JPH0471475B2 - - Google Patents
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- JPH0471475B2 JPH0471475B2 JP61008925A JP892586A JPH0471475B2 JP H0471475 B2 JPH0471475 B2 JP H0471475B2 JP 61008925 A JP61008925 A JP 61008925A JP 892586 A JP892586 A JP 892586A JP H0471475 B2 JPH0471475 B2 JP H0471475B2
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- Japan
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- bearing
- guide
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Landscapes
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の属する分野]
本発明は、移動案内装置に関し、更に詳しく
は、支持基台等の第1部材上に設定された軌道に
沿つて試料搬送ステージ等の第2部材を相対移動
させるための移動案内装置に関する。本発明は特
に集積回路等の半導体装置の製造に際して高速か
つ高精度の移動と停止を繰り返すステツプアンド
リピード方式の縮小投影露光装置における半導体
ウエハ等の試料搬送装置に好適な移動案内装置を
提供するものである。
は、支持基台等の第1部材上に設定された軌道に
沿つて試料搬送ステージ等の第2部材を相対移動
させるための移動案内装置に関する。本発明は特
に集積回路等の半導体装置の製造に際して高速か
つ高精度の移動と停止を繰り返すステツプアンド
リピード方式の縮小投影露光装置における半導体
ウエハ等の試料搬送装置に好適な移動案内装置を
提供するものである。
[従来の技術]
LSI等の半導体装置の製造に用いられる縮小投
影形露光装置では、半導体ウエハ上にマスクまた
はレチクルパターンを枡目状に規則正しく露光
し、前回の焼付パターンに対する位置精度を高く
することは勿論、その作業能率の向上のためにス
テツプアンドリピード動作の高速化を図る必要が
ある。このためウエハをXY二次元座標平面内で
移動させるウエハステージの搬送系には、高速起
動停止と高い停止位置精度とが要求され、そのた
め従来からステージの移動案内装置に種々の工夫
がなされている。
影形露光装置では、半導体ウエハ上にマスクまた
はレチクルパターンを枡目状に規則正しく露光
し、前回の焼付パターンに対する位置精度を高く
することは勿論、その作業能率の向上のためにス
テツプアンドリピード動作の高速化を図る必要が
ある。このためウエハをXY二次元座標平面内で
移動させるウエハステージの搬送系には、高速起
動停止と高い停止位置精度とが要求され、そのた
め従来からステージの移動案内装置に種々の工夫
がなされている。
一般にXYステージと呼ばれるこの種の搬送系
において、その移動案内装置の基本方式として、
従来より第10図に示すようなものが使用されて
いる。
において、その移動案内装置の基本方式として、
従来より第10図に示すようなものが使用されて
いる。
同図において、101は天板(スライダ)、1
02はステージ面、103は軸受取付板、104
は軸受取付板103に取付けられた上下および左
右の方向のガイドのための静圧軸受、105はガ
イドレールである。これらにより、天板101は
図面垂直方向の軌道に沿つて滑らかに移動案内さ
れる。106は樹脂性の制動用半浮上軸受、10
7は軸受106と摺接する摺動板、108は押付
けローラユニツトである。押付けローラユニツト
108は、そのローラによつて制動用軸受106
との間に摺動板104を挾みつけ、その押付力を
調節あるいは制御することで、制動用軸受106
と摺動板107との間の摩擦摺動部の移動方向の
見かけの摩擦係数を所望値に設定ないし可変制御
する。109はステージ部分の重心を示す。
02はステージ面、103は軸受取付板、104
は軸受取付板103に取付けられた上下および左
右の方向のガイドのための静圧軸受、105はガ
イドレールである。これらにより、天板101は
図面垂直方向の軌道に沿つて滑らかに移動案内さ
れる。106は樹脂性の制動用半浮上軸受、10
7は軸受106と摺接する摺動板、108は押付
けローラユニツトである。押付けローラユニツト
108は、そのローラによつて制動用軸受106
との間に摺動板104を挾みつけ、その押付力を
調節あるいは制御することで、制動用軸受106
と摺動板107との間の摩擦摺動部の移動方向の
見かけの摩擦係数を所望値に設定ないし可変制御
する。109はステージ部分の重心を示す。
露光装置のステージ搬送系は、この第10図に
示したような移動案内装置を配設した移動テーブ
ル(ステージ)に、駆動機構および運動伝達機構
を付加し、これらを複数組み合めてXY直角座標
系のX方向およびY方向に移動できるようにして
ある。
示したような移動案内装置を配設した移動テーブ
ル(ステージ)に、駆動機構および運動伝達機構
を付加し、これらを複数組み合めてXY直角座標
系のX方向およびY方向に移動できるようにして
ある。
ところで、このような装置では以下のような欠
点があつた。
点があつた。
上下方向に高さが高くなり装置が大型とな
る。
る。
装置が高くなつたことにより重心109とウ
エハ面との距離が長くなり、重心回りの微小な
回転振動もウエハ面では拡大されて現れる。
エハ面との距離が長くなり、重心回りの微小な
回転振動もウエハ面では拡大されて現れる。
静圧軸受104にエアーを流すことにより軸
受取付板103に力が加わり、取付板103が
第11図に示すように変形する。そのため、軸
受面とガイド間の傾きおよびすきまの拡大が生
じ、軸受104の特性が劣化して所定の剛性が
得られない。
受取付板103に力が加わり、取付板103が
第11図に示すように変形する。そのため、軸
受面とガイド間の傾きおよびすきまの拡大が生
じ、軸受104の特性が劣化して所定の剛性が
得られない。
半浮上軸受106の摺動により発生したゴミ
が静圧軸受に入り込み軸受の劣化や破損が生じ
る。また、ゴミがウエハに付着することにより
焼付不良が発生する。
が静圧軸受に入り込み軸受の劣化や破損が生じ
る。また、ゴミがウエハに付着することにより
焼付不良が発生する。
ガイド構成が全拘束であるためガイド105
および静圧軸受取付板103の平行度および直
角度の両方を調整する必要があり、調整に時間
がかかる。
および静圧軸受取付板103の平行度および直
角度の両方を調整する必要があり、調整に時間
がかかる。
[発明の目的]
本発明の目的は、上述の従来形における問題点
を解決するとともに、装置をより薄型化可能な
構造とすること、軸受の剛性をより高めて負荷
や外力変動に対して姿勢変動量を少なくするこ
と、姿勢精度(進行方向、水平方向、垂直方
向、ローリング、ピツチング、ヨーイング)の劣
化を最小限に押えると同時に各姿勢の振動に対し
有効な減衰力が得られるようにすることにある。
を解決するとともに、装置をより薄型化可能な
構造とすること、軸受の剛性をより高めて負荷
や外力変動に対して姿勢変動量を少なくするこ
と、姿勢精度(進行方向、水平方向、垂直方
向、ローリング、ピツチング、ヨーイング)の劣
化を最小限に押えると同時に各姿勢の振動に対し
有効な減衰力が得られるようにすることにある。
[実施例の説明]
以下、図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。
る。
第1図は本発明の一実施例に係る移動案内装置
の全体構成を示す外観図である。また、第2〜5
図は装置を構成する各ユニツトの構成を示す。
の全体構成を示す外観図である。また、第2〜5
図は装置を構成する各ユニツトの構成を示す。
第1図において、1は天板(スライダ)、2は
静圧軸受取付ユニツト、3はガイドユニツト、4
は送り機構ユニツト、5は摺動ユニツトである。
静圧軸受取付ユニツト、3はガイドユニツト、4
は送り機構ユニツト、5は摺動ユニツトである。
第2図は天板1に固着する軸受取付ユニツト2
の配置を示し、21は上下支持用静圧軸受取付
板、22は左右支持用静圧軸受取付板、6は静圧
多孔質軸受である。
の配置を示し、21は上下支持用静圧軸受取付
板、22は左右支持用静圧軸受取付板、6は静圧
多孔質軸受である。
第3図はガイドユニツト3のガイドレールの配
置を示し、31は上下方向ガイド、32は左右方
向ガイドである。
置を示し、31は上下方向ガイド、32は左右方
向ガイドである。
第4図はステージの送り機構ユニツト4を示
し、41,43はボールベアリングハウジング、
42はボールネジ、44はボールネジの振れ回り
吸収用板バネである。
し、41,43はボールベアリングハウジング、
42はボールネジ、44はボールネジの振れ回り
吸収用板バネである。
第5図は摺動ユニツト5で、51は摺動駒固定
ブロツク、52はセラミツク製半浮上軸受である
摺動駒、53は予圧用ローラユニツト、54はセ
ラミツク製摺動板、55は摺動板54を支持しそ
の変位を吸収するための板バネである。
ブロツク、52はセラミツク製半浮上軸受である
摺動駒、53は予圧用ローラユニツト、54はセ
ラミツク製摺動板、55は摺動板54を支持しそ
の変位を吸収するための板バネである。
また、第6図は上下方向の変位を阻止するため
の上下支持用静圧軸受の配置を示す軸受配置図で
あり、第7図は第5図の摺動ユニツトの断面図で
ある。
の上下支持用静圧軸受の配置を示す軸受配置図で
あり、第7図は第5図の摺動ユニツトの断面図で
ある。
次に、第1〜7図を参照して本実施例の動作を
説明する。
説明する。
まず、天板1は静圧軸受6により上下ガイド3
1より浮上する。この際、軸受は第6図に示すよ
うに3段構成としているため、従来例に比べ剛性
がより高まり、また第11図に示すように取付板
変形による軸受特性の劣化を防ぐことができる。
また、横方向は左右支持用静圧軸受取付板22と
ガイド32との間に静圧軸受6を配置することに
より剛性を持たせている。なお、軸受6は第6図
に示すように取付板21に埋め込むことにより、
装置をより薄型化することができる。また、静圧
軸受6にセラミツク多孔質軸受を用いることによ
り、さらに剛性も高め、負荷、外力変動に対して
姿勢変動量を少なくすることができる。
1より浮上する。この際、軸受は第6図に示すよ
うに3段構成としているため、従来例に比べ剛性
がより高まり、また第11図に示すように取付板
変形による軸受特性の劣化を防ぐことができる。
また、横方向は左右支持用静圧軸受取付板22と
ガイド32との間に静圧軸受6を配置することに
より剛性を持たせている。なお、軸受6は第6図
に示すように取付板21に埋め込むことにより、
装置をより薄型化することができる。また、静圧
軸受6にセラミツク多孔質軸受を用いることによ
り、さらに剛性も高め、負荷、外力変動に対して
姿勢変動量を少なくすることができる。
静圧軸受6により浮上した天板1は駆動ユニツ
ト4により駆動される。駆動は、両端をボールベ
アリングにより支持されたボールネジ42により
行なわれる。ボールネジの振れ回りを吸収するた
めに上下左右に板バネ44を配置し、天板1への
接続は振動を減少させるため重心9付近に推力が
加わるようにしている。
ト4により駆動される。駆動は、両端をボールベ
アリングにより支持されたボールネジ42により
行なわれる。ボールネジの振れ回りを吸収するた
めに上下左右に板バネ44を配置し、天板1への
接続は振動を減少させるため重心9付近に推力が
加わるようにしている。
また、発生した振動を効率よく減衰させるため
に第5,7図に示すような摩擦力発生用半浮上ユ
ニツト(摺動ユニツト)5が配置されている。こ
の半浮上ユニツト5の摺動駒52は発塵を防ぐた
めセラミツクで作られており、取付ブロツク51
を通じて吸気されるようになつている。摩擦力は
押付けローラ53に加える予圧および摺動駒への
吸気圧によりコントロールされる。セラミツク製
摺動板54は摺動板の変形、ガイドの真直度等に
より予圧の大きさが変化し、摩擦力が変動するの
を防ぐため板バネ55で支えられている。
に第5,7図に示すような摩擦力発生用半浮上ユ
ニツト(摺動ユニツト)5が配置されている。こ
の半浮上ユニツト5の摺動駒52は発塵を防ぐた
めセラミツクで作られており、取付ブロツク51
を通じて吸気されるようになつている。摩擦力は
押付けローラ53に加える予圧および摺動駒への
吸気圧によりコントロールされる。セラミツク製
摺動板54は摺動板の変形、ガイドの真直度等に
より予圧の大きさが変化し、摩擦力が変動するの
を防ぐため板バネ55で支えられている。
なお、摺動駒52は第7図では1つしか現われ
ていないが、これに限ることなく複数設定しても
よい。例えば、手前と奥との二箇所に1つずつ、
合計2つを設けて天板1に固定し、その摺動面を
摺動板54の右側面のガイド面に摺接させること
もできる。さらに、摺動駒52は一体に構成した
ものに複数の摺動面を設けるようにしてもよい。
いずれにしても、複数の摺動面をガイド面に摺動
するように構成するのが好ましい。
ていないが、これに限ることなく複数設定しても
よい。例えば、手前と奥との二箇所に1つずつ、
合計2つを設けて天板1に固定し、その摺動面を
摺動板54の右側面のガイド面に摺接させること
もできる。さらに、摺動駒52は一体に構成した
ものに複数の摺動面を設けるようにしてもよい。
いずれにしても、複数の摺動面をガイド面に摺動
するように構成するのが好ましい。
また、押付けローラユニツト53も第7図では
1つしか現われていないが、これに限らず図の手
前と奥の二箇所に1つずつ合計2つを設けるよう
にできる。なお、変形例として、2つの摺動駒5
2の中間位置に対応する個所に1つのみの押付け
ローラユニツト53を配置した構成にしてもよ
い。また、押付けローラユニツト53を3個以上
設置するようにしてもよい。
1つしか現われていないが、これに限らず図の手
前と奥の二箇所に1つずつ合計2つを設けるよう
にできる。なお、変形例として、2つの摺動駒5
2の中間位置に対応する個所に1つのみの押付け
ローラユニツト53を配置した構成にしてもよ
い。また、押付けローラユニツト53を3個以上
設置するようにしてもよい。
さらに、第8図は摺動ユニツトの押付けローラ
53を静圧軸受56にしたものである。これによ
り、ローラ部からのゴミの発生、またローラのす
べり(上下)方向の摩擦力の発生を防ぐことがで
きる。
53を静圧軸受56にしたものである。これによ
り、ローラ部からのゴミの発生、またローラのす
べり(上下)方向の摩擦力の発生を防ぐことがで
きる。
また、横方向の軸受構成は第9図のような構成
としてもよい。同図のように、横方向の静圧軸受
も2層構造にすることにより、取付板の変形を防
ぎ、また剛性を増すことができる。
としてもよい。同図のように、横方向の静圧軸受
も2層構造にすることにより、取付板の変形を防
ぎ、また剛性を増すことができる。
[発明の効果]
以上説明したように本発明によれば、上下ガイ
ドと左右ガイドとを分離してすべて静圧構成と
し、上下ガイドの軸受構成を3段構成とし、さら
にセラミツク製半浮上静圧軸受を備えているので
以下のような効果がある。
ドと左右ガイドとを分離してすべて静圧構成と
し、上下ガイドの軸受構成を3段構成とし、さら
にセラミツク製半浮上静圧軸受を備えているので
以下のような効果がある。
(1) 静圧ガイドにしたことにより、摺動、転動等
接触によるゴミの発生を防ぐことができる。
接触によるゴミの発生を防ぐことができる。
(2) 上下、左右ガイドを分離したことによりステ
ージの高さを低くすることができる。また、直
角方向の調整が不要となる。
ージの高さを低くすることができる。また、直
角方向の調整が不要となる。
(3) 上下ガイドの軸受構成を3段構造にしたこと
により軸受取付板の変形を防ぐことができる。
により軸受取付板の変形を防ぐことができる。
(4) セラミツク製半浮上軸受による摩擦力で適切
な振動減衰力が得られる。
な振動減衰力が得られる。
(5) セラミツク製半浮上軸受により摺動時のゴミ
の発生を防ぐことができる。
の発生を防ぐことができる。
(6) 静圧軸受に多孔質材料を用いることにより従
来より高剛性(約1.5倍)、低流量(約1/10)
を実現した。
来より高剛性(約1.5倍)、低流量(約1/10)
を実現した。
第1図は、本発明の一実施例に係る移動案内装
置の全体構成を示す外観図、第2図は、天板に固
着する軸受取付ユニツトの配置図、第3図は、ガ
イドレールの配置図、第4図は、ステージの送り
機構ユニツトの外観図、第5図は、摺動ユニツト
の外観図、第6図は、上下方向の軸受の配置図、
第7図は、摺動ユニツトの断面図、第8図は、摺
動ユニツトの変形例を示す断面図、第9図は、横
方向の軸受の構成の変形例を示す断面図、第10
図は、従来の移動案内装置の全体構成を示す断面
図、第11図は、従来の軸受取付板の変形の様子
を示す図である。 1…天板(スライダ)、2…静圧軸受取付ユニ
ツト、3…ガイドユニツト、4…送り機構ユニツ
ト、5…摺動ユニツト、6…静圧軸受、21…上
下方向軸受取付板、22…左右方向軸受取付板、
31…上下ガイド、32…左右ガイド、41,4
2…ベアリングユニツト、42…ボールネジ、4
4…板バネ、51…セラミツク製半浮上軸受取付
板、52…セラミツク製半浮上軸受、53…予圧
ローラ、54…セラミツク製摺動板、55…摺動
板支持用板バネ。
置の全体構成を示す外観図、第2図は、天板に固
着する軸受取付ユニツトの配置図、第3図は、ガ
イドレールの配置図、第4図は、ステージの送り
機構ユニツトの外観図、第5図は、摺動ユニツト
の外観図、第6図は、上下方向の軸受の配置図、
第7図は、摺動ユニツトの断面図、第8図は、摺
動ユニツトの変形例を示す断面図、第9図は、横
方向の軸受の構成の変形例を示す断面図、第10
図は、従来の移動案内装置の全体構成を示す断面
図、第11図は、従来の軸受取付板の変形の様子
を示す図である。 1…天板(スライダ)、2…静圧軸受取付ユニ
ツト、3…ガイドユニツト、4…送り機構ユニツ
ト、5…摺動ユニツト、6…静圧軸受、21…上
下方向軸受取付板、22…左右方向軸受取付板、
31…上下ガイド、32…左右ガイド、41,4
2…ベアリングユニツト、42…ボールネジ、4
4…板バネ、51…セラミツク製半浮上軸受取付
板、52…セラミツク製半浮上軸受、53…予圧
ローラ、54…セラミツク製摺動板、55…摺動
板支持用板バネ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 第1部材に設定された軌道に沿つて第2部材
を相対移動させるための移動案内装置であつて、 第1および第2部材間に3つの軸受面を設け該
軸受面にそれぞれ静圧構成のガイドを有し、移動
面に垂直な方向の第1および第2部材の相対変位
を阻止する第1ガイド手段と、 上記第1ガイド手段とは分離した静圧構成のガ
イドであつて移動面内で移動方向に直角な方向の
第1および第2部材の相対変化を阻止する第2ガ
イド手段と、 移動方向に関して第1および第2部材間で摺動
するセラミツク製半浮上静圧軸受と を備えたことを特徴とする移動案内装置。 2 前記第1ガイド手段および第2ガイド手段
が、静圧軸受にセラミツク多孔質軸受を用いた特
許請求の範囲第1項記載の移動案内装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61008925A JPS62168089A (ja) | 1986-01-21 | 1986-01-21 | 移動案内装置 |
| US07/003,769 US4744675A (en) | 1986-01-21 | 1987-01-16 | Moving mechanism |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61008925A JPS62168089A (ja) | 1986-01-21 | 1986-01-21 | 移動案内装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62168089A JPS62168089A (ja) | 1987-07-24 |
| JPH0471475B2 true JPH0471475B2 (ja) | 1992-11-13 |
Family
ID=11706231
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61008925A Granted JPS62168089A (ja) | 1986-01-21 | 1986-01-21 | 移動案内装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62168089A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000079574A1 (en) * | 1999-06-18 | 2000-12-28 | Nikon Corporation | Stage device and exposure system |
| CN103846751A (zh) * | 2012-12-04 | 2014-06-11 | 株式会社捷太格特 | 静压流体引导装置以及使用了静压流体引导装置的机床 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04122013A (ja) * | 1990-09-13 | 1992-04-22 | Canon Inc | 露光装置 |
| JP6183021B2 (ja) * | 2013-07-16 | 2017-08-23 | 日立金属株式会社 | ステージ装置 |
-
1986
- 1986-01-21 JP JP61008925A patent/JPS62168089A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000079574A1 (en) * | 1999-06-18 | 2000-12-28 | Nikon Corporation | Stage device and exposure system |
| CN103846751A (zh) * | 2012-12-04 | 2014-06-11 | 株式会社捷太格特 | 静压流体引导装置以及使用了静压流体引导装置的机床 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62168089A (ja) | 1987-07-24 |
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