−８６ｓ ｕを越えるものは知られていない
か、数十ＧＨｚ以上の高速応答か可能であるという利点
かある。
−５ｅ ｓ ｕと大きいか応答か遅＜、 １０ＧＨｚ程
度である。これに対して有機系材料ては、三次非線形感
受率はｔｏ−８６ｓ ｕを越えるものは知られていない
か、数十ＧＨｚ以上の高速応答か可能であるという利点
かある。
非線形光学材料を光スィッチ、光論理素子等として利用
する場合には高速応答性は必要不可欠な性質であり、こ
の意味で、これらの光学関連技術において有機非線形光
学材料に対する重要性は高い。
する場合には高速応答性は必要不可欠な性質であり、こ
の意味で、これらの光学関連技術において有機非線形光
学材料に対する重要性は高い。
（発明か解決しようとする課題）
これ迄に知られている三次の有機非線形光学材料は、直
線状あるいは環状にπ共役系の連なった構造を特徴とし
ている。しかしなから、非線形光学特性に関してはポリ
ジアセチレンの一種である前記ＰＤＡ−ＰＴＳ以上の特
性を示すものは知られていない。
線状あるいは環状にπ共役系の連なった構造を特徴とし
ている。しかしなから、非線形光学特性に関してはポリ
ジアセチレンの一種である前記ＰＤＡ−ＰＴＳ以上の特
性を示すものは知られていない。
ＰＤＡ−ＰＴＳの場合にも非線形光学特性の発現に必要
とされるπ共役鎖長を制御することは困難てあり、また
空気中ての安定性に乏しいという欠点かある。更に非線
形光学材料の素子化にあたって極めて重要とされる薄膜
形成か困難であるという問題かある。
とされるπ共役鎖長を制御することは困難てあり、また
空気中ての安定性に乏しいという欠点かある。更に非線
形光学材料の素子化にあたって極めて重要とされる薄膜
形成か困難であるという問題かある。
本発明の目的は、既存の有機非線形光学材料を上回る非
線形光学特性を示し、且つ、実用化に際して、既存の材
料に付帯していた前記の諸問題点を持たない新規の有機
非線形光学材料を提供することにある。
線形光学特性を示し、且つ、実用化に際して、既存の材
料に付帯していた前記の諸問題点を持たない新規の有機
非線形光学材料を提供することにある。
（課題を解決するための手段）
本発明は次の式［１］で表わされるフタロシアニンの少
なくとも１種を成分として含有する有機非線形光学材料
を提供する。
なくとも１種を成分として含有する有機非線形光学材料
を提供する。
式［１］
〔式中、Ｒ１〜Ｒ１８はそれぞれ独立に水素原子。
ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルホキン基、ス
ルホ基、置換基を有してもよい脂肪族炭化水素基、置換
基を有してもよい芳香族炭化水素基。
ルホ基、置換基を有してもよい脂肪族炭化水素基、置換
基を有してもよい芳香族炭化水素基。
置換基を有してもよい芳香族複素環基、−ＯＲ”−３Ｒ
”、−ＮＲ”Ｒ２２，−３ｏ２ＮＲ”Ｒ”−ＣＯＮＲ”
Ｒ”、−ＮＨＣＯＲ２７，−Ｃｏ□Ｒ２ＲＮ＝ＮＲ”、
−Ｘ （ＣＨ２ＣＨ２Ｙ）ｚ Ｒ”を表わす。
”、−ＮＲ”Ｒ２２，−３ｏ２ＮＲ”Ｒ”−ＣＯＮＲ”
Ｒ”、−ＮＨＣＯＲ２７，−Ｃｏ□Ｒ２ＲＮ＝ＮＲ”、
−Ｘ （ＣＨ２ＣＨ２Ｙ）ｚ Ｒ”を表わす。
Ｒ”〜Ｒｚｏは水素原子、置換基を有してもよい脂肪族
炭化水素基、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基、
置換基を有してもよい芳香族複素環基を表わす。またＸ
およびＹはそれぞれ独立に酸素原子、あるいは硫黄原子
を表わし、２は正の整数を表わす。〕 本発明は９式［１コで表されるフタロシアニンが既存の
有機非線形光学材料と同等以上の三次非線形感受率を有
し、かつ実用化に際して既存材料の有していた問題点を
全く持たないことを見出し完成されたものである。
炭化水素基、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基、
置換基を有してもよい芳香族複素環基を表わす。またＸ
およびＹはそれぞれ独立に酸素原子、あるいは硫黄原子
を表わし、２は正の整数を表わす。〕 本発明は９式［１コで表されるフタロシアニンが既存の
有機非線形光学材料と同等以上の三次非線形感受率を有
し、かつ実用化に際して既存材料の有していた問題点を
全く持たないことを見出し完成されたものである。
本発明において Ｒｌ 、Ｒｌは水素原子またはフッ素
原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等のハロゲン原子
、シアノ基、ニトロ基、カルホキシ基、スルホ基または
メチル基、エチル基、 ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基、ステアリル基、トリクロロメチル基、
アミノメチル基、ヒドロキシメチル基等の置換基を有し
てもよい脂肪族炭化水素基、フェニル基、ナフチル基、
アントリル基、フエナントリル基、２−メチルフェニル
基等の置換基を有してもよい芳香族炭化水素基、または
ピリジル基、カルバゾリル基、フルフリル基。
原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等のハロゲン原子
、シアノ基、ニトロ基、カルホキシ基、スルホ基または
メチル基、エチル基、 ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基、ステアリル基、トリクロロメチル基、
アミノメチル基、ヒドロキシメチル基等の置換基を有し
てもよい脂肪族炭化水素基、フェニル基、ナフチル基、
アントリル基、フエナントリル基、２−メチルフェニル
基等の置換基を有してもよい芳香族炭化水素基、または
ピリジル基、カルバゾリル基、フルフリル基。
ベンゾチアゾリル基、４−メチルビリジル基等の置換基
を有してもよい芳香族複素環基、水酸基、メトキシ基、
エトキシ基、ブトキシ基、ステアリルオキシ基、フェノ
キシ基、 ｔｅｒｔ−ブチルチオ基。
を有してもよい芳香族複素環基、水酸基、メトキシ基、
エトキシ基、ブトキシ基、ステアリルオキシ基、フェノ
キシ基、 ｔｅｒｔ−ブチルチオ基。
ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、フェニルチオ基、ア
ミノ基、ブチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニ
ルアミノ基、ジベンジルアミノ基。
ミノ基、ブチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニ
ルアミノ基、ジベンジルアミノ基。
ブチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、
フェニルスルファモイル基１才クチルカルハモイル基。
フェニルスルファモイル基１才クチルカルハモイル基。
フェニルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、ブ
チルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミン基
。
チルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミン基
。
−Ｃｏ２ＣＨ３，−ＣＯ２Ｃ２Ｈ５，−Ｃｏ□Ｐｈ（Ｐ
ｈ ：フェニル基）、フェニルアゾ基、４−（ジブチル
アミノ）フェニルアゾ基、ｌ−ナフチルアゾ基等である
か、これらの置換基に限定されるものてはない。
ｈ ：フェニル基）、フェニルアゾ基、４−（ジブチル
アミノ）フェニルアゾ基、ｌ−ナフチルアゾ基等である
か、これらの置換基に限定されるものてはない。
本発明で用いる前記式［１］て表される化合物は１次の
式［２］および式［３］で表される化合物の反応により
製造される。
式［２］および式［３］で表される化合物の反応により
製造される。
（以下余白）
式［２］および式［３］においてｒ１〜ｒ＋ａはそれぞ
れ式［【］におけるＲ１〜Ｒ１ゞと同様てあり１式［２
］のＡはハロゲン原子を表す。
れ式［【］におけるＲ１〜Ｒ１ゞと同様てあり１式［２
］のＡはハロゲン原子を表す。
式［２］て表される化合物てｒ１〜ｒ１□かいずれも水
素原子である化合物については、Ｍｏｎａｔｓｈｅｆｔ
ｅ ｆｕｒ Ｃｈｅｍｉｅ、１０３゜１５０−１５
５ （１９７２）に合成方法か記載されている。
素原子である化合物については、Ｍｏｎａｔｓｈｅｆｔ
ｅ ｆｕｒ Ｃｈｅｍｉｅ、１０３゜１５０−１５
５ （１９７２）に合成方法か記載されている。
式［１］の製造にあったで用いる溶媒は１式［１］およ
び式［２］て表される化合物の少なくとも一部をともに
溶解し、かつ式［４］て表される反応を９反応温度内で
生じせしめない性質を有するものでなければならない。
び式［２］て表される化合物の少なくとも一部をともに
溶解し、かつ式［４］て表される反応を９反応温度内で
生じせしめない性質を有するものでなければならない。
（以下余白）
即ち本発明での使用に適した溶媒としては、例えばｌ−
クロロナフタレンとジメチルスルホキシドを体積比ｌ：
１〜１：２の比率で混合した溶媒、その他アミルアルコ
ール、ジメチルホルムアミド等上記条件を満足する溶媒
であれば使用することかできる。溶媒の使用量は式［２
］および式［３コて表わされる化合物の全部を溶解する
量か好ましいか、両者の一部づつを溶解する量であって
もよい。
クロロナフタレンとジメチルスルホキシドを体積比ｌ：
１〜１：２の比率で混合した溶媒、その他アミルアルコ
ール、ジメチルホルムアミド等上記条件を満足する溶媒
であれば使用することかできる。溶媒の使用量は式［２
］および式［３コて表わされる化合物の全部を溶解する
量か好ましいか、両者の一部づつを溶解する量であって
もよい。
反応温度は１００°Ｃ以下か好ましく、更に好ましくは
７０〜１００°Ｃであるが、この範囲に限定されるもの
ではな（、目的物の種類によって適宜選択することかで
きる。反応時間は、反応温度、原料の溶解状態により異
なるか、反応の終点は式［２］て表わされる化合物の色
の消失する時点によって判断てきる。
７０〜１００°Ｃであるが、この範囲に限定されるもの
ではな（、目的物の種類によって適宜選択することかで
きる。反応時間は、反応温度、原料の溶解状態により異
なるか、反応の終点は式［２］て表わされる化合物の色
の消失する時点によって判断てきる。
本発明で用いられる式［１コの化合物の非線形光学特性
の測定法を例示すると次の通りである。
の測定法を例示すると次の通りである。
石英基板上にこの化合物の薄膜を形成させる。
薄膜の厚さとしては１μｍ以下か好ましいか、必ずしも
この範囲に限定されるものでない。
この範囲に限定されるものでない。
得られた薄膜試料に対して入射角を変化させなからレー
サーを照射すると、出射光である第三高調波の強度変化
かメーカー・フリンジと呼ばれる！ターンを形成する。
サーを照射すると、出射光である第三高調波の強度変化
かメーカー・フリンジと呼ばれる！ターンを形成する。
このフリンジ・パターンから、非線形光学効果を定量的
に表現する三次非線形感受率χ゛３゛ か求められる。
に表現する三次非線形感受率χ゛３゛ か求められる。
薄膜の形成方法としては、キャスティング法、スピンコ
ーティング法、蒸着法等か例示される。
ーティング法、蒸着法等か例示される。
キャスティング法、スピンコーティング法等では、本発
明のフタロシアニン誘導体の溶液か用いられる。使用に
適した溶剤としては、次のものを例示できる。
明のフタロシアニン誘導体の溶液か用いられる。使用に
適した溶剤としては、次のものを例示できる。
Ｎ−ヘキサン、Ｎ−ヘプタン、Ｎ−オクタン、シクロへ
牛サン等の脂肪族飽和炭化水素層、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ等のエステル類、メチルアル
コール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、
イソプロピルアルコール、Ｎ−ブチルアルコール等のア
ルコール類、ベンセン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、クロロベンゼン、オルソジクロロヘンセン
等の塩素化芳香族炭化水素類、クロロポルム、ジクロロ
メタン、テトラクロロエチレン等の塩素化脂肪族炭化水
素類。
牛サン等の脂肪族飽和炭化水素層、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ等のエステル類、メチルアル
コール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、
イソプロピルアルコール、Ｎ−ブチルアルコール等のア
ルコール類、ベンセン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、クロロベンゼン、オルソジクロロヘンセン
等の塩素化芳香族炭化水素類、クロロポルム、ジクロロ
メタン、テトラクロロエチレン等の塩素化脂肪族炭化水
素類。
以下に本発明で使用できる式［１１のフタロシアニン誘
導体の例として（Ａ）〜（Ｌ）を例示する。
導体の例として（Ａ）〜（Ｌ）を例示する。
（以下余白）
（Ａ）
ＣＢ）
（Ｃ）
（Ｄ）
（Ｇ）
（Ｈ）
（Ｅ）
（Ｆ）
（Ｋ）
（実施例）
以下実施例に基つき、本発明を更（二具体的（二；免明
するか、本発明はこれら実施ＩＰＩｉこ限定されるもの
てはない。各側におＵ＝て、部（よ特（二断わりの無い
限り重量部を表わす。
するか、本発明はこれら実施ＩＰＩｉこ限定されるもの
てはない。各側におＵ＝て、部（よ特（二断わりの無い
限り重量部を表わす。
実施例１
ジメチルスルホキシド９２部及びｌ−クロロナフ（Ｌ）
Ｉ′Ｌ３Ｌ
および６−オクチルチオ−１，３−ジイミノベン゛ゾ（
Ｆ）イソインドリン３．４部部を加え、８０°Ｃて４時
間撹拌した。室温まで冷却した後メタノール１００部を
加え、生成する沈澱を濾過し、ジメチルスルホキシド、
メタノールて洗浄した後乾燥して化合物（Ａ）８．９部
を得た。
Ｆ）イソインドリン３．４部部を加え、８０°Ｃて４時
間撹拌した。室温まで冷却した後メタノール１００部を
加え、生成する沈澱を濾過し、ジメチルスルホキシド、
メタノールて洗浄した後乾燥して化合物（Ａ）８．９部
を得た。
次にシリカゲルを充填剤としたカラムクロマトグラフィ
ーを用いて、クロロホルムて展開し流出させて化合物（
Ａ）を精製した。
ーを用いて、クロロホルムて展開し流出させて化合物（
Ａ）を精製した。
縦１ｃｍ、横３ｃｍの石英基板上に、スピンコーティン
グ法により化合物（Ａ／）のクロロホルム溶液を塗布し
て、厚さ０．３７μｍの薄膜を形成した。
グ法により化合物（Ａ／）のクロロホルム溶液を塗布し
て、厚さ０．３７μｍの薄膜を形成した。
ＮＤ：ＹＡＧレーザーの基本波を、水素を充填したラマ
ンセルにより波長変換して得られる波長１９０９ｎｍの
光を、この薄膜試料に対して一４０度から４０度まて入
射角を変化させながら照射し、発生した第三高調波の強
度を測定することによりメーカー・フリンジを得た。
ンセルにより波長変換して得られる波長１９０９ｎｍの
光を、この薄膜試料に対して一４０度から４０度まて入
射角を変化させながら照射し、発生した第三高調波の強
度を測定することによりメーカー・フリンジを得た。
このフリンジ・パターンから三次非線形感受率ｘ Ｉ
２１ の値として３．２ＸｌＯ−” ｅｓｕを得た。
２１ の値として３．２ＸｌＯ−” ｅｓｕを得た。
実施例２
ジメチルスルホキシド９３部及び１−クロロナフタレン
５１部の混合物に前記の化合物Ｃａ）８．６部、および
６−ｔｅｒｔ−ペンチル−１，３−ジイミノヘンゾ（Ｆ
）イソインドリン２．７部を加え、７５℃て５時間撹拌
した。室温まで冷却した後メタノール１０２部を加え、
生成する沈澱を濾過し、ジメチルスルホキシド、メタノ
ールで洗浄した後乾燥して化合物ＣＢ）８１部を得た。
５１部の混合物に前記の化合物Ｃａ）８．６部、および
６−ｔｅｒｔ−ペンチル−１，３−ジイミノヘンゾ（Ｆ
）イソインドリン２．７部を加え、７５℃て５時間撹拌
した。室温まで冷却した後メタノール１０２部を加え、
生成する沈澱を濾過し、ジメチルスルホキシド、メタノ
ールで洗浄した後乾燥して化合物ＣＢ）８１部を得た。
次にシリカゲルを充填剤としたかラムクロマトグラフィ
ーを用いて、クロロホルムて展開し流出させて化合物（
Ｂ）を精製した。
ーを用いて、クロロホルムて展開し流出させて化合物（
Ｂ）を精製した。
縦１ｃｍ、横３ｃｍの石英基板上に、スピンコーティン
グ法により化合物（Ｂ）のクロロホルム溶液を塗布して
、厚さ０．２１μｍの薄膜を形成した。
グ法により化合物（Ｂ）のクロロホルム溶液を塗布して
、厚さ０．２１μｍの薄膜を形成した。
ＮＤ：ＹＡＧレーザーの基本波を、水素を充填したラマ
ンセルにより波長変換して得られる波長１９０９ｎｍの
光を、この薄膜試料に対して一４０度から４０度まて入
射角を変化させながら照射し、発生した第三高調波の強
度を測定することによりメーカー・フリンジを得た。
ンセルにより波長変換して得られる波長１９０９ｎｍの
光を、この薄膜試料に対して一４０度から４０度まて入
射角を変化させながら照射し、発生した第三高調波の強
度を測定することによりメーカー・フリンジを得た。
このフリンジ・パターンから三次非線形感受率χ゛３′
の値として６． ｌＸｌ０− ’ ”ｅｓｕを得た。
の値として６． ｌＸｌ０− ’ ”ｅｓｕを得た。
実施例３
ジメチルスルホキシド１４１部及びｌ−クロロナフタレ
ン７６部の混合物に下記の化合物（ｂ）１２．９部９お
よび６−ｔｅｒｔ−ペンチルチオ−１，３−ジイミノベ
ンゾ（Ｆ）イソインドリン３．０部を加え、８０°Ｃて
５時間撹拌した。室温まて冷却した後メタノール１５２
部を加え、生成する沈澱を濾過し、ジメチルスルホキシ
ド、メタノールで洗浄した後、乾燥して化合物（（ｊ１
２．４部を得た。次にシリカゲルを充填剤としだカラム
クロマトグラフィーを用いて、クロロホルムで展開し流
出させて化合物（Ｃ）を精製した。
ン７６部の混合物に下記の化合物（ｂ）１２．９部９お
よび６−ｔｅｒｔ−ペンチルチオ−１，３−ジイミノベ
ンゾ（Ｆ）イソインドリン３．０部を加え、８０°Ｃて
５時間撹拌した。室温まて冷却した後メタノール１５２
部を加え、生成する沈澱を濾過し、ジメチルスルホキシ
ド、メタノールで洗浄した後、乾燥して化合物（（ｊ１
２．４部を得た。次にシリカゲルを充填剤としだカラム
クロマトグラフィーを用いて、クロロホルムで展開し流
出させて化合物（Ｃ）を精製した。
縦１ｃｍ、横３ｃｍの石英基板上に、スピンコーティン
グ法により化合物（Ｃ）のクロロホルム溶液ヲ塗布して
、厚さ０．４３μｍの薄膜を形成した。
グ法により化合物（Ｃ）のクロロホルム溶液ヲ塗布して
、厚さ０．４３μｍの薄膜を形成した。
ＮＤ：ＹＡＧレーサーの基本波を、水素を充填したラマ
ンセルにより波長変換して得られる波長１９０９ｎｍの
光を、この薄膜試料に対して一４０度から４０度まで入
射角を変化させながら照射し、発生した第三高調波の強
度を測定することによりメーカー・フリンジを得た。
ンセルにより波長変換して得られる波長１９０９ｎｍの
光を、この薄膜試料に対して一４０度から４０度まで入
射角を変化させながら照射し、発生した第三高調波の強
度を測定することによりメーカー・フリンジを得た。
このフリンジ・パターンから三次非線形感受率χ３３゛
の値とし１．７ＸＩＯ−” ｅｓｕ得た。
の値とし１．７ＸＩＯ−” ｅｓｕ得た。
実施例４〜１２
化合物（Ｄ）〜（Ｌ）に相当する式［２］及び式［３］
の化合物を用いた他は実施例Ｉと同様に操作して化合物
（Ｄ）〜（Ｌ）を製造した。
の化合物を用いた他は実施例Ｉと同様に操作して化合物
（Ｄ）〜（Ｌ）を製造した。
製造に用いた原料化合物の構造、使用量および得られた
フタロシアニン誘導体の量を表１に示した。
フタロシアニン誘導体の量を表１に示した。
これらの化合物（Ｄ）〜（いを実施例１と同様の操作に
より、それぞれ第２表に示す厚さの薄膜を石英基板上に
形成し、実施例１と同様の法で三次非線形感受率χ°３
゛ を測定した。
より、それぞれ第２表に示す厚さの薄膜を石英基板上に
形成し、実施例１と同様の法で三次非線形感受率χ°３
゛ を測定した。
測定結果を第２表に示す。
（以下余白）
第２表
（発明の効果）
本発明によれば、従来の有機非線形光学材料に比し、こ
れらと同等以上の三次非線形感受率を有する有機非線形
光学材料が提供される。
れらと同等以上の三次非線形感受率を有する有機非線形
光学材料が提供される。
本発明によれば空気中で極めて安定であり、かつ耐熱安
定性を有するため、保存及び取り扱いか容易な有機非線
形光学材料か提供される。
定性を有するため、保存及び取り扱いか容易な有機非線
形光学材料か提供される。
本発明によれば、容易に薄膜形成かでき、かつ容易に膜
厚制御のできる有機非線形光学材料か提供される。
厚制御のできる有機非線形光学材料か提供される。
さらに本発明によれは、応答速度の速い非線形光学材料
として、光エレクトロニクス分野における種々の素子と
して適用できる有機非線形光学材料か提供される。
として、光エレクトロニクス分野における種々の素子と
して適用できる有機非線形光学材料か提供される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、下記式［１］で表わされるフタロシアニン誘導体の
少なくとも１種類を成分として含有する有機非線形光学
材料。 式［１］ ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１〜Ｒ＾１＾３はそれぞれ独立に水素原子
、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、
スルホ基、置換基を有してもよい脂肪族炭化水素基、置
換基を有してもよい芳香族炭化水素基、置換基を有して
もよい芳香族複素環基、−ＯＲ＾１＾９、−ＳＲ＾２＾
０、−ＮＲ＾２＾１Ｒ＾２＾２、−ＳＯ＿２ＮＲ＾２＾
３Ｒ＾２＾４、−ＣＯＮＲ＾２＾５Ｒ＾２＾６、−ＮＨ
ＣＯＲ＾２＾７、−ＣＯ＿２Ｒ＾２＾８、−Ｎ＝ＮＲ＾
２＾９、−Ｘ（ＣＨ＿２ＣＨ＿２Ｙ）＿ｚＲ＾３＾０を
表わす。 Ｒ＾１＾９〜Ｒ＾３＾０は水素原子、置換基を有しても
よい脂肪族炭化水素基、置換基を有してもよい芳香族炭
化水素基、置換基を有してもよい芳香族複素環基を表わ
す。またＸおよびＹはそれぞれ独立に酸素原子、あるい
は硫黄原子を表わし、ｚは正の整数を表わす。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17878090A JP2670463B2 (ja) | 1990-07-06 | 1990-07-06 | 有機非線形光学材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17878090A JP2670463B2 (ja) | 1990-07-06 | 1990-07-06 | 有機非線形光学材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0470631A true JPH0470631A (ja) | 1992-03-05 |
| JP2670463B2 JP2670463B2 (ja) | 1997-10-29 |
Family
ID=16054507
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17878090A Expired - Lifetime JP2670463B2 (ja) | 1990-07-06 | 1990-07-06 | 有機非線形光学材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2670463B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013162017A1 (ja) * | 2012-04-27 | 2013-10-31 | 株式会社日本触媒 | フタロシアニン化合物、フタロシアニン化合物の混合物、およびこれを用いる熱線吸収材 |
| JP2022123689A (ja) * | 2021-02-12 | 2022-08-24 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | 近赤外線吸収性色素、近赤外線吸収性組成物、および光学フィルタ |
-
1990
- 1990-07-06 JP JP17878090A patent/JP2670463B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013162017A1 (ja) * | 2012-04-27 | 2013-10-31 | 株式会社日本触媒 | フタロシアニン化合物、フタロシアニン化合物の混合物、およびこれを用いる熱線吸収材 |
| JP2022123689A (ja) * | 2021-02-12 | 2022-08-24 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | 近赤外線吸収性色素、近赤外線吸収性組成物、および光学フィルタ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2670463B2 (ja) | 1997-10-29 |
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